JPH09283502A - 紫外線処理装置 - Google Patents
紫外線処理装置Info
- Publication number
- JPH09283502A JPH09283502A JP11833796A JP11833796A JPH09283502A JP H09283502 A JPH09283502 A JP H09283502A JP 11833796 A JP11833796 A JP 11833796A JP 11833796 A JP11833796 A JP 11833796A JP H09283502 A JPH09283502 A JP H09283502A
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- JP
- Japan
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- ozone
- nozzle
- ultraviolet
- passage
- cooling liquid
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線ランプからの熱によりオゾン散布ノ
スガルの開口部が変形し、オゾン濃度の分布が悪くな
り、この変形を防止しようしすると構造が複雑になる。
また、オゾンが熱により分解し、処理効率が低下すると
いう問題があった。 【解決手段】 紫外線とオゾンの作用によりレジスト等
の有機化合物被膜を分解、除去する紫外線処理装置にお
いて、スリット状の開口部を有するオゾン散布ノズルに
冷却用液体の通路とオゾンの通路を設ける。
スガルの開口部が変形し、オゾン濃度の分布が悪くな
り、この変形を防止しようしすると構造が複雑になる。
また、オゾンが熱により分解し、処理効率が低下すると
いう問題があった。 【解決手段】 紫外線とオゾンの作用によりレジスト等
の有機化合物被膜を分解、除去する紫外線処理装置にお
いて、スリット状の開口部を有するオゾン散布ノズルに
冷却用液体の通路とオゾンの通路を設ける。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウエハあるいはガラ
ス基板上に塗布されたレジスト等の有機化合物被膜を紫
外線とオゾンにより分解，除去を行う紫外線処理装置に
関するものである。
ス基板上に塗布されたレジスト等の有機化合物被膜を紫
外線とオゾンにより分解，除去を行う紫外線処理装置に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に半導体集積回路や液晶駆動回路の
製造において露光及び現像後のレジストはマスクとして
用いたエッチング工程の後、除去する方法が行われてい
る。このレジストを除去する方法としてアッシング処理
が行われる。
製造において露光及び現像後のレジストはマスクとして
用いたエッチング工程の後、除去する方法が行われてい
る。このレジストを除去する方法としてアッシング処理
が行われる。
【０００３】従来のアッシング装置は、処理室内を真空
に排気した後、反応ガスを導入し高周波電力を印加して
プラズマ放電を起こさせ励起された反応ガスによってア
ッシング処理を行うプラズマアッシング方式が一般的で
ある。
に排気した後、反応ガスを導入し高周波電力を印加して
プラズマ放電を起こさせ励起された反応ガスによってア
ッシング処理を行うプラズマアッシング方式が一般的で
ある。
【０００４】このプラズマアッシング方式は活性なラジ
カルやイオンにより反応が促進され高速処理が可能であ
るがイオンが基板に衝撃を与えたり電荷量が増加したり
していわゆるプラズマダメージがあり、回路パターンの
微細化が進行するとこれが問題になってくる。
カルやイオンにより反応が促進され高速処理が可能であ
るがイオンが基板に衝撃を与えたり電荷量が増加したり
していわゆるプラズマダメージがあり、回路パターンの
微細化が進行するとこれが問題になってくる。
【０００５】これに対し、紫外線とオゾンを用いたアッ
シング方式も知られている。紫外線とオゾンの作用によ
りレジスト等の有機化合物は次の原理で分解、除去され
る。
シング方式も知られている。紫外線とオゾンの作用によ
りレジスト等の有機化合物は次の原理で分解、除去され
る。
【０００６】紫外線ランプとしては波長１８５nm、２５
４nmの紫外線を放射する合成石英製の低圧水銀ランプを
使用する。紫外線ランプから放射される波長１８５nmお
よび２５４nmの光エネルギーは、ほとんどの有機化合物
の結合を切断することができ、有機化合物のフリーラジ
カルや励起状態の分子を生成する。
４nmの紫外線を放射する合成石英製の低圧水銀ランプを
使用する。紫外線ランプから放射される波長１８５nmお
よび２５４nmの光エネルギーは、ほとんどの有機化合物
の結合を切断することができ、有機化合物のフリーラジ
カルや励起状態の分子を生成する。
【０００７】一方、波長１８５nmの紫外線は大気中の酸
素に吸収されるとオゾンを発生する。これとオゾン発生
器によって発生したオゾンに波長２５４nmの紫外線が吸
収されると励起酸素原子が生成する。
素に吸収されるとオゾンを発生する。これとオゾン発生
器によって発生したオゾンに波長２５４nmの紫外線が吸
収されると励起酸素原子が生成する。
【０００８】この強力な酸化力を持つ励起酸素原子やオ
ゾンの熱分解によって発生した基底状態の酸素原子が紫
外線照射によって生成した有機化合物のフリーラジカル
や励起状態の分子と反応してＣＯ2 やＨ2 Ｏのような揮
発性物質を生成する。これが有機化合物分解、除去する
アッシングの原理である。
ゾンの熱分解によって発生した基底状態の酸素原子が紫
外線照射によって生成した有機化合物のフリーラジカル
や励起状態の分子と反応してＣＯ2 やＨ2 Ｏのような揮
発性物質を生成する。これが有機化合物分解、除去する
アッシングの原理である。
【０００９】大型基板の処理を目的とするアッシング装
置としては特開平３−４６２２５号や特開平３−１６５
０２８号に開示がある。これらは、ベルト搬送機構によ
り基板の搬送を行い、ホットプレートやハロゲンランプ
によって基板を加熱するとともに、多数の吹き出し孔を
通してオゾンを散布する散布機構と低圧水銀灯を一定周
期で配列し、オゾンと紫外線によってレジストを分解、
除去する装置である。
置としては特開平３−４６２２５号や特開平３−１６５
０２８号に開示がある。これらは、ベルト搬送機構によ
り基板の搬送を行い、ホットプレートやハロゲンランプ
によって基板を加熱するとともに、多数の吹き出し孔を
通してオゾンを散布する散布機構と低圧水銀灯を一定周
期で配列し、オゾンと紫外線によってレジストを分解、
除去する装置である。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上記の特開平３−４６
２２５号や特開平３−１６５０２８号に記載されている
ように多数の吹き出し孔を持つオゾン散布機構において
はオゾン散布機構の長手方向でオゾンを均一に流出させ
ることが困難であることや、オゾン流速が孔の中央部で
最大となるためオゾン濃度分布が不均一となり均一なレ
ジスト剥離が難しい。
２２５号や特開平３−１６５０２８号に記載されている
ように多数の吹き出し孔を持つオゾン散布機構において
はオゾン散布機構の長手方向でオゾンを均一に流出させ
ることが困難であることや、オゾン流速が孔の中央部で
最大となるためオゾン濃度分布が不均一となり均一なレ
ジスト剥離が難しい。
【００１１】紫外線ランプからの熱によりオゾン散布ノ
ズルの開口部が変形し、オゾン濃度の分布が悪くなり、
この変形を防止しようしすると構造が複雑になる。ま
た、オゾンが熱により分解し、処理効率が低下するとい
う問題がある。本発明の目的は、このような問題を解決
し、処理効率が高く、処理の均斉度の良い紫外線処理装
置を提供することにある。
ズルの開口部が変形し、オゾン濃度の分布が悪くなり、
この変形を防止しようしすると構造が複雑になる。ま
た、オゾンが熱により分解し、処理効率が低下するとい
う問題がある。本発明の目的は、このような問題を解決
し、処理効率が高く、処理の均斉度の良い紫外線処理装
置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明の紫外線処理装置
は、紫外線とオゾンの作用によりレジスト等の有機化合
物被膜を分解、除去する紫外線処理装置において、オゾ
ン散布ノズルはスリット状の開口部を有し、冷却用液体
の通路とオゾンの通路を設けたことを特徴とする。冷却
用液体の通路はオゾンの通路の壁面と接するようにす
る。また、オゾン散布ノズルの内部に冷却用液体の通路
を設ける。
は、紫外線とオゾンの作用によりレジスト等の有機化合
物被膜を分解、除去する紫外線処理装置において、オゾ
ン散布ノズルはスリット状の開口部を有し、冷却用液体
の通路とオゾンの通路を設けたことを特徴とする。冷却
用液体の通路はオゾンの通路の壁面と接するようにす
る。また、オゾン散布ノズルの内部に冷却用液体の通路
を設ける。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明による紫外線処理装置は、
スリット状の開口部を有するオゾン散布ノズルに冷却用
液体の通路とオゾンの通路を設ける。この通路に冷却用
液体を流すことにより、オゾン散布ノズルが冷却される
ので、複雑な構造にしなくてもノズルの熱変形が防止さ
れ、処理の均整度が悪くなることはなく、また、オゾン
の熱分解が防止されるので処理効率が良くなる。
スリット状の開口部を有するオゾン散布ノズルに冷却用
液体の通路とオゾンの通路を設ける。この通路に冷却用
液体を流すことにより、オゾン散布ノズルが冷却される
ので、複雑な構造にしなくてもノズルの熱変形が防止さ
れ、処理の均整度が悪くなることはなく、また、オゾン
の熱分解が防止されるので処理効率が良くなる。
【００１４】
【実施例】本発明紫外線処理装置を一実施例に基づいて
説明する。実施例の構成の模式図を図１に示す。装置は
搬送部２、加熱部４、ランプハウス６から構成され、搬
送部２には被処理物１を搬送するベルト、ローラ等の搬
送機構３を備え、加熱部４には、ヒータ５が設置されて
いる。
説明する。実施例の構成の模式図を図１に示す。装置は
搬送部２、加熱部４、ランプハウス６から構成され、搬
送部２には被処理物１を搬送するベルト、ローラ等の搬
送機構３を備え、加熱部４には、ヒータ５が設置されて
いる。
【００１５】ランプハウス６には波長１８５nmと２５４
nmの紫外線を主として放射する紫外線ランプ７、反射板
８、オゾン散布ノズル９、合成石英ガラス等の紫外線透
過物１０が設置される。ランプハウス６と搬送面はオゾ
ン散布ノズル９、合成石英ガラス等の紫外線透過物１０
によって区分されランプハウス６内に高濃度オゾンが侵
入するのを防止する。このため紫外線ランプ７近傍のオ
ゾンの紫外線吸収により紫外線光量が低下することが防
げるとともにオゾンが拡散して被処理物１の表面におい
てオゾン濃度が低下することが防げる。
nmの紫外線を主として放射する紫外線ランプ７、反射板
８、オゾン散布ノズル９、合成石英ガラス等の紫外線透
過物１０が設置される。ランプハウス６と搬送面はオゾ
ン散布ノズル９、合成石英ガラス等の紫外線透過物１０
によって区分されランプハウス６内に高濃度オゾンが侵
入するのを防止する。このため紫外線ランプ７近傍のオ
ゾンの紫外線吸収により紫外線光量が低下することが防
げるとともにオゾンが拡散して被処理物１の表面におい
てオゾン濃度が低下することが防げる。
【００１６】オゾン散布ノズル９は図２に示すようにス
リット状の開口部１３を持ち紫外線ランプ７間に配置さ
れる。このオゾン散布ノズル９には装置外部に設置され
たオゾン発生器１２が接続されオゾン供給管１１により
オゾンが供給される。
リット状の開口部１３を持ち紫外線ランプ７間に配置さ
れる。このオゾン散布ノズル９には装置外部に設置され
たオゾン発生器１２が接続されオゾン供給管１１により
オゾンが供給される。
【００１７】また、オゾン散布ノズル９は図３にその断
面図を示すように、ノズルを２重構造にすることによっ
て、その内部に冷却用液体の通路１４を設ける。
面図を示すように、ノズルを２重構造にすることによっ
て、その内部に冷却用液体の通路１４を設ける。
【００１８】レジストが塗布された被処理物１はベル
ト、ローラ等の搬送機構３によって順次搬送されまず加
熱部４において所定の温度に加熱され、次にランプハウ
ス６の下において紫外線とオゾンの作用によってレジス
トが分解、除去される。
ト、ローラ等の搬送機構３によって順次搬送されまず加
熱部４において所定の温度に加熱され、次にランプハウ
ス６の下において紫外線とオゾンの作用によってレジス
トが分解、除去される。
【００１９】上記構成の装置のオゾン散布ノズルの長手
方向のオゾン濃度および濃度分布を調べた。オゾン流
量、オゾナイザ出力およびランプ出力は一定とし、オゾ
ン散布ノズルに２０℃の冷却水を１０リットル／分流し
た場合と、比較として冷却水を流さなかった場合の幅方
向のオゾン濃度を図４に示す。
方向のオゾン濃度および濃度分布を調べた。オゾン流
量、オゾナイザ出力およびランプ出力は一定とし、オゾ
ン散布ノズルに２０℃の冷却水を１０リットル／分流し
た場合と、比較として冷却水を流さなかった場合の幅方
向のオゾン濃度を図４に示す。
【００２０】冷却水なしの場合は、オゾン濃度が低くか
つ均斉度も±２０％であるのに対し、冷却水ありの場合
には、冷却水なしに比べてオゾン濃度は約４倍にもな
り、均斉度も±１０％と向上した。
つ均斉度も±２０％であるのに対し、冷却水ありの場合
には、冷却水なしに比べてオゾン濃度は約４倍にもな
り、均斉度も±１０％と向上した。
【００２１】
【発明の効果】以上述べたように本発明による紫外線処
理装置は、スリット状の開口部を有するオゾン散布ノズ
ルに冷却用液体の通路を設け、この通路に冷却用液体を
流すことにより、オゾン散布ノズルが冷却されるので、
複雑な構造にしなくてもノズルの熱変形が防止され、処
理の均斉度が良くて、処理効率の高い紫外線処理装置が
えられる。
理装置は、スリット状の開口部を有するオゾン散布ノズ
ルに冷却用液体の通路を設け、この通路に冷却用液体を
流すことにより、オゾン散布ノズルが冷却されるので、
複雑な構造にしなくてもノズルの熱変形が防止され、処
理の均斉度が良くて、処理効率の高い紫外線処理装置が
えられる。
【図１】本発明紫外線処理装置の一実施例の構成を示す
模式図
模式図
【図２】スリット状の開口部を有するオゾン散布ノズル
の一例を示した図
の一例を示した図
【図３】オゾン散布ノズルの断面を示す模式図
【図４】オゾン濃度分布を比較した図
１ 被処理物 ２ 搬送部 ３ 搬送機構 ４ 加熱部 ５ ヒータ ６ ランプハウス ７ 紫外線ランプ ８ 反射板 ９ オゾン散布ノズル １０ 紫外線透過物 １１ オゾン供給管 １２ オゾン発生器 １３ 開口部 １４ 液体の通路
Claims (3)
- 【請求項１】 紫外線とオゾンの作用によりレジスト等
の有機化合物被膜を分解、除去する紫外線処理装置にお
いて、オゾン散布ノズルはスリット状の開口部を有し、
冷却用液体の通路とオゾンの通路を設けたことを特徴と
する紫外線処理装置。 - 【請求項２】 冷却用液体の通路はオゾンの通路の壁面
と接していることを特徴とする請求項１記載の紫外線処
理装置。 - 【請求項３】 オゾン散布ノズルの内部に冷却用液体の
通路を設けたことを特徴とする請求項１記載の紫外線処
理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11833796A JPH09283502A (ja) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 紫外線処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11833796A JPH09283502A (ja) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 紫外線処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09283502A true JPH09283502A (ja) | 1997-10-31 |
Family
ID=14734182
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11833796A Pending JPH09283502A (ja) | 1996-04-15 | 1996-04-15 | 紫外線処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09283502A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008166316A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板処置装置 |
-
1996
- 1996-04-15 JP JP11833796A patent/JPH09283502A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008166316A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板処置装置 |
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