JPWO2006040828A1 - Grinレンズの製造方法及びgrinレンズ - Google Patents
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Abstract
開口数(NA)が大きく、かつ、屈折率分布が2乗カーブのGRINレンズを容易に製造できる方法を開発する。ゾルゲル法によるGRINレンズ製造方法において、シリコンアルコキシドと屈折率を高める金属アルコキシドとを含むゾルから円柱状ウェットゲルを作成し、前記金属を溶出させる処理液に該ウェットゲルを浸漬し、該ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させて前記金属を溶出させる前記金属の濃度分布付与工程を少なくとも2回行うことで、開口数(NA)が大きく、かつ、屈折率分布が2乗カーブのGRINレンズを容易に製造することができる。
Description
本発明は特に光通信用光結合部品やカメラ、内視鏡等の光学素子に応用可能な屈折率分布型光学素子(GRINレンズ)とそのゾルゲル法による製造方法に関する。
屈折率分布型の光学素子は、例えば半導体レーザからの放射光を高効率で光ファイバに入射させる時に用いられる球面収差の小さなレンズとして、また、レンズの端面が平坦で、かつ円柱の長さを変えることによって任意の焦点距離が付与できるために、カメラなどの画像伝送用のレンズとして注目されている。特に、形状が小型な円柱状であるため光学系の軸合わせや保持が容易で組立て性の高いレンズとして期待されている。この円柱状の屈折率分布型の光学素子(Graded Indexレンズ、以下、「GRINレンズ」と称する。)は、図1に示すように、その断面方向x、yの屈折率nを下記(1)式であらわしたとき、分布定数qがほぼ2に等しい2乗カーブで連続的に変化する棒状レンズで、この屈折率分布によってレンズ作用が行われる。
n=n0{1−g2rq/2} (1)
g : GRINレンズの集光能力を表わす定数
n0 : GRINレンズの中心部での屈折率
r : 半径方向 r2=x2+y2
q : 分布定数(q=2のとき2乗カーブ)
図1に示すように、GRINレンズの半径をa、半径aでの屈折率をnaとすれば、
g=NA/an0
ただし、
NA=( n0 2−na 2 )1/2 (2)
と表わされる。ここで NAはGRINレンズの中心と周辺での屈折率の2乗差の平方根で、開口数Numerical Aperture(以下、「NA」と略す。)と称し、レンズ性能を表わす重要なパラメータである。NAの高いレンズは光の集光能力が高い、即ちレンズ特性の良い明るいレンズである。特に光通信に用いられる光増幅用高出力半導体レーザの開口数は0.35程度と大きく、この半導体レーザの放射光を光ファイバに充分に取り入れるためには分布定数qがほぼ2(屈折率分布が2乗カーブ)でNA≧0.4の集光レンズが必要である。現在、実用化されているものはNA=0.2程度であり、このためNA≧0.4のGRINレンズが強く望まれている。
n=n0{1−g2rq/2} (1)
g : GRINレンズの集光能力を表わす定数
n0 : GRINレンズの中心部での屈折率
r : 半径方向 r2=x2+y2
q : 分布定数(q=2のとき2乗カーブ)
図1に示すように、GRINレンズの半径をa、半径aでの屈折率をnaとすれば、
g=NA/an0
ただし、
NA=( n0 2−na 2 )1/2 (2)
と表わされる。ここで NAはGRINレンズの中心と周辺での屈折率の2乗差の平方根で、開口数Numerical Aperture(以下、「NA」と略す。)と称し、レンズ性能を表わす重要なパラメータである。NAの高いレンズは光の集光能力が高い、即ちレンズ特性の良い明るいレンズである。特に光通信に用いられる光増幅用高出力半導体レーザの開口数は0.35程度と大きく、この半導体レーザの放射光を光ファイバに充分に取り入れるためには分布定数qがほぼ2(屈折率分布が2乗カーブ)でNA≧0.4の集光レンズが必要である。現在、実用化されているものはNA=0.2程度であり、このためNA≧0.4のGRINレンズが強く望まれている。
このGRINレンズの作製方法としては、イオン交換法や気相CVD(Chemical Vapor Deposition)法、ゾルゲル法などが知られている。しかしながら、イオン交換法で作られるGRINレンズは、アルカリ成分を含む多成分ガラスのため、NAが大きくとれず、しかもガラス材料の熱膨張係数が非常に大きくなって耐熱性の問題で信頼性に乏しかった。また、気相法では、0.38のNA(例えば文献;P.B.O’Connorほか:Electron.Lett.,13(1977)170-171)が実験室レベルで得られているが、それ以上のNAを得るためには添加物(GeO2、P2O5など)の添加量を増やしていかなければならず、そのためガラス材料の熱膨張係数が大きくなり母材が割れやすく実用化には不安定であった。なかでも所望の濃度分布を精密に形成可能なゾルゲル法によるガラス作製方法が有効である。
一方、ゾルゲル法は、低温での合成法であり、所望の濃度分布を精密に形成することが可能で、有効な方法である。ゾルゲル法によるガラスの作製方法では、シリコンのアルコキシドを主成分とするアルコール溶液に、溶媒として酸または塩基を添加し加水分解することでゾルとし、多成分系のガラスを作製する場合にはさらに金属成分を添加し、このゾルをさらに重縮合反応させることで、架橋反応を進行させウェットゲルを作製している。そして、得られたウェットゲルを乾燥し、ゲル中の溶媒を除去後、焼成することで緻密なガラスを作製している。
ゾルゲル法を用いてGRINレンズを作製する場合には、金属成分に濃度分布を形成することが必要となるが、金属成分の原料として金属塩や分子スタッフィング法を用いる方法、更には金属アルコキシドを用いる方法が知られている。金属塩を用いて屈折率分布形成のための金属成分を導入する方法では、ゾルの調製時に金属塩を水溶液あるいはアルコール溶液として添加したゲルを作製する。このようなゲルはシリコンの骨格からなる細孔中の溶媒に金属塩が溶解して存在している。得られたゲルを金属塩に対する溶解度の高い低分子量のアルコール、水、あるいはこれらの混合溶液等に浸漬することでゲル中に含有する金属成分を溶出し、濃度分布を形成する。しかしながら、Ti、Nb、Ta、Zrなどの屈折率への寄与が大きな金属の適当な塩が存在しないために高いNAのGRINレンズには適用が非常に難しかった。
一方、分子スタッフィング法では、特公平5−82332号公報に、ウェットゲルを乾燥、焼成して多孔質体を作製し、Ti含有溶液等に浸漬して多孔質体に金属成分を均一に含浸させ、SiO2 −TiO2 等の金属含有ガラスを得る方法が開示されている。ところが、この方法では、ドライゲルを高温まで熱処理しているので、Si−O−Siの結合手が強固に結合しており、反応活性なSi−OH基が少なくなっているため、極くわずかの金属成分しかSi−O−Siに結合することができにくく高いNAのGRINレンズを安定に作ることが難しかった。
一方、金属アルコキシドを用いる方法では、ゾルの調製時に、シリコンのアルコキシドに屈折率を高める成分として金属アルコキシドをアルコール溶液として添加したゲルを作製する。金属アルコキシドを用いたゲルは、シリコンと金属原子が結合を形成しているので、金属成分に濃度分布を形成するためには、シリコンの金属原子の結合を切断し金属成分を溶出しうる濃度分布付与液中にゲルを浸漬し、溶出液の洗浄後、濃度分布を固定し、洗浄・乾燥・焼成するという方法である。しかし、上記従来の方法において作製されるGRINレンズは、外周部での屈折率の低下はある程度見られるものの、その屈折率分布 の形成に寄与する金属成分の濃度が充分には低下せず、中心部と外周部との濃度(屈折率)差は、あまり大きな値のものが得られず、高いNAのGRINレンズが安定に確保できなかった。また、特に、ゲル中の金属成分の溶出によって濃度分布の付与を行う場合には、濃度分布付与液は、溶出しようとする金属成分を溶解する能力をもつ処理液であり、金属成分に対する溶解度のできるだけ低い処理液を選択するとよく、例えば、金属アルコキシドを原料に用いた酸溶液への浸漬による溶出では、濃度分布付与のための化学結合の切断が可能な範囲で酸濃度のできるだけ薄い溶液を用いるのが特に浸漬時、洗浄・乾燥時での割れを防止し、濃度分布形状のばらつきを小さくし品質を安定させる上で効果的であった。
しかしながら、酸濃度を小さくすると屈折率分布付与液の拡散浸透速度と金属成分の溶出速度に大きな差が生じ、このため、上記式(1)の分布定数がq=2から離れた、すなわち2乗分布から崩れた濃度(屈折率)分布になるという問題があった。例えば、金属成分であるTiを20mol%ドープしたシリコンのウェットゲルを濃度(屈折率)分布付与液である0.5規定の塩酸に16時間と26時間浸漬させたときを例にとると、図2に示すように、金属成分Tiの濃度分布(屈折率分布に相当する)は半径方向に変化するが、それぞれの濃度分布の上記式(1)の分布定数qは、2.99、2.63となっており、2乗分布から崩れた濃度(屈折率)分布になっている。
特開平4−260608号公報には、GRINレンズの中心部と外周部との屈折率差を大きくするため、金属アルコキシドを含むゾルから得たウェットゲルより金属成分を溶出する工程を複数回行う方法が開示されている。この方法は、1回目の濃度分布付与工程は浸漬する溶液がゲル中心部まで到達するようにウェットゲルを該溶液に浸漬し、2回目以降の濃度分布付与工程は浸漬する溶液がゲルの中心部までは到達しないようにウェットゲルを該溶液に浸漬するものである。この方法は、2回目以降の濃度分布付与工程によりウェットゲルの周辺部のみから金属成分が溶出するため、中心部と周辺部の濃度差が大きくなり、屈折率差(Δn)が大きくなるものの、屈折率分布は2乗分布とはならず、不自然な分布となっていた。
特開平4−260608号公報
本発明は、屈折率分布を精密に制御して、濃度分布形状のばらつきのないGRINレンズの製造を課題とするものであり、特に、開口数NAの大きな屈折率分布が2乗カーブのGRINレンズを製造することを課題とするものである。
〔構成1〕
本発明は、
シリコンアルコキシドと屈折率を高める金属アルコキシドとを含むゾルから円柱状ウェットゲルを作成する工程と、
該ウェットゲルを前記金属を溶出させる処理液に浸漬し、該ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させて前記金属を溶出させる前記金属の濃度分布付与工程を有するゾルゲル法によるGRINレンズ製造方法であって、
前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程を少なくとも2回行うことを特徴とするGRINレンズの製造方法である。
本発明は、
シリコンアルコキシドと屈折率を高める金属アルコキシドとを含むゾルから円柱状ウェットゲルを作成する工程と、
該ウェットゲルを前記金属を溶出させる処理液に浸漬し、該ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させて前記金属を溶出させる前記金属の濃度分布付与工程を有するゾルゲル法によるGRINレンズ製造方法であって、
前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程を少なくとも2回行うことを特徴とするGRINレンズの製造方法である。
〔構成2〕
また本発明は、前記構成1のGRINレンズの製造方法において、1回目の前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程における拡散パラメータαが、0.03≦α≦0.08であり、最後の前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程における拡散パラメータαが、0.06≦α≦0.10であることを特徴とするGRINレンズの製造方法である。
また本発明は、前記構成1のGRINレンズの製造方法において、1回目の前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程における拡散パラメータαが、0.03≦α≦0.08であり、最後の前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程における拡散パラメータαが、0.06≦α≦0.10であることを特徴とするGRINレンズの製造方法である。
〔構成3〕
また本発明は、前記構成1又は2の製造方法で製造され、開口数(NA)が0.4以上であることを特徴とするGRINレンズである。
本発明の製造方法によれば、分布定数qがほぼ2(屈折率分布が2乗カーブ)で開口数(NA)0.4以上のGRINレンズを容易に製造することができる。
また本発明は、前記構成1又は2の製造方法で製造され、開口数(NA)が0.4以上であることを特徴とするGRINレンズである。
本発明の製造方法によれば、分布定数qがほぼ2(屈折率分布が2乗カーブ)で開口数(NA)0.4以上のGRINレンズを容易に製造することができる。
本発明において、2回以上行う濃度分布付与工程は、金属成分を溶出させる処理液をウェットゲルの中心部まで浸透させる。これにより中心部を含めてウェットゲル全体から金属成分が溶出するが、ウェットゲルの外側ほど金属成分の溶出量が多いから、中心部ほど金属製分の濃度が高く、周辺部ほど低い濃度分布が付与される。処理液に浸漬後は洗浄することで付与した濃度分布を固定する。
第一回目の濃度分布付与工程では、濃度分布は通常2乗分布と言うよりは分布定数q値が3に近い濃度分布になるが、ウェットゲルの周辺部の濃度は実質的にほぼ半量に低下している。そして、この金属成分の濃度分布を初期条件として、再度第二回目の濃度分布付与工程を行うが、濃度分布付与液である酸溶液への浸漬時間を最適に選択することにより、すなわち浸漬する酸の溶液がゲル中心部まで到達して、濃度分布付与金属成分が溶解し、かつその溶解した成分がゲル外へ拡散し得る適当な時間を分布付与時間とすることにより2乗カーブの濃度(屈折率)分布が達成できる。
この2回の浸漬により、外周部の屈折率が低い従来にない大きなΔnをもつ2乗カーブの濃度(屈折率)分布を有するGRINレンズが実現できるが、酸濃度が薄い場合には、2回の濃度分布付与のみならず、同様の考え方に基づき、2乗カーブが得られるまで多数回の濃度分布付与を行うことにより、2乗カーブの屈折率分布を有するGRINレンズが実現できる。
この現象を物理的に説明すると、第一回目の濃度分布付与工程では、ウェットゲルの金属成分の濃度分布が半径方向に一様であるという初期条件のもとで濃度分布付与溶液の拡散が進行するため、濃度分布の分布定数q値は3に近いものになる。そして、濃度分布付与溶液を完全に洗浄した後に、第二回目の濃度分布付与工程では、ウェットゲルの金属成分の濃度分布は一様ではなく、すでに分布定数q=3に近い、周辺部の濃度が減少している濃度分布であるという第一回目とは異なる初期条件のために、第二回目の濃度分布付与工程ではq値を3より小さくする方向に作用し、濃度分布付与時間を最適化すればq値を2に近づけることが出来る。
更に、拡散方程式を用いてシミュレートすれば、よく理解できる。まず、第一回の濃度分布付与工程で、図2の実験値と同様に、図3の一番上の太線(初期濃度分布)に示すような分布定数がq=2.9の金属成分の濃度分布が得られたものと仮定する。ここで図3の縦軸である金属成分の濃度(mol%)は、最大濃度を1mol%と規格化した値を用いた。J.Am.Ceram.Soc.,71,(2)C-82(1988)に詳細に記載されているように、ウェットゲル中の金属成分の拡散は、下記(3)式の拡散方程式により近似的にシミュレートすることができる。
dC/dt=(1/r) d/dr(rD dC/dr) (3)
C:金属成分の濃度
D:拡散係数(cm2/秒)
t:浸漬時間(秒)
r:ゲル半径上の位置(cm)
この拡散方程式に、浸漬時間t=0で、金属成分の濃度分布が、図3の一番上の太線(初期濃度分布)で示す分布定数がq=2.9の金属成分の濃度分布とした初期条件を導入すると、拡散方程式(3)は解け、ウェットゲルの半径をaとしたとき、拡散パラメータα(=Dt/a2)についてプロットすると図3の細線のようになり、拡散パラメータαが変化すると、すなわち経時変化(酸への浸漬時間を変化させること)により、濃度分布が変化していく様子がわかる。図3より、拡散パラメータαが0.08を満足するように浸漬時間を設定すれば、分布定数qが2に近い2乗カーブになることがわかる。
更に、拡散方程式を用いてシミュレートすれば、よく理解できる。まず、第一回の濃度分布付与工程で、図2の実験値と同様に、図3の一番上の太線(初期濃度分布)に示すような分布定数がq=2.9の金属成分の濃度分布が得られたものと仮定する。ここで図3の縦軸である金属成分の濃度(mol%)は、最大濃度を1mol%と規格化した値を用いた。J.Am.Ceram.Soc.,71,(2)C-82(1988)に詳細に記載されているように、ウェットゲル中の金属成分の拡散は、下記(3)式の拡散方程式により近似的にシミュレートすることができる。
dC/dt=(1/r) d/dr(rD dC/dr) (3)
C:金属成分の濃度
D:拡散係数(cm2/秒)
t:浸漬時間(秒)
r:ゲル半径上の位置(cm)
この拡散方程式に、浸漬時間t=0で、金属成分の濃度分布が、図3の一番上の太線(初期濃度分布)で示す分布定数がq=2.9の金属成分の濃度分布とした初期条件を導入すると、拡散方程式(3)は解け、ウェットゲルの半径をaとしたとき、拡散パラメータα(=Dt/a2)についてプロットすると図3の細線のようになり、拡散パラメータαが変化すると、すなわち経時変化(酸への浸漬時間を変化させること)により、濃度分布が変化していく様子がわかる。図3より、拡散パラメータαが0.08を満足するように浸漬時間を設定すれば、分布定数qが2に近い2乗カーブになることがわかる。
第一回目の濃度分布付与工程では、浸漬する酸の溶液がゲル中心部まで到達して、濃度分布付与金属成分が溶解し、かつその溶解した成分がゲル外へ拡散し得る適当な時間、好ましくは、拡散パラメータαが
0.03≦α≦0.08
を満足する時間とし、第二回目の濃度分布付与工程では、浸漬する酸の溶液がゲル中心部まで到達して、濃度分布付与金属成分が溶解し、かつその溶解した成分がゲル外へ拡散し得る適当な時間、好ましくは、拡散パラメータαが
0.06≦α≦0.10
を満足する時間とすると、分布定数qが2に近い2乗カーブになることがわかる。更に、特に、濃度分布付与液である酸濃度が薄い場合には、第一回目の濃度分布付与を2度繰り返し、第三回目の濃度分布付与で、拡散パラメータαが
0.06≦α≦0.10
を満足する時間とすると、分布定数qが2に近い2乗カーブになることがわかる。
0.03≦α≦0.08
を満足する時間とし、第二回目の濃度分布付与工程では、浸漬する酸の溶液がゲル中心部まで到達して、濃度分布付与金属成分が溶解し、かつその溶解した成分がゲル外へ拡散し得る適当な時間、好ましくは、拡散パラメータαが
0.06≦α≦0.10
を満足する時間とすると、分布定数qが2に近い2乗カーブになることがわかる。更に、特に、濃度分布付与液である酸濃度が薄い場合には、第一回目の濃度分布付与を2度繰り返し、第三回目の濃度分布付与で、拡散パラメータαが
0.06≦α≦0.10
を満足する時間とすると、分布定数qが2に近い2乗カーブになることがわかる。
以上のように、本発明の製造方法によれば、従来にない大きなNAをもち、かつ2乗カーブの屈折率分布を有する屈折率分布型光学素子を得ることができる。
〔実施例1〕
シリコンテトラメトキシド121.8gとエタノール73.7gとDMF(ジメチルホルムアミド)36.6gの混合液に0.056規定の塩酸4.4gを添加し、60分間攪拌した後、チタンテトラnブトキシド68.1gとエタノール82.9gとDMF36.6gの混合液を滴下し撹拌した。その後、エタノール50.7gと水57.7gを添加し攪拌した。次いで、前記ゾルを内径14mmのポリプロピレン容器に入れ、アルミニウム箔で密閉し、1昼夜放置してウェットゲルを得た。前記ウェットゲルを40℃で1週間熟成した後、そのウェットゲルを1.5規定の塩酸中に2時間浸漬し、ゲル中にチタンの濃度分布を付与した。浸漬後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを1.5規定塩酸中に4時間浸漬し、2回目の濃度分布付与を行い、1回目と同様にゲルをメタノール中に浸漬して塩酸の洗浄を行ってから、70℃で乾燥させて直径約10mmのドライゲルを得た。得られたドライゲルを、室温から800℃までは酸素雰囲気中で150℃/hrで昇温し、その後1250℃までヘリウム雰囲気中で50℃/hrで昇温して焼成し透明なガラス体を得た。この円柱状ガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を測定した結果、拡散パラメータαは、ほぼ0.08であり、中心部で屈折率nd=1.575、周辺部でnd=1.480のNAが0.54で、かつ、分布定数q値がほぼ2の2乗カーブを有するGRINレンズが得られた。
シリコンテトラメトキシド121.8gとエタノール73.7gとDMF(ジメチルホルムアミド)36.6gの混合液に0.056規定の塩酸4.4gを添加し、60分間攪拌した後、チタンテトラnブトキシド68.1gとエタノール82.9gとDMF36.6gの混合液を滴下し撹拌した。その後、エタノール50.7gと水57.7gを添加し攪拌した。次いで、前記ゾルを内径14mmのポリプロピレン容器に入れ、アルミニウム箔で密閉し、1昼夜放置してウェットゲルを得た。前記ウェットゲルを40℃で1週間熟成した後、そのウェットゲルを1.5規定の塩酸中に2時間浸漬し、ゲル中にチタンの濃度分布を付与した。浸漬後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを1.5規定塩酸中に4時間浸漬し、2回目の濃度分布付与を行い、1回目と同様にゲルをメタノール中に浸漬して塩酸の洗浄を行ってから、70℃で乾燥させて直径約10mmのドライゲルを得た。得られたドライゲルを、室温から800℃までは酸素雰囲気中で150℃/hrで昇温し、その後1250℃までヘリウム雰囲気中で50℃/hrで昇温して焼成し透明なガラス体を得た。この円柱状ガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を測定した結果、拡散パラメータαは、ほぼ0.08であり、中心部で屈折率nd=1.575、周辺部でnd=1.480のNAが0.54で、かつ、分布定数q値がほぼ2の2乗カーブを有するGRINレンズが得られた。
〔比較例1〕
実施例1と同様にして作製したウェットゲルに、濃度分布付与を1回目の2時間のみ行って、乾燥し、焼成して得られたガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を測定した結果、拡散パラメータαは、ほぼ0.04であり、中心部でnd=1.581、周辺部でnd=1.531のNAが0.43で、かつ、分布定数q値がほぼ2.9と2乗カーブからずれた屈折率分布となった。
実施例1と同様にして作製したウェットゲルに、濃度分布付与を1回目の2時間のみ行って、乾燥し、焼成して得られたガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を測定した結果、拡散パラメータαは、ほぼ0.04であり、中心部でnd=1.581、周辺部でnd=1.531のNAが0.43で、かつ、分布定数q値がほぼ2.9と2乗カーブからずれた屈折率分布となった。
〔実施例2〕
実施例1と同様にして作製したウェットゲルを、0.5規定塩酸中に6時間浸漬し、ゲル中にチタンの濃度分布を付与した。浸漬後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを0.5規定塩酸中に6時間浸漬し、2回目の濃度分布付与を行いゲル中にチタンの濃度分布を付与した。浸漬後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを0.5規定塩酸中に12時間浸漬し、3回目の濃度分布付与を行い、1,2回目と同様にゲルをメタノール中に浸漬して塩酸の洗浄を行ってガラス体を作製し、得られたガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を上記と同様に測定したところ、拡散パラメータαは、ほぼ0.08であり、中心部で屈折率nd=1.577、周辺部でnd=1.478のNAが0.55で、かつ、分布定数q値がほぼ2の2乗カーブを有するGRINレンズが得られた。
実施例1と同様にして作製したウェットゲルを、0.5規定塩酸中に6時間浸漬し、ゲル中にチタンの濃度分布を付与した。浸漬後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを0.5規定塩酸中に6時間浸漬し、2回目の濃度分布付与を行いゲル中にチタンの濃度分布を付与した。浸漬後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを0.5規定塩酸中に12時間浸漬し、3回目の濃度分布付与を行い、1,2回目と同様にゲルをメタノール中に浸漬して塩酸の洗浄を行ってガラス体を作製し、得られたガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を上記と同様に測定したところ、拡散パラメータαは、ほぼ0.08であり、中心部で屈折率nd=1.577、周辺部でnd=1.478のNAが0.55で、かつ、分布定数q値がほぼ2の2乗カーブを有するGRINレンズが得られた。
〔実施例3〕
シリコンテトラメトキシド121.8gとエタノール110.6gの混合液に0.5規定の塩酸4.2gを添加し、60分間攪拌した後、チタンテトラnブトキシド68.1gとエタノール132.7gの混合液を滴下し約90分撹拌した。その後、その溶液に水129.7gを添加し攪拌した。次いで、前記ゾルを内径14mmのポリプロピレン容器に入れ、アルミニウム箔で密閉し、1昼夜放置してウェットゲルを得た。前記ウェットゲルを40℃で1週間熟成した後、そのウェットゲルを0.5規定の塩酸中に6時間浸漬し、ゲル中にチタンの濃度分布を付与した。その後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを1.5規定塩酸中に5時間浸漬し、2回目の濃度分布付与を行い、1回目と同様にゲルをメタノール中に浸漬して塩酸の洗浄を行ってから浸漬後、70℃で乾燥させて直径約10mmのドライゲルを得た。得られたドライゲルを、室温から800℃までは酸素雰囲気中で150℃/hrで昇温し、その後1250℃までヘリウム雰囲気中で50℃/hrで昇温して焼成し透明なガラス体を得た。この円柱状ガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を測定した結果、拡散パラメータαは、ほぼ0.08であり、中心部で屈折率nd=1.570、周辺部でnd=1.470のNAが0.55で、かつ、分布定数q値がほぼ2の2乗カーブを有するGRINレンズが得られた。
シリコンテトラメトキシド121.8gとエタノール110.6gの混合液に0.5規定の塩酸4.2gを添加し、60分間攪拌した後、チタンテトラnブトキシド68.1gとエタノール132.7gの混合液を滴下し約90分撹拌した。その後、その溶液に水129.7gを添加し攪拌した。次いで、前記ゾルを内径14mmのポリプロピレン容器に入れ、アルミニウム箔で密閉し、1昼夜放置してウェットゲルを得た。前記ウェットゲルを40℃で1週間熟成した後、そのウェットゲルを0.5規定の塩酸中に6時間浸漬し、ゲル中にチタンの濃度分布を付与した。その後、ゲルをメタノール中に浸漬し、ゲル中の塩酸分の洗浄を行った。その後、上記ゲルを1.5規定塩酸中に5時間浸漬し、2回目の濃度分布付与を行い、1回目と同様にゲルをメタノール中に浸漬して塩酸の洗浄を行ってから浸漬後、70℃で乾燥させて直径約10mmのドライゲルを得た。得られたドライゲルを、室温から800℃までは酸素雰囲気中で150℃/hrで昇温し、その後1250℃までヘリウム雰囲気中で50℃/hrで昇温して焼成し透明なガラス体を得た。この円柱状ガラス体の長さ方向中央付近の断面における径方向の濃度分布と屈折率分布を測定した結果、拡散パラメータαは、ほぼ0.08であり、中心部で屈折率nd=1.570、周辺部でnd=1.470のNAが0.55で、かつ、分布定数q値がほぼ2の2乗カーブを有するGRINレンズが得られた。
実施例1、実施例2、実施例3及び比較例1、の結果から、2回及び3回の濃度分布付与工程、すなわち、浸漬する酸の溶液がゲル中心部まで到達して、濃度分布付与金属成分が溶解し、かつその溶解した成分がゲル外へ拡散し得る適当な時間、によって、NAが大きく取れ、かつ分布定数qの制御が可能であることがわかった。
本発明のGRINレンズは、光ファイバの先端に溶着して光ファイバ結合部品、コリメータなどとして利用することができる。
Claims (3)
- シリコンアルコキシドと屈折率を高める金属アルコキシドとを含むゾルから円柱状ウェットゲルを作成する工程と、
該ウェットゲルを前記金属を溶出させる処理液に浸漬し、該ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させて前記金属を溶出させる前記金属の濃度分布付与工程を有するゾルゲル法によるGRINレンズ製造方法であって、
前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程を少なくとも2回行うことを特徴とするGRINレンズの製造方法。 - 請求項1のGRINレンズの製造方法において、1回目の前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程における拡散パラメータαが、0.03≦α≦0.08であり、最後の前記ウェットゲルの中心部まで前記処理液を浸透させる前記濃度分布付与工程における拡散パラメータαが、0.06≦α≦0.10であることを特徴とするGRINレンズの製造方法。
- 請求項1又は2の製造方法で製造され、開口数が0.4以上であることを特徴とするGRINレンズ。
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---|---|---|---|
PCT/JP2004/015252 WO2006040828A1 (ja) | 2004-10-15 | 2004-10-15 | Grinレンズの製造方法及びgrinレンズ |
Publications (1)
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2006519026A Withdrawn JPWO2006040828A1 (ja) | 2004-10-15 | 2004-10-15 | Grinレンズの製造方法及びgrinレンズ |
Country Status (2)
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WO (1) | WO2006040828A1 (ja) |
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JP3523748B2 (ja) * | 1996-03-28 | 2004-04-26 | オリンパス株式会社 | 屈折率分布型ガラスの製造方法 |
-
2004
- 2004-10-15 WO PCT/JP2004/015252 patent/WO2006040828A1/ja active Application Filing
- 2004-10-15 JP JP2006519026A patent/JPWO2006040828A1/ja not_active Withdrawn
Also Published As
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