JPH09306665A - 有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 正孔注入電極及び電子注入電極と電極駆動用
ＩＣを接続するリード線でのオーム損の違いによる発光
輝度のばらつきを防止することを目的としている。 【解決手段】 基板１と、正孔注入電極２と、有機薄膜
層３と、電子注入電極４と、正孔注入電極２及び電子注
入電極４を駆動するための電極駆動用ＩＣ５と、正孔注
入電極２及び電子注入電極４と電極駆動用ＩＣ５を接続
するためのリード線６を備え、リード線６が正孔注入電
極２と同一材料からなる下地層７と、下地層７上に形成
された下地層７よりも導電率の高い導電層８を備えたこ
とによって、発光輝度のばらつきを防止できる有機薄膜
エレクトロルミネッセンス素子及びその製造方法を提供
することが可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、セグメントマトリ
ックスパネルやドットマトリックスパネル等のディスプ
レイパネルに用いられる有機薄膜エレクトロルミネッセ
ンス素子及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】エレクトロルミネッセンス素子とは、固
体蛍光性材料の電界発光（エレクトロルミネッセンス）
を利用した発光デバイスであり、無機材料を用いる無機
エレクトロルミネッセンス素子（以下、無機ＥＬ素子と
略す。）については、既に液晶ディスプレイのバックラ
イトや平面ディスプレイ等への応用展開が図られてい
る。しかしながら、無機ＥＬ素子は、１００Ｖ以上の高
い交流電圧で駆動させる必要があり、また青色発光が困
難なため三原色によるフルカラー化が難しいという欠点
を有している。一方、１９８７年にコダック社より有機
材料からなる薄膜を正孔輸送層及び発光層の２層に分け
た機能分離型の有機薄膜多層構造を有する有機薄膜エレ
クトロルミネッセンス素子（以下、有機薄膜ＥＬ素子と
略す。）が提案され、この有機薄膜ＥＬ素子は１０Ｖ以
下の低い駆動電圧において１０００ｃｄ／ｍ²以上の高
い発光輝度を有することが判った（「アプライド・フィ
ジックス・レターズ」、第５１巻、９１３ページ等参
照）。これ以降、有機材料を用いた同様な積層構造の有
機薄膜ＥＬ素子の研究開発が盛んに行われており、大画
面かつ高解像度であって発光輝度の均一な有機薄膜ＥＬ
素子の開発が要求されている。このような積層構造を有
する有機薄膜ＥＬ素子の従来例について、図３及び図４
を用いて説明する。

【０００３】図３は従来の有機薄膜ＥＬ素子の断面模式
図であり、図４は従来の有機薄膜ＥＬ素子の平面模式図
である。図３及び図４において、９はガラス等の透明な
基板、１０は基板９上に形成されたＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕ
ｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ：錫添加の酸化インジウム）膜
等からなる正孔注入電極、１１は正孔注入電極１０上に
形成されたＮ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３
−メチルフェニル）−１，１’−ジフェニル−４，４’
−ジアミン（以下、ＴＰＤと略す。）膜等からなる正孔
輸送層、１２は正孔輸送層１１上に積層された８−ヒド
ロキシキノリンアルミニウム（以下、Ａｌｑ３と略
す。）膜等からなる発光層、１３は発光層１２上に積層
されたＡｌ−Ｌｉ合金又はＭｇ−Ａｇ合金等からなる電
子注入電極、１４は正孔注入電極１０及び電子注入電極
１３を駆動するための基板９上に実装された電極駆動用
ＩＣ、１５は正孔注入電極１０又は電子注入電極１３と
電極駆動用ＩＣ１４を接続するための基板９上に形成さ
れたリード線、１６は発光層１２における発光部であ
り、図３においては有機薄膜層１７が正孔輸送層１１と
発光層１２からなる２層構造となっている。また、有機
薄膜ＥＬ素子を所定のマトリックス状に発光させるため
に、正孔注入電極１０と電子注入電極１３は互いに直交
する線状等のパターンで複数形成されており、個々の正
孔注入電極１０又は電子注入電極１３に対して複数のリ
ード線１５が配設されている。このような構成を有する
有機薄膜ＥＬ素子の正孔注入電極１０と電子注入電極１
３を電極駆動用ＩＣ１４により直流電圧を印加して駆動
すると、正孔注入電極１０と電子注入電極１３に挟まれ
た部分に相当する発光層１２の内の発光部１６が発光す
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の有機薄膜ＥＬ素子では正孔注入電極を形成すると同
時にリード線も同一材料を用いて形成しており、正孔注
入電極にＩＴＯ膜を用いた場合にはその比抵抗が１０¹⁶
Ωｃｍと高いことから、電極駆動用ＩＣから各正孔注入
電極又は各電子注入電極までのリード線の長さにしたが
って、リード線毎のオーム損の違いが極めて大きいとい
う問題を有していた。さらに、このオーム損の違いによ
って、各正孔注入電極及び各電子注入電極に供給される
電流値が異なるために、発光部における発光輝度がばら
つくという問題を有していた。

【０００５】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
であり、正孔注入電極及び電子注入電極と電極駆動用Ｉ
Ｃを接続するリード線の電気抵抗を低減することが可能
になるとともに、リード線でのオーム損の違いによる発
光輝度のばらつきを防止できる有機薄膜エレクトロルミ
ネッセンス素子の提供及び正孔注入電極及び電子注入電
極と電極駆動用ＩＣを接続するリード線の電気抵抗を簡
便な手法で低減することが可能な有機薄膜エレクトロル
ミネッセンス素子の製造方法を提供することを目的とし
ている。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明の有機薄膜エレク
トロルミネッセンス素子は、正孔注入電極が形成された
基板と、基板上に形成された有機薄膜層と、有機薄膜層
上に形成された電子注入電極と、正孔注入電極及び電子
注入電極を駆動するための基板上に実装された電極駆動
用ＩＣと、正孔注入電極及び電子注入電極と電極駆動用
ＩＣを接続するための基板上に配設されたリード線を備
えた有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子であって、
リード線が正孔注入電極と同一材料からなる下地層と、
下地層上に形成された下地層よりも導電率の高い導電層
を備えた構成よりなる。この構成により、正孔注入電極
及び電子注入電極と電極駆動用ＩＣを接続するリード線
の電気抵抗を低減することが可能になるとともに、リー
ド線でのオーム損の違いによる発光輝度のばらつきを防
止することができる有機薄膜エレクトロルミネッセンス
素子を提供することができる。また、本発明の有機薄膜
エレクトロルミネッセンス素子の製造方法は、正孔注入
電極が形成された基板と、基板上に積層された有機薄膜
層と、有機薄膜層上に形成された電子注入電極層と、正
孔注入電極及び電子注入電極を駆動するための基板上に
実装された電極駆動用ＩＣと、正孔注入電極及び電子注
入電極と電極駆動用ＩＣを接続するための基板上に配設
されたリード線を備えた有機薄膜エレクトロルミネッセ
ンス素子の製造方法であって、基板上に正孔注入電極及
びリード線の下地層を同一材料で形成する第一電極成形
工程と、第一電極成形工程により正孔注入電極及び下地
層が形成された基板上に有機薄膜層を形成する有機薄膜
層形成工程と、有機薄膜層形成工程により形成された有
機薄膜層上に電子注入電極を形成する第二電極形成工程
と、第二電極形成工程により電子注入電極が形成された
基板の下地層上に下地層よりも導電率の高い導電層を形
成する導電層形成工程と、導電層形成工程により導電層
が形成された基板上に電極駆動用ＩＣを実装するＩＣ実
装工程を備えた構成よりなる。この構成により、正孔注
入電極及び電子注入電極と電極駆動用ＩＣを接続するリ
ード線の電気抵抗を簡便な手法で低減することが可能な
有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提
供することができる。

【０００７】

【発明の実施の形態】本発明の請求項１に記載の発明
は、正孔注入電極が形成された基板と、基板上に形成さ
れた有機薄膜層と、有機薄膜層上に形成された電子注入
電極と、正孔注入電極及び電子注入電極を駆動するため
の基板上に実装された電極駆動用ＩＣと、正孔注入電極
及び電子注入電極と電極駆動用ＩＣを接続するための基
板上に配設されたリード線を備えた有機薄膜エレクトロ
ルミネッセンス素子であって、リード線が正孔注入電極
と同一材料からなる下地層と、下地層上に形成された下
地層よりも導電率の高い導電層を備えたこととしたもの
であり、正孔注入電極及び電子注入電極と電極駆動用Ｉ
Ｃを接続するリード線の電気抵抗を低減することが可能
になるとともに、リード線でのオーム損の違いによる発
光輝度のばらつきを防止できるという作用を有する。

【０００８】基板としては、石英、ノンアルカリガラ
ス、アルカリガラス、ポリエチレンテレフタレート、ポ
リカーボネート等が用いられるが、透明で支持板となる
ものであれば特に限定されるものではない。

【０００９】正孔注入電極としては、錫添加の酸化イン
ジウム（ＩＴＯ：Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄ
ｅ）、アンチモン添加の酸化錫（ＡＴＯ：Ａｎｔｉｍｏ
ｎｙ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、アルミニウム添加の酸化
ジルコニウム（ＡＺＯ：Ａｎｔｉｍｏｎｙ Ｚｉｒｃｏ
ｎｉｕｍ Ｏｘｉｄｅ）等が挙げられるが、透明な電極
材料であれば特にこれに限定されるものではない。

【００１０】有機薄膜層は発光層のみからなる１層構造
又は機能分離型の多層構造のいずれでもよく、多層構造
についても正孔輸送層及び正孔輸送層上に積層された発
光層からなる２層構造、発光層及び発光層上に積層され
た電子輸送層からなる２層構造、正孔輸送層及び正孔輸
送層上に積層された発光層、発光層上に積層された電子
輸送層からなる３層構造等のいずれの構造でもよい。

【００１１】発光層としては、可視領域に蛍光を有し、
成膜性のよい有機化合物が望ましく、Ａｌｑ３等を用い
ることができるが、特にこれに限定されるものではな
い。

【００１２】正孔輸送層としては、キャリア移動度が大
きく、成膜性がよく、透明な有機化合物が望ましく、Ｔ
ＰＤ等を用いることができるが、特にこれに限定される
ものではない。

【００１３】尚、基板上への正孔注入電極、有機薄膜
層、電子注入電極の形成方法としては、蒸着法、スピン
コート法、キャスト法、ＬＢ法等の公知の薄膜作成法を
用いることができる。

【００１４】本発明の請求項２に記載の発明は、請求項
１に記載の発明において、導電層が、銅、銀、金、アル
ミニウム、鉄、ニッケル、モリブデン、白金の内のいず
れか１種類又はこれらの合金、あるいは、これらの金属
を含む合金からなることとしたものであり、リード線の
電気抵抗を非常に小さくすることができるという作用を
有する。

【００１５】本発明の請求項３に記載の発明は、正孔注
入電極が形成された基板と、基板上に積層された有機薄
膜層と、有機薄膜層上に形成された電子注入電極層と、
正孔注入電極及び電子注入電極を駆動するための基板上
に実装された電極駆動用ＩＣと、正孔注入電極及び電子
注入電極と電極駆動用ＩＣを接続するための基板上に配
設されたリード線を備えた有機薄膜エレクトロルミネッ
センス素子の製造方法であって、基板上に正孔注入電極
及びリード線の下地層を同一材料で形成する第一電極成
形工程と、第一電極成形工程により正孔注入電極及び下
地層が形成された基板の下地層上に下地層よりも導電率
の高い導電層を形成する導電層形成工程と、導電層形成
工程により導電層が形成された基板上に有機薄膜層を形
成する有機薄膜層形成工程と、有機薄膜層形成工程によ
り形成された有機薄膜層上に電子注入電極を形成する第
二電極形成工程と、第二電極形成工程により電子注入電
極が形成された基板上に電極駆動用ＩＣを実装するＩＣ
実装工程を備えたこととしたものであり、正孔注入電極
及び電子注入電極と電極駆動用ＩＣを接続するリード線
の電気抵抗を簡便な手法によって低減することができる
という作用を有する。

【００１６】本発明の請求項４に記載の発明は、請求項
３に記載の発明において、導電層が、銅、銀、金、アル
ミニウム、鉄、ニッケル、モリブデン、白金の内のいず
れか１種類又はこれらの合金、あるいは、これらの金属
を含む合金からなることとしたものであり、リード線の
電気抵抗を非常に小さくすることができるという作用を
有する。

【００１７】以下、本発明の実施の形態について、図１
及び図２を用いて説明する。 （実施の形態１）図１は本発明の第１実施の形態におけ
る有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子の平面模式図
である。図１において、１は基板、２は正孔注入電極、
３は有機薄膜層、４は電子注入電極、５は電極駆動用Ｉ
Ｃ、６はリード線である。図１において、正孔注入電極
２が形成された基板１上に有機薄膜層３が形成され、有
機薄膜層３上に電子注入電極４が積層されている。ま
た、基板１上には下地層と下地層上に形成された導電層
の２層構造からなるリード線６が、各正孔注入電極２又
は各電子注入電極４と電極駆動用ＩＣ５を接続するよう
に配設されている。

【００１８】以上のように本実施の形態１によれば、リ
ード線を下地層及び下地層上に形成された下地層よりも
導電率の高い導電層からなる２層構造とすることによっ
て、リード線の抵抗を低減し、リード線でのオーム損の
違いによる有機薄膜ＥＬ素子の発光輝度のばらつきを防
止することが可能となる。

【００１９】尚、本実施の形態１においては、正孔注入
電極２と電子注入電極４が直交する線状に形成されたも
のとしたが、特にこの形状に限定されるものではない。

【００２０】（実施の形態２）図２（ａ）は本発明の第
２実施の形態の第一電極形成工程により正孔注入電極と
下地層が形成された基板の平面模式図であり、図２
（ｂ）は本発明の第２実施の形態の導電層形成工程によ
り導電層が形成された基板の平面模式図であり、図２
（ｃ）は本発明の第２実施の形態の有機薄膜層形成工程
により有機薄膜層が形成された基板の平面模式図であ
り、図２（ｄ）は本発明の第２実施の形態の第二電極形
成工程により電子注入電極が形成された基板の平面模式
図であり、図２（ｅ）は本発明の第２実施の形態のＩＣ
実装工程により電極駆動用ＩＣが実装された基板の平面
模式図である。図２（ａ）〜図２（ｅ）において、７は
下地層、８は導電層であり、基板１、正孔注入電極２、
有機薄膜層３、電子注入電極４、電極駆動用ＩＣ５、リ
ード線６は本発明の第１実施の形態と同様なものである
ので、同一の符号を付して説明を省略する。

【００２１】次に、本発明の第２実施の形態による有機
薄膜エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を説明す
る。基板１上に透明な導電性薄膜を形成した後（図示せ
ず）、フォトファブリゲーション技術等を用いて導電性
薄膜をパターニングして、図２（ａ）に示したような正
孔注入電極２及び下地層７を形成し、図２（ｂ）に示し
たように下地層７上に下地層７よりも導電率の高い導電
層８を形成する。導電層８は金、銀、銅又はこれらの合
金が望ましく、その形成方法としては金属ペーストを下
地層７上に塗布して焼成する方法、金属箔を加熱圧着す
る方法、蒸着法、めっき法等がある。導電層８が形成さ
れた基板１上に、図２（ｃ）に示したように蒸着法等に
より有機薄膜層３を形成した後、正孔注入電極２の形成
方法と同様な方法により、図２（ｄ）に示したようなパ
ターニングされた電子注入電極４を有機薄膜層３上に形
成する。さらに、電子注入電極４が形成された基板１上
に電極駆動用ＩＣ５をＣＯＧ実装法やＣＯＦ実装法によ
り実装して、有機薄膜ＥＬ素子が完成する。

【００２２】以上のように、本実施の形態によれば、リ
ード線を下地層７及び下地層７上に形成された下地層７
よりも導電率の高い導電層８からなる２層構造とするこ
とによって、リード線の抵抗を低減し、リード線でのオ
ーム損の違いによる有機薄膜ＥＬ素子の発光輝度のばら
つきを防止することができる有機薄膜ＥＬ素子を製造す
ることが可能となる。

【００２３】尚、本実施の形態２においては、正孔注入
電極２と電子注入電極４が直交する線状に形成されたも
のとしたが、特にこの形状に限定されるものではない。

【００２４】次に、本発明を実施例と比較例を用いて説
明する。

【００２５】

【実施例】

（実施例１）ガラス基板上にスパッタリング法によって
厚さ０．１６μｍのＩＴＯ薄膜を形成した後、ＩＴＯ膜
上にレジスト材（東京応化社製、ＯＦＰＲ−８００）を
スピンコート法により塗布して厚さ１０μｍのレジスト
膜を形成し、マスク、露光、現像して、ＩＴＯ膜上のレ
ジスト膜を所定の形状にパターニングした。このガラス
基板を６０℃で５０％塩酸中に浸漬して、レジスト膜が
形成されていない部分のＩＴＯ膜をエッチングしてから
レジスト膜を除去し、ＩＴＯ膜からなる正孔注入電極及
び下地層が形成されたガラス基板を得た。このガラス基
板上の有機薄膜層を形成する部分にのみレジスト材（東
京応化社製、ＯＦＰＲ−８００）をスピンコート法によ
り塗布して厚さ１０μｍのレジスト膜を形成し、マス
ク、露光、現像して、ガラス基板上に形成されたレジス
ト膜を所定の形状にパターニングした。このレジスト膜
を形成したガラス基板を洗剤（フルウチ化学社製、セミ
コクリーン）で５分間超音波洗浄し、さらに純水で１０
分間超音波洗浄してから銅めっき液（奥野製薬工業社
製、ニューレア）に浸漬して、下地層を電流密度１０Ａ
／ｃｍ²でめっきし、下地層上に厚さ２μｍの銅からな
る導電層を形成した。この導電層を形成したガラス基板
上のレジスト膜を除去した後、洗剤（フルウチ化学社
製、セミコクリーン）による５分間の超音波洗浄、純水
による１０分間の超音波洗浄、アンモニア水１に対して
過酸化水素水１と水５を混合した水溶液による５分間の
超音波洗浄、７０℃の純水による５分間の超音波洗浄の
順に洗浄処理した後、窒素ブロアーでガラス基板に付着
した水分を除去し、さらに２５０℃に加熱して乾燥し
た。このように洗浄したガラス基板の正孔注入電極が形
成されている部分に蒸着法により、厚さ０．０５μｍの
ＴＰＤ薄膜からなる正孔輸送層を形成し、さらに正孔輸
送層の上面に蒸着法により０．０７５μｍのＡｌｑ３薄
膜からなる発光層を形成した後、発光層の上面に所定の
マスクを施し、２元蒸着法により厚さ０．２５μｍのＭ
ｇ−Ａｇ合金薄膜からなる電子注入電極を形成した。こ
のようにして電子注入電極が形成されたガラス基板上
に、電極駆動用ＩＣをＣＯＧ実装法により実装して有機
薄膜ＥＬ素子を作製した。

【００２６】（比較例１）下地層に銅をめっきしないこ
とを除いて実施例１と同様な方法により、導電層が形成
されていない有機薄膜ＥＬ素子を作製した。

【００２７】以上のようにして作製した実施例１及び比
較例１による有機薄膜ＥＬ素子を１０Ｖの直流電圧によ
り駆動させたところ、実施例１により作製した有機薄膜
ＥＬ素子の発光部における発光輝度の差は±３％であっ
たのに対して、比較例１により作製した有機薄膜ＥＬ素
子の発光部における発光輝度の差は±１０％であった。

【００２８】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、有機薄膜
エレクトロルミネッセンス素子のリード線でのオーム損
の違いによる発光輝度のばらつきを防止できることか
ら、有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子の発光層の
大型化や、発光部を狭ピッチに形成して解像度を向上さ
せることが可能な有機薄膜エレクトロルミネッセンス素
子が得られるという優れた効果が得られる。また、本発
明によれば、正孔注入電極及び電子注入電極と電極駆動
用ＩＣを接続するリード線の電気抵抗を簡便な手法で低
減することが可能であることから、発光層の大型化や、
発光部を狭ピッチに形成して解像度を向上させることが
可能な有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子を生産性
良く製造することができる有機薄膜エレクトロルミネッ
センス素子の製造方法が得られるという優れた効果が得
られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１実施の形態における有機薄膜ＥＬ
素子の平面模式図

【図２】（ａ）本発明の第２実施の形態の第一電極形成
工程により正孔注入電極と下地層が形成された基板の平
面模式図 （ｂ）本発明の第２実施の形態の導電層形成工程により
導電層が形成された基板の平面模式図 （ｃ）本発明の第２実施の形態の有機薄膜層形成工程に
より有機薄膜層が形成された基板の平面模式図 （ｄ）本発明の第２実施の形態の第二電極形成工程によ
り電子注入電極が形成された基板の平面模式図 （ｅ）本発明の第２実施の形態のＩＣ実装工程により電
極駆動用ＩＣが実装された基板の平面模式図

【図３】従来の有機薄膜ＥＬ素子の断面模式図

【図４】従来の有機薄膜ＥＬ素子の平面模式図

【符号の説明】

１，９ 基板 ２，１０ 正孔注入電極 ３，１７ 有機薄膜層 ４ 電子注入電極 ５，１４ 電極駆動用ＩＣ ６，１５ リード線 ７ 下地層 ８ 導電層 １１ 正孔輸送層 １２ 発光層 １３ 電子注入電極 １６ 発光部

フロントページの続き (72)発明者 小松 隆宏 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 若松 千春 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】正孔注入電極が形成された基板と、前記基
   板上に形成された有機薄膜層と、前記有機薄膜層上に形
   成された電子注入電極と、前記正孔注入電極及び前記電
   子注入電極を駆動するための前記基板上に実装された電
   極駆動用ＩＣと、前記正孔注入電極及び前記電子注入電
   極と前記電極駆動用ＩＣを接続するための前記基板上に
   配設されたリード線を備えた有機薄膜エレクトロルミネ
   ッセンス素子であって、前記リード線が正孔注入電極と
   同一材料からなる下地層と、前記下地層上に形成された
   前記下地層よりも導電率の高い導電層を備えたことを特
   徴とする有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子。
2. 【請求項２】前記導電層が、銅、銀、金、アルミニウ
   ム、鉄、ニッケル、モリブデン、白金の内のいずれか１
   種類以上又はこれらの合金、あるいは、これらの金属を
   含む合金からなることを特徴とする請求項１に記載の有
   機薄膜エレクトロルミネッセンス素子。
3. 【請求項３】正孔注入電極が形成された基板と、前記基
   板上に積層された有機薄膜層と、前記有機薄膜層上に形
   成された電子注入電極層と、前記正孔注入電極及び前記
   電子注入電極を駆動するための前記基板上に実装された
   電極駆動用ＩＣと、前記正孔注入電極及び前記電子注入
   電極と前記電極駆動用ＩＣを接続するための前記基板上
   に配設されたリード線を備えた有機薄膜エレクトロルミ
   ネッセンス素子の製造方法であって、前記基板上に前記
   正孔注入電極及び前記リード線の下地層を同一材料で形
   成する第一電極成形工程と、第一電極成形工程により前
   記正孔注入電極及び前記下地層が形成された前記基板の
   前記下地層上に前記下地層よりも導電率の高い導電層を
   形成する導電層形成工程と、前記導電層形成工程により
   前記導電層が形成された前記基板上に前記有機薄膜層を
   形成する有機薄膜層形成工程と、前記有機薄膜層形成工
   程により形成された前記有機薄膜層上に前記電子注入電
   極を形成する第二電極形成工程と、第二電極形成工程に
   より前記電子注入電極が形成された前記基板上に前記電
   極駆動用ＩＣを実装するＩＣ実装工程を備えたことを特
   徴とする有機薄膜エレクトロルミネッセンス素子の製造
   方法。
4. 【請求項４】前記導電層が、銅、銀、金、アルミニウ
   ム、鉄、ニッケル、モリブデン、白金の内のいずれか１
   種類以上又はこれらの合金、あるいは、これらの金属を
   含む合金からなることを特徴とする請求項３に記載の有
   機薄膜エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。