JPH09280911A - 圧力、歪、温度の同時計測方法 - Google Patents

圧力、歪、温度の同時計測方法

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JPH09280911A
JPH09280911A JP9414596A JP9414596A JPH09280911A JP H09280911 A JPH09280911 A JP H09280911A JP 9414596 A JP9414596 A JP 9414596A JP 9414596 A JP9414596 A JP 9414596A JP H09280911 A JPH09280911 A JP H09280911A
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pressure
temperature
strain
film sensor
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Hiromasa Okamura
広正 岡村
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 微小な一点の圧力、温度、及び歪を、薄膜セ
ンサを用いて同時に測定することができる圧力、歪、温
度の同時計測方法を提供する。 【解決手段】 圧力、歪、温度に対して、それぞれ異な
る特性を有する3種類の物質からなる薄膜センサ素子を
微小間隔を隔てて隣接配置して複合薄膜センサ4を形成
し、この複合センサ4の各センサ素子の出力をそれぞれ
ホイートストンブリッジ回路11〜13に接続し、各センサ
素子の圧力、歪、温度による抵抗変化をそれぞれ電圧変
化に変換して検出し、圧力、歪、温度に対して、第1の
物質から得られた3つの検出値、第2の物質から得られ
た3つの検出値、第3の物質から得られた3つの検出
値、及び各物質の抵抗変化の検出値を用いて、温度変
化、圧力変化、及び歪変化に関する三元連立方程式を立
て、この三元連立方程式を解くことによって圧力、歪、
温度の測定値を同時に求める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は圧力、歪、温度の同
時計測方法に関し、特に、異なる3種類の物質を用いて
薄膜センサ素子を形成し、この薄膜センサ素子を用いて
圧力、歪、温度を同時に計測する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、種々の環境の下で動力を伝達する
機構、例えば、内燃機関においては、動作信頼性を確保
するために、荷重が加わる部位の圧力、歪、温度による
影響を調べる必要があり、その研究が行なわれている。
例えば、薄膜センサを用いて内燃機関の種軸受の油膜圧
力測定に関する研究が行なわれており、その成果が第1
2回内燃機関シンポジウムの講演論文集9537240
(武蔵工業大学)に発表されている。この論文集には、
滑り軸受における潤滑の解析が、軸受の変形や潤滑油粘
度の圧力依存性に関連付けて行なわれており、マンガニ
ンを感圧素子材料とする薄膜圧力センサを、スパッタリ
ング法によって主軸受の滑り面に形成して機関実働時の
油膜圧力測定することが記載されている。また、この論
文集には、薄膜圧力センサを用いた油膜圧力の測定に
は、歪と温度の補償を行なう必要があることが開示され
ている。
【0003】即ち、この論文集には、薄膜圧力センサと
歪センサを用いて機関実働時の油膜圧力測定を行なうこ
とが開示されている。そして、薄膜圧力センサと歪セン
サの圧力と歪によるセンサ素子の抵抗変化を、ホイート
ストンブリッジ回路を介して電圧変化として変換して測
定を行なう場合、測定原理上次式に示す変化の影響を受
けることが開示されている。
【0004】ΔR/R=(∂R/∂P)ΔP/R +(∂R/∂ε)
Δε/R+(∂R/∂T)ΔT/R (但し、ΔR/Rは抵抗変化率、Pは圧力、εは歪、Tは
温度) このように、薄膜センサは一般に、圧力、歪、温度に応
答するので、圧力センサとしては、右辺第2、第3項に
示す歪や温度の影響を受けにくい特性が必要である。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
薄膜センサを使用して、例えば、圧力を測定したい時に
は、薄膜センサが温度や歪に対しては鈍感であってほし
い。しかしながら、近似的にはそのような要求を満たす
材質の膜があったとしても、厳密には、何らかの補正を
行なうことが必要である。例えば、歪や温度を別の方法
で測定することが必要である。
【0006】また、微小な一点の圧力を測定する場合に
は、同時にその点の温度や歪が検出されない限り、その
検出精度は悪い。そして、微小な一点の圧力、温度、及
び歪を同時に測定するには、この一点に圧力センサ、温
度センサ、及び歪センサの3種類のセンサを置くことが
必要であり、現実には不可能であった。そこで、本発明
は、微小な一点の圧力、歪、及び温度を同時に測定する
ことができる圧力、歪、温度の同時計測方法を提供する
ことを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成する本発
明の圧力、歪、温度の同時計測方法は、圧力、歪、温度
に対して、それぞれ異なる特性を有する3種類の物質を
それぞれ使用して形成した第1、第2、第3の薄膜セン
サ素子を、微小間隔を隔てて隣接配置して複合薄膜セン
サを形成し、この複合センサの各センサ素子の出力をそ
れぞれ抵抗値−電圧変換回路に接続し、各センサ素子の
圧力、歪、温度による抵抗変化をそれぞれ電圧変化に変
換して検出し、圧力、歪、温度に対して、第1の薄膜セ
ンサ素子から得られた3つの検出値、第2の薄膜センサ
素子から得られた3つの検出値、第3の薄膜センサ素子
から得られた3つの検出値、及び各薄膜センサ素子の抵
抗変化の検出値を用いて、温度変化、圧力変化、及び歪
変化に関する三元連立方程式を立て、この三元連立方程
式を解くことによって達成される。
【0008】この圧力、歪、温度の同時計測方法に使用
する3種類の物質としては色々な材料の組み合わせが考
えられるが、例えば、マンガニン、クロム、及びチタン
を使用すれば良い。また、薄膜センサ素子は同一平面内
に並列に配置するか、或いは、薄膜センサ素子を絶縁層
を介して積層配置すれば良い。
【0009】本発明の圧力、歪、温度の同時計測方法に
よれば、異なる3種類の特性の薄膜センサ素子を用いて
得た圧力、歪、温度の測定値を基にして3元連立方程式
を立て、この3元連立方程式を解くことによって、圧
力、歪、温度を各々に補償用センサを用いることなく同
時に測定することが可能となる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、添付図面を用いて本発明の
実施の形態を、好適な実施例によって詳細に説明する。
図1は、本発明の圧力、歪、温度の同時計測方法を実施
する測定装置の構成を示す構成図である。
【0011】図1において、4は複合薄膜センサであ
り、温度計測用の薄膜センサ1、圧力計測用の薄膜セン
サ2、及び歪計測用の薄膜センサ3から構成されてい
る。各薄膜センサ1,2,3には、細長い計測部1A,
2A,3Aと、その両端に形成された電極部1B,1
C、2B,2C、3B,3Cがある。この複合薄膜セン
サ4は、圧力、歪、温度を測定する部位に設置される。
【0012】各薄膜センサ1,2,3の電極部1B,1
C、2B,2C、3B,3Cは、それぞれホイートスト
ンブリッジ11,12,13の一辺のブリッジ抵抗を設
ける位置に接続されている。即ち、所定の抵抗値を有す
る各薄膜センサ1,2,3が、ホイートストンブリッジ
の1つの抵抗を構成している。ホイートストンブリッジ
11,12,13の対向する1組の電極間には所定電圧
が加えられており、ホイートストンブリッジ11,1
2,13の電圧の加えられていないブリッジ両端から
は、各薄膜センサ1,2,3の抵抗値の変化に対応した
出力が得られる。各ホイートストンブリッジ11,1
2,13のブリッジ両端は、それぞれ演算回路5に接続
されている。
【0013】演算回路5は、ホイートストンブリッジ1
1,12,13の出力値から三元連立方程式を解いて、
複合薄膜センサ4によって検出された圧力、歪、温度の
計測値を同時に出力するが、この求め方については後述
する。図2は、図1の複合薄膜センサ4の構成を示す斜
視図である。複合薄膜センサ4は、圧力、歪、温度を測
定使用とする位置に、まず、スパッタリング等によって
絶縁性の保護膜6を形成し、その上に各薄膜センサ1,
2,3を形成し、更にその上に絶縁性の保護膜7を形成
することによって構成される。各薄膜センサ1,2,3
の細長い計測部1A,2A,3Aの幅は、10μm程度
であり、この線幅と長さでセンサの感度が決まる。電極
部1B,1C、2B,2C、3B,3Cの幅はこの細長
い計測部1A,2A,3Aの幅に比べて十分に広いもの
であり、リード線の取り出し位置によって細長い計測部
1A,2A,3Aの有する抵抗値に変化がないようにな
っている。
【0014】前述の論文集に開示があるように、一般
に、薄膜センサは、圧力、温度、歪に感応する。即ち、
電気抵抗R、圧力P、温度T、歪εとして、1つの薄膜
センサを図1に示すようにホイートストンブリッジ回路
に接続した場合、ΔR/Rを抵抗変化率として、以下の式
が成立する。 ΔR/R=(∂R/∂P)ΔP/R +(∂R/∂ε) Δε/R+(∂
R/∂T)ΔT/R そこで、例えば、薄膜センサを用いて圧力を測定したい
時には、∂R/∂P が大きく、∂R/∂εと∂R/∂T とが無
視できる程度である方が良い。ところが、このような特
性の膜材質は厳密には存在しない。そこで、従来は、圧
力を測定したい時には歪や温度を別途計測して補正する
必要があった。
【0015】本発明ではこのような従来の課題を解消す
るために、図1に示した3つの薄膜センサ1,2,3の
材質にそれぞれ異なる3種類の膜材質を使用している。
例えば、この実施例では、図1の複合薄膜センサ4にお
いて、薄膜センサ1に圧力を測定する薄膜センサの膜材
質としてマンガニンを使用し、歪を測定する薄膜センサ
の膜材質としてクロムを使用し、温度を測定する薄膜セ
ンサの膜材質としてチタンを使用している。なお、圧力
を測定する薄膜センサの他の膜材質としては白金、歪を
測定する薄膜センサの他の膜材質としてはポリシリコン
等も使用することができる。
【0016】そして、3つの薄膜センサ1,2,3の材
料にそれぞれマンガニン、クロム、チタンを使用した複
合薄膜センサ4は、例えば、図3に示すように、ピスト
ン4の頂面に図2で説明したようにスパッタリング等に
よって成膜し、燃焼室内の圧力、歪、温度を測定するの
に使用することができる。複合薄膜センサ4による圧
力、歪、温度の測定値は、ピストン4の頂面を貫通させ
てリード線14を引出し、ピストン4の上下動を緩衝す
るためのリンク機構9を経由させてこのリード線14を
図1に示したようなブリッジ回路10に導き、ブリッジ
回路10の出力を演算装置15に入力する。この演算装
置15にはマイクロコンピュータ等のオンライン処理が
可能なコンピュータを使用する。
【0017】複合薄膜センサ4を構成する圧力、歪、及
び温度測定用の3つの薄膜センサ1,2,3には、それ
ぞれ、燃焼室内の圧力P、歪ε、温度Tを測定させる。
ここで、薄膜センサ1の圧力、歪、温度の測定値をa1
=(∂R/∂P)、b1=(∂R/∂ε) 、c1=(∂R/∂
T)、抵抗変化A1=ΔR1とし、薄膜センサ2の圧力、
歪、温度の測定値をa2=(∂R/∂P)、b2=(∂R/∂
ε) 、c2=(∂R/∂T)、抵抗変化A2=ΔR2とし、
薄膜センサ3の圧力、歪、温度の測定値をa3=(∂R/
∂P)、b3=(∂R/∂ε) 、c3=(∂R/∂T)、抵抗変
化A3=ΔR3とすると、以下のような3元連立方程式
が成立する。
【0018】
【数1】 図3の実施例では、この3元連立方程式を、演算装置1
5に内蔵されたコンピュータによってオンライン処理し
て解けば、測定位置における圧力、歪、温度の値を得る
ことができる。3元連立方程式は、予め定数(薄膜セン
サ1,2,3の特性)を演算装置15に入力しておけ
ば、複合薄膜センサ4のブリッジ回路10を通した測定
値を演算回路15に入力するだけで、コンピュータ処理
によって測定位置における圧力、歪、温度の値を瞬時に
得ることができ、その時間的変化を測定することができ
る。
【0019】このように、図3に示した複合薄膜センサ
4は、これまで測定が困難であった狭い場所に形成して
圧力、歪、温度を同時に測定することができる。以上説
明した実施例においては、3つの薄膜センサ1,2,3
が平面上に並列に並んで形成されて複合薄膜センサ3が
構成されていた。一方、複合薄膜センサ4は、3つの薄
膜センサ1,2,3をその厚さ方向に3層並べて形成す
ることもできる。
【0020】図4及び図5(a) ,(b) は、本発明の圧
力、歪、温度を同時に計測する方法に使用する別の実施
例の複合薄膜センサ25の構成を示すものである。この
実施例では、図4に示すように、SiO2 からなる絶縁
性の第1の保護膜21をスパッタリング等によって測定
部位に形成し、この第1の保護膜21上に細長い計測部
31Aと、その両端に形成された電極部31B,31C
を備えた第1の薄膜センサ31をスパッタリング等によ
って形成する。以後、同様に、第1の薄膜センサ31の
上にSiO2 からなる絶縁性の第2の保護膜22をスパ
ッタリング等によって形成し、その上に細長い計測部3
2Aと、その両端に形成された電極部32B,32Cを
備えた第2の薄膜センサ31をスパッタリング等によっ
て形成し、更に、第2の薄膜センサ32の上にSiO2
からなる絶縁性の第3の保護膜23をスパッタリング等
によって形成し、その上に細長い計測部33Aと、その
両端に形成された電極部33B,33Cを備えた第3の
薄膜センサ33をスパッタリング等によって形成し、最
後に第4の保護膜を第3の薄膜センサ33(図示せず)
の上に形成する。
【0021】図5(a) は図4のようにして形成した複合
薄膜センサ25の平面図であり、第1、第2、第3の薄
膜センサ31,32,33の細長い計測部31A,32
A,33Aは重なっている。この細長い計測部31A,
32A,33Aの幅も10μm程度である。薄膜センサ
31,32,33の出力は、それぞれ電極部31B,3
1C,32B,32C,33B,33Cに取り付けたリ
ード線16によって引出すことができる。図5(b) は図
4(a) のA−A線における断面の符号Bで示す領域の断
面図である。測定部位の基材20の上には、第1の保護
膜21、第1の薄膜センサ31、第2の保護膜22、第
2の薄膜センサ32、第3の保護膜23、第3の薄膜セ
ンサ33、および第4の保護膜24がこの順に積層され
て形成されている。
【0022】この実施例の複合薄膜センサ25も、本発
明の圧力、歪、温度の同時計測方法において、図1,図
2で説明した複合薄膜センサ4と同様に使用することが
できき、3つの薄膜センサ31,32,33によって検
出された値によって立てられた3元連立方程式をコンピ
ュータによって解くことにより、測定部位の圧力、歪、
温度を一度に測定することが可能となる。
【0023】なお、以上説明した実施形態においては、
3つの薄膜センサを近接して設けた複合薄膜センサの実
施例を説明したが、圧力、歪、温度のうち、薄膜センサ
をどこに取り付けても測定環境が同じ見なせる場合、例
えば、圧力は或る容器の中ではどこでも一定と見なせる
場合には、狭い場所に敢えて3つのセンサを並べて設け
る必要は無く、その容器内であれば、離して設置するこ
とも可能である。
【0024】以上説明したように、本発明の温度、圧
力、歪の同時計測方法によれば、以下のような利点があ
る。 (1) センサによる測定値に対して、面倒な補正の手続き
が不要になる。 (2) 狭い場所にセンサを取り付け可能なので、測定可能
範囲が広がる。 (3) センサは薄膜であるので、物体の表面に取り付けて
も物体の元の物理形状を阻害しない。 (4) 温度、圧力、歪をオンライン処理によって即時に求
めることができる。
【0025】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
異なる3種類の特性の薄膜センサ素子を用いて3元連立
方程式を解くことによって、圧力、歪、温度を各々に補
償用センサを用いることなく同時に測定することが可能
となる。また、圧力、歪、温度を測定するための3種類
のセンサが全て薄膜センサであり、その構成が極めて微
小であるので、これらを隣接配置することによって、微
小な1点における圧力、歪、温度を同時に測定すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の圧力、歪、温度の同時計測方法を実施
する測定装置の構成を示す構成図である。
【図2】図1の複合薄膜センサの構成を示す斜視図であ
る。
【図3】図1に示した複合薄膜センサをピストンの頂面
に取り付けて、ピストンの頂面が受ける圧力、歪、温度
を測定する構成を示す説明図である。
【図4】本発明の圧力、歪、温度の同時計測方法に使用
する複合薄膜センサの別の実施例の構成を示す組立図で
ある。
【図5】(a) は図4の複合薄膜センサの平面図、(b) は
(a) のA−A線における断面の符号Bで示す領域の断面
図である。
【符号の説明】
1,2,3…薄膜センサ 1A,2A,3A…計測部 3A,3B,3C…電極部 4…複合薄膜センサ 5…演算回路 6,7,8…保護膜 10…ブリッジ回路 11〜13…ホイートストンブリッジ 14…リード線 15…演算装置 16…リード線 20…基材 21〜23…第1、第2、第3の保護膜 31〜33…第1、第2、第3の薄膜センサ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 圧力、歪、温度に対して、それぞれ異な
    る特性を有する3種類の物質をそれぞれ使用して形成し
    た第1、第2、第3の薄膜センサ素子を、微小間隔を隔
    てて隣接配置して複合薄膜センサを形成し、 この複合センサの各センサ素子の出力をそれぞれ抵抗値
    −電圧変換回路に接続し、 前記各センサ素子の圧力、歪、温度による抵抗変化をそ
    れぞれ電圧変化に変換して検出し、圧力、歪、温度に対
    して、第1の薄膜センサ素子から得られた3つの検出
    値、第2の薄膜センサ素子から得られた3つの検出値、
    第3の薄膜センサ素子から得られた3つの検出値、及び
    各薄膜センサ素子の抵抗変化の検出値を用いて、温度変
    化、圧力変化、及び歪変化に関する三元連立方程式を立
    て、 この三元連立方程式を解くことによって、圧力、歪、温
    度を同時計測することを特徴とする圧力、歪、温度の同
    時計測方法。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の圧力、歪、温度の同時
    計測方法であって、前記3種類の物質が、マンガニン、
    クロム、及びチタンであることを特徴とするもの。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の圧力、歪、温度の同時
    計測方法であって、前記薄膜センサ素子が同一平面内に
    並列に配置されていることを特徴とするもの。
  4. 【請求項4】 請求項1に記載の圧力、歪、温度の同時
    計測方法であって、前記薄膜センサ素子が絶縁層を介し
    て積層配置されていることを特徴とするもの。
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