JPH0929159A - 回転式基板塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 飛散防止カップ内の滞留渦流れを抑制するこ
とにより、飛散防止カップ内のミストやパーティクルが
基板に付着することを防止することができる回転式基板
塗布装置を提供する。 【構成】 飛散防止カップの上カップ１４は、その水平
部１４ｄ及び傾斜部１４ｅにスリット状の周囲開口部１
４ｃを形成されている。さらに蓋部材１７は、上カップ
１４の周囲開口部１４ｃと同様の周囲開口部１７ｃを形
成されている。上カップ１４の周囲開口部１４ｃは、蓋
部材１７が駆動機構１８により上カップ１４に対して回
転されることにより、両周囲開口部１４ｃ，１７ｃとが
一致されて開放される。この開口部１４ｃから取り込ま
れる気流によりカップ内の滞留渦流れが解消され、ミス
トやパーティクルの基板への付着が防止される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ、フ
ォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基
板、光ディスク用の基板等の基板にフォトレジスト液や
現像液などの塗布液を塗布する装置に係り、特に、基板
を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段の周囲
を覆い、かつ、上部中央付近に開口を有するとともに、
前記開口から流入する気流を下方へ排気する排気口を有
する飛散防止カップを備え、前記開口の上方から基板に
塗布液を吐出し、所定の回転処理後に前記支持回転手段
と前記飛散防止カップとを相対昇降させて処理した基板
を搬出する回転式基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の装置として、例えば、図
８の概略構成図に示すようなものがある。図中、符号Ｗ
は基板であり、この基板Ｗは支持回転手段である吸引式
スピンチャック１０にほぼ水平姿勢で吸着支持されて回
転駆動される。吸引式スピンチャック１０は、塗布液で
あるフォトレジスト液などの飛散を防止するための飛散
防止カップ１３によりその周囲を覆われている。この飛
散防止カップ１３は、上カップ１４と、円形整流板１５
と、下カップ１６等により構成されている。上カップ１
４は、上部中央付近に開口１４ａと、基板Ｗの回転によ
るフォトレジスト液などの飛沫を下方へ案内する傾斜面
１４ｂとを有する。

【０００３】円形整流板１５は、開口１４ａから流入す
る気流ＬＦ（装置が配置される処理室内の垂直層流）を
整流して案内するとともに、上カップ１４の傾斜面１４
ｂによって下方に案内されたフォトレジスト液などの飛
沫をこの気流ＬＦに乗せて下カップ１６に案内する。下
カップ１６の底部には、排液口１６ａが配設されてお
り、高速回転により振り切られたフォトレジスト液など
を回収するようになっている。下カップ１６の底部に
は、さらに排気口１６ｂが配設されており、これに接続
された図示しない排気手段によって、飛散防止カップ１
３内に滞留する霧状のフォトレジスト液（以下、ミスト
と称する）やパーティクルを開口１４ａから流入する気
流ＬＦとともに吸引して排気することにより、ミストや
パーティクルが基板Ｗに付着することを防止するように
なっている。

【０００４】このように構成された装置では、例えば、
次のようにして基板に対して塗布処理を行なう。まず、
飛散防止カップ１３と吸引式スピンチャック１０とを相
対昇降させ、未処理の基板Ｗを搬入して吸引式スピンチ
ャック１０に吸着支持させる。そして、未処理基板Ｗを
吸引支持した吸引式スピンチャック１０を飛散防止カッ
プ１３内に位置させ、次いで基板Ｗを所定の速度で回転
させつつ所定量のフォトレジスト液を基板Ｗの回転中心
付近に吐出する。その後、基板Ｗの表面全体がフォトレ
ジスト液により覆われると、高速回転に切り換えてこれ
を所定時間保つことにより余剰のフォトレジスト液を振
り切る。このように処理を行なうことにより、基板Ｗの
表面全体には所定膜厚のフォトレジスト被膜が形成され
る。そして基板Ｗの回転停止後に、飛散防止カップ１３
と吸引式スピンチャック１０とを相対昇降させ、処理し
た基板Ｗを搬出するようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述したように、塗布
処理中に発生したミストや飛散防止カップ１３内に存在
するパーティクルは、開口１４ａから流入する気流ＬＦ
に乗って排気口１６ｂから排気されるようになっている
が、上カップ１４の傾斜面１４ｂ付近に生じる、排気口
１６ｂへ向かう流れに乗ることのない滞留した渦状の流
れＳ（以下、滞留渦流れＳと称する）によりミストおよ
びパーティクルの一部が捕らえられ、これらの排気が円
滑に行なわれずに飛散防止カップ１３内に留まることに
なる。したがって、図９に二点鎖線矢印で示すように、
処理した基板Ｗを搬出するために吸引式スピンチャック
１０と飛散防止カップ１３とを相対昇降させると、滞留
渦流れＳが乱されてこれに捕らえられていたミストやパ
ーティクルが基板Ｗの表面に付着するという問題点があ
る。

【０００６】このようにして基板Ｗの表面に付着したミ
ストやパーティクルは、周知のとおり後工程（この場合
にはフォトリソグラフィー工程）において欠陥を生じさ
せる原因となるので、それらが基板Ｗの表面に付着する
ことがないように飛散防止カップ１３内の排気を円滑に
行なうことは非常に重要なことである。

【０００７】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、飛散防止カップ内の滞留渦流れを抑制
することにより、飛散防止カップ内のミストやパーティ
クルが基板に付着することを防止することができる回転
式基板塗布装置を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項１に記載の回転式基板塗布装置は、基板を略
水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段の周囲を覆
い、かつ、上部中央付近に開口を有するとともに、前記
開口から流入する気流を下方へ排気する排気口を有する
飛散防止カップを備え、前記開口の上方から基板に塗布
液を吐出し、所定の回転処理後に前記支持回転手段と前
記飛散防止カップとを相対昇降させて処理した基板を搬
出する回転式基板処理装置において、前記飛散防止カッ
プは、その開口の周囲に、気流を取り込む周囲開口部が
形成されていることを特徴とするものである。

【０００９】また、請求項２に記載の回転式基板塗布装
置は、請求項１に記載の回転式基板塗布装置において、
前記飛散防止カップは、回転処理中に前記周囲開口部を
閉止し、回転処理後に前記周囲開口部を開放する開閉駆
動手段を備えていることを特徴とするものである。

【００１０】

【作用】請求項１に記載の発明の作用は次のとおりであ
る。支持回転手段に支持されて回転駆動されている基板
の上方から塗布液を吐出して所定の回転処理を行なう
と、余剰の塗布液が基板の周囲に飛散する。この飛散し
た余剰の塗布液は、飛散防止カップの内壁に当たって霧
状の塗布液（ミスト）となる。飛散防止カップは、その
上部の開口から流入する気流を下方へ排気する排気口を
有しているので、カップ内のミストやパーティクルの一
部はその流れに乗って排気される。一方、その流れに乗
らなかった一部のミストやパーティクルは、一時的に排
気口へ向かうことのない滞留した渦状の流れ（滞留渦流
れ）に捕らえられたとしても、飛散防止カップの開口の
周囲に形成されている周囲開口部から流入する気流によ
り滞留渦流れは即座に解消されるので、カップ内のミス
トやパーティクルはカップ内に長く滞留することはなく
排気口への流れに乗って円滑に排気される。

【００１１】請求項２に記載の発明の作用は次のとおり
である。基板の回転処理中には、基板の周囲に余剰の塗
布液が飛散するが、そのときは開閉駆動手段により周囲
開口部が閉止されているので、余剰の塗布液が周囲開口
部から飛散防止カップ外へ飛散することを防止できる。
この回転処理中には、飛散した塗布液により生じたミス
トやパーティクルが飛散防止カップ内の滞留渦流れに捕
らえられているが、回転処理後には開閉駆動手段により
周囲開口部が開放されるので、滞留渦流れは即座に解消
される。したがって、飛散防止カップ内のミストやパー
ティクルはカップ内に長く滞留することはなく排気口へ
の流れに乗って円滑に排気される。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の一
実施例を説明する。 ＜第１実施例＞図１は、本発明に係る回転式基板塗布装
置を示す縦断面図である。図中、符号１０は、吸引式ス
ピンチャックであって基板Ｗを略水平姿勢で吸着支持す
るものである。この吸引式スピンチャック１０は、中空
の回転軸１１を介して回転モータ１２によって回転駆動
される。吸引式スピンチャック１０の周囲には、塗布液
であるフォトレジスト液などの飛散を防止するための飛
散防止カップ１３が配設されている。また、図示しない
搬送手段が未処理の基板Ｗを吸引式スピンチャック１０
に載置または吸引式スピンチャック１０から処理済みの
基板Ｗを受け取る際には、図示しない昇降手段が回転軸
１１および吸引式スピンチャック１０と飛散防止カップ
１３とを相対昇降させることによって、図に示す基板処
理位置から、吸引式スピンチャック１０を飛散防止カッ
プ１３の上方（基板移載位置）へと移動させる。なお、
この実施例では、飛散防止カップ１３を図の状態から下
降させることにより基板移載位置に移動するようになっ
ている。また、吸引式スピンチャック１０と、中空の回
転軸１１と、回転モータ１２とは本発明における支持回
転手段に相当する。

【００１３】飛散防止カップ１３は、上カップ１４と、
円形整流板１５と、下カップ１６と、蓋部材１７によっ
て構成されている。上カップ１４は、上部中央付近に開
口１４ａと、基板Ｗの回転によるフォトレジスト液の飛
沫を下方へ案内する傾斜面１４ｂと、開口１４ａの周囲
に、装置が配置される処理室内の垂直層流を取り込むた
めのスリット状の周囲開口部１４ｃとを有する。また、
上カップ１４は下カップ１６の外周壁の上端部段落面に
嵌め込まれている。上カップ１４の上面には、スリット
状の周囲開口部１４ｃを開閉するための回転可能な蓋部
材１７が配設されており、その側方には、蓋部材１７を
駆動して周囲開口部１４ｃを開閉駆動する、位置固定の
駆動機構１８が取り付けられている。なお、蓋部材１７
と駆動機構１８とは本発明における開閉駆動手段に相当
する。

【００１４】円形整流板１５は、開口１４ａから流入し
て基板Ｗの周縁に沿って流下する気流を下カップ１６に
整流して案内するとともに、上カップ１４の傾斜面１４
ｂによって下方に案内されたフォトレジスト液の飛沫を
この気流に乗せて下カップ１６に案内する機能を有す
る。

【００１５】下カップ１６は、その底部に排液口１６ａ
が配設されており、さらにその内側には排気口１６ｂが
形成されている。排液口１６ａには排液タンク１６ｃが
接続されており、下カップ１６の外周壁の下部に内設す
るリング状の排液ゾーン１６ｅに滞留する、回転振り切
り後のフォトレジスト液を回収するようになっている。
排気口１６ｂは、図示しない排気手段に連通しており、
排液ゾーン１６ｅの内側に形成された排気ゾーン１６ｆ
を経て、飛散防止カップ１３内に滞留する霧状のフォト
レジスト液、いわゆるミストやパーティクルを、開口１
４ａから流入する気流とともに吸引排気する。

【００１６】さらに、飛散防止カップ１３の開口１４ａ
の上方であって、基板Ｗのほぼ回転中心の上方には、フ
ォトレジスト液を吐出する吐出ノズル３０が配設されて
いる。この吐出ノズル３０にフォトレジスト液を所定量
だけ供給する図示しない塗布液供給手段と、飛散防止カ
ップ１３を吸引式スピンチャック１０に対して昇降する
図示しない昇降手段と、上カップ１４の周囲開口部１４
ｃを開閉駆動する開閉駆動機構１８（後述する）と、回
転モータ１２とは制御部５０によって制御される。制御
部５０は、メモリ５１に記憶されたシーケンスにしたが
って上記の各部を制御し、基板Ｗに対して塗布処理を施
すようになっている。

【００１７】次に、図２の斜視図を参照して上カップ１
４、蓋部材１７および駆動機構１８について説明する。
上カップ１４は、その上部中央付近の開口１４ａの周囲
に水平に形成された水平部１４ｄと、この水平部１４ｄ
の外周部から下向きに形成された傾斜部１４ｅとを有す
る。水平部１４ｄと傾斜部１４ｅとは、上方からの気流
を飛散防止カップ１３内の全周にわたってほぼ均等に取
り込むために、それぞれ全周にわたって上述したスリッ
ト状の周囲開口部１４ｃを周方向にほぼ等間隔に形成さ
れている。このスリット状の周囲開口部１４ｃは、平面
視で上カップ１４の中心から外周部に向かって放射状に
細長く形成されている。また、傾斜部１４ｅのスリット
状の周囲開口部１４ｃは、図１に示すように、上カップ
１４の内壁の、基板Ｗの高さより上方に開口するように
形成するのが好ましい。これは基板Ｗから振り切られる
フォトレジスト液が上カップ１４の傾斜面１４ｂによっ
て効率良く下方に案内されるようにするためである。

【００１８】蓋部材１７は、上カップ１４の開口１４ａ
と、水平部１４ｄと、傾斜部１４ｅとの形状に対応する
ように形成された部材であって、上カップ１４の水平部
１４ｄに対応する水平部１７ａと、上カップ１４の傾斜
部１４ｅに対応する傾斜部１７ｂとを形成されている。
蓋部材１７の水平部１７ａと傾斜部１７ｂとは、上カッ
プ１４の水平部１４ｄと傾斜部１４ｅに形成されたスリ
ット状の周囲開口部１４ｃとほぼ同じ開口面積を有する
周囲開口部１７ｃを、それぞれの位置に対応するように
形成されている。また、傾斜部１７ｂは、その周縁部の
一部分に、その周縁形状に沿うように円弧状のギア１７
ｄが形成されている。

【００１９】上述した蓋部材１７は、上カップ１４の上
面に重ねて載置されるが、その初期位置は、図に点線で
示すように、蓋部材１７の周囲開口部１７ｃが上カップ
の周囲開口部１４ｃに一致しない位置であって、両周囲
開口部１４ｃ，１７ｃとが接する位置である。これは後
述する周囲開口部１４ｃの開放動作が最小の動作で行な
えるようにするためである。なお、蓋部材１７は上カッ
プ１４の上面に直接重ねて載置されるようにしたが、円
滑に周囲開口部１４ｃの開放動作が行なえるように、上
カップ１４の水平部１４ｄと傾斜部１４ｅには摩擦係数
が小さな摺動部材やレールを配設するようにしてもよ
い。

【００２０】駆動機構１８は、蓋部材１７のギア１７ｄ
に噛み合うラック１８ａが、エアシリンダ１８ｂのロッ
ドに取り付けられて構成されている。なお、このエアシ
リンダ１８ｂは、飛散防止カップ１３が昇降してもその
位置が変わらないように装置の基台部に取り付けられて
いる。なお、駆動機構１８は、そのエアシリンダ１８ｂ
のロッドを収縮させた状態が初期状態であり、このとき
周囲開口部１４ｃは閉止されており、エアシリンダ１８
ｂのロッドを伸長させると周囲開口部１４ｃを開放する
ようになっている。なお、上述した蓋部材１７と、駆動
機構１８は、本発明における開閉駆動手段に相当する。

【００２１】次に図３を参照して、この装置の動作につ
いて説明する。なお、説明の都合上、未処理の基板Ｗは
既に吸引式スピンチャック１０に吸着支持されているも
のとして説明する。

【００２２】図３（ａ）を参照する。基板Ｗは、制御部
５０がメモリ５１に記憶されているシーケンスにしたが
って回転モータ１２を所定の回転速度で回転制御するこ
とによって回転される。そして、吐出ノズル３０から所
定量のフォトレジスト液を基板Ｗの回転中心付近に供給
すると、フォトレジスト液は基板Ｗの表面全体を覆う。
その後、制御部５０は、回転モータ１２の回転速度を前
記速度よりも高い回転速度に切り換える。すると基板Ｗ
の周縁から余剰のフォトレジスト液が飛散するととも
に、基板Ｗの表面全体には所定膜厚のフォトレジスト被
膜が形成される。これらの過程において、基板Ｗの上方
から上カップ１４の開口１４ａを通って流入する気流Ｌ
Ｆは、基板Ｗの周縁を流れて円形整流板１５で整流さ
れ、排気ゾーン１６ｆを経て下カップ１６の排気口１６
ｂに排気される。このとき、上述したように飛散したフ
ォトレジスト液によって発生したミストやパーティクル
の一部は、その流れに乗って排気されるが、排気されな
いミストやパーティクルは上カップ１４の傾斜面１４ｂ
付近に発生している滞留渦流れＳによって捕らえられ、
飛散防止カップ１３内の基板Ｗの周縁付近に滞留するこ
とになる。

【００２３】次いで、制御部５０は所定時間だけ基板Ｗ
を回転させた後、その回転を停止する。制御部５０は、
回転停止後から飛散防止カップ１３を下降させて基板移
載位置に移動開始するまでの間に駆動機構１８を駆動し
て、上カップ１３の周囲開口部１４ｃを開放する（図３
（ｂ））。具体的には、制御部５０がエアシリンダ１８
ｂを駆動してそのロッドを伸長させることによって行な
われ、ラック１８ａがスライドされて蓋部材１７のギア
１７ｄを駆動し、蓋部材１７が平面視で時計方向に回転
駆動される。これにより上カップ１４の周囲開口部１４
ｃと蓋部材１７の周囲開口部１７ｃとが一致して、両周
囲開口部１４ｃ，１７ｃを通して気流ＬＦを飛散防止カ
ップ１３内に取り込むことができる。

【００２４】両周囲開口部１４ｃ，１７ｃを通って流入
した気流ＬＦは、その直下にある滞留渦流れＳを打ち消
すとともに、基板Ｗの周縁を流れて排気される気流に乗
って排気される。したがって、滞留渦流れＳに捕らえら
れていたミストやパーティクルは飛散防止カップ１３内
に滞留することなく円滑に排気される。

【００２５】所定時間経過後に制御部５０は、図示しな
い昇降機構を駆動して飛散防止カップ１３を下降させて
基板移載位置に移動する。このとき既に滞留渦流れＳは
除去されているので、その中に捕らえられているミスト
やパーティクルが基板Ｗに付着することを防止すること
ができる。その結果、品質よくフォトレジスト被膜を形
成することができる。

【００２６】そして、処理済みの基板Ｗを搬出し、未処
理の基板Ｗを吸引式スピンチャック１０に吸着支持させ
た後、飛散防止カップ１３を上昇させて処理位置に移動
し、駆動機構１８を駆動してから次の基板Ｗに対して塗
布処理を行なう。

【００２７】上述したように基板Ｗに対して塗布処理を
行なう際には、上カップ１４の周囲開口部１４ｃを閉止
した状態で行なうようにしている理由は、次の２点であ
る。まず、第１の理由は、フォトレジスト液の塗布処理
においては、基板Ｗの雰囲気（周囲の気流状態等）によ
り、形成されるフォトレジスト被膜の品質が大きな影響
を受けるためである。この塗布処理におけるシーケンス
は、種々の実験によって定められたものであり、従来の
装置によって設定された実績のあるシーケンスを変える
こは通常は好まれない。そこで、従来の塗布処理のシー
ケンスを大きく変えることなく、すなわち、従来のフォ
トレジスト被膜の膜厚や表面状態などの品質を保ったま
まミストやパーティクルの付着を防止するためには、上
述したようにするのが好ましい。第２の理由は、基板Ｗ
の周囲から飛散するフォトレジスト液が周囲開口部１４
ｃ，１７ｃを通って飛散防止カップ１３外へ飛散するこ
とを防止するためである。

【００２８】なお、上述した理由により基板Ｗの塗布処
理中には周囲開口部１４ｃ，１７ｃを閉止するようにし
たが、これらを開放した状態で実験を行なってシーケン
スを定め、かつ、周囲開口部１４ｃ，１７ｃの形成位置
を上記不都合が生じないように設定した場合には、開閉
駆動手段に相当する機構（蓋部材１７および駆動機構１
８）は不要である。

【００２９】また、上述した上カップ１４のスリット状
の周囲開口部１４ｃの形状は、図４に示すように、基板
Ｗの回転に伴う流れの方向に沿うように形成してもよ
い。係る形状によりさらに円滑に滞留渦流れＳを打ち消
すことができる。なお、蓋部材１７の周囲開口部１７ｃ
の形状は、これと同様の形状とすればよい。

【００３０】＜第２実施例＞次に、図５を参照して、本
発明に係る装置の別実施例について説明する。なお、図
中、第１実施例と同じ符号を付した構成は、第１実施例
と同じ構成であるので詳細な説明は省略する。

【００３１】図中、符号６０は、飛散防止カップ１３を
吸引式スピンチャック１０に対して昇降し、基板移載位
置と基板処理位置とに移動させる昇降機構である。昇降
機構６０は、位置固定のエアシリンダ６０ａと、そのロ
ッド６０ｂの先端部が下カップ１６の側面部に取り付け
られて構成される。このエアシリンダ６０ａは、制御部
５０によってそのロッド６０ｂの伸長／収縮が制御され
る。

【００３２】図６を参照する。上カップ２０の水平部２
０ｄと、水平部２０ｄの外周部から下向きに形成された
傾斜部２０ｅとは、上方からの気流を飛散防止カップ１
３内の全周にわたってほぼ均等に取り込むために、それ
ぞれ全周にわたって細長い扇状の４個の周囲開口部２０
ｃを形成されている。傾斜部２０ｅの周囲開口部２０ｃ
は、図５に示すように、上カップ２０の内壁の、基板Ｗ
の高さより上方に開口するように形成するのが好まし
い。これは基板Ｗから振り切られるフォトレジスト液が
上カップ２０の傾斜面２０ｂによって効率良く下方に案
内されるようにするためである。

【００３３】蓋部材２１は、上カップ２０の開口２０ａ
と、水平部２０ｄと、傾斜部２０ｅとの形状に対応する
ように形成された部材であって、上カップ２０の水平部
２０ｄに対応する水平部２１ａと、上カップ２０の傾斜
部２０ｅに対応する傾斜部２１ｂとを形成されている。
蓋部材２１の水平部２１ａと傾斜部２１ｂとは、上カッ
プ２０に形成された周囲開口部２０ｃに対応する周囲開
口部が第１実施例とは異なり形成されていない。また、
この蓋部材２１は、その周縁部の取り付け部材２１ｃに
より、装置の基台に取り付けられている。したがって、
制御部５０により昇降機構６０が駆動されて飛散防止カ
ップ１３が基板移載位置に移動（下降）された場合に
は、蓋部材２１はその場に留まって上カップ２０と分離
することになる（図７参照）。したがって、昇降機構６
０を駆動し始めた時点で上カップ２０の周囲開口部２０
ｃは開放されることになる。なお、蓋部材２１と昇降機
構６０とは、本発明における開閉駆動手段に相当する。

【００３４】係る構成では、蓋部材２１と上カップ２０
との間に間隙が生じた時点で蓋部材２１に沿って回り込
んだ気流ＬＦが周囲開口部２０ｃを通り、飛散防止カッ
プ１３内の滞留渦流れを打ち消すことができる。したが
って、〔昇降機構６０で兼用できるので〕特に蓋部材２
１を駆動する機構を設けることなく簡易な構成で第１実
施例と同様の効果、すなわちカップ１３内のミストやパ
ーティクルを円滑に排気することができ、それらが基板
Ｗに付着することを防止することができる。その結果、
品質よくフォトレジスト被膜を形成することができる。

【００３５】なお、蓋部材２１は、第１実施例にて述べ
た理由により設けられているものであるので、周囲開口
部２０ｃを開放した状態で実験を行なってシーケンスを
定め、かつ、周囲開口部２０ｃの形成位置を上記不都合
が生じないように設定した場合には、開閉駆動手段に相
当する機構のうち蓋部材２１は不要である。

【００３６】なお、第２実施例では、昇降機構６０の駆
動により飛散防止カップ１３を下降させ、蓋部材２１と
上カップ２０とを分離して周囲開口部２０ｃを開放する
ように構成しているが、例えば蓋部材２１を昇降駆動す
る駆動手段を別に設け、基板Ｗの回転停止後、駆動手段
を駆動して蓋部材２１を上昇させて上カップ２０と分離
し、周囲開口部２０ｃを開放して気流ＬＦを周囲開口部
２０ｃから取り込んで飛散防止カップ１３内の滞留渦流
れを打ち消した後、昇降機構６０を駆動して飛散防止カ
ップ１３を下降させて基板移載を行なうように構成する
こともできる。

【００３７】なお、第１実施例および第２実施例におい
ては、飛散防止カップ１３を吸引式スピンチャック１０
に対して昇降させる構成としたが、本発明はこの構成に
限定されるものではなく、吸引式スピンチャック１０を
飛散防止カップ１３に対して昇降させる装置にも適用可
能である。

【００３８】また、第１実施例の周囲開口部１７ｃはス
リット状とし、第２実施例の周囲開口部２０ｃは細長い
扇状としたが、本発明はこれに限定されることなく飛散
防止カップ１３内に気流を取り込むことができる形状で
あれば種々の変形実施が可能である。

【００３９】また、塗布液としてフォトレジスト液を例
にとって説明したが、本発明はパシベーション膜形成用
の塗布液または現像液などを塗布する装置にも適用可能
である。

【００４０】

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
１に記載の発明によれば、飛散防止カップ内に生じる
〔ミストやパーティクルを捕らえる〕滞留渦流れを、周
囲開口部から取り込まれた気流によって即座に解消する
ので、カップ内のミストやパーティクルは長く滞留する
ことはなく円滑に排気される。したがって、それらが基
板に付着することを防止することができる。その結果、
品質のよい塗布被膜を形成することができる。

【００４１】また、請求項２に記載の発明によれば、回
転処理中には、飛散した塗布液により生じたミストやパ
ーティクルが飛散防止カップ内の滞留渦流れに捕らえら
れているが、回転処理後には開閉駆動手段により周囲開
口部が開放されて滞留渦流れは即座に解消されるので、
飛散防止カップ内のミストやパーティクルは長く滞留す
ることはなく円滑に排気される。したがって、回転処理
中の状態は従来と同様であるので、従来の塗布シーケン
スを大幅に変えることなくそれらが基板に付着すること
を防止することができる。その結果、従来の膜厚や表面
状態を保ちつつも品質良く被膜形成を行なうことができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施例に係る回転式基板塗布装置を示す縦
断面図である。

【図２】上カップおよび蓋部材を示す斜視図である。

【図３】動作説明に供する図である。

【図４】上カップの変形例を示す斜視図である。

【図５】第２実施例に係る回転式基板塗布装置を示す縦
断面図である。

【図６】上カップおよび蓋部材を示す斜視図である。

【図７】動作説明に供する図である。

【図８】従来例に係る回転式基板塗布装置の要部を示す
図である。

【図９】従来例に係る回転式基板塗布装置の要部を示す
図である。

【符号の説明】

Ｗ … 基板 ＬＦ … 気流 １０ … 吸引式スピンチャック １３ … 飛散防止カップ １４ … 上カップ １４ｃ … 周囲開口部 １６ … 下カップ １７ … 蓋部材 １７ｃ … 周囲開口部 １８ … 駆動機構

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を略水平姿勢で支持して回転させる
   支持回転手段の周囲を覆い、かつ、上部中央付近に開口
   を有するとともに、前記開口から流入する気流を下方へ
   排気する排気口を有する飛散防止カップを備え、前記開
   口の上方から基板に塗布液を吐出し、所定の回転処理後
   に前記支持回転手段と前記飛散防止カップとを相対昇降
   させて処理した基板を搬出する回転式基板処理装置にお
   いて、 前記飛散防止カップは、その開口の周囲に、気流を取り
   込む周囲開口部が形成されていることを特徴とする回転
   式基板塗布装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の回転式基板塗布装置に
   おいて、前記飛散防止カップは、回転処理中に前記周囲
   開口部を閉止し、回転処理後に前記周囲開口部を開放す
   る開閉駆動手段を備えていることを特徴とする回転式基
   板塗布装置。