JPH09292620A - 微粒子の散布方法および散布装置 - Google Patents
微粒子の散布方法および散布装置Info
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- JPH09292620A JPH09292620A JP9039038A JP3903897A JPH09292620A JP H09292620 A JPH09292620 A JP H09292620A JP 9039038 A JP9039038 A JP 9039038A JP 3903897 A JP3903897 A JP 3903897A JP H09292620 A JPH09292620 A JP H09292620A
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- substrate
- fine particles
- spraying
- nozzle
- spray nozzle
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Abstract
(57)【要約】
【課題】微粒子を基板上に均一に散布することができ微
粒子の散布方法および散布装置を提供する。 【解決手段】Ｘ方向に移動自在な移動テーブル上に載置
された基板と、Ｙ方向に揺動する散布ノズルとが、基板
に対する散布ノズルの延長線の走査軌跡がジグザグとな
るように相対移動される。相対移動の間、除電バーによ
って基板をその移動方向に沿って順次除電しながら、散
布ノズルからスペーサを散布するとともに、散布ノズル
が走査軌跡の折返し部分を通過する際、散布ノズルから
のスペーサ散布量を低減させる。
粒子の散布方法および散布装置を提供する。 【解決手段】Ｘ方向に移動自在な移動テーブル上に載置
された基板と、Ｙ方向に揺動する散布ノズルとが、基板
に対する散布ノズルの延長線の走査軌跡がジグザグとな
るように相対移動される。相対移動の間、除電バーによ
って基板をその移動方向に沿って順次除電しながら、散
布ノズルからスペーサを散布するとともに、散布ノズル
が走査軌跡の折返し部分を通過する際、散布ノズルから
のスペーサ散布量を低減させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示パネル
の二枚の基板間に、これら基板間の間隔を制御するスペ
ーサとしての微粒子を散布するための微粒子散布方法お
よび散布装置に関する。
の二枚の基板間に、これら基板間の間隔を制御するスペ
ーサとしての微粒子を散布するための微粒子散布方法お
よび散布装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶表示パネルには、高コントラ
スト化や視野角の拡大等の高性能化、および素子全体に
渡り表示不良のない均一な表示が可能な高表示品位化が
求められている。
スト化や視野角の拡大等の高性能化、および素子全体に
渡り表示不良のない均一な表示が可能な高表示品位化が
求められている。
【０００３】一般に、液晶表示パネルは、２枚の基板を
互いに対向して配置し、これらの基板間に液晶を封入し
て構成されている。その際、対向する２枚の基板間隔を
全域に亘って均一に所定の間隔に制御することが高性能
化及び高表示品位化にとって非常に重要となる。つま
り、液晶表示素子の高性能化を図るためには、基板間隔
を所定の値に制御することが必要であり、高表示品位化
を図るためには、基板間隔の全域に亘って均一にするこ
とが必要となる。
互いに対向して配置し、これらの基板間に液晶を封入し
て構成されている。その際、対向する２枚の基板間隔を
全域に亘って均一に所定の間隔に制御することが高性能
化及び高表示品位化にとって非常に重要となる。つま
り、液晶表示素子の高性能化を図るためには、基板間隔
を所定の値に制御することが必要であり、高表示品位化
を図るためには、基板間隔の全域に亘って均一にするこ
とが必要となる。
【０００４】そこで、基板間隔を全域に亘って均一にす
るため、一方の基板表面上に所望の径の微粒子からなる
スペーサを均一に散布した後、他方の基板を貼り合わせ
る方法がとられている。
るため、一方の基板表面上に所望の径の微粒子からなる
スペーサを均一に散布した後、他方の基板を貼り合わせ
る方法がとられている。
【０００５】例えば、特開平６−３６７９号公報に開示
されたスペーサの散布装置は、首振り自在に設けられた
スペーサの散布ノズルと、この散布ノズルと基板とを水
平面内でＸ方向およびＹ方向に相対移動させる移動機構
とを備え、散布ノズルの延長線が基板上にのこ歯状のジ
グザグな走査軌跡を描くように散布ノズルおよび基板を
相対移動させながら、散布ノズルからスペーサを基板上
に散布する。
されたスペーサの散布装置は、首振り自在に設けられた
スペーサの散布ノズルと、この散布ノズルと基板とを水
平面内でＸ方向およびＹ方向に相対移動させる移動機構
とを備え、散布ノズルの延長線が基板上にのこ歯状のジ
グザグな走査軌跡を描くように散布ノズルおよび基板を
相対移動させながら、散布ノズルからスペーサを基板上
に散布する。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の散布装置および散布方法によれば、散布ノズルから
散布される微粒子の走査軌跡の内、折返し部分におい
て、走査軌跡間隔が狭くなり散布領域が重複する。そし
て、重複した領域においては、スペーサの供給量が他の
領域よりも増大し、基板上の散布密度も増加する。例え
ば、直径約５μｍのスペーサを散布密度１５０個／mm2
程度で散布した場合、重複した領域では、散布密度が
５０〜７０個／mm2 に増加する。そのため、基板上に
おけるスペーサの散布密度が不均一となり、２枚の基板
間の間隔を均一に保持することが困難となる。
来の散布装置および散布方法によれば、散布ノズルから
散布される微粒子の走査軌跡の内、折返し部分におい
て、走査軌跡間隔が狭くなり散布領域が重複する。そし
て、重複した領域においては、スペーサの供給量が他の
領域よりも増大し、基板上の散布密度も増加する。例え
ば、直径約５μｍのスペーサを散布密度１５０個／mm2
程度で散布した場合、重複した領域では、散布密度が
５０〜７０個／mm2 に増加する。そのため、基板上に
おけるスペーサの散布密度が不均一となり、２枚の基板
間の間隔を均一に保持することが困難となる。
【０００７】なお、本明細書において、散布される微粒
子の走査軌跡とは、散布中心の移動軌跡をいい、例え
ば、微粒子を散布する散布ノズルの中心軸線の延長線と
基板表面との交点の軌跡をいう。
子の走査軌跡とは、散布中心の移動軌跡をいい、例え
ば、微粒子を散布する散布ノズルの中心軸線の延長線と
基板表面との交点の軌跡をいう。
【０００８】このようなに散布密度が不均一となること
を防止するために、散布ノズルの首振り角度を大きくし
て走査軌跡の折返し部が基板の外側に位置するように設
定することも可能であるが、この場合、スペーサの使用
量が増大してしまうとともに、散布時間も長くなってし
まう。
を防止するために、散布ノズルの首振り角度を大きくし
て走査軌跡の折返し部が基板の外側に位置するように設
定することも可能であるが、この場合、スペーサの使用
量が増大してしまうとともに、散布時間も長くなってし
まう。
【０００９】一方、散布ノズルを通してスペーサを散布
する方法において、スペーサは搬送経路を通る過程で摩
擦帯電され、正または負の電荷を帯びる。このようなス
ペーサの帯電は、スペーサの凝集を防止する上で好まし
いが、帯電したスペーサを基板上に散布した場合、基板
上に形成された走査線、信号線、ショートリング等の導
体パターンが基板スペーサと同電位に帯電する。
する方法において、スペーサは搬送経路を通る過程で摩
擦帯電され、正または負の電荷を帯びる。このようなス
ペーサの帯電は、スペーサの凝集を防止する上で好まし
いが、帯電したスペーサを基板上に散布した場合、基板
上に形成された走査線、信号線、ショートリング等の導
体パターンが基板スペーサと同電位に帯電する。
【００１０】液晶表示パネルの基板は、その上に複雑な
電子回路を有しているため、帯電は全面均一ではなく、
特定の配線のみが帯電する場合もある。特に、基板上に
走査軌跡を描くように散布ノズルを移動させながらスペ
ーサを散布する場合、基板上に先に散布されたスペーサ
により、基板上のまだ散布されていない部分の特定の配
線等がスペーサと同電位に帯電してしまい、後から散布
されるスペーサを反発してしまう。そのため、その部分
におけるスペーサの散布密度が異常に低下し、散布ムラ
が生じる。
電子回路を有しているため、帯電は全面均一ではなく、
特定の配線のみが帯電する場合もある。特に、基板上に
走査軌跡を描くように散布ノズルを移動させながらスペ
ーサを散布する場合、基板上に先に散布されたスペーサ
により、基板上のまだ散布されていない部分の特定の配
線等がスペーサと同電位に帯電してしまい、後から散布
されるスペーサを反発してしまう。そのため、その部分
におけるスペーサの散布密度が異常に低下し、散布ムラ
が生じる。
【００１１】また、何等かの方法により、基板が均一に
帯電するようにした場合でも、基板上にスペーサを散布
するにつれて、基板に帯電が蓄積されていく。このよう
に基板が帯電することは電子回路の静電破壊等の不良発
生につながるため、望ましくない。
帯電するようにした場合でも、基板上にスペーサを散布
するにつれて、基板に帯電が蓄積されていく。このよう
に基板が帯電することは電子回路の静電破壊等の不良発
生につながるため、望ましくない。
【００１２】本発明は上記の点に鑑みなされたもので、
その目的は、スペーサとしての微粒子を基板上に均一に
散布することができる微粒子の散布方法および散布装置
を提供することにある。
その目的は、スペーサとしての微粒子を基板上に均一に
散布することができる微粒子の散布方法および散布装置
を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明に係る微粒子の散布方法は、散布ノズルか
ら散布される微粒子が基板表面にジグザグの走査軌跡を
描くように、上記基板と散布ノズルとを平面内で相対移
動させながら、散布ノズルから微粒子を散布する間、上
記散布ノズルの移動に伴って上記基板に対する微粒子の
供給量を変化させることを特徴としている。
め、この発明に係る微粒子の散布方法は、散布ノズルか
ら散布される微粒子が基板表面にジグザグの走査軌跡を
描くように、上記基板と散布ノズルとを平面内で相対移
動させながら、散布ノズルから微粒子を散布する間、上
記散布ノズルの移動に伴って上記基板に対する微粒子の
供給量を変化させることを特徴としている。
【００１４】散布密度は、上記散布ノズルからの微粒子
の散布量を低減することにより、あるいは、上記散布ノ
ズルの移動速度を変化させることりにより、変化させて
いる。
の散布量を低減することにより、あるいは、上記散布ノ
ズルの移動速度を変化させることりにより、変化させて
いる。
【００１５】また、この発明に係る散布方法は、散布さ
れる微粒子が基板表面に所定の走査軌跡を描くように、
上記基板と散布ノズルとを相対移動させながら散布ノズ
ルから微粒子を散布する際、上記微粒子が散布されてい
ない上記基板の領域を上記基板の移動方向に沿って順次
除電しながら、上記散布ノズルから微粒子を散布するこ
とを特徴とする。
れる微粒子が基板表面に所定の走査軌跡を描くように、
上記基板と散布ノズルとを相対移動させながら散布ノズ
ルから微粒子を散布する際、上記微粒子が散布されてい
ない上記基板の領域を上記基板の移動方向に沿って順次
除電しながら、上記散布ノズルから微粒子を散布するこ
とを特徴とする。
【００１６】すなわち、この散布方法によれば、まだ微
粒子が散布されていない基板の領域を順次除電した後、
微粒子を散布することにより、微粒子の散布される基板
の領域が微粒子と同電位となることを防止している。
粒子が散布されていない基板の領域を順次除電した後、
微粒子を散布することにより、微粒子の散布される基板
の領域が微粒子と同電位となることを防止している。
【００１７】この発明に係る散布装置は、基板表面上に
微粒子を散布する散布ノズルと、上記散布ノズルから散
布された微粒子が基板表面にジグザグの走査軌跡を描く
ように、上記基板と散布ノズルとを平面内で相対移動さ
せる移動手段と、上記相対移動の間、上記散布ノズルか
ら微粒子を散布するとともに、上記基板に対する微粒子
の散布密度を変化させる制御手段と、を備えたことを特
徴としている。
微粒子を散布する散布ノズルと、上記散布ノズルから散
布された微粒子が基板表面にジグザグの走査軌跡を描く
ように、上記基板と散布ノズルとを平面内で相対移動さ
せる移動手段と、上記相対移動の間、上記散布ノズルか
ら微粒子を散布するとともに、上記基板に対する微粒子
の散布密度を変化させる制御手段と、を備えたことを特
徴としている。
【００１８】また、この発明に係る他の散布装置は、基
板表面上に微粒子を散布する散布ノズルと、上記基板を
除電する除電手段と、上記散布ノズルから散布される微
粒子が基板表面に所定の走査軌跡を描くように、上記基
板と散布ノズルとを相対移動させるとともに、上記微粒
子が散布されていない上記基板の領域が上記除電手段に
より上記基板を移動方向に沿って順次除電されるよいう
に、上記基板と除電手段とを相対移動させる移動手段
と、を備えたことを特徴としている。
板表面上に微粒子を散布する散布ノズルと、上記基板を
除電する除電手段と、上記散布ノズルから散布される微
粒子が基板表面に所定の走査軌跡を描くように、上記基
板と散布ノズルとを相対移動させるとともに、上記微粒
子が散布されていない上記基板の領域が上記除電手段に
より上記基板を移動方向に沿って順次除電されるよいう
に、上記基板と除電手段とを相対移動させる移動手段
と、を備えたことを特徴としている。
【００１９】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しながら、この
発明の実施の形態について詳細に説明する。図１ないし
図３は、液晶表示パネルの製造に用いられるガラス基板
１０上に、微粒子としてのスペーサを散布する散布装置
を示している。図４に示すように、ガラス基板１０は矩
形状に形成されているとともに、液晶表示パネルに使用
される６枚分のアレイ基板に対応した寸法を有してい
る。ガラス基板１０の表面上には、それぞれアレイ基板
用の６つの導体パターン４０が所定の間隔で形成されて
いる。
発明の実施の形態について詳細に説明する。図１ないし
図３は、液晶表示パネルの製造に用いられるガラス基板
１０上に、微粒子としてのスペーサを散布する散布装置
を示している。図４に示すように、ガラス基板１０は矩
形状に形成されているとともに、液晶表示パネルに使用
される６枚分のアレイ基板に対応した寸法を有してい
る。ガラス基板１０の表面上には、それぞれアレイ基板
用の６つの導体パターン４０が所定の間隔で形成されて
いる。
【００２０】図５に示すように、各導体パターン４０は
多数の信号線４２および多数の走査線４４を有し、これ
らの信号線および走査線はマトリックス状に配置されて
いるとともに導体線として機能する。信号線４２と走査
線４４とで囲まれた各領域には、画素電極４６が設けら
れ、薄膜トランジスタ４５を介して信号線および走査線
に接続されている。更に、導体パターン４０は、信号線
４２および走査線４４が接続されている矩形状のショー
トリング４８を備えている。また、ガラス基板１０上に
は、各導体パターン４０を囲むように、シール剤５０が
塗布されている。
多数の信号線４２および多数の走査線４４を有し、これ
らの信号線および走査線はマトリックス状に配置されて
いるとともに導体線として機能する。信号線４２と走査
線４４とで囲まれた各領域には、画素電極４６が設けら
れ、薄膜トランジスタ４５を介して信号線および走査線
に接続されている。更に、導体パターン４０は、信号線
４２および走査線４４が接続されている矩形状のショー
トリング４８を備えている。また、ガラス基板１０上に
は、各導体パターン４０を囲むように、シール剤５０が
塗布されている。
【００２１】この散布装置は、スペーサ散布のための外
部から区画された散布空間を規定してる容器１２を備
え、容器１２内には支持台１４が配設されている。支持
台１４上には、アレイ基板１０を載置するための移動テ
ーブル１６が、アレイ基板の一辺と平行なＸ方向に沿っ
て移動自在に配設されている。移動テーブル１６は、図
示しないモータ、動力伝達機構等を有する移動機構１８
によって所定の速度で移動可能となっている。また、移
動テーブル１６は、散布装置のグランドに接続されてい
る。
部から区画された散布空間を規定してる容器１２を備
え、容器１２内には支持台１４が配設されている。支持
台１４上には、アレイ基板１０を載置するための移動テ
ーブル１６が、アレイ基板の一辺と平行なＸ方向に沿っ
て移動自在に配設されている。移動テーブル１６は、図
示しないモータ、動力伝達機構等を有する移動機構１８
によって所定の速度で移動可能となっている。また、移
動テーブル１６は、散布装置のグランドに接続されてい
る。
【００２２】また、支持台１４上には、Ｘ方向と直交す
るＹ方向に延びる除電バー２０が移動テーブル１６を跨
いで設置され、移動テーブル上のガラス基板１０表面と
平行に対向している。
るＹ方向に延びる除電バー２０が移動テーブル１６を跨
いで設置され、移動テーブル上のガラス基板１０表面と
平行に対向している。
【００２３】容器１２内において移動テーブル１６の上
方には、散布ノズル２２が設けられている。散布ノズル
２２は、容器１２上に設けられたノズル駆動機構２４に
より、Ｙ方向に沿って任意の角速度および角度で首振
り、つまり、揺動駆動される。また、散布ノズル２２
は、除電バー２０に対して搬送テーブル１６の移動方向
Ｘに並んで配設されているとともに、この移動方向Ｘに
沿った散布ノズルと除電バーとの間隔ｄは、ガラス基板
１０のＸ方向の長さよりも短く、かつ、散布に影響を与
えない範囲でできるだけ短く設定されている。つまり、
散布ノズル２２および除電バー２０は、移動テーブル１
６によってガラス基板１０がＸ方向に移動される間、少
なくとも一時的に両方が同時にガラス基板と対向するよ
うに配設されている。
方には、散布ノズル２２が設けられている。散布ノズル
２２は、容器１２上に設けられたノズル駆動機構２４に
より、Ｙ方向に沿って任意の角速度および角度で首振
り、つまり、揺動駆動される。また、散布ノズル２２
は、除電バー２０に対して搬送テーブル１６の移動方向
Ｘに並んで配設されているとともに、この移動方向Ｘに
沿った散布ノズルと除電バーとの間隔ｄは、ガラス基板
１０のＸ方向の長さよりも短く、かつ、散布に影響を与
えない範囲でできるだけ短く設定されている。つまり、
散布ノズル２２および除電バー２０は、移動テーブル１
６によってガラス基板１０がＸ方向に移動される間、少
なくとも一時的に両方が同時にガラス基板と対向するよ
うに配設されている。
【００２４】なお、移動テーブル１６、移動機構１８、
およびノズル駆動機構２４は、この発明における移動手
段を構成している。散布ノズル２２は、搬送チューブ２
６を介して微粒子の供給装置２８に接続されている。供
給装置２８は、微粒子として、例えば、直径約５μｍの
樹脂球からなるスペーサを収容した図示しないスペーサ
収容部、空気圧によりスペーサ収容部内のスペーサを搬
送チューブ２６を介して散布ノズル２２に供給し、散布
ノズルから散布する図示しないコンプレッサ、その他、
開閉バルブ等を備えている。また、容器１２の底部に
は、容器内の空気を排気するブロア３０が接続されてい
る。
およびノズル駆動機構２４は、この発明における移動手
段を構成している。散布ノズル２２は、搬送チューブ２
６を介して微粒子の供給装置２８に接続されている。供
給装置２８は、微粒子として、例えば、直径約５μｍの
樹脂球からなるスペーサを収容した図示しないスペーサ
収容部、空気圧によりスペーサ収容部内のスペーサを搬
送チューブ２６を介して散布ノズル２２に供給し、散布
ノズルから散布する図示しないコンプレッサ、その他、
開閉バルブ等を備えている。また、容器１２の底部に
は、容器内の空気を排気するブロア３０が接続されてい
る。
【００２５】移動機構２８、除電バー２０、ノズル駆動
機構２４、供給装置２８は、制御手段としての制御部３
２にそれぞれ接続され、この制御部によってその動作が
制御される。例えば、ノズル駆動機構２４は、制御部３
２の制御の下、散布ノズルの揺動角度、角速度等を変更
可能となっている。また、供給装置２８は、制御部３２
の制御の下、スペーサの単位時間当りの供給量を任意に
設定可能となっている。
機構２４、供給装置２８は、制御手段としての制御部３
２にそれぞれ接続され、この制御部によってその動作が
制御される。例えば、ノズル駆動機構２４は、制御部３
２の制御の下、散布ノズルの揺動角度、角速度等を変更
可能となっている。また、供給装置２８は、制御部３２
の制御の下、スペーサの単位時間当りの供給量を任意に
設定可能となっている。
【００２６】次に、以上のように構成された散布装置を
用いてガラス基板１０表面上にスペーサを散布する方法
について説明する。まず、ガラス基板１０をその長手
軸、つまり、長辺をＸ方向に合わせた状態で移動テーブ
ル１６上に載置する。それにより、ガラス基板１０は、
移動テーブル１６を介して散布装置のグランドに導通さ
れる。続いて、制御部３２の制御の下、移動機構１８に
より移動テーブル１６を所定の一定速度でＸ方向へ移動
させるとともに、ノズル駆動機構２４により、散布ノズ
ル２２を所定の角速度でＹ方向に沿って揺動させる。
用いてガラス基板１０表面上にスペーサを散布する方法
について説明する。まず、ガラス基板１０をその長手
軸、つまり、長辺をＸ方向に合わせた状態で移動テーブ
ル１６上に載置する。それにより、ガラス基板１０は、
移動テーブル１６を介して散布装置のグランドに導通さ
れる。続いて、制御部３２の制御の下、移動機構１８に
より移動テーブル１６を所定の一定速度でＸ方向へ移動
させるとともに、ノズル駆動機構２４により、散布ノズ
ル２２を所定の角速度でＹ方向に沿って揺動させる。
【００２７】それにより、移動テーブル１６上のガラス
基板１０は、その一端側から除電バー２０の下方および
散布ノズル２２の下方を順に通ってＸ方向に移動し、ガ
ラス基板１０と散布ノズル２２とは、水平面内でＸ方向
およびＹ方向に相対移動することになる。従って、図２
および図６に示すように、散布ノズル２２の延長線は、
ガラス基板１０の表面上でのこ歯状のジグザグな走査軌
跡Ａを描きながら移動する。なお、散布ノズル２２の揺
動角度は、走査軌跡Ａの各折返し部Ｂがガラス基板１０
の両側縁とほぼ一致するように設定されている。
基板１０は、その一端側から除電バー２０の下方および
散布ノズル２２の下方を順に通ってＸ方向に移動し、ガ
ラス基板１０と散布ノズル２２とは、水平面内でＸ方向
およびＹ方向に相対移動することになる。従って、図２
および図６に示すように、散布ノズル２２の延長線は、
ガラス基板１０の表面上でのこ歯状のジグザグな走査軌
跡Ａを描きながら移動する。なお、散布ノズル２２の揺
動角度は、走査軌跡Ａの各折返し部Ｂがガラス基板１０
の両側縁とほぼ一致するように設定されている。
【００２８】一方、ノズル駆動機構２４および移動機構
１８の駆動と同期して、制御部３２による制御の下、除
電バー２０が励磁されるとともに、供給装置２８および
ブロア３０が駆動される。
１８の駆動と同期して、制御部３２による制御の下、除
電バー２０が励磁されるとともに、供給装置２８および
ブロア３０が駆動される。
【００２９】それにより、ガラス基板１０は除電バー２
０の下方を通過する際、除電バー２０と対向する領域が
順次除電される。例えば、散布ノズル２２から供給され
るスペーサは、搬送チューブ２６、散布ノズル２２を通
る際、摩擦帯電等によって−５ないし−１０ｋＶ程度に
帯電される。そのため、ガラス基板１０上の各導体パタ
ーン４０は、除電しない場合、散布されたスペーサによ
って帯電される。そこで、本散布装置によれば、除電バ
ー２０によってガラス基板１０を除電することにより、
ガラス基板上の導体パターン４０は、スペーサよりも充
分に低い電位、実質的にはゼロに除電される。
０の下方を通過する際、除電バー２０と対向する領域が
順次除電される。例えば、散布ノズル２２から供給され
るスペーサは、搬送チューブ２６、散布ノズル２２を通
る際、摩擦帯電等によって−５ないし−１０ｋＶ程度に
帯電される。そのため、ガラス基板１０上の各導体パタ
ーン４０は、除電しない場合、散布されたスペーサによ
って帯電される。そこで、本散布装置によれば、除電バ
ー２０によってガラス基板１０を除電することにより、
ガラス基板上の導体パターン４０は、スペーサよりも充
分に低い電位、実質的にはゼロに除電される。
【００３０】また、供給装置２８から搬送チューブ２６
を介して散布ノズル２２にスペーサが供給され、このス
ペーサは、散布ノズル２２からガラス基板表面に向けて
散布される。その際、スペーサは、散布ノズル２２の走
査軌跡Ａに沿って所定幅で散布されるとともに、ガラス
基板１０の内、除電バー２０によって除電された領域に
散布される。
を介して散布ノズル２２にスペーサが供給され、このス
ペーサは、散布ノズル２２からガラス基板表面に向けて
散布される。その際、スペーサは、散布ノズル２２の走
査軌跡Ａに沿って所定幅で散布されるとともに、ガラス
基板１０の内、除電バー２０によって除電された領域に
散布される。
【００３１】スペーサを散布する際、制御部３２は散布
ノズル２２の移動位置に応じてスペーサの散布量を変更
する。すなわち、散布ノズル２２がその走査軌跡Ａの
内、各折返し部分Ｂを通過する際、例えば、図６におい
て、各丸印の外側部分を通過する際、制御部３２は、供
給装置２８からのスペーサの供給量を所定の値に低減す
る。例えば、通常の散布密度１５０個／mm2 が得られ
るようなスペーサ供給量を１００とした場合、折返し部
分Ｂを通過する間のスペーサ供給量は、５０〜７０程度
に低減される。
ノズル２２の移動位置に応じてスペーサの散布量を変更
する。すなわち、散布ノズル２２がその走査軌跡Ａの
内、各折返し部分Ｂを通過する際、例えば、図６におい
て、各丸印の外側部分を通過する際、制御部３２は、供
給装置２８からのスペーサの供給量を所定の値に低減す
る。例えば、通常の散布密度１５０個／mm2 が得られ
るようなスペーサ供給量を１００とした場合、折返し部
分Ｂを通過する間のスペーサ供給量は、５０〜７０程度
に低減される。
【００３２】例えば、アレイ基盤１０の寸法を５５０×
６５０ｍｍとした場合、散布ノズル２２の角速度は約１
５ｒｐｍ、および揺動角度は６０度に設定されている。
以上のように構成された散布装置および散布方法によれ
ば、ガラス基板１０表面に対してジグザグの走査軌跡Ａ
を描くように散布ノズル２２を相対移動させながらスペ
ーサを散布する間、走査軌跡の折返し部分、つまり、走
査軌跡間隔が狭くなる領域において、散布ノズルからの
スペーサ散布量を低減することにより、走査軌跡間隔が
狭くなる領域においてもスペーサの散布密度が他の部分
に比較して増大することがなく、ガラス基板１０の表面
全体に亘って均一の密度でスペーサを散布することが可
能となる。
６５０ｍｍとした場合、散布ノズル２２の角速度は約１
５ｒｐｍ、および揺動角度は６０度に設定されている。
以上のように構成された散布装置および散布方法によれ
ば、ガラス基板１０表面に対してジグザグの走査軌跡Ａ
を描くように散布ノズル２２を相対移動させながらスペ
ーサを散布する間、走査軌跡の折返し部分、つまり、走
査軌跡間隔が狭くなる領域において、散布ノズルからの
スペーサ散布量を低減することにより、走査軌跡間隔が
狭くなる領域においてもスペーサの散布密度が他の部分
に比較して増大することがなく、ガラス基板１０の表面
全体に亘って均一の密度でスペーサを散布することが可
能となる。
【００３３】また、走査軌跡Ａの折返し部分Ｂを基板よ
りも外側にする設定する必要がなくなり、スペーサを常
に一定の散布量で散布する場合に比較して、スペーサの
消費量を約１／２ないし２／３に低減することができ、
経済性の向上を図ることができる。
りも外側にする設定する必要がなくなり、スペーサを常
に一定の散布量で散布する場合に比較して、スペーサの
消費量を約１／２ないし２／３に低減することができ、
経済性の向上を図ることができる。
【００３４】更に、除電バー２０によってガラス基板１
０を除電しながら、ガラス基板上にスペーサを散布して
いることから、ガラス基板上のスペーサが散布された領
域に連続するスペーサ未散布領域の電位が、ガラス基板
上に散布されたスペーサと同電位になることを防止でき
る。そのため、スペーサの電位と異なる電位に除電され
た領域にスペーサを散布することができ、散布されたス
ペーサがガラス基板表面ではじかれて飛散することがな
くなる。その結果、スペーサの散布ムラを防止し、スペ
ーサをガラス基板上の全域に亘って均一な散布密度で散
布することができる。
０を除電しながら、ガラス基板上にスペーサを散布して
いることから、ガラス基板上のスペーサが散布された領
域に連続するスペーサ未散布領域の電位が、ガラス基板
上に散布されたスペーサと同電位になることを防止でき
る。そのため、スペーサの電位と異なる電位に除電され
た領域にスペーサを散布することができ、散布されたス
ペーサがガラス基板表面ではじかれて飛散することがな
くなる。その結果、スペーサの散布ムラを防止し、スペ
ーサをガラス基板上の全域に亘って均一な散布密度で散
布することができる。
【００３５】また、散布されたスペーサにより帯電され
たガラス基板を除電バーによって直ちに除電することか
ら、ガラス基板内に電荷が蓄積されることがなく、ガラ
ス基板の電極、スイッチング素子等の静電破壊を防止す
ることができる。
たガラス基板を除電バーによって直ちに除電することか
ら、ガラス基板内に電荷が蓄積されることがなく、ガラ
ス基板の電極、スイッチング素子等の静電破壊を防止す
ることができる。
【００３６】以上のことから、本実施例に係る散布装置
および散布方法によれば、ガラス基板上にスペーサを均
一に散布することができ、このガラス基板を用いること
により、２枚の基板間隔が全域に亘って均一な高品位な
液晶表示パネルを提供することが可能となる。
および散布方法によれば、ガラス基板上にスペーサを均
一に散布することができ、このガラス基板を用いること
により、２枚の基板間隔が全域に亘って均一な高品位な
液晶表示パネルを提供することが可能となる。
【００３７】なお、この発明は上述した実施例に限定さ
れることなく、この発明の範囲内で種々変形可能であ
る。例えば、上述した実施例においては、走査軌跡の折
返し部分を通る際に、散布ノズルからのスペーサ供給量
を低減する構成としたが、散布ノズルからのスペーサ供
給量を常に一定とし、散布ノズルが走査軌跡の折返し部
分を通過する際の散布ノズルの移動速度、つまり、角速
度を約１５％程度高くするようにしてもよい。この場
合、走査軌跡の折返し部分において、ガラス基板の単位
面積当りのスペーサ散布量を低減することができ、上述
した実施例と同様に、ガラス基板の全面に亘って均一に
スペーサを散布可能となる。
れることなく、この発明の範囲内で種々変形可能であ
る。例えば、上述した実施例においては、走査軌跡の折
返し部分を通る際に、散布ノズルからのスペーサ供給量
を低減する構成としたが、散布ノズルからのスペーサ供
給量を常に一定とし、散布ノズルが走査軌跡の折返し部
分を通過する際の散布ノズルの移動速度、つまり、角速
度を約１５％程度高くするようにしてもよい。この場
合、走査軌跡の折返し部分において、ガラス基板の単位
面積当りのスペーサ散布量を低減することができ、上述
した実施例と同様に、ガラス基板の全面に亘って均一に
スペーサを散布可能となる。
【００３８】また、除電手段としは、除電バーに代わっ
て軟Ｘ線イオナイザを使用してもよい。この場合、軟Ｘ
線イオナイザは、Ｘ線を必要な部分以外で遮蔽すること
により、ガラス基板の除電領域を容易に制御することが
できるとともに、除電時に気流を乱さないことから、ス
ペーサの散布に影響を与えることなくガラス基板の未散
布領域を除電することができる。
て軟Ｘ線イオナイザを使用してもよい。この場合、軟Ｘ
線イオナイザは、Ｘ線を必要な部分以外で遮蔽すること
により、ガラス基板の除電領域を容易に制御することが
できるとともに、除電時に気流を乱さないことから、ス
ペーサの散布に影響を与えることなくガラス基板の未散
布領域を除電することができる。
【００３９】
【発明の効果】以上詳述したように、この発明によれ
ば、スペーサとしての微粒子を基板上に均一に散布する
ことができ、表示品位の高い高信頼性の液晶表示素子を
容易に製造可能な微粒子の散布方法および散布装置を提
供することができる。
ば、スペーサとしての微粒子を基板上に均一に散布する
ことができ、表示品位の高い高信頼性の液晶表示素子を
容易に製造可能な微粒子の散布方法および散布装置を提
供することができる。
【図１】この発明の実施の形態に係る散布装置全体を概
略的に示す図。
略的に示す図。
【図２】上記散布装置の移動テーブル、除電バー、およ
び散布ノズルを示す斜視図。
び散布ノズルを示す斜視図。
【図３】上記除電バーと散布ノズルとの配置関係を示す
側面図。
側面図。
【図４】液晶表示パネルのアレイ基板の製造に用いるガ
ラス基板を示す斜視図。
ラス基板を示す斜視図。
【図５】上記ガラス基板上に形成された導体パターンの
一部を拡大して示す平面図。
一部を拡大して示す平面図。
【図６】上記ガラス基板に対する散布ノズルの走査軌跡
を概略的に示す平面図。
を概略的に示す平面図。
１０…ガラス基板 １４…支持台 １６…移動テーブル １８…移動機構 ２０…除電バー ２２…散布ノズル ２４…ノズル駆動機構 ２８…供給装置 ３２…制御部 Ａ…走査軌跡 Ｂ…折返し部
Claims (12)
- 【請求項１】液晶表示パネルを構成する基板上にスペー
サとして機能する微粒子を散布する微粒子の散布方法に
おいて、 基板表面上に散布ノズルから散布される微粒子が、基板
表面にジグザグの走査軌跡を描くように、上記基板と散
布ノズルとを平面内で相対移動させる工程と、 上記相対移動の間、上記散布ノズルから微粒子を散布す
るとともに、上記散布ノズルの移動に伴って上記基板に
対する微粒子の供給量を変化させる工程と、 を備えたことを特徴とする微粒子の散布方法。 - 【請求項２】上記供給量を変化させる工程は、上記散布
ノズルからの微粒子の散布量を低減する工程を含んでい
ることを特徴とする請求項１に記載の微粒子の散布方
法。 - 【請求項３】上記供給量を変化させる工程は、上記散布
ノズルの移動速度を変化させる工程を含んでいることを
特徴とする請求項１に記載の微粒子の散布方法。 - 【請求項４】上記供給量を変化させる工程は、上記走査
軌跡の各折返し部分において、上記供給量を低下させる
工程を含んでいることを特徴とする請求項１ないし３の
いずれか１項に記載の微粒子の散布方法。 - 【請求項５】液晶表示パネルを構成する基板上にスペー
サとして機能する微粒子を散布する微粒子の散布方法に
おいて、 散布ノズルから基板表面に散布される微粒子が所定の走
査軌跡を描くように、上記基板と散布ノズルとを相対移
動させる工程と、 上記相対移動の間、上記基板上の、上記微粒子が散布さ
れていない領域を上記基板の移動方向に沿って順次除電
しながら、上記散布ノズルから微粒子を散布する工程
と、 を備えたことを特徴とする微粒子の散布方法。 - 【請求項６】導体配線を含む導体パターンを備えている
とともに液晶表示パネルの一部を構成する基板上に、ス
ペーサとして機能する微粒子を散布する微粒子の散布方
法において、 散布ノズルから基板表面に散布される微粒子が所定の走
査軌跡を描くように、上記基板と散布ノズルとを相対移
動させる工程と、 上記相対移動の間、上記基板上の導体パターンの、上記
微粒子が散布されていない領域を上記基板の移動方向に
沿って順次除電しながら、上記散布ノズルから帯電した
微粒子を散布する工程と、 を備えたことを特徴とする微粒子の散布方法。 - 【請求項７】液晶表示パネルを構成する基板上にスペー
サとして機能する微粒子を散布する微粒子の散布方法に
おいて、 散布ノズルから基板表面に散布される微粒子が所定の走
査軌跡を描くように、上記基板と散布ノズルとを平面内
で相対移動させる工程と、 上記相対移動の間、上記基板上の、上記微粒子が散布さ
れていない領域を上記基板の移動方向に沿って順次除電
しながら、上記散布ノズルから微粒子を散布する工程
と、 上記相対移動の間、上記走査奇跡の所定位置において、
上記基板表面に対する微粒子の散布密度を変化させる工
程と、 を備えたことを特徴とする微粒子の散布方法。 - 【請求項８】液晶表示パネルを構成する基板上にスペー
サとして機能する微粒子を散布する散布装置において、 上記基板表面上に微粒子を散布する散布ノズルと、 上記散布ノズルから散布される微粒子が基板表面にジグ
ザグの走査軌跡を描くように、上記基板と散布ノズルと
を平面内で相対移動させる移動手段と、 上記相対移動の間、上記散布ノズルから微粒子を散布す
るとともに、上記走査奇跡上の所定位置において、上記
基板表面に対する微粒子の供給量を変化させる制御手段
と、 を備えたことを特徴とする散布装置。 - 【請求項９】液晶表示パネルを構成する基板上にスペー
サとして機能する微粒子を散布する散布装置において、 上記基板表面上に微粒子を散布する散布ノズルと、 上記基板を除電する除電手段と、 上記散布ノズルから散布される微粒子が基板表面に所定
の走査軌跡を描くように、上記基板と散布ノズルとを相
対移動させるとともに、上記微粒子が散布されていない
上記基板の領域が上記除電手段により上記基板の移動方
向に沿って順次除電されるように、上記基板と除電手段
とを相対移動させる移動手段と、 を備えたことを特徴とする散布装置。 - 【請求項１０】上記移動手段は、上記散布ノズルを第１
の方向に沿って揺動させる揺動機構と、上記第１の方向
と直交する第２の方向に沿って上記基板を移動させる基
板搬送機構と、を備え、 上記除電手段は、上記散布ノズルと上記第２の方向に並
んで配設されていることを特徴とする請求項９に記載の
散布装置。 - 【請求項１１】上記除電手段は、上記第１の方向に沿っ
て延びた除電バーを有し、上記除電バーは、上記基板の
上記第２の方向に沿った長さよりも短い距離だけ上記散
布ノズルから離間して配設されていることを特徴とする
請求項１０に記載の散布装置。 - 【請求項１２】多数の導体線を含む導体パターンを備え
ているとともに液晶表示パネルの一部を構成するために
用いられる基板上に、スペーサとして機能する微粒子を
散布する散布装置において、 上記基板表面上に帯電した微粒子を散布する散布ノズル
と、 上記基板上の導体パターンを除電する除電手段と、 上記散布ノズルから散布される微粒子が基板表面に所定
の走査軌跡を描くように、上記基板と散布ノズルとを相
対移動させるとともに、上記微粒子が散布されていない
上記基板上の導体パターンの領域が上記除電手段により
上記基板の移動方向に沿って順次除電されるように、上
記基板と除電手段とを相対移動させる移動手段と、 を備えたことを特徴とする散布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9039038A JPH09292620A (ja) | 1996-02-26 | 1997-02-24 | 微粒子の散布方法および散布装置 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8-38117 | 1996-02-26 | ||
| JP3811796 | 1996-02-26 | ||
| JP9039038A JPH09292620A (ja) | 1996-02-26 | 1997-02-24 | 微粒子の散布方法および散布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09292620A true JPH09292620A (ja) | 1997-11-11 |
Family
ID=26377308
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9039038A Pending JPH09292620A (ja) | 1996-02-26 | 1997-02-24 | 微粒子の散布方法および散布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09292620A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002059036A (ja) * | 2000-08-14 | 2002-02-26 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粉体の散布装置 |
| US7084949B2 (en) * | 2002-10-25 | 2006-08-01 | Seiko Epson Corporation | Apparatus for arranging spacers at fixed points, liquid crystal device, method of manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus |
| CN1315000C (zh) * | 1998-03-03 | 2007-05-09 | 夏普株式会社 | 散射细小微粒的方法、制造液晶显示器的方法、用于散射细小微粒的设备，以及液晶显示器 |
| JP2014154622A (ja) * | 2013-02-06 | 2014-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント方法およびインプリント装置 |
| JP2017022413A (ja) * | 2016-10-17 | 2017-01-26 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
-
1997
- 1997-02-24 JP JP9039038A patent/JPH09292620A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1315000C (zh) * | 1998-03-03 | 2007-05-09 | 夏普株式会社 | 散射细小微粒的方法、制造液晶显示器的方法、用于散射细小微粒的设备，以及液晶显示器 |
| JP2002059036A (ja) * | 2000-08-14 | 2002-02-26 | Nisshin Seifun Group Inc | 微粉体の散布装置 |
| JP4708538B2 (ja) * | 2000-08-14 | 2011-06-22 | 株式会社日清製粉グループ本社 | 微粉体の散布装置 |
| US7084949B2 (en) * | 2002-10-25 | 2006-08-01 | Seiko Epson Corporation | Apparatus for arranging spacers at fixed points, liquid crystal device, method of manufacturing liquid crystal device, and electronic apparatus |
| JP2014154622A (ja) * | 2013-02-06 | 2014-08-25 | Dainippon Printing Co Ltd | インプリント方法およびインプリント装置 |
| JP2017022413A (ja) * | 2016-10-17 | 2017-01-26 | 大日本印刷株式会社 | インプリント方法およびインプリント装置 |
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|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060307 |