JPH092840A - 防汚処理製品およびその製造方法 - Google Patents
防汚処理製品およびその製造方法Info
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- JPH092840A JPH092840A JP15288195A JP15288195A JPH092840A JP H092840 A JPH092840 A JP H092840A JP 15288195 A JP15288195 A JP 15288195A JP 15288195 A JP15288195 A JP 15288195A JP H092840 A JPH092840 A JP H092840A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
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- Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス、セラミック、金属やプラスチック製
品の表面の汚れの除去を、本来の光沢を損なうことなく
除去可能な防汚効果の高い製品を提供する。 【構成】 本発明においては、あらかじめ基材表面の可
視光の波長（４００ｎｍ）以上の急峻な段差を除去し滑
らかにした後、さらにナノメータレベルの膜厚のフッ化
炭素系化学吸着膜を基材表面に形成する。
品の表面の汚れの除去を、本来の光沢を損なうことなく
除去可能な防汚効果の高い製品を提供する。 【構成】 本発明においては、あらかじめ基材表面の可
視光の波長（４００ｎｍ）以上の急峻な段差を除去し滑
らかにした後、さらにナノメータレベルの膜厚のフッ化
炭素系化学吸着膜を基材表面に形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、防汚処理されたガラ
ス、セラミック、金属、プラスチック等の防汚処理材料
およびその製造方法およびそれら材料を用いた製品に関
するものである。
ス、セラミック、金属、プラスチック等の防汚処理材料
およびその製造方法およびそれら材料を用いた製品に関
するものである。
【０００２】さらに詳しくは、乗り物のウインドーガラ
スやフロントガラス、光学レンズ眼鏡用レンズ建物の窓
ガラス等のガラス製品、また衛生陶器、食器、花器、水
槽等のセラミック製品、またサッシ、ドア建物の外壁等
の金属製品、また家具やカバー用フィルム等のプラスチ
ック製品で代表される撥水撥油防汚効果が高く汚れの拭
き取りがきわめて容易な防汚性のガラス、セラミック、
金属、プラスチック材料およびそれらを用いた製品に関
するものである。
スやフロントガラス、光学レンズ眼鏡用レンズ建物の窓
ガラス等のガラス製品、また衛生陶器、食器、花器、水
槽等のセラミック製品、またサッシ、ドア建物の外壁等
の金属製品、また家具やカバー用フィルム等のプラスチ
ック製品で代表される撥水撥油防汚効果が高く汚れの拭
き取りがきわめて容易な防汚性のガラス、セラミック、
金属、プラスチック材料およびそれらを用いた製品に関
するものである。
【０００３】
【従来の技術】一般のガラス、セラミックや金属製品
は、表面に光沢を有する。しかし、見た目では認識でき
ないが、表面をミクロンレベルでみると急峻な凸凹があ
り、当初は見た目にはきれいでも汚れが付着した場合は
汚れが前記凹凸に付着し、拭き取りが困難で、再び綺麗
にするためには超音波洗浄や洗剤を用いて洗浄するしか
なかった。
は、表面に光沢を有する。しかし、見た目では認識でき
ないが、表面をミクロンレベルでみると急峻な凸凹があ
り、当初は見た目にはきれいでも汚れが付着した場合は
汚れが前記凹凸に付着し、拭き取りが困難で、再び綺麗
にするためには超音波洗浄や洗剤を用いて洗浄するしか
なかった。
【０００４】そこで従来は、ガラス、セラミック、金属
やプラスチック製品の汚れを除去し易くするため、表面
エネルギーの少ないフッ素系の樹脂を塗布する方法が用
いられてきた。しかし、樹脂を塗布する方法では、基材
表面の光沢が劣化したり透明性が悪くなるなどの欠点が
あった。
やプラスチック製品の汚れを除去し易くするため、表面
エネルギーの少ないフッ素系の樹脂を塗布する方法が用
いられてきた。しかし、樹脂を塗布する方法では、基材
表面の光沢が劣化したり透明性が悪くなるなどの欠点が
あった。
【０００５】また、汚れの拭き取りを容易にするために
は表面を滑らかにする方法もある。しかし、研磨方法で
は、基材表面の平坦化に限界があり原子レベルまで平坦
化することは到底不可能であり、数百ナノメータレベル
では凸凹が残り、この部分に汚れが付着し易かった。
は表面を滑らかにする方法もある。しかし、研磨方法で
は、基材表面の平坦化に限界があり原子レベルまで平坦
化することは到底不可能であり、数百ナノメータレベル
では凸凹が残り、この部分に汚れが付着し易かった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従来のガラス、セラミ
ックや金属製品の、汚れを防止除去する方法としては、
上記で説明したように （１）表面エネルギーの少ないフッ素系の樹脂を塗布
し、汚れを除去し易くする。 （２）表面を滑らかにし、汚れを除去し易くする。等の
方法があった。しかし、それぞれ基材表面の光沢が劣化
したり透明性が悪くなる、あるいは基材表面の平坦化に
限界があり原子レベルまで平坦化することは到底不可能
でり、数百ナノメータレベルでは凸凹が残り、この部分
に汚れが付着し易いという問題があった。
ックや金属製品の、汚れを防止除去する方法としては、
上記で説明したように （１）表面エネルギーの少ないフッ素系の樹脂を塗布
し、汚れを除去し易くする。 （２）表面を滑らかにし、汚れを除去し易くする。等の
方法があった。しかし、それぞれ基材表面の光沢が劣化
したり透明性が悪くなる、あるいは基材表面の平坦化に
限界があり原子レベルまで平坦化することは到底不可能
でり、数百ナノメータレベルでは凸凹が残り、この部分
に汚れが付着し易いという問題があった。
【０００７】そこで本発明は汚れが付着しない、あるい
は付着しても簡単に除去可能な防汚効果の高い高性能ガ
ラス、セラミック、金属やプラスチック製品を提供する
ことを目的とする。
は付着しても簡単に除去可能な防汚効果の高い高性能ガ
ラス、セラミック、金属やプラスチック製品を提供する
ことを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、あらかじめ基材表面の可視光の波長（４０
０ｎｍ）以上の急峻な段差を除去し滑らかにした後、さ
らにナノメータレベルの膜厚のフッ化炭素系化学吸着膜
を基材表面に形成する。
するために、あらかじめ基材表面の可視光の波長（４０
０ｎｍ）以上の急峻な段差を除去し滑らかにした後、さ
らにナノメータレベルの膜厚のフッ化炭素系化学吸着膜
を基材表面に形成する。
【０００９】
【作用】上記手段により、基材表面の可視光の波長（４
００ｎｍ）以上の急峻な段差を除去し滑らかにし、ナノ
メータレベルの膜厚のフッ化炭素系化学吸着膜を基材表
面に形成たことによって、拭き取るだけで段差部以外の
汚れは容易に除去できる。また、段差部を可視光の波長
以下としており、部分に汚れが残ったとしても可視光以
上の波長の光はほとんど反射しないので、実用上人間の
目には見えず光沢の劣化は見られない。
００ｎｍ）以上の急峻な段差を除去し滑らかにし、ナノ
メータレベルの膜厚のフッ化炭素系化学吸着膜を基材表
面に形成たことによって、拭き取るだけで段差部以外の
汚れは容易に除去できる。また、段差部を可視光の波長
以下としており、部分に汚れが残ったとしても可視光以
上の波長の光はほとんど反射しないので、実用上人間の
目には見えず光沢の劣化は見られない。
【００１０】
【実施例】以下に本発明に関する製品として、乗り物の
ウインドーガラスやフロントガラス、光学レンズ眼鏡用
レンズ建物の窓ガラス等のガラス製品、また衛生陶器、
食器、花器、水槽等のセラミック製品、またサッシ、ド
ア建物の外壁等の金属製品、また家具やカバー用フィル
ム等のプラスチック製品があるが、実施例としてガラス
板およびステンレス板について説明する。
ウインドーガラスやフロントガラス、光学レンズ眼鏡用
レンズ建物の窓ガラス等のガラス製品、また衛生陶器、
食器、花器、水槽等のセラミック製品、またサッシ、ド
ア建物の外壁等の金属製品、また家具やカバー用フィル
ム等のプラスチック製品があるが、実施例としてガラス
板およびステンレス板について説明する。
【００１１】（実施例１）まず、基材として加工の終了
した５ｍｍ厚みのガラス板１を用意し（図１）、酸化セ
リュウムで表面を十分研磨すると、可視光の波長以上の
急峻な段差がなくなって目に見える傷がなくなり光学的
に透明となった。なお、フッ酸を用いた化学エッチング
法やダイヤモンドペーストによるラッピングによっても
良い。
した５ｍｍ厚みのガラス板１を用意し（図１）、酸化セ
リュウムで表面を十分研磨すると、可視光の波長以上の
急峻な段差がなくなって目に見える傷がなくなり光学的
に透明となった。なお、フッ酸を用いた化学エッチング
法やダイヤモンドペーストによるラッピングによっても
良い。
【００１２】また、急峻な段差２が可視光の波長未満で
あれば汚れ３がこの段差に残っても実質的に可視光はす
べて透過する。また、急峻な段差がなければミクロンレ
ベルのなだらかな段差が残っていても実質上問題はなか
った。
あれば汚れ３がこの段差に残っても実質的に可視光はす
べて透過する。また、急峻な段差がなければミクロンレ
ベルのなだらかな段差が残っていても実質上問題はなか
った。
【００１３】次に、有機溶媒例えばエタノールでよく洗
浄、乾燥し、フッ化炭素基及びクロロシラン基を含む物
質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、 CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3 を用い、１０％程度の濃度で溶かした８０％ｎーヘキサ
デカン（トルエン、キシレン、ジシクロヘキシルでもよ
い）、１２％四塩化炭素、８％クロロホルム溶液を調整
した吸着液に、前記ガラス板を２時間程度浸漬した、こ
のときガラス板の表面には水酸基が多数含まれているの
で、フッ化炭素基及びクロロシラン基を含む物質のＳｉ
Ｃｌ基と前記水酸基が反応し脱塩酸反応が生じガラス表
面全面にわたり、
浄、乾燥し、フッ化炭素基及びクロロシラン基を含む物
質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、 CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3 を用い、１０％程度の濃度で溶かした８０％ｎーヘキサ
デカン（トルエン、キシレン、ジシクロヘキシルでもよ
い）、１２％四塩化炭素、８％クロロホルム溶液を調整
した吸着液に、前記ガラス板を２時間程度浸漬した、こ
のときガラス板の表面には水酸基が多数含まれているの
で、フッ化炭素基及びクロロシラン基を含む物質のＳｉ
Ｃｌ基と前記水酸基が反応し脱塩酸反応が生じガラス表
面全面にわたり、
【００１４】
【化１】
【００１５】の結合が生成され、フッ素を含む単分子膜
４がガラス板の表面と化学結合した状態でおよそ１５Ａ
の膜厚で形成できた（図２）。この単分子膜はきわめて
強固に化学結合しているのでクロスカットテストで全く
剥離することがなかった。
４がガラス板の表面と化学結合した状態でおよそ１５Ａ
の膜厚で形成できた（図２）。この単分子膜はきわめて
強固に化学結合しているのでクロスカットテストで全く
剥離することがなかった。
【００１６】なお、ガラス板の材質が、アクリル樹脂や
ポリカーボネート樹脂等のプラスチックの場合には、表
面を３００Ｗで１０分程度プラズマ処理し、酸化し親水
性とし、かつ吸着液をフレオン溶剤に換え同様の技術を
用いることが可能である。
ポリカーボネート樹脂等のプラスチックの場合には、表
面を３００Ｗで１０分程度プラズマ処理し、酸化し親水
性とし、かつ吸着液をフレオン溶剤に換え同様の技術を
用いることが可能である。
【００１７】このガラス板を用い実使用を試みたが、処
理しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減できた、ま
た、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度で簡単
に除去できた。このとき、傷は全く付かなかった。ま
た、油脂分汚れでも急峻な段差２部を除き除去は拭き取
りのみで容易に行え、光沢や透明性が回復した。水に対
する濡れ性は、接触角で１１５度であった。
理しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減できた、ま
た、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度で簡単
に除去できた。このとき、傷は全く付かなかった。ま
た、油脂分汚れでも急峻な段差２部を除き除去は拭き取
りのみで容易に行え、光沢や透明性が回復した。水に対
する濡れ性は、接触角で１１５度であった。
【００１８】（実施例２）基材として厚み１ｍｍのステ
ンレス板１１（図３）を用い、表面を電解研磨して表面
の０．２ミクロン以上の急峻な段差１２を除去し鏡面と
した。なおこの方法以外にダイヤモンドペーストを用い
ラッピング法が利用できる。
ンレス板１１（図３）を用い、表面を電解研磨して表面
の０．２ミクロン以上の急峻な段差１２を除去し鏡面と
した。なおこの方法以外にダイヤモンドペーストを用い
ラッピング法が利用できる。
【００１９】この場合も、凸凹の粗さを可視光の波長レ
ベル未満にしておけば汚れ１３が段差部に残ったとして
も実質的に可視光はすべて透過するため問題はない。ま
た金属ならすべて同じ方法が使用可能であるが、材質
が、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等のプラスチ
ックの場合には、表面を滑らかにし、２００Ｗ１０分程
度プラズマ処理して表面をナノメータレベルで酸化し親
水性とすることで、同様の技術を用いることが可能とな
る。さらにまた、表面のなだらかな段差はたとえ存在し
ても拭き取りの上で問題はない。
ベル未満にしておけば汚れ１３が段差部に残ったとして
も実質的に可視光はすべて透過するため問題はない。ま
た金属ならすべて同じ方法が使用可能であるが、材質
が、アクリル樹脂やポリカーボネート樹脂等のプラスチ
ックの場合には、表面を滑らかにし、２００Ｗ１０分程
度プラズマ処理して表面をナノメータレベルで酸化し親
水性とすることで、同様の技術を用いることが可能とな
る。さらにまた、表面のなだらかな段差はたとえ存在し
ても拭き取りの上で問題はない。
【００２０】次に、トリクロロシリル基を複数個含む物
質を混ぜた非水系溶媒、例えばクロロホルム溶媒に１重
量パーセント溶解した溶液に３０分間程度浸漬すると、
ステンレス板表面１１には親水性のＯＨ基が多少とも存
在するので表面で脱塩酸反応が生じトリクロロシリル基
を複数個含む物質のクロロシラン単分子膜が形成され
る。
質を混ぜた非水系溶媒、例えばクロロホルム溶媒に１重
量パーセント溶解した溶液に３０分間程度浸漬すると、
ステンレス板表面１１には親水性のＯＨ基が多少とも存
在するので表面で脱塩酸反応が生じトリクロロシリル基
を複数個含む物質のクロロシラン単分子膜が形成され
る。
【００２１】なお、トリクロロシリル基を複数個含む物
質としては、ＳｉＣｌ4を用いれば、分子が小さく水酸
基に対する活性も大きいので、ステンレス板表面を均一
に親水化する効果が大きく望ましいが、他にＳｉＨＣｌ
3、ＳｉＨ2Ｃｌ2、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3
（ｎは整数）でもよい。
質としては、ＳｉＣｌ4を用いれば、分子が小さく水酸
基に対する活性も大きいので、ステンレス板表面を均一
に親水化する効果が大きく望ましいが、他にＳｉＨＣｌ
3、ＳｉＨ2Ｃｌ2、Ｃｌ−（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3
（ｎは整数）でもよい。
【００２２】例えば、トリクロロシリル基を複数個含む
物質としてＳｉＣｌ4を用いれば、ステンレス板１１表
面には少量の親水性のＯＨ基が露出し、表面で脱塩酸反
応が生じ
物質としてＳｉＣｌ4を用いれば、ステンレス板１１表
面には少量の親水性のＯＨ基が露出し、表面で脱塩酸反
応が生じ
【００２３】
【化２】
【００２４】の様に分子が−ＳｉＯ−結合を介して表面
に固定される。その後、非水系の溶媒例えばクロロホル
ムで洗浄して、さらに水で洗浄すると、ステンレス板と
反応していないＳｉＣｌ4分子は除去され、ステンレス
板表面に
に固定される。その後、非水系の溶媒例えばクロロホル
ムで洗浄して、さらに水で洗浄すると、ステンレス板と
反応していないＳｉＣｌ4分子は除去され、ステンレス
板表面に
【００２５】
【化３】
【００２６】等のシロキサン単分子膜１４が得られる
（図４）。なお、このときクロロホルム洗浄工程を省く
と化学吸着シロキサンポリマー膜をが形成できた。
（図４）。なお、このときクロロホルム洗浄工程を省く
と化学吸着シロキサンポリマー膜をが形成できた。
【００２７】なお、このときできた単分子膜１４はステ
ンレス板とは−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に結合
されているので剥がれることが無い。また、得られた単
分子膜は表面にＳｉＯＨ（シラノール）結合を数多く持
つ。当初の水酸基のおよそ３倍程度の数が生成される。
ンレス板とは−ＳｉＯ−の化学結合を介して完全に結合
されているので剥がれることが無い。また、得られた単
分子膜は表面にＳｉＯＨ（シラノール）結合を数多く持
つ。当初の水酸基のおよそ３倍程度の数が生成される。
【００２８】そこでさらに、フッ化炭素基及びクロロシ
ラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、 CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3 を用い、１０％程度の濃度で溶かした８０％ｎーヘキサ
デカン、１２％四塩化炭素、８％クロロホルム溶液を調
整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数多く持つ単分子膜の
形成されたステンレス板を１０分間程度浸漬する。その
後、空気中に取り出し溶媒を蒸発させるとステンレス板
表面に
ラン基を含む物質を混ぜた非水系の溶媒、例えば、 CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3 を用い、１０％程度の濃度で溶かした８０％ｎーヘキサ
デカン、１２％四塩化炭素、８％クロロホルム溶液を調
整し、前記表面にＳｉＯＨ結合を数多く持つ単分子膜の
形成されたステンレス板を１０分間程度浸漬する。その
後、空気中に取り出し溶媒を蒸発させるとステンレス板
表面に
【００２９】
【化４】
【００３０】の結合が生成され、フッ素を含む化学吸着
ポリマ−膜１５が下層のシロキサン単分子膜１４と化学
結合した状態でステンレス板表面全面に亘りおよそ５０
オングストロームの膜厚で形成できた（図４）。なお、
このポリマ−膜は剥離試験を行っても全く剥離すること
がなかった。また、水に対する濡れ角度は１２５度であ
った。
ポリマ−膜１５が下層のシロキサン単分子膜１４と化学
結合した状態でステンレス板表面全面に亘りおよそ５０
オングストロームの膜厚で形成できた（図４）。なお、
このポリマ−膜は剥離試験を行っても全く剥離すること
がなかった。また、水に対する濡れ角度は１２５度であ
った。
【００３１】このステンレス板で防汚効果を確かめた
が、処理しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減でき
た、また、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度
で簡単に除去できた。このとき、傷は全く付かなかっ
た。また、油脂分汚れでも急峻な段差部の一部を除き除
去は拭き取りのみでで可能であり、光沢や透明性が回復
した。
が、処理しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減でき
た、また、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度
で簡単に除去できた。このとき、傷は全く付かなかっ
た。また、油脂分汚れでも急峻な段差部の一部を除き除
去は拭き取りのみでで可能であり、光沢や透明性が回復
した。
【００３２】さらにまた、本実施例では、フッ化炭素系
界面活性剤として CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3 を用いたが、フッ化炭素系界面活性剤として上記のもの
以外にも CF3CH2O(CH2)15SiCl3 CF3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3 F(CF2)4(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 CF3COO(CH2)15SiCl3 CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3 等が利用できた。
界面活性剤として CF3(CF2)7(CH2)2SiCl3 を用いたが、フッ化炭素系界面活性剤として上記のもの
以外にも CF3CH2O(CH2)15SiCl3 CF3(CH2)2Si(CH3)2(CH2)15SiCl3 F(CF2)4(CH2)2Si(CH3)2(CH2)9SiCl3 CF3COO(CH2)15SiCl3 CF3(CF2)5(CH2)2SiCl3 等が利用できた。
【００３３】なお、第２の実施例において、ステンレス
板の代わりにガラス板を用い、２層目の吸着時間を２時
間とし、その後非水系の有機溶媒例えばトリクレンで洗
浄して空気中に取り出すと、表面に撥水撥油防汚性化学
吸着単分子膜が形成された透光ガラスが得られた。
板の代わりにガラス板を用い、２層目の吸着時間を２時
間とし、その後非水系の有機溶媒例えばトリクレンで洗
浄して空気中に取り出すと、表面に撥水撥油防汚性化学
吸着単分子膜が形成された透光ガラスが得られた。
【００３４】このガラスで防汚効果を確かめたが、処理
しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減できた、ま
た、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度で簡単
に除去できた。このとき、傷は全く付かなかった。ま
た、油脂分汚れでも急峻な段差２部を除き除去は拭き取
りのみでで可能であり、光沢や透明性が回復した。水に
対する濡れ性は、接触角で１１５度であった。
しないものに比べ汚物の付着を大幅に低減できた、ま
た、たとえ付着した場合にもブラシでこする程度で簡単
に除去できた。このとき、傷は全く付かなかった。ま
た、油脂分汚れでも急峻な段差２部を除き除去は拭き取
りのみでで可能であり、光沢や透明性が回復した。水に
対する濡れ性は、接触角で１１５度であった。
【００３５】
【発明の効果】以上述べたように、きわめて薄いナノメ
ータレベルの膜厚のフッ化炭素系化学吸着膜（単分子膜
またはポリマ−膜）を可視光の波長（４００ｎｍ）以上
の急峻な段差をなくし表面を滑らかにした基材表面に形
成するため、汚れの除去は単に拭き取るだけで可能とな
る。また、たとえ段差部に汚れが残ったとしても透基材
本来の光沢を損なうことがない。また、このフッ化炭素
系単分子膜は撥水撥油性に優れており、製品表面の撥水
撥油防汚効果を高める効果もある。
ータレベルの膜厚のフッ化炭素系化学吸着膜（単分子膜
またはポリマ−膜）を可視光の波長（４００ｎｍ）以上
の急峻な段差をなくし表面を滑らかにした基材表面に形
成するため、汚れの除去は単に拭き取るだけで可能とな
る。また、たとえ段差部に汚れが残ったとしても透基材
本来の光沢を損なうことがない。また、このフッ化炭素
系単分子膜は撥水撥油性に優れており、製品表面の撥水
撥油防汚効果を高める効果もある。
【図１】表面の可視光の波長以上の急峻な段差を除去し
滑らかにしたガラス板の拡大断面図
滑らかにしたガラス板の拡大断面図
【図２】図１のＡ部の表面を分子レベルに拡大したガラ
ス板の断面図
ス板の断面図
【図３】第２の実施例における、表面の可視光の波長以
上の急峻な段差を除去し滑らかにしたステンレス板の拡
大断面図
上の急峻な段差を除去し滑らかにしたステンレス板の拡
大断面図
【図４】図３のＢ部の表面を分子レベルに拡大したステ
ンレス板の拡大断面図
ンレス板の拡大断面図
１ ガラス板 ２ 急峻な段差 ３ よごれ ４ フッ素系単分子膜 １１ ステンレス板 １２ 急峻な段差 １３ よごれ １４ シロキサン単分子膜 １５ フッ素系ポリマ−膜
Claims (5)
- 【請求項１】フッ素を含む化学吸着単分子膜が可視光の
波長以上の急峻な段差が除去された基材表面に形成され
ていることを特徴とした防汚処理製品。 - 【請求項２】フッ素を含む化学吸着単分子膜が、少なく
ともシロキサン系単分子膜を介して基材表面に形成され
ていることを特徴とした請求項１記載の防汚処理製品。 - 【請求項３】下記の（１）、（２）の工程を含むことを
特徴とする防汚処理製品の製造方法。 （１）表面の急峻な段差を可視光の波長以下に研磨する
工程 （２）一端にクロルシラン基（−ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ
＝１、２、３、Ｘは官能基）を有し他の一端にフッ化炭
素基を有するクロロシラン系界面活性剤を溶かした非水
系有機溶媒に前記基材を接触させ、前記活性剤よりなる
化学吸着膜を基材表面に形成する工程 - 【請求項４】下記の（１）から（４）の工程を含むこと
を特徴とする防汚処理製品の製造方法。 （１）表面の急峻な段差を可視光の波長以下に研磨する
工程 （２）クロロシリル基を複数個含む物質を混ぜた非水系
溶媒に接触させて前記基材表面の水酸基と前記クロロシ
リル基を複数個含む物質のクロロシリル基とを反応させ
て前記物質を前記基材表面に析出させる工程 （３）非水系有機溶媒を用い前記基材上に残った余分な
クロロシリル基を複数個含む物質を洗浄除去した後水と
反応させて、前記基材上にシラノール基を複数個含む物
質よりなる化学吸着膜を形成する工程 （４）一端にクロロシラン基（ＳｉＣｌnＸ3-n基、ｎ＝
１、２、３、Ｘは官能基）を有し他の一端に直鎖状フッ
化炭素基を含むクロロシラン系界面活性剤を基材上に化
学吸着し化学吸着膜を累積する工程 - 【請求項５】クロロシリル基を複数個含む物質としてＳ
ｉＣｌ4、またはＳｉＨＣｌ3、ＳｉＨ2Ｃｌ2、Ｃｌ−
（ＳｉＣｌ2Ｏ）n−ＳｉＣｌ3（ｎは整数）を用いるこ
とを特徴とする請求項４記載の防汚処理製品の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15288195A JPH092840A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 防汚処理製品およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15288195A JPH092840A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 防汚処理製品およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH092840A true JPH092840A (ja) | 1997-01-07 |
Family
ID=15550166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15288195A Pending JPH092840A (ja) | 1995-06-20 | 1995-06-20 | 防汚処理製品およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH092840A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0825157A2 (en) * | 1996-08-19 | 1998-02-25 | Central Glass Company, Limited | Water-repellent glass pane and method for producing same |
| JP2004330327A (ja) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Soken Chem & Eng Co Ltd | レンズの切削・研磨加工に用いるレンズ固定用部材及びそれを用いるレンズの切削・研磨加工方法 |
| JP2007003140A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 燃焼装置用の窓材 |
-
1995
- 1995-06-20 JP JP15288195A patent/JPH092840A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0825157A2 (en) * | 1996-08-19 | 1998-02-25 | Central Glass Company, Limited | Water-repellent glass pane and method for producing same |
| EP0825157A3 (en) * | 1996-08-19 | 1998-08-19 | Central Glass Company, Limited | Water-repellent glass pane and method for producing same |
| JP2004330327A (ja) * | 2003-05-02 | 2004-11-25 | Soken Chem & Eng Co Ltd | レンズの切削・研磨加工に用いるレンズ固定用部材及びそれを用いるレンズの切削・研磨加工方法 |
| JP2007003140A (ja) * | 2005-06-27 | 2007-01-11 | Nippon Electric Glass Co Ltd | 燃焼装置用の窓材 |
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