JPH092842A - 屈折率分布型光学素子の製造方法 - Google Patents
屈折率分布型光学素子の製造方法Info
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- JPH092842A JPH092842A JP15130795A JP15130795A JPH092842A JP H092842 A JPH092842 A JP H092842A JP 15130795 A JP15130795 A JP 15130795A JP 15130795 A JP15130795 A JP 15130795A JP H092842 A JPH092842 A JP H092842A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 金属成分濃度が径方向に凹状に分布した色収
差補正能力に優れたガラスを製造する。 【構成】 シリコン成分とシリコン以外の第1の金属成
分の金属アルコキシドまたはその誘導体から作製した多
孔体を、炭素の数が3以上のアルコールを含む溶液に浸
漬して多孔体の外周から中心に向かって徐々に第1の金
属成分の濃度が減少する濃度勾配を付与する。炭素数が
3以上のアルコールは多孔体中のシリカ成分を選択的に
溶出するため、金属成分の濃度勾配を付与することがで
きる。
差補正能力に優れたガラスを製造する。 【構成】 シリコン成分とシリコン以外の第1の金属成
分の金属アルコキシドまたはその誘導体から作製した多
孔体を、炭素の数が3以上のアルコールを含む溶液に浸
漬して多孔体の外周から中心に向かって徐々に第1の金
属成分の濃度が減少する濃度勾配を付与する。炭素数が
3以上のアルコールは多孔体中のシリカ成分を選択的に
溶出するため、金属成分の濃度勾配を付与することがで
きる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はカメラ、顕微鏡等の光学
素子に使用可能な屈折率分布型光学素子の製造方法に関
する。
素子に使用可能な屈折率分布型光学素子の製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】屈折率分布型光学素子は、媒質に屈折率
分布を付与することによって媒質自体にパワー(屈折
力)を持たせたものであり、優れた収差補正能力を有し
ているため、レンズの構成枚数を減らすことができ、次
世代の光学系に欠くことのできない光学素子として注目
されている。
分布を付与することによって媒質自体にパワー(屈折
力)を持たせたものであり、優れた収差補正能力を有し
ているため、レンズの構成枚数を減らすことができ、次
世代の光学系に欠くことのできない光学素子として注目
されている。
【0003】屈折率分布型光学素子は、径方向に関する
屈折率の変化とアッベ数の変化により、次のように分類
できる。すなわち、屈折率がガラスの中心方向から外周
部にかけて減少する屈折率分布型光学素子を正屈折力型
屈折率分布型光学素子と呼び、逆に増加するものを負屈
折力型屈折率分布型光学素子と呼ぶ。また、屈折率の変
化に伴う分散に関しては、屈折率の増大に伴いアッベ数
が減少する色分散分布を高分散分布、逆に増加するもの
を負分散分布、あまり変化しないものを低分散分布と呼
ぶ。さらにこれらの屈折率変化とアッベ数の変化の組合
せにより、正屈折力型負分散分布光学素子などといい、
屈折率があまり変化せずアッベ数が大きく変化するもの
を超分散分布と呼ぶ。
屈折率の変化とアッベ数の変化により、次のように分類
できる。すなわち、屈折率がガラスの中心方向から外周
部にかけて減少する屈折率分布型光学素子を正屈折力型
屈折率分布型光学素子と呼び、逆に増加するものを負屈
折力型屈折率分布型光学素子と呼ぶ。また、屈折率の変
化に伴う分散に関しては、屈折率の増大に伴いアッベ数
が減少する色分散分布を高分散分布、逆に増加するもの
を負分散分布、あまり変化しないものを低分散分布と呼
ぶ。さらにこれらの屈折率変化とアッベ数の変化の組合
せにより、正屈折力型負分散分布光学素子などといい、
屈折率があまり変化せずアッベ数が大きく変化するもの
を超分散分布と呼ぶ。
【0004】このような光学素子に対する開発では、M
icrooptics News,Vol.9−3(1
991)13〜18,Japan Optics92講
演予稿集(1992)127〜128、特開平3−14
1302号公報、SPIEVol.1780(199
2)456〜463等に白色光源に適用が可能である色
収差補正能力に優れた屈折率分布型光学素子として、低
・負分散分布が有効であることが開示されている。ま
た、Applied Optics,Vol.25 N
o18,(1986)3351〜3355には、負屈折
力型屈折率分布光学素子が、収差補正能力に優れている
ことが記載されている。特開平6−14805号公報に
は、超分散分布の組成が開示してある。なお、このよう
な色収差補正能力に優れた屈折率分布型光学素子の作製
には、Ti,Nb,Ta,Zrなどの金属成分濃度を、
ガラスの中心方向から外周部にかけて連続的に増加する
いわゆる凹分布にする必要がある。
icrooptics News,Vol.9−3(1
991)13〜18,Japan Optics92講
演予稿集(1992)127〜128、特開平3−14
1302号公報、SPIEVol.1780(199
2)456〜463等に白色光源に適用が可能である色
収差補正能力に優れた屈折率分布型光学素子として、低
・負分散分布が有効であることが開示されている。ま
た、Applied Optics,Vol.25 N
o18,(1986)3351〜3355には、負屈折
力型屈折率分布光学素子が、収差補正能力に優れている
ことが記載されている。特開平6−14805号公報に
は、超分散分布の組成が開示してある。なお、このよう
な色収差補正能力に優れた屈折率分布型光学素子の作製
には、Ti,Nb,Ta,Zrなどの金属成分濃度を、
ガラスの中心方向から外周部にかけて連続的に増加する
いわゆる凹分布にする必要がある。
【0005】このような屈折率分布型光学素子の製造方
法としてはゾルゲル法、イオン交換法、分子スタッフィ
ング法等が用いられている。この内、ゾルゲル法は大口
径のガラスが得られること、また多価金属の酸化物に分
布を持たせることが可能であり、得られる屈折率分布型
光学素子の光学特性にバリエーションを持たせることが
可能であるなどの特徴を持つため注目されている。
法としてはゾルゲル法、イオン交換法、分子スタッフィ
ング法等が用いられている。この内、ゾルゲル法は大口
径のガラスが得られること、また多価金属の酸化物に分
布を持たせることが可能であり、得られる屈折率分布型
光学素子の光学特性にバリエーションを持たせることが
可能であるなどの特徴を持つため注目されている。
【0006】特開平4−108626号公報には、ゾル
ゲル法により、多孔体に分布付与溶液を浸漬して冷却
し、分布液の移動を止めることにより、負屈折力型屈折
率分布光学素子を作製する方法が開示されている。ま
た、特開平5−306126号公報には、多孔体の外周
から金属塩を導入して負屈折力型屈折率分布光学素子を
得る方法が開示されている。
ゲル法により、多孔体に分布付与溶液を浸漬して冷却
し、分布液の移動を止めることにより、負屈折力型屈折
率分布光学素子を作製する方法が開示されている。ま
た、特開平5−306126号公報には、多孔体の外周
から金属塩を導入して負屈折力型屈折率分布光学素子を
得る方法が開示されている。
【0007】特開平4−55339号公報には、第1ド
ーパントを含むゲルを適当な溶出液に浸漬して第1ドー
パントに分布を付与し、更に第2の成分に分布を付与す
ることが開示されている。
ーパントを含むゲルを適当な溶出液に浸漬して第1ドー
パントに分布を付与し、更に第2の成分に分布を付与す
ることが開示されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】Ti,Nb,Ta,Z
rなどの屈折率への寄与が大きな金属成分を多孔体の径
方向に凹分布を付与した屈折率分布型光学素子を作製す
るにあたり、特開平5−306126号公報記載の方法
では、適当な塩が存在しないため、適用が難しい。ここ
で、適当な塩とは、ゾルゲル法の原料として塩を用いる
際に、取扱いが容易であり、塩が溶解する適当な溶媒が
存在し、化学反応を制御しやすく均一なゾルをつくるこ
とができる塩を意味する。
rなどの屈折率への寄与が大きな金属成分を多孔体の径
方向に凹分布を付与した屈折率分布型光学素子を作製す
るにあたり、特開平5−306126号公報記載の方法
では、適当な塩が存在しないため、適用が難しい。ここ
で、適当な塩とは、ゾルゲル法の原料として塩を用いる
際に、取扱いが容易であり、塩が溶解する適当な溶媒が
存在し、化学反応を制御しやすく均一なゾルをつくるこ
とができる塩を意味する。
【0009】特開平4−108626号公報記載の方法
では、温度変化に伴って金属成分の溶解度が大きく変化
して金属成分が析出したり、使用する溶媒の選択が難し
く、しかも得られる屈折率分布の再現性が良くないとい
う問題点があった。特開平4−55339号公報記載の
方法では、第1ドーパントに凸状の金属濃度分布を付与
することは容易であるが、凹状の金属濃度分布を付与す
ることは困難である。
では、温度変化に伴って金属成分の溶解度が大きく変化
して金属成分が析出したり、使用する溶媒の選択が難し
く、しかも得られる屈折率分布の再現性が良くないとい
う問題点があった。特開平4−55339号公報記載の
方法では、第1ドーパントに凸状の金属濃度分布を付与
することは容易であるが、凹状の金属濃度分布を付与す
ることは困難である。
【0010】本発明はこれらの従来技術の問題点を解決
し、多孔体からのガラスの製造、特にゾルゲル法により
金属成分濃度を径方向に凹形状に分布させて、色収差補
正能力に優れた屈折率分布型光学素子を作製する方法を
提供することを目的とする。また、本発明は特に、T
i、Nb、Tb、Zrなどの適当な金属塩は存在しない
が、適当な金属アルコキシドやその誘導体は存在するよ
うな金属成分濃度を径方向に凹状に分布させることがで
きる方法を提供することを目的とする。
し、多孔体からのガラスの製造、特にゾルゲル法により
金属成分濃度を径方向に凹形状に分布させて、色収差補
正能力に優れた屈折率分布型光学素子を作製する方法を
提供することを目的とする。また、本発明は特に、T
i、Nb、Tb、Zrなどの適当な金属塩は存在しない
が、適当な金属アルコキシドやその誘導体は存在するよ
うな金属成分濃度を径方向に凹状に分布させることがで
きる方法を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項1の発明は、シリコン成分とシリコン以外の第1
の金属成分の金属アルコキシドまたはその誘導体から作
製した多孔体を、炭素の数が3以上のアルコールを含む
溶液に浸漬し、多孔体の外周から中心に向かって徐々に
第1の金属成分の濃度が減少する濃度勾配を付与するも
のである。
請求項1の発明は、シリコン成分とシリコン以外の第1
の金属成分の金属アルコキシドまたはその誘導体から作
製した多孔体を、炭素の数が3以上のアルコールを含む
溶液に浸漬し、多孔体の外周から中心に向かって徐々に
第1の金属成分の濃度が減少する濃度勾配を付与するも
のである。
【0012】請求項2の発明は、シリコン成分とシリコ
ン以外の第1の金属成分の金属アルコキシドまたはその
誘導体から作製した多孔体を、炭素の数が3以上のアル
コールを含む溶液に浸漬し、多孔体の外周から中心に向
かって徐々に第1の金属成分の濃度が減少する濃度勾配
を付与した後、多孔体をシリコン以外の第2の金属成分
の金属塩を含む溶液に浸漬し、さらに第2の金属成分の
金属塩を溶出する溶液に多孔体を浸漬して多孔体の外周
から中心に向かって徐々に第2の金属成分の濃度が増加
する濃度勾配を付与するものである。
ン以外の第1の金属成分の金属アルコキシドまたはその
誘導体から作製した多孔体を、炭素の数が3以上のアル
コールを含む溶液に浸漬し、多孔体の外周から中心に向
かって徐々に第1の金属成分の濃度が減少する濃度勾配
を付与した後、多孔体をシリコン以外の第2の金属成分
の金属塩を含む溶液に浸漬し、さらに第2の金属成分の
金属塩を溶出する溶液に多孔体を浸漬して多孔体の外周
から中心に向かって徐々に第2の金属成分の濃度が増加
する濃度勾配を付与するものである。
【0013】請求項3の発明は、上記シリコン以外の第
1の金属成分として、Ti,Nb,Ta,Zrから選ば
れた少なくとも1種の金属を用いるものである。
1の金属成分として、Ti,Nb,Ta,Zrから選ば
れた少なくとも1種の金属を用いるものである。
【0014】
【作用】上記構成において、多孔体を炭素数3以上のア
ルコールを含む溶液に浸漬することにより、多孔体中の
シリカ成分を選択的に溶出させることができるものであ
り、如何に本発明の作用を説明する。
ルコールを含む溶液に浸漬することにより、多孔体中の
シリカ成分を選択的に溶出させることができるものであ
り、如何に本発明の作用を説明する。
【0015】まず、請求項1の発明の作用をSiO2 −
TiO2 系のチタン成分に凹状の濃度分布を有し、高分
散分布を有した負屈折力型屈折率分布光学素子を作製す
る場合について述べる。
TiO2 系のチタン成分に凹状の濃度分布を有し、高分
散分布を有した負屈折力型屈折率分布光学素子を作製す
る場合について述べる。
【0016】シリコンアルコキシドを部分加水分解した
溶液にチタン原料として例えばチタンアルコキシドを加
えて、アルコール、水、酸を混合して、多孔体のウェッ
トシリカチタンゲルを作製し、ゲルを炭素の数が3以上
のアルコールの一例であるn−ブタノールに適当な時間
浸漬する。この状態における詳しい反応機構は不明であ
るが、n−ブタノールが多孔体に拡散していくのに伴
い、多孔体の外周部から中心部にかけて徐々にシリカ成
分が選択的に溶出する。これにより、結果として多孔体
の外周部で相対的にシリカ成分が少なくチタン成分が多
くなり、チタン成分に凹状の分布を付与することができ
る。
溶液にチタン原料として例えばチタンアルコキシドを加
えて、アルコール、水、酸を混合して、多孔体のウェッ
トシリカチタンゲルを作製し、ゲルを炭素の数が3以上
のアルコールの一例であるn−ブタノールに適当な時間
浸漬する。この状態における詳しい反応機構は不明であ
るが、n−ブタノールが多孔体に拡散していくのに伴
い、多孔体の外周部から中心部にかけて徐々にシリカ成
分が選択的に溶出する。これにより、結果として多孔体
の外周部で相対的にシリカ成分が少なくチタン成分が多
くなり、チタン成分に凹状の分布を付与することができ
る。
【0017】この多孔体をそのまま乾燥して焼成する
と、屈折率が中心で低く、周辺で高い凹分布の高分散分
布を有した負屈折力型屈折率分布光学素子を作製するこ
とができる。
と、屈折率が中心で低く、周辺で高い凹分布の高分散分
布を有した負屈折力型屈折率分布光学素子を作製するこ
とができる。
【0018】本発明はTi,Nb,Ta,Zrなどの適
当な金属塩は存在しないが、適当な金属アルコキシドは
存在するような金属種に特に有効である。これは、金属
アルコキシドやその誘導体より作製した多孔体は、金属
成分が骨格に組み込まれているために、溶液に浸漬して
も溶液へ溶出しにくいからである。
当な金属塩は存在しないが、適当な金属アルコキシドは
存在するような金属種に特に有効である。これは、金属
アルコキシドやその誘導体より作製した多孔体は、金属
成分が骨格に組み込まれているために、溶液に浸漬して
も溶液へ溶出しにくいからである。
【0019】本発明に用いる金属アルコキシド及びその
誘導体には、金属原子が酸素原子を介してアルキル基と
結合している化合物(金属アルコキシド)またはアリー
ル基と結合している化合物(金属アリールオキシド)、
β−ジケトン、β−ケト酸エステルのエノール構造の酸
素原子で結合している化合物、カルボン酸誘導体、メタ
ロキサンポリマーなどがある。チタンについてその一例
を挙げると、チタンジイソプロポキシ(ビス−2,4−
ペンタンジオネート);分子式(iso−C3H7 O)
2 Ti(CH3 COCHCOCH3 )2 や、チタンビス
(トリエタノールアミン)ジイソプロポキサイド;分子
式(iso−C3 H7 O)2 TiHOCH2 CH2 N
(CH2 CH2 O)2 などがある。
誘導体には、金属原子が酸素原子を介してアルキル基と
結合している化合物(金属アルコキシド)またはアリー
ル基と結合している化合物(金属アリールオキシド)、
β−ジケトン、β−ケト酸エステルのエノール構造の酸
素原子で結合している化合物、カルボン酸誘導体、メタ
ロキサンポリマーなどがある。チタンについてその一例
を挙げると、チタンジイソプロポキシ(ビス−2,4−
ペンタンジオネート);分子式(iso−C3H7 O)
2 Ti(CH3 COCHCOCH3 )2 や、チタンビス
(トリエタノールアミン)ジイソプロポキサイド;分子
式(iso−C3 H7 O)2 TiHOCH2 CH2 N
(CH2 CH2 O)2 などがある。
【0020】多孔体を浸漬する炭素の数が3以上のアル
コールには、1−プロパノール、2−プロパノール、1
−ブタノール、2−ブタノール、iso−ブタノール、
tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタ
ノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ペンタノ
ールなど種々あるが、この中でも特に直鎖のアルコール
が適しており、また取扱いやすさからプロパノール類、
ブタノール類が最も適している。高級アルコールのジオ
ール、トリオールとしては、1,2−エタンジオール、
1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオー
ル、1,2−ブタンジオール、1,2,6−ヘキサント
リオールなどがある。
コールには、1−プロパノール、2−プロパノール、1
−ブタノール、2−ブタノール、iso−ブタノール、
tert−ブタノール、1−ペンタノール、2−ペンタ
ノール、3−ペンタノール、2−メチル−1−ペンタノ
ールなど種々あるが、この中でも特に直鎖のアルコール
が適しており、また取扱いやすさからプロパノール類、
ブタノール類が最も適している。高級アルコールのジオ
ール、トリオールとしては、1,2−エタンジオール、
1,2−プロパンジオール、1,3−プロパンジオー
ル、1,2−ブタンジオール、1,2,6−ヘキサント
リオールなどがある。
【0021】これらの炭素の数が3以上のアルコール
を、メタノールやエタノールなどの適当な有機溶媒や水
等で希釈して用いてもよい。アルコールの濃度や浸漬時
間は、多孔体中のシリカ成分をどれだけ溶出するかを支
配するが、シリカ骨格を過剰に切断してしまうと、ゲル
骨格強度が弱くなりすぎて割れてしまうので、所望の金
属成分濃度分布の形状と、作製した多孔体の強度を鑑み
て適宜変化させる必要がある。
を、メタノールやエタノールなどの適当な有機溶媒や水
等で希釈して用いてもよい。アルコールの濃度や浸漬時
間は、多孔体中のシリカ成分をどれだけ溶出するかを支
配するが、シリカ骨格を過剰に切断してしまうと、ゲル
骨格強度が弱くなりすぎて割れてしまうので、所望の金
属成分濃度分布の形状と、作製した多孔体の強度を鑑み
て適宜変化させる必要がある。
【0022】請求項2の発明の作用をSiO2 −TiO
2 −BaO−K2 O系のチタン成分に凹状の濃度分布、
バリウム成分に凸状の濃度分布を有し、屈折力を有して
いない又は正屈折力を有する屈折率分布光学素子を作製
する場合について説明する。
2 −BaO−K2 O系のチタン成分に凹状の濃度分布、
バリウム成分に凸状の濃度分布を有し、屈折力を有して
いない又は正屈折力を有する屈折率分布光学素子を作製
する場合について説明する。
【0023】上述したように、ウェットゲル中にチタン
成分の凹分布を形成した後、更に以下に述べるような処
理を行う。すなわち、多孔体を更にバリウムを含む水溶
液またはアルコール溶液などに浸漬して、多孔体中に金
属塩を含浸させ、その後、多孔体をアルコールに浸漬し
て金属塩の微結晶を析出させ、バリウムを溶解するカリ
ウムを含んだ分布付与溶液に浸漬してバリウム成分に凸
分布、カリウム成分に凹分布を付与する。更に多孔体を
アセトン等の金属塩が溶解しないような分布固定溶液に
浸漬する。これらの操作により、チタン成分に凹、バリ
ウム成分に凸、カリウム成分に凹を付与した多孔体を得
ることができる。この多孔体を乾燥、焼成することによ
り、上述したような低・負分散分布や超分散分布の屈折
率分布型光学素子を得ることができる。この時、チタン
成分の凹分布形状による負屈折力と、バリウム成分の凸
分布形状による正屈折力の関係がほぼ釣り合うことで、
屈折力が小さく分散のみが大きく変化する超分散分布ガ
ラスとなり、バリウム成分の正屈折力が勝れば正屈折率
分布ガラスとなる。
成分の凹分布を形成した後、更に以下に述べるような処
理を行う。すなわち、多孔体を更にバリウムを含む水溶
液またはアルコール溶液などに浸漬して、多孔体中に金
属塩を含浸させ、その後、多孔体をアルコールに浸漬し
て金属塩の微結晶を析出させ、バリウムを溶解するカリ
ウムを含んだ分布付与溶液に浸漬してバリウム成分に凸
分布、カリウム成分に凹分布を付与する。更に多孔体を
アセトン等の金属塩が溶解しないような分布固定溶液に
浸漬する。これらの操作により、チタン成分に凹、バリ
ウム成分に凸、カリウム成分に凹を付与した多孔体を得
ることができる。この多孔体を乾燥、焼成することによ
り、上述したような低・負分散分布や超分散分布の屈折
率分布型光学素子を得ることができる。この時、チタン
成分の凹分布形状による負屈折力と、バリウム成分の凸
分布形状による正屈折力の関係がほぼ釣り合うことで、
屈折力が小さく分散のみが大きく変化する超分散分布ガ
ラスとなり、バリウム成分の正屈折力が勝れば正屈折率
分布ガラスとなる。
【0024】請求項3の発明の作用は以下の通りであ
る。屈折率や分散の光学特性はガラス中の金属成分によ
り決定されるので、前述したような色収差補正能力に優
れた屈折率分布型光学素子には、効果的な元素の組合せ
がある。例えば、凹状に分布させる金属種にはTi,N
b,Ta,Zrから選ばれた少なくとも1種の金属アル
コキシドまたはその誘導体の金属種が必要であり、凸状
に分布させる金属種にはBa,La,Sr,Ca,G
e,Zr,Y,Zr,Inなどから選ばれた少なくとも
1種の金属塩を、適当な組合せで、適当な量分布させる
ことにより、低・負分散分布や超分散分布の屈折率分布
型光学素子を得ることができる。
る。屈折率や分散の光学特性はガラス中の金属成分によ
り決定されるので、前述したような色収差補正能力に優
れた屈折率分布型光学素子には、効果的な元素の組合せ
がある。例えば、凹状に分布させる金属種にはTi,N
b,Ta,Zrから選ばれた少なくとも1種の金属アル
コキシドまたはその誘導体の金属種が必要であり、凸状
に分布させる金属種にはBa,La,Sr,Ca,G
e,Zr,Y,Zr,Inなどから選ばれた少なくとも
1種の金属塩を、適当な組合せで、適当な量分布させる
ことにより、低・負分散分布や超分散分布の屈折率分布
型光学素子を得ることができる。
【0025】本発明に使用される多孔体は、ゾルゲル法
で作製したゲルに限定されるものではなく、VAD法に
より作製されるスートや、分相法により作製されるバイ
コールガラス等の多孔体であっても良い。
で作製したゲルに限定されるものではなく、VAD法に
より作製されるスートや、分相法により作製されるバイ
コールガラス等の多孔体であっても良い。
【0026】
(実施例1)シリコン、チタン原料にそれぞれテトラメ
トキシシランSi(OCH3 )4 、チタンジイソプロポ
キシ(ビス−2,4−ペンタンジオネート)(分子式
(iso−C3 H7 O)2 Ti(CH3 COCHCOC
H3 )2 )を使用した。
トキシシランSi(OCH3 )4 、チタンジイソプロポ
キシ(ビス−2,4−ペンタンジオネート)(分子式
(iso−C3 H7 O)2 Ti(CH3 COCHCOC
H3 )2 )を使用した。
【0027】20.9gのSi(OCH3 )4 にエタノ
ール35mlと2規定塩酸4.8mlを加えて部分加水
分解した後、24gの(iso−C3 H7 O)2 Ti
(CH 3 COCHCOCH3 )2 とエタノールと酢酸の
混合液を加えて攪拌し、さらに水15mlを加えて室温
で1時間攪拌した。このゾルを直径12mmのポリプロ
ピレン製容器40本にキャスティングして、40℃の恒
温槽で放置しゲル化させた後、更に熟成した。
ール35mlと2規定塩酸4.8mlを加えて部分加水
分解した後、24gの(iso−C3 H7 O)2 Ti
(CH 3 COCHCOCH3 )2 とエタノールと酢酸の
混合液を加えて攪拌し、さらに水15mlを加えて室温
で1時間攪拌した。このゾルを直径12mmのポリプロ
ピレン製容器40本にキャスティングして、40℃の恒
温槽で放置しゲル化させた後、更に熟成した。
【0028】得られたウェットゲルを容器から取り出
し、1−ブタノールに12時間浸漬した。このゲルをエ
タノールで洗浄した後、乾燥、焼成することにより、チ
タン成分に凹状の濃度分布を有する負屈折率分布光学素
子を得ることができた。
し、1−ブタノールに12時間浸漬した。このゲルをエ
タノールで洗浄した後、乾燥、焼成することにより、チ
タン成分に凹状の濃度分布を有する負屈折率分布光学素
子を得ることができた。
【0029】(実施例2)実施例1と同様にして作製し
たウェットゲルを、1,2−プロパンジオールをエタノ
ールで希釈した溶液に浸漬した。このゲルをエタノール
で洗浄した後、乾燥、焼成することにより、チタン成分
に凹状の濃度分布を有する負屈折力型屈折率分布光学素
子を得ることができた。
たウェットゲルを、1,2−プロパンジオールをエタノ
ールで希釈した溶液に浸漬した。このゲルをエタノール
で洗浄した後、乾燥、焼成することにより、チタン成分
に凹状の濃度分布を有する負屈折力型屈折率分布光学素
子を得ることができた。
【0030】(実施例3)シリコン原料としてテトラメ
トキシシランSi(OCH3 )4 、チタン原料としてチ
タンブトキシドモノマーTi(O−nC4 H9 )4 、バ
リウム原料として酢酸バリウムBa(OCOC
H3 )2 、カリウム原料として酢酸カリウムKOCOC
H3 を使用した。
トキシシランSi(OCH3 )4 、チタン原料としてチ
タンブトキシドモノマーTi(O−nC4 H9 )4 、バ
リウム原料として酢酸バリウムBa(OCOC
H3 )2 、カリウム原料として酢酸カリウムKOCOC
H3 を使用した。
【0031】20.9gのSi(OCH3 )4 にエタノ
ール35mlと2規定塩酸4.8mlを加えて部分加水
分解した後、チタンブトキシドとエタノールの混合溶液
を加えて攪拌し、さらに水15mlと酢酸7mlとを加
えて室温で1時間攪拌した。このゾルを直径12mmの
ポリプロピレン製容器40本にキャスティングして、4
0℃の恒温槽で放置し、ゲル化させた後、更に熟成し
た。
ール35mlと2規定塩酸4.8mlを加えて部分加水
分解した後、チタンブトキシドとエタノールの混合溶液
を加えて攪拌し、さらに水15mlと酢酸7mlとを加
えて室温で1時間攪拌した。このゾルを直径12mmの
ポリプロピレン製容器40本にキャスティングして、4
0℃の恒温槽で放置し、ゲル化させた後、更に熟成し
た。
【0032】得られたウェットゲルを容器から取り出
し、1−ブタノールに12時間浸漬した。このゲルをエ
タノールで洗浄した後、酢酸バリウムとメタノールと乳
酸とを溶解した溶液に24時間浸漬した。そしてゲルを
エタノールと乳酸とを混合した溶液に24時間浸漬し、
バリウム塩をゲル中の細孔内に固定した。その後、ゲル
を酢酸カリウムとメタノールと乳酸を溶解した溶液に7
時間浸漬し、さらにアセトンに24時間浸漬した。ゲル
を乾燥、焼成することによりチタン成分に凹状の金属濃
度分布、バリウム成分に凸状の金属濃度分布を付与した
所望の負分散分布を持つ屈折率分布型光学素子を得るこ
とができた。
し、1−ブタノールに12時間浸漬した。このゲルをエ
タノールで洗浄した後、酢酸バリウムとメタノールと乳
酸とを溶解した溶液に24時間浸漬した。そしてゲルを
エタノールと乳酸とを混合した溶液に24時間浸漬し、
バリウム塩をゲル中の細孔内に固定した。その後、ゲル
を酢酸カリウムとメタノールと乳酸を溶解した溶液に7
時間浸漬し、さらにアセトンに24時間浸漬した。ゲル
を乾燥、焼成することによりチタン成分に凹状の金属濃
度分布、バリウム成分に凸状の金属濃度分布を付与した
所望の負分散分布を持つ屈折率分布型光学素子を得るこ
とができた。
【0033】(比較例1)1−ブタノールにゲルを浸漬
することなく、実施例3と同様にゲルを処理してガラス
を作製した。得られたガラスは、チタン成分がシリカ成
分に対してガラスの径方向にフラットな濃度分布をして
おり、所望の負分散分布を有する屈折率分布ガラスを得
ることができなかった。
することなく、実施例3と同様にゲルを処理してガラス
を作製した。得られたガラスは、チタン成分がシリカ成
分に対してガラスの径方向にフラットな濃度分布をして
おり、所望の負分散分布を有する屈折率分布ガラスを得
ることができなかった。
【0034】(実施例4)四塩化珪素と塩化アルミニウ
ム、ニオブブキシドから作製したスートを1−プロパノ
ールに24時間浸漬した。その後、このスートをエタノ
ールで洗浄した。このスートを酢酸ランタンのアルコー
ルと溶液の混合溶液に24時間浸漬した。ゲルをエタノ
ールに24時間浸漬し、ランタン塩をゲルの細孔中に固
定した。その後、このスートを硝酸ナトリウムとメタノ
ールと水の混合溶液に4時間浸漬し、さらにアセトンに
24時間浸漬した。このゲルを乾燥、焼成することによ
りニオブ成分に凹状の金属濃度分布、ランタン成分に凸
状の金属濃度分布を付与した所望の負分散分布を有する
屈折率分布型光学素子を得ることができた。
ム、ニオブブキシドから作製したスートを1−プロパノ
ールに24時間浸漬した。その後、このスートをエタノ
ールで洗浄した。このスートを酢酸ランタンのアルコー
ルと溶液の混合溶液に24時間浸漬した。ゲルをエタノ
ールに24時間浸漬し、ランタン塩をゲルの細孔中に固
定した。その後、このスートを硝酸ナトリウムとメタノ
ールと水の混合溶液に4時間浸漬し、さらにアセトンに
24時間浸漬した。このゲルを乾燥、焼成することによ
りニオブ成分に凹状の金属濃度分布、ランタン成分に凸
状の金属濃度分布を付与した所望の負分散分布を有する
屈折率分布型光学素子を得ることができた。
【0035】(実施例5)シリコン原料としてテトラメ
トキシシランSi(OCH3 )4 、タンタル原料として
タンタルプロポキシドTa(OC3 H7 )5 、ストロン
チウム原料として酢酸ストロンチウム半水和物Sr(O
COCH3 )2 ・0.5H2 O、ナトリウム原料として
酢酸ナトリウムNaOCOCH3 を使用した。
トキシシランSi(OCH3 )4 、タンタル原料として
タンタルプロポキシドTa(OC3 H7 )5 、ストロン
チウム原料として酢酸ストロンチウム半水和物Sr(O
COCH3 )2 ・0.5H2 O、ナトリウム原料として
酢酸ナトリウムNaOCOCH3 を使用した。
【0036】20.9gのSi(OC2 H5 )4 にエタ
ノール35mlと2規定塩酸4.8mlを加えて部分加
水分解した後、タンタルプロポキシドのイソプロパノー
ル溶液を加えて1時間攪拌し、水15ml加えて室温で
10分攪拌してゾルを作製した。このゾルを直径18m
mのポリプロピレン製容器10本にキャスティングして
30℃の恒温槽で放置し、ゲル化させた後、更に熟成し
た。得られたウェットゲルを容器から取り出し、イソプ
ロパノールに12時間浸漬してゲル中のシリコン成分を
溶出してタンタル成分に凹状の濃度分布を付与した。
ノール35mlと2規定塩酸4.8mlを加えて部分加
水分解した後、タンタルプロポキシドのイソプロパノー
ル溶液を加えて1時間攪拌し、水15ml加えて室温で
10分攪拌してゾルを作製した。このゾルを直径18m
mのポリプロピレン製容器10本にキャスティングして
30℃の恒温槽で放置し、ゲル化させた後、更に熟成し
た。得られたウェットゲルを容器から取り出し、イソプ
ロパノールに12時間浸漬してゲル中のシリコン成分を
溶出してタンタル成分に凹状の濃度分布を付与した。
【0037】このゲルをエタノールで洗浄した後、1M
−酢酸ストロンチウム水溶液と17規定酢酸との混合溶
液に24時間浸漬し、さらにアルコールにゲルを浸漬し
てゲル中に酢酸ストロンチウムの微結晶を固定した。次
に、酢酸ナトリウム50gとメタノール400mlとエ
タノール400mlとを混合して溶解した溶液にゲルを
アセトンに24時間浸漬し、乾燥、焼成することにより
タンタル成分に凹状の金属濃度分布、ストロンチウム成
分に凸状の金属濃度分布を付与した所望の超分散分布を
有する屈折率分布型光学ガラスを得ることができた。
−酢酸ストロンチウム水溶液と17規定酢酸との混合溶
液に24時間浸漬し、さらにアルコールにゲルを浸漬し
てゲル中に酢酸ストロンチウムの微結晶を固定した。次
に、酢酸ナトリウム50gとメタノール400mlとエ
タノール400mlとを混合して溶解した溶液にゲルを
アセトンに24時間浸漬し、乾燥、焼成することにより
タンタル成分に凹状の金属濃度分布、ストロンチウム成
分に凸状の金属濃度分布を付与した所望の超分散分布を
有する屈折率分布型光学ガラスを得ることができた。
【0038】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、多孔体か
らのガラスの製造方法、特にゾルゲル法により金属成分
濃度を径方向に凹形状に分布させることにより色収差補
正能力に優れた屈折率分布型光学素子を作製することが
できる。また、本発明はTi,Nb,Ta,Zrなどの
適当な金属塩は存在しないが、適当な金属アルコキシド
は存在するような金属成分濃度を径方向に凹状に分布さ
せることができる。
らのガラスの製造方法、特にゾルゲル法により金属成分
濃度を径方向に凹形状に分布させることにより色収差補
正能力に優れた屈折率分布型光学素子を作製することが
できる。また、本発明はTi,Nb,Ta,Zrなどの
適当な金属塩は存在しないが、適当な金属アルコキシド
は存在するような金属成分濃度を径方向に凹状に分布さ
せることができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 シリコン成分とシリコン以外の第1の金
属成分の金属アルコキシドまたはその誘導体から作製し
た多孔体を、炭素の数が3以上のアルコールを含む溶液
に浸漬して多孔体の外周から中心に向かって徐々に第1
の金属成分の濃度が減少する濃度勾配を付与することを
特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法。 - 【請求項2】 シリコン成分とシリコン以外の第1の金
属成分の金属アルコキシドまたはその誘導体から作製し
た多孔体を、炭素の数が3以上のアルコールを含む溶液
に浸漬し、多孔体の外周から中心に向かって徐々に第1
の金属成分の濃度が減少する濃度勾配を付与した後、多
孔体をシリコン以外の第2の金属成分の金属塩を含む溶
液に浸漬し、さらに第2の金属成分の金属塩を溶出する
溶液に多孔体を浸漬して多孔体の外周から中心に向かっ
て徐々に第2の金属成分の濃度が増加する濃度勾配を付
与することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方
法。 - 【請求項3】 上記シリコン以外の第1の金属成分はT
i,Nb,Ta,Zrから選ばれた少なくとも1種の金
属を含むことを特徴とする請求項1又は2記載の屈折率
分布型光学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15130795A JPH092842A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15130795A JPH092842A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH092842A true JPH092842A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=15515807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15130795A Withdrawn JPH092842A (ja) | 1995-06-19 | 1995-06-19 | 屈折率分布型光学素子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH092842A (ja) |
-
1995
- 1995-06-19 JP JP15130795A patent/JPH092842A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020903 |