JPH09302460A - 透明導電フィルムの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 抵抗の経時変化が小さく安定な透明導電フィ
ルムの製造方法を提供する。 【構成】 透明プラスチックフィルム上に透明導電膜を
設けた透明導電フィルムを製造するに際し、該フィルム
上に透明導電膜を成膜する工程と、透明導電膜に吸湿処
理を施し該透明導電膜の抵抗を安定化する工程とからな
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は透明タッチパネル等
に用いられる透明導電フィルムの製造方法に関し、更に
詳しくは、抵抗の経時変化が小さく安定な透明導電フィ
ルムの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、画像表示素子として液晶表示素子
が注目され、その用途の１つとして、携帯用の電子手
帳、情報端末等への応用が期待されている。これらの携
帯情報端末等の入力装置としては、液晶表示素子の上に
透明なタッチパネルを載せたもの、特に価格等の点から
抵抗方式のタッチパネルが一般に用いられている。抵抗
方式のタッチパネルは、透明導電フィルムと透明導電膜
付きガラスが適当なギャップで隔てられた構造のものが
一般に用いられている。これらのタッチパネル用透明導
電フィルムの透明導電膜としては、５％から１０％程度
の酸化錫を添加した酸化インジュームを室温付近の低温
でＤＣスパッターを用いて成膜した膜（ＩＴＯ）が用い
られる。このようにして成膜した膜は、比抵抗が５×１
０^-4Ωcm程度であるが、タッチパネルとしては通常、シ
ート抵抗で５００Ω／□程度が要求されるため、膜厚を
１０ｎｍ程度と非常に薄くする必要がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】上記のようなタッチパ
ネルに用いられる膜厚１０ｎｍ程度のＩＴＯ膜は、成膜
直後の抵抗測定等では所定のシート抵抗を示している
が、タッチパネルの製造プロセスを通したり、室温で長
時間放置すると、シート抵抗が上昇する現象が見られ
る。抵抗式のタッチパネルは、位置検出を端子間の電圧
測定によって行なうため、抵抗変化は検出位置の変動の
要因となり、タッチパネルの位置検出精度の低下を引き
起こす。本発明は、従来の透明導電プラスチックフィル
ムをタッチパネルに応用した場合生ずる上記問題を解決
し、５００Ω／□以上の高抵抗で、しかもタッチパネル
製造プロセス及びその後における抵抗変化の少ない安定
な透明導電膜を有するプラスチックフィルムを提供する
ことを目的とするものである。

【０００４】

【課題を解決するための手段】上記従来技術の課題を克
服するため、本発明者らは鋭意研究を重ねた結果、抵抗
の経時変化の要因が大気中の水分のＩＴＯ表面への吸着
にあることを見いだし、そこで成膜後に吸湿処理を行い
表面への水分の吸着量を飽和させることにより、吸湿に
よる抵抗変化が抑えられることを見い出し本発明を完成
した。

【０００５】即ち、本発明は、透明プラスチックフィル
ム上に透明導電膜を設けた透明導電フィルムを製造する
に際し、該フィルム上に透明導電膜を成膜する工程と、
透明導電膜に吸湿処理を施し該透明導電膜の抵抗を安定
化する工程とからなることを特徴とする透明導電フィル
ムの製造方法を内容とする。

【０００６】以下、本発明を図面に従って詳細に説明す
る。図１は、本発明に用いる透明導電フィルムの構造を
示す概略図で、透明プラスチックフィルム１の表面に透
明導電膜２が形成されている。本発明に用いる透明プラ
スチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリアリレート、ポリカーボネート等が透明性等の
点から一般に用いられるが、その中でも特にポリアリレ
ートフィルムが耐熱性が高く、透明導電膜との接着性が
高い点で好ましい。透明導電膜としては特に限定されな
いが、通常酸化インジュームと酸化錫の複合酸化物ター
ゲットを用いて酸化性雰囲気中でＤＣマグネトロンスパ
ッター装置により成膜したＩＴＯ膜が用いられる。成膜
温度は、耐熱温度が低いプラスチックフィルム上への膜
形成であるため、フィルムの耐熱温度以下の温度、望ま
しくは１００℃以下の温度が通常用いられる。この様な
低温で成膜を行なった膜において、原因は明らかではな
いが、特に成膜後の抵抗の経時変化が顕著であるため、
本発明による抵抗安定化処理が特に有効である。

【０００７】このようにして成膜した透明導電膜は、酸
素濃度を最適化することにより、通常比抵抗として１×
１０^-3Ωcm以下、条件が最適化された場合には５×１０
^-4Ωcm程度で抵抗分布の少ない膜が容易に得られる。こ
の様な透明導電膜をタッチパネルに応用する場合、通
常、透明導電膜の抵抗として３００Ω／□以上が用いら
れるため、特に限定されないが、通常、透明導電膜の膜
厚としては３０ｎｍ以下が用いられる。抵抗の経時変化
の原因が表面への水分の吸着であるため、タッチパネル
に使用される３０ｎｍ以下の薄い膜の場合に抵抗の変化
が特に顕著であり、本発明による安定化処理方法が特に
効果的である。

【０００８】次に、この様にして作製した透明導電膜の
抵抗を安定化するため、透明導電膜に吸湿処理を施す。
吸湿処理としては、水を含む水溶液中に浸漬する、ある
いは該水溶液を透明導電膜上にスプレーする等の方法が
用いられるが、特にこれらに限定されるものではない。
ＩＴＯに代表される導電性酸化物は、通常、酸に対して
非常に弱く短時間でエッチングされるため、水溶液とし
ては純水あるいはアルカリ性水溶液が好ましいが、フィ
ルム表面の洗浄をかねて、中性洗剤等を用いても同様な
効果が得られる。また、アルカリ成分としては、通常、
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が用いられるが、
特にこれらに限定されるものではない。水溶液中に浸漬
処理を行なう場合、抵抗の安定化の効果はごく短時間の
浸漬で効果があるため、特に浸漬時間は限定されない
が、生産効率の観点から浸漬時間は５分以下が望まし
い。使用する水溶液の温度についても特に限定されない
が、取り扱いの容易さを考慮に入れ、通常１０℃から６
０℃の温度が好適に用いられる。吸湿処理後のフィルム
は、必要に応じて、純水で洗浄した後乾燥する。乾燥温
度は特に限定されないが、プラスチックフィルムの耐熱
温度以下で行なうことは言うまでもない。

【０００９】

【実施例】次に本発明を具体的な実施例に基づいて詳細
に説明するが、本発明は実施例のみに限定されるもので
はない。

【００１０】実施例１、比較例１ 厚さ７５μｍのポリアリレートフィルム上に、ＩＴＯを
１０ｎｍ成膜した。ＩＴＯの成膜は、ＤＣマグネトロン
スパッター装置を用いて、ターゲットとして１０％酸化
錫を添加した酸化インジュームを用い、１％酸素を添加
したアルゴン雰囲気中で行なった。成膜直後の膜の抵抗
を測定したところ、５００Ω／□であった。次に、この
透明導電フィルムの抵抗を安定化するためにアルカリ性
水溶液（濃度２．５重量％）に浸漬処理を行った。安定
化処理は、２５℃のアルカリ性水溶液に上記の透明導電
フィルムを１分間浸漬することによって行った。その
後、水洗し、乾燥した後、透明導電フィルムのシート抵
抗を測定したところ、シート抵抗は５８０Ω／□であっ
た。次に、抵抗の経時変化を調べるために、得られた試
料を常温常湿度下で放置した。比較のために、安定化の
ための吸湿処理を行わなかった以外は同様にして製膜
し、成膜直後のフィルムについても同様の試験を行なっ
た。試験結果を図２に示す。図２の横軸は放置時間（日
数）を表し、縦軸は初期値で規格化した抵抗を表してい
る。図２からわかるように、比較例の安定化未処理品は
放置によって抵抗の上昇が見られるが、実施例の安定化
処理品は、最初、安定化処理により抵抗が上昇するが、
その後の変化は極めて小さく抵抗の安定性が顕著に向上
していることがわかる。

【００１１】

【発明の効果】叙上のとおり、本発明によれば、抵抗の
経時変化が小さく、極めて安定した透明導電フィルムを
得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】透明導電フィルムを示す概略図である。

【図２】透明導電フィルムの放置時間と抵抗との関係を
示すグラフである。

【符号の説明】

１ 透明プラスチックフィルム ２ 透明導電膜

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明プラスチックフィルム上に透明導電
   膜を設けた透明導電フィルムを製造するに際し、該フィ
   ルム上に透明導電膜を成膜する工程と、透明導電膜に吸
   湿処理を施し該透明導電膜の抵抗を安定化する工程とか
   らなることを特徴とする透明導電フィルムの製造方法。
2. 【請求項２】 前記透明導電膜が、酸化インジュームま
   たはこれと酸化錫の複合酸化物からなり、その膜厚が３
   ０ｎｍ以下である請求項１記載の透明導電フィルムの製
   造方法。
3. 【請求項３】 前記透明導電膜がＤＣマグネトロンスパ
   ッター法により成膜温度１００℃以下で形成されたもの
   である請求項１または２記載の透明導電フィルムの製造
   方法。