JPH09293747A - 半導体装置におけるパッドのレイアウト構造 - Google Patents

半導体装置におけるパッドのレイアウト構造

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JPH09293747A
JPH09293747A JP8105216A JP10521696A JPH09293747A JP H09293747 A JPH09293747 A JP H09293747A JP 8105216 A JP8105216 A JP 8105216A JP 10521696 A JP10521696 A JP 10521696A JP H09293747 A JPH09293747 A JP H09293747A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】所定の集積回路の全てのバッファにパッドを付
加することにより、pin数の不足というボトルネック
を解消する。 【解決手段】内部回路領域1とバッファ31、32、3
3…との間の領域13には、第2のバッド71を配置で
きるスペースをもつ領域13を設ける。バッファ31、
32、33…のチップ周縁側には千鳥状に配置された第
1のバッド5a1および5b1を配置する。第1のバッ
ド5a1および5b1は第1のバッドバッファ間配線4
1aおよび42bによりバッファ31および32と接続
される。バッファ31、32、33…のうち、パッド5
a1…および5b1…と接続できないバッファ34と内
部回路領域1との間に第2のバッド71を配置し、第2
のバッド−バッファ間配線61でバッファ34と接続す
ることにより、チップに搭載されている全てのバッファ
が使用可能となり、pin数の不足を解消する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は集積回路が形成され
た半導体装置に係わり、特に多ピン対応のためにチップ
上に複数の入出力バッファと複数のパッドをそれぞれ配
置した半導体装置におけるパッドのレイアウト構造に関
する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化、軽量化、薄型
化および高性能化に伴い、機器に搭載される大規模集積
回路(LSI)のパッケージも小型化、多ピン化および
表面実装化へと進んできた。これら小型化、多ピン化へ
の移行に対して多用されているパッケージにQFP(Q
uad Flat Package)がある。しかしな
がらこのQFPは小型化、多ピン化が可能であるが多ピ
ン化による端子ピッチの微細化によるパッケージ寸法の
高精度および高信頼化が要求される。
【0003】QFPは、一般的にリードフレームのリー
ド端子と半導体チップとの間を金属細線を用いてワイヤ
ボンディングすることによって電気的に接続している
が、さらに多ピン化の進展によりチップの小型化とリー
ドフレームの加工限界およびワイヤボンディングの加工
精度がチップの端子ピッチの微細化に対応して求められ
る寸法精度に対応できなくなってきたことと、チップの
電極とインナーリード間隔が大きくなってきたため、金
属細線を用いてワイヤボンディングすることが非常に困
難となってきた。一方、金属配線に代ってTAB(Ta
pe AutoMated Bonding)方式が実
用化されている。このTAB方式は、端子の接続を高精
度に一括ボンディングするものであり、これによって加
工精度が向上し、組立工程の高能率化、低コスト化およ
び高密度実装化が可能となった。
【0004】上述したQFPあるいはTABにおいて、
高密度実装に伴なって従来のようにパッドを一列に並べ
るようなパッド配置ではパッド数でチップサイズが決る
ことになり、チップ価格が高くなる。その解決のための
一例が特開平4−152646号公報に記載されてい
る。
【0005】同公報記載の半導体装置の内部構造を示し
た図3を参照すると、パッド8aおよび8bが交互に配
置され、内部リード11aは内部リード11bよりも短
くなるように配置し、さらに、配線の通過経路は内部リ
ード11bよりも高い位置で配線される段差構造をもっ
ている。つまり、ボンディングワイヤ工程において、ボ
ンディングパッド8aと内部リード11bとをボンディ
ングワイヤ12により相互接続し、かつボンディングパ
ッド8bと内部リード11aとを相互に接続するように
ワイヤボンディングを行なうことにより、隣接するボン
ディングワイヤ12は交互に段差構成になって、ボンデ
ィングワイヤ相互間の間隔が拡がるように配線されてい
る。
【0006】さらに、この従来例を本発明を対比し易く
するために部分的に拡大した構造図を示す図4を参照す
ると、集積回路を搭載する内部回路領域1の外側にバッ
ファ31、32、33…を配置し、内部回路領域11、
32、33…とバッファ31、32、33…とはバッフ
ァ−内部回路間配線21、22、23…で接続されてい
る。バッファ31、32、33…の外側にパッド8a
1、8a2、…および8b1、8b2、…を千鳥状に配
置し、バッファ31、32、33…とバッド8a1、8
a2、…および8b1、8b2、…とはパッド−バッフ
ァ間配線41、42、43…で接続されている。
【0007】バッファ31、32、33…には内部回路
領域1を保護するための保護回路としての機能があるた
め、バッファ−内部回路間配線21、22、23…は細
くできる。しかし、パッド−バッファ間配線41、4
2、43…には保護回路がないため、細くすると高電圧
が印加されたときに内部回路1が破壊されてしまう可能
性があり、できるだけ太くする必要がある。
【0008】パッド8a1、8a2、…および8b1、
8b2、…にはボンディングワイヤーやTABテープな
どがリードフレームのインナーリードに接続され、さら
にアウターリードを経由してチップ外の回路と接続され
る。
【0009】また、図3よりもさらに微細加工技術が進
んだ従来の半導体装置の平面的な構造図を示した図5を
参照すると、図3と同様に内部回路領域1、バッファ−
内部回路間配線21、22、23…、バッファ31、3
2、33…、パッド−バッファ間配線41、42、43
…、バッド9a1、9a2、…および9b1、9b2、
…を持ち、さらに内部回路領域1に接続されてはいる
が、バッドを持たないため使用不可能なバッファ34に
より構成される。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来技術の問
題点は、微細加工技術が進歩することにより図5に示し
た使用不可能なバッファ34が発生し、チップサイズを
小さくして内部回路の集積度を向上させるうえで障害と
なることである。
【0011】その理由を以下に述べると、バッファのサ
イズは、そのチップにおいてバッファに必要とされる駆
動能力と外部端子数(以下、pin数と称す)から決め
られる。微細加工技術の進歩により、バッファに使用さ
れるトランジスタのゲート長は0.35μm程度になり
バッファの横幅を60μm程度まで細くしても十分駆動
能力を確保できるようになった。
【0012】一方、パッドのサイズはpin数とTAB
技術等の組立技術から決められるが、現在の組立技術で
は、バッドサイズが80μm程度まで組立が可能になっ
てきている。
【0013】ところで、細加工技術が0.5μmクラス
の時には、10mm角程度のチップでpin数は500
本程度であり、pin1本あたりのバッドおよびバッフ
ァの横幅は80μm程度確保できた。そのため図3のよ
うに、バッファ3とパッド5a、5bを同数チップ上に
構成することができた。
【0014】しかし、微細加工技術が0.35μm程度
になると、10mm角程度のチップでpin数は700
本程度まで増加し、pin1本あたりのバッファの横幅
は60μm程度になったが、組み立て可能なパッドサイ
ズは80μm程度のままであった。そのため、図5に示
した使用不可能なバッファ34が発生していた。
【0015】この使用不可能なバッファ34が存在する
ことにより、例えば、8mm角程度のチップの内部回路
領域1に十分搭載可能な集積回路であっても、pin数
の不足により、一回り大きい10mm角程度のチップに
搭載しなければならなくなり、集積度が低下する要因と
なっている。
【0016】本発明の目的は、所定の集積回路の全ての
バッファにパッドを付加することにより、pin数の不
足というボトルネックを解消し、集積回路を搭載するチ
ップの集積度を向上させることにある。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体装置にお
けるパッドのレイアウト構造の特徴は、リードフレーム
に搭載された半導体チップ上の内部領域に所定の機能を
もつ内部回路が形成された内部回路領域とこの内部回路
領域を囲む前記チップ周縁部に、前記内部回路と接続さ
れ外部との信号を入出力するための複数の入出力バッフ
ァおよびこれらの入出力バッファにそれぞれ接続される
とともに前記リードフレームのインナーリードとワイヤ
ボンディングされるパッドが複数配置される第1の外部
領域とが形成された半導体装置におけるパッドのレイア
ウト構造において、前記入出力バッファの外側領域だけ
でなく、前記内部回路領域と複数の前記入出力バッファ
との間にも複数の前記バッドをそれぞれ配置したパッド
配置構造を有することにある。
【0018】また、前記パッド配置構造は、前記内部回
路領域と複数の前記入出力バッファとの間にはあらかじ
め定める所定の領域をもつ第2の外部領域を設け、互に
隣接する少なくとも3個ごとの入出力バッファにそれぞ
れ接続される前記パッドは所定の間隔で互に千鳥状にな
るように配置され、前記少なくとも3個ごとの入出力バ
ッファの両端に隣接したバッファに接続される残りの前
記パッドは、前記第2の外部領域に一列状態で配置され
る。
【0019】さらに、前記パッド配置構造は、前記内部
回路領域と複数の前記入出力バッファとの間にはあらか
じめ定める所定の領域をもつ第3の外部領域を設け、こ
の第3の外部領域に、隣接配置された複数の前記入出力
バッファの偶数番目または奇数番目のいずれか一方に接
続される複数の前記パッドが一列に配置され、これら入
出力バッファの外側領域には、残りの奇数番目または偶
数番目の入出力バッファに接続される残りの前記パッド
が一列に配置される。
【0020】さらにまた、複数の前記パッドは、一列に
隣接配置した前記入出力バッファの2個分の横幅の範囲
内であって所定のパッド間隔を維持するように拡大して
配置される。
【0021】また、前記チップが、複数の前記パッドを
それぞれ複数の前記入出力バッファの外側に千鳥状に配
置することによって決るチップサイズを有するとき、前
記パッドをそれぞれ一列状態に配置して前記チップサイ
ズを小さくする。
【0022】
【発明の実施の形態】本発明の半導体装置におけるパッ
ドの配置構造では、チップに搭載されるバッファ全てに
パッドを持たせることができる。そのため、使用不可能
なバッファが発生せず、チップサイズを小さくして内部
回路の集積度を向上させることができる。
【0023】まず、本発明の実施の形態を図面を参照し
ながら説明する。
【0024】図1は本発明の実施の形態の主要部を平面
的に示した構造図である。図1を参照すると、チップの
周縁部に沿って外側にパッド5a1、5a2、5a3、
…が、内側にパッド5b1、5b2、5b3、…がそれ
ぞれ配置され、これらパッド5a1…およびパッド5b
…は互に千鳥状の配置を形成するように所定の間隔で配
置される。
【0025】バッファ31、32、…と内部回路1の配
置される領域との間に第2のパッドを設けるための領域
13が新に設けられる。バッファ31、32、…を4個
並べる毎に4個目のバッファ例えばバッファ34に接続
されるべきバッファ7は領域13に配置され、第2バッ
ファ間配線61で再短距離になる位置で接続される。
【0026】バッファ31、32、…と内部回路1とを
接続するバッファ内部回路間配線21、22、…のう
ち、4個目ごとのバッファ34に接続されるバッファ内
部回路配線24、28、32、…のみは、他の3個のバ
ッファ31、32、33のバッファ内部回路配線21、
22、…の接続位置がそれぞれの前段との隣接側面に沿
って配設される位置とは異なり、例えばバッファ34に
接続されるバッファ内部回路配線24前段のバッファ3
3のバッファ内部回路配線23とは互の隣接側面を介し
て対象な位置に接続される。
【0027】すなわち、所定の機能をもつ集積回路が形
成された内部回路領域1とバッファ31、32、33…
との間の領域13には、第2のバッド71を配置できる
スペースをもつ領域13を設ける。バッファ31、3
2、33…のチップ周辺側には従来通り千鳥状に配置さ
れた第1のバッド5a1および5b1を配置する。
【0028】第1のバッド5a1および5b1は従来と
同様に、第1のバッドバッファ間配線41aおよび42
bによりバッファ31および32と接続される。バッフ
ァ31、32、33…のうち、パッド5a1…および5
b1…と接続できないバッファ34と内部回路領域1と
の間に第2のバッド71を配置し、第2のバッド−バッ
ファ間配線61でバッファ34と接続する構成である。
【0029】トランジスタのゲート長を0.35μmク
ラスで設計した場合、バッファ31、32、33…をチ
ップ周辺に添って並べて配置するときの配置方向の横幅
は、前述したように60μm程度である。第1のバッド
5a1および5b1は前述のように横幅が80μm程度
あるため、バッファ31、32、33…を4個並べる毎
に第1のバッド5a1、5a2および5b1の3個しか
配置できないが、残りの1個のバッファ34と内部回路
領域1との間に第1のバッド5a1、5a2および5b
1と同じサイズの第2のバッド71を配置することによ
り、全てのバッファが使用可能となる。
【0030】本発明の第2の実施の形態の平面的な構造
図を示した図2を参照すると、ここではチップの周辺部
に沿ってパッド51、52、53、…がそれぞれ千鳥状
ではなく横一列に配置され、これらパッド51、52、
53、…の内側にバッファ31、32、33…が一列に
互に隣接して配置される。これらのバッファ31、3
2、33…と内部回路領域1との間に領域13が設けら
れ、この領域13にパッド71、72、73…がそれぞ
れ一列に配置される。パッド51、52、53、…はバ
ッファ31、33、35…に配線41、42、43…に
よって所定の間隔を保って最短距離でそれぞれ接続さ
れ、バッファ32、34、36、…はパッド71、7
2、73…に配線61、62、63…によって所定の間
隔を保って最短距離でそれぞれ接続される。バッファ3
1、32、33、…は内部回路領域1内に配線21、2
2、23…によってそれぞれのパッドの両側のスペース
を通ってそれぞれ最短距離になるように接続される。
【0031】すなわち、内部回路領域1とバッファ3
1、32、33…との間に設けられた領域13とバッフ
ァ31、32、33…の外側とに第1のバッド5と第2
のバッド7とを交互に配置する。例えば奇数番目のハッ
ファに接続されるパッドはバッファの外側に配置され、
偶数番目のパッドは領域13に配置する。その逆の配置
でもよい。第1のバッド51、52、53…および第2
のバッド71、72、73…とバッファ31、32、3
3…とは第1のバッド−バッファ間配線41、42、4
3…および第2のバッド−バッファ間配線61、62、
63…によりバッファ31、32、33…に交互に接続
する。
【0032】したがって、第1の実施の形態との相違点
は、図1に示す配置の場合はバッファ4個ごとにその4
個目のバッファに接続すべきパッドを領域13に配置し
たのに対し、図2に示す例では偶数番目または奇数番目
のバッファに接続すべきパッドを領域13に配置するこ
とである。
【0033】このように配置した場合、第1のバッド5
1、52、53…もしくは第2のバッド71、72、7
3…はそれぞれの領域でみた場合、バッファ31、3
2、33…を2個並べる毎にパッドを1個並べれば良い
ため、バッドの横幅は、バッファの2倍近くまで大きく
することができる。
【0034】第1の実施の形態と同様に、トランジスタ
のゲート長を0.35μmクラスで設計した場合、バッ
ファ31、32、33…の横幅が60μmであるから、
第1のバッド51、52、53…および第2のバッド7
1、72、73…のサイズは100μm程度にすること
ができる。
【0035】また、バッファの外側のバッドを千鳥状で
はなく一列に配置するため、第1の実施の形態の場合よ
りもバッド配置に必要となる面積が減少するため、チッ
プ面積の削減に有利である。
【0036】
【発明の効果】上述したように本発明は、入出力バッフ
ァの外側領域だけでなく、内部回路領域と複数の入出力
バッファとの間にも複数のバッドをそれぞれ配置したパ
ッド配置構造を有し、このパッド配置構造は、内部回路
領域と複数の入出力バッファとの間にはあらかじめ定め
る所定の領域をもつ第2の外部領域を設け、隣接配置さ
れた複数の入出力バッファの少なくとも3個ごとの入出
力バッファにそれぞれ接続されるパッドは所定の間隔で
互に千鳥状になるように配置され、これら3個のうちの
両端に隣接するバッファに接続される複数のパッドは、
第2の外部領域に一列状態で配置され、さらに他のパッ
ド配置構造は、内部回路領域と複数の入出力バッファと
の間にはあらかじめ定める所定の領域をもつ第3の外部
領域を設け、この第3の外部領域に、隣接配置された複
数の入出力バッファの偶数番目または奇数番目のいずれ
か一方が一列に配置され、これら入出力バッファの外側
領域には、残りの奇数番目または偶数番目の入出力バッ
ファが一列に配置されるので、チップに搭載されている
全てのバッファが使用可能となり、pin数の不足とい
うボトルネックが解消され、回路規模に最適なチップサ
イズを選択することができ、かつチップサイズも小さく
することができ、半導体装置の製造原価の低減に寄与す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す半導体装置の
平面的な構造図である。
【図2】本発明の第2の実施の形態を示す半導体装置の
平面的な構造図である。
【図3】従来の半導体装置の主要部の平面的な構造図で
ある。
【図4】従来の半導体装置の平面的な構造図を部分的に
拡大した構造図である。
【図5】微細加工技術が進歩した場合の従来の半導体装
置の構成図である。
【符号の説明】
1 内部回路領域 21,22,23 バッファ−内部回路間配線 31〜33,35〜37 入出力バッファ 41,42,43 第1のバッド−バッファ間配線 51,52,53,8a1,8a2,8a3,8b1,
8b2,8b3,9a1,9a2,9a3,9b1,9
b2,9b3 第1のバッド 61 第2のバッド−バッファ間配線 71,72,73 第2のバッド 34 使用不可能なバッファ

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 リードフレームに搭載された半導体チッ
    プ上の内部領域に所定の機能をもつ内部回路が形成され
    た内部回路領域とこの内部回路領域を囲む前記チップ周
    縁部に、前記内部回路と接続され外部との信号を入出力
    するための複数の入出力バッファおよびこれらの入出力
    バッフにそれぞれ接続されるとともに前記リードフレー
    ムのインナーリードとワイヤボンディングされるパッド
    が複数配置される第1の外部領域とが形成された半導体
    装置におけるパッドのレイアウト構造において、前記入
    出力バッファの外側領域だけでなく、前記内部回路領域
    と複数の前記入出力バッファとの間にも複数の前記バッ
    ドをそれぞれ配置したパッド配置構造を特徴とする半導
    体装置におけるパッドのレイアウト構造。
  2. 【請求項2】 前記パッド配置構造は、前記内部回路領
    域と複数の前記入出力バッファとの間にはあらかじめ定
    める所定の領域をもつ第2の外部領域を設け、互に隣接
    する少なくとも3個ごとの入出力バッファにそれぞれ接
    続される前記パッドは所定の間隔で互に千鳥状になるよ
    うに配置され、前記少なくとも3個ごとの入出力バッフ
    ァの両端に隣接したバッファに接続される残りの前記パ
    ッドは、前記第2の外部領域に一列状態で配置される請
    求項1記載の半導体装置におけるパッドのレイアウト構
    造。
  3. 【請求項3】 前記パッド配置構造は、前記内部回路領
    域と複数の前記入出力バッファとの間にはあらかじめ定
    める所定の領域をもつ第3の外部領域を設け、この第3
    の外部領域に、隣接配置された複数の前記入出力バッフ
    ァの偶数番目または奇数番目のいずれか一方に接続され
    る複数の前記パッドが一列に配置され、これら入出力バ
    ッファの外側領域には、残りの奇数番目または偶数番目
    の入出力バッファに接続される残りの前記パッドが一列
    に配置される請求項1記載の半導体装置におけるパッド
    のレイアウト構造。
  4. 【請求項4】 複数の前記パッドは、一列に隣接配置し
    た前記入出力バッファの2個分の横幅の範囲内であって
    所定のパッド間隔を維持するように拡大して配置される
    請求項3記載の半導体装置におけるパッドのレイアウト
    構造。
  5. 【請求項5】 前記チップが、複数の前記パッドをそれ
    ぞれ複数の前記入出力バッファの外側に千鳥状に配置す
    ることによって決るチップサイズを有するとき、前記パ
    ッドをそれぞれ一列状態に配置して前記チップサイズを
    小さくする請求項4記載の半導体装置におけるパッドの
    レイアウト構造。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7663163B2 (en) * 2006-07-13 2010-02-16 Nec Electronics Corporation Semiconductor with reduced pad pitch

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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