JPH0927121A - 磁気ディスクの製造方法及び装置 - Google Patents
磁気ディスクの製造方法及び装置Info
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- JPH0927121A JPH0927121A JP19262995A JP19262995A JPH0927121A JP H0927121 A JPH0927121 A JP H0927121A JP 19262995 A JP19262995 A JP 19262995A JP 19262995 A JP19262995 A JP 19262995A JP H0927121 A JPH0927121 A JP H0927121A
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- magnetic
- oxidizing gas
- disk
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気ディスク表面の異常突起を除去するとと
もに、磁気ディスク表面における異物の残存やスクラッ
チの発生を防止すること。 【構成】 磁気ディスク１の製造方法において、カーボ
ン保護層を形成した後処理として、該保護層に対して酸
化性のガス雰囲気中で紫外線照射を行なうもの。
もに、磁気ディスク表面における異物の残存やスクラッ
チの発生を防止すること。 【構成】 磁気ディスク１の製造方法において、カーボ
ン保護層を形成した後処理として、該保護層に対して酸
化性のガス雰囲気中で紫外線照射を行なうもの。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、非磁性基板上に乾式め
っき等により磁性層が形成されたハードディスクに代表
される如くの磁気ディスクの製造方法及び装置に関す
る。
っき等により磁性層が形成されたハードディスクに代表
される如くの磁気ディスクの製造方法及び装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスクにおいては、再生出力を考
慮するとき、磁気ディスクの基板表面と磁気ヘッドとの
間隔（浮上量）が小さい。即ちスペーシングロスが少な
い方が有利である。これを言い換えると、磁気ディスク
の基板表面は平滑であることが好ましい。
慮するとき、磁気ディスクの基板表面と磁気ヘッドとの
間隔（浮上量）が小さい。即ちスペーシングロスが少な
い方が有利である。これを言い換えると、磁気ディスク
の基板表面は平滑であることが好ましい。
【０００３】然るに、磁気ディスクでは、基板上に成膜
された磁性層上に保護層を形成した後、この保護層の表
面に「異常突起」と呼ばれる微小突起が存在するため、
この異常突起をバーニッシュ加工により削除して突起高
さを適度に低くすることが行われている。
された磁性層上に保護層を形成した後、この保護層の表
面に「異常突起」と呼ばれる微小突起が存在するため、
この異常突起をバーニッシュ加工により削除して突起高
さを適度に低くすることが行われている。
【０００４】バーニッシュ加工は、基本的には、アルミ
ナ、ダイヤモンド等の砥粒を用いた研磨テープを磁気デ
ィスクの基板表面に適当な圧力をかけて当接させ、ディ
スクと研磨テープを走行させることにより行われる。こ
の研磨テープを用いるバーニッシュ加工では、研磨テー
プから脱落した砥粒、基板表面から研磨されて除去され
た研磨粉が基板表面を傷つけていわゆるスクラッチを生
ぜしめる。スクラッチの発生は、磁気ディスク製造ライ
ンでの収率の低下を招く。
ナ、ダイヤモンド等の砥粒を用いた研磨テープを磁気デ
ィスクの基板表面に適当な圧力をかけて当接させ、ディ
スクと研磨テープを走行させることにより行われる。こ
の研磨テープを用いるバーニッシュ加工では、研磨テー
プから脱落した砥粒、基板表面から研磨されて除去され
た研磨粉が基板表面を傷つけていわゆるスクラッチを生
ぜしめる。スクラッチの発生は、磁気ディスク製造ライ
ンでの収率の低下を招く。
【０００５】そこで、従来技術では、磁気ディスクでの
基板表面におけるスクラッチの発生を防止するため、
(1) 特開平3-176815号公報に記載の如く、バーニッシュ
加工時に研磨テープの接触部に加圧クリーンエアを吹付
けて研磨粉を除去せしめるもの、(2) 特開平3-1323号公
報に記載の如く、研磨テープによるバーニッシュ加工時
に、湿式クリーニングテープを基板表面に接触させて研
磨粉を除去するものが提案されている。
基板表面におけるスクラッチの発生を防止するため、
(1) 特開平3-176815号公報に記載の如く、バーニッシュ
加工時に研磨テープの接触部に加圧クリーンエアを吹付
けて研磨粉を除去せしめるもの、(2) 特開平3-1323号公
報に記載の如く、研磨テープによるバーニッシュ加工時
に、湿式クリーニングテープを基板表面に接触させて研
磨粉を除去するものが提案されている。
【０００６】尚、磁気ディスクにおける磁性層の上の有
機物の汚れを除去して、この汚れが誘発する突起層の欠
陥の発生を防止するため、特開平4-324120号公報に記載
の従来技術が提案されている。この従来技術は、磁気デ
ィスクにおける保護層形成の前処理として、紫外線照射
を行なうようにしたものである。
機物の汚れを除去して、この汚れが誘発する突起層の欠
陥の発生を防止するため、特開平4-324120号公報に記載
の従来技術が提案されている。この従来技術は、磁気デ
ィスクにおける保護層形成の前処理として、紫外線照射
を行なうようにしたものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】然しながら、従来技術
には下記〜の問題点がある。 研磨テープと加圧クリーンエアを用いる場合、大きめ
の脱落砥粒、研磨粉しか除去できず、小さめの脱落砥
粒、研磨粉を除去できないため、スクラッチの発生を十
分に防止できない。
には下記〜の問題点がある。 研磨テープと加圧クリーンエアを用いる場合、大きめ
の脱落砥粒、研磨粉しか除去できず、小さめの脱落砥
粒、研磨粉を除去できないため、スクラッチの発生を十
分に防止できない。
【０００８】研磨テープと湿式クリーニングテープを
用いる場合、クリーニングテープ自身のクリーニングが
困難であり、クリーニングテープ自身に脱落砥粒、研磨
粉を保持してしまい、これがかえってスクラッチを発生
せしめる。
用いる場合、クリーニングテープ自身のクリーニングが
困難であり、クリーニングテープ自身に脱落砥粒、研磨
粉を保持してしまい、これがかえってスクラッチを発生
せしめる。
【０００９】磁気ディスクの保護層形成の前処理とし
て紫外線照射を行なう場合には、磁性層の上の有機物の
汚れを除去するだけであり、磁気ディスク表面の異常突
起そのものを除去するものでない。
て紫外線照射を行なう場合には、磁性層の上の有機物の
汚れを除去するだけであり、磁気ディスク表面の異常突
起そのものを除去するものでない。
【００１０】本発明は、磁気ディスク表面の異常突起を
除去するとともに、磁気ディスク表面における異物の残
存やスクラッチの発生を防止することを目的とする。
除去するとともに、磁気ディスク表面における異物の残
存やスクラッチの発生を防止することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】請求項１に記載の本発明
は、基板の上に磁性層を形成し、磁性層の上にカーボン
保護層を形成することを含む磁気ディスクの製造方法に
おいて、前記カーボン保護層を形成した後処理として、
該保護層に対して酸化性のガス雰囲気中で紫外線照射を
行なうようにしたものである。
は、基板の上に磁性層を形成し、磁性層の上にカーボン
保護層を形成することを含む磁気ディスクの製造方法に
おいて、前記カーボン保護層を形成した後処理として、
該保護層に対して酸化性のガス雰囲気中で紫外線照射を
行なうようにしたものである。
【００１２】請求項２に記載の本発明は、請求項１に記
載の磁気ディスクの製造方法を実施するための磁気ディ
スクの製造装置であって、磁気ディスクを配置するディ
スクセット部と、ディスクセット部に相対して設けられ
る紫外線照射用光源とを処理室に備え、上記処理室のデ
ィスクセット部に対する一方側に酸化ガス供給口を設
け、他方側に強制排気口を設けてなるようにしたもので
ある。
載の磁気ディスクの製造方法を実施するための磁気ディ
スクの製造装置であって、磁気ディスクを配置するディ
スクセット部と、ディスクセット部に相対して設けられ
る紫外線照射用光源とを処理室に備え、上記処理室のデ
ィスクセット部に対する一方側に酸化ガス供給口を設
け、他方側に強制排気口を設けてなるようにしたもので
ある。
【００１３】
【作用】請求項１に記載の本発明によれば下記〜の
作用がある。 空気、酸素等の酸化性ガスは紫外線照射によりオゾン
又は酸素ラジカル［Ｏ3 もしくは（Ｏ）］を生じ、この
活性酸素種がカーボン保護層の異常突起（処理室の雰囲
気に大きく突出）のＣに化合してＣＯ2 となり、雰囲気
中に浮遊除去される。
作用がある。 空気、酸素等の酸化性ガスは紫外線照射によりオゾン
又は酸素ラジカル［Ｏ3 もしくは（Ｏ）］を生じ、この
活性酸素種がカーボン保護層の異常突起（処理室の雰囲
気に大きく突出）のＣに化合してＣＯ2 となり、雰囲気
中に浮遊除去される。
【００１４】上記により、磁気ディスク表面の異常
突起を雰囲気中に浮遊除去するものであるから、磁気デ
ィスク表面に異物を残存することなく異常突起を除去で
きる。
突起を雰囲気中に浮遊除去するものであるから、磁気デ
ィスク表面に異物を残存することなく異常突起を除去で
きる。
【００１５】上記により、磁気ディスク表面を研磨
するものでないから、磁気ディスク表面にスクラッチを
生じない。
するものでないから、磁気ディスク表面にスクラッチを
生じない。
【００１６】カーボン保護層の表面が酸化されて潤滑
剤との吸着性が増す。従って、磁気ディスク表面に後工
程で潤滑剤を塗布したとき、潤滑剤が機械的にも化学的
にも飛散することなく、安定維持される。
剤との吸着性が増す。従って、磁気ディスク表面に後工
程で潤滑剤を塗布したとき、潤滑剤が機械的にも化学的
にも飛散することなく、安定維持される。
【００１７】請求項２に記載の本発明よれば下記の作
用がある。 磁気ディスクが紫外線照射される処理室の一方側に酸
化性ガス供給口を設け、他方側に強制排気口を設けた。
従って、磁気ディスク表面の異常突起除去により生じた
ＣＯ2 を排気し、処理室内雰囲気の酸化性ガス濃度を高
め維持し、異常突起除去の生産性を向上し得る。
用がある。 磁気ディスクが紫外線照射される処理室の一方側に酸
化性ガス供給口を設け、他方側に強制排気口を設けた。
従って、磁気ディスク表面の異常突起除去により生じた
ＣＯ2 を排気し、処理室内雰囲気の酸化性ガス濃度を高
め維持し、異常突起除去の生産性を向上し得る。
【００１８】尚、通常のハードディスクの製造ラインで
は、基板のテクスチャー（表面を適度に粗面化する）処
理工程後、洗浄工程、基板上に磁性層を成膜する成膜工
程、磁性層上に保護層を形成する保護層形成工程を経
て、表面の異常突起を除去して適当な高さに調節する突
起除去工程が施される。この製造ラインでは、必要に応
じて磁性層の下に下地層、保護層の上に潤滑層を設ける
工程が加えられる。
は、基板のテクスチャー（表面を適度に粗面化する）処
理工程後、洗浄工程、基板上に磁性層を成膜する成膜工
程、磁性層上に保護層を形成する保護層形成工程を経
て、表面の異常突起を除去して適当な高さに調節する突
起除去工程が施される。この製造ラインでは、必要に応
じて磁性層の下に下地層、保護層の上に潤滑層を設ける
工程が加えられる。
【００１９】また、本発明が適用される磁気ディスクの
製造方法において、突起除去工程で酸化性ガスと紫外線
照射を用いる以外については、従来方法に準ずることが
できる。即ち、本発明では突起除去工程で表面に存在す
る異常突起を除去する工程の前に、磁気ディスクは既に
その基本的構造が形成されている。例えば、カーボン製
の基板上に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段
により磁性層を設ける工程、磁性層上に蒸着やスパッタ
手段のような乾式めっき手段或いはディッピングやスピ
ンコート法により保護層を設ける工程等を経て、磁気デ
ィスクが構成されており、このような磁気ディスクに対
して表面に存在する異常突起を除去する作業が施され
る。また、磁性層が設けられる前にカーボン製の基板上
に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段により下
地層を設ける工程等も経て磁気ディスクが製造される。
製造方法において、突起除去工程で酸化性ガスと紫外線
照射を用いる以外については、従来方法に準ずることが
できる。即ち、本発明では突起除去工程で表面に存在す
る異常突起を除去する工程の前に、磁気ディスクは既に
その基本的構造が形成されている。例えば、カーボン製
の基板上に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段
により磁性層を設ける工程、磁性層上に蒸着やスパッタ
手段のような乾式めっき手段或いはディッピングやスピ
ンコート法により保護層を設ける工程等を経て、磁気デ
ィスクが構成されており、このような磁気ディスクに対
して表面に存在する異常突起を除去する作業が施され
る。また、磁性層が設けられる前にカーボン製の基板上
に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段により下
地層を設ける工程等も経て磁気ディスクが製造される。
【００２０】尚、磁性層の成膜には乾式めっき手段を採
用することが好ましい。即ち、乾式めっき手段は湿式め
っき手段に比べて高品質な磁性膜が得られ易い。また、
磁性膜の塑性変更も容易であり、磁性膜の設計変更も容
易となる。
用することが好ましい。即ち、乾式めっき手段は湿式め
っき手段に比べて高品質な磁性膜が得られ易い。また、
磁性膜の塑性変更も容易であり、磁性膜の設計変更も容
易となる。
【００２１】また、基板上の磁性層等の構成は従来技術
がそのまま用いられる。即ち、基板上に設けられる下地
層（下地膜）、磁性層（磁性膜）、保護層（保護膜）、
潤滑層（潤滑膜）等の構成については、従来技術（例え
ば特開平5-18952 号公報、特開平5-137822号公報、特開
平5-211769号公報、特開平5-289496号公報）をそのまま
利用できる。
がそのまま用いられる。即ち、基板上に設けられる下地
層（下地膜）、磁性層（磁性膜）、保護層（保護膜）、
潤滑層（潤滑膜）等の構成については、従来技術（例え
ば特開平5-18952 号公報、特開平5-137822号公報、特開
平5-211769号公報、特開平5-289496号公報）をそのまま
利用できる。
【００２２】基板としては、例えば、ガラス状カーボン
等のカーボン、強化ガラス、結晶化ガラス、アルミニウ
ム及びアルミニウム合金、チタン及びチタン合金、セラ
ミックス、樹脂、或いはこれらの複合材料からなるもの
が挙げられる。これらの中でも、特にガラス状カーボン
が好ましく、例えば特開昭60-35333号公報に記載された
ものを用いることができる。
等のカーボン、強化ガラス、結晶化ガラス、アルミニウ
ム及びアルミニウム合金、チタン及びチタン合金、セラ
ミックス、樹脂、或いはこれらの複合材料からなるもの
が挙げられる。これらの中でも、特にガラス状カーボン
が好ましく、例えば特開昭60-35333号公報に記載された
ものを用いることができる。
【００２３】
【実施例】図１は異常突起除去装置の一例を示す模式図
である。異常突起除去装置１０は、図１に示す如く、多
数の磁気ディスク１を並列配置し得るディスクセット部
１２を処理室１１の床部に備えるとともに、ディスクセ
ット部１２に相対する紫外線照射用光源１３を処理室１
１の天井部に備えている。そして、異常突起除去装置１
０は、処理室１１のディスクセット部１２に対する一方
側の天井寄りに酸化性ガス供給口１４を設け、他方側の
床寄りに強制排気口１５を設けている。
である。異常突起除去装置１０は、図１に示す如く、多
数の磁気ディスク１を並列配置し得るディスクセット部
１２を処理室１１の床部に備えるとともに、ディスクセ
ット部１２に相対する紫外線照射用光源１３を処理室１
１の天井部に備えている。そして、異常突起除去装置１
０は、処理室１１のディスクセット部１２に対する一方
側の天井寄りに酸化性ガス供給口１４を設け、他方側の
床寄りに強制排気口１５を設けている。
【００２４】以下、異常突起除去装置１０を用いる磁気
ディスク１の異常突起除去手順について説明する。 (1) 磁気ディスク１の基板の上に磁性層を形成し、磁性
層の上にカーボン保護層を形成する。
ディスク１の異常突起除去手順について説明する。 (1) 磁気ディスク１の基板の上に磁性層を形成し、磁性
層の上にカーボン保護層を形成する。
【００２５】(2) 上記(1) のカーボン保護層を形成した
後処理として、磁気ディスク１を処理室１１のディスク
セット部１２にセットする。
後処理として、磁気ディスク１を処理室１１のディスク
セット部１２にセットする。
【００２６】(3) 紫外線照射用光源１３を点灯するとと
もに、酸化性ガス供給口１４から空気、酸素等の酸化性
ガスを供給する。これにより、磁気ディスク１のカーボ
ン保護層に対し、酸化性ガス雰囲気中での紫外線照射が
行なわれる。
もに、酸化性ガス供給口１４から空気、酸素等の酸化性
ガスを供給する。これにより、磁気ディスク１のカーボ
ン保護層に対し、酸化性ガス雰囲気中での紫外線照射が
行なわれる。
【００２７】酸化性ガスは紫外線照射によりオゾン又は
酸素ラジカル［Ｏ3 もしくは（Ｏ）］を生ずる。 Ｏ2 → 2（Ｏ） …(1) Ｏ2 ＋（Ｏ）→Ｏ3 …(2)
酸素ラジカル［Ｏ3 もしくは（Ｏ）］を生ずる。 Ｏ2 → 2（Ｏ） …(1) Ｏ2 ＋（Ｏ）→Ｏ3 …(2)
【００２８】この活性酸素種がカーボン保護層の異常突
起（処理室１１の雰囲気に大きく突出）のＣに化合して
ＣＯ2 となり、雰囲気中に浮遊除去される。
起（処理室１１の雰囲気に大きく突出）のＣに化合して
ＣＯ2 となり、雰囲気中に浮遊除去される。
【００２９】(4) 上記(3) の異常突起除去により生じた
ＣＯ2 を強制排気口１５から強制排気する。
ＣＯ2 を強制排気口１５から強制排気する。
【００３０】従って、本実施例によれば、下記〜の
作用がある。 磁気ディスク１表面の異常突起を雰囲気中に浮遊除去
するものであるから、磁気ディスク１表面に異物を残存
することなく異常突起を除去できる。
作用がある。 磁気ディスク１表面の異常突起を雰囲気中に浮遊除去
するものであるから、磁気ディスク１表面に異物を残存
することなく異常突起を除去できる。
【００３１】磁気ディスク１表面を研磨するものでな
いから、磁気ディスク１表面にスクラッチを生じない。
いから、磁気ディスク１表面にスクラッチを生じない。
【００３２】カーボン保護層の表面が酸化されて潤滑
剤との吸着性が増す。従って、磁気ディスク表面に後工
程で潤滑剤を塗布したとき、潤滑剤が機械的にも化学的
にも飛散することなく、安定維持される。
剤との吸着性が増す。従って、磁気ディスク表面に後工
程で潤滑剤を塗布したとき、潤滑剤が機械的にも化学的
にも飛散することなく、安定維持される。
【００３３】磁気ディスクが紫外線照射される処理室
１１の一方側に酸化性ガス供給口１４を設け、他方側に
強制排気口１５を設けた。従って、磁気ディスク表面の
異常突起除去により生じたＣＯ2 を排気し、処理室内雰
囲気の酸化性ガス濃度を高め維持し、異常突起除去の生
産性を向上し得る。
１１の一方側に酸化性ガス供給口１４を設け、他方側に
強制排気口１５を設けた。従って、磁気ディスク表面の
異常突起除去により生じたＣＯ2 を排気し、処理室内雰
囲気の酸化性ガス濃度を高め維持し、異常突起除去の生
産性を向上し得る。
【００３４】以下、本発明の具体的実施結果（本発明例
１、２、比較例１）について説明する。 (1) 成膜工程 直径1.8 インチ、厚み25ミル、比重1.5g/cm3のガラス状
カーボン基板を作成した。このカーボン基板を25枚ケー
ス内に収容し、真空成膜ラインに送って、Ａｒガス圧2m
Torr、基板温度250 ℃の条件で、ＤＣマグネトロンスパ
ッタリングにより厚さ100nm のＴｉ層を形成した。次い
で、Ａｒガス圧2mTorr、基板温度260 ℃の条件で、ＤＣ
マグネトロンスパッタリングによりＴｉ層上に厚さ20nm
のＡｌ−Ｓｉ合金層（Ａｉ：Ｓｉ＝10：90／重量％）を
形成した。この後、Ａｒガス圧2mTorr、基板温度260 ℃
の条件でＤＣマグネトロンスパッタリングにより、Ａｌ
−Ｓｉ合金層上に厚さ25nmのアモルファスカーボン（ダ
イヤモンドライクカーボン）層を形成した。
１、２、比較例１）について説明する。 (1) 成膜工程 直径1.8 インチ、厚み25ミル、比重1.5g/cm3のガラス状
カーボン基板を作成した。このカーボン基板を25枚ケー
ス内に収容し、真空成膜ラインに送って、Ａｒガス圧2m
Torr、基板温度250 ℃の条件で、ＤＣマグネトロンスパ
ッタリングにより厚さ100nm のＴｉ層を形成した。次い
で、Ａｒガス圧2mTorr、基板温度260 ℃の条件で、ＤＣ
マグネトロンスパッタリングによりＴｉ層上に厚さ20nm
のＡｌ−Ｓｉ合金層（Ａｉ：Ｓｉ＝10：90／重量％）を
形成した。この後、Ａｒガス圧2mTorr、基板温度260 ℃
の条件でＤＣマグネトロンスパッタリングにより、Ａｌ
−Ｓｉ合金層上に厚さ25nmのアモルファスカーボン（ダ
イヤモンドライクカーボン）層を形成した。
【００３５】このようにしてテクスチャー処理を施した
後、同一の真空ライン内において、Ａｒガス圧2mTorr、
基板温度200 ℃の条件下で、ＤＣマグネトロンスタッパ
リング装置を用いて、アモルファスカーボン層上に、厚
さ100nm のＴｉ層を設け、その後このＴｉ層上に厚さ40
nmのＣｒ層を設けた。更に、Ａｒガス圧2mTorr、基板温
度260 ℃の条件で、ＤＣマグネトロンスパッタリングに
より、Ｃｒ層上に厚さ40nmのＣｏＣｒＰｔ系合金磁性層
を設けた。続いて、ガラス状カーボン製ターゲットを装
着した対向ターゲット型のスパッタリング装置を用い、
Ａｒガス圧2mTorrの条件下で、磁性層上に20nm厚のアモ
ルファスカーボン（ダイヤモンドライクカーボン）から
なる保護層を設けた。
後、同一の真空ライン内において、Ａｒガス圧2mTorr、
基板温度200 ℃の条件下で、ＤＣマグネトロンスタッパ
リング装置を用いて、アモルファスカーボン層上に、厚
さ100nm のＴｉ層を設け、その後このＴｉ層上に厚さ40
nmのＣｒ層を設けた。更に、Ａｒガス圧2mTorr、基板温
度260 ℃の条件で、ＤＣマグネトロンスパッタリングに
より、Ｃｒ層上に厚さ40nmのＣｏＣｒＰｔ系合金磁性層
を設けた。続いて、ガラス状カーボン製ターゲットを装
着した対向ターゲット型のスパッタリング装置を用い、
Ａｒガス圧2mTorrの条件下で、磁性層上に20nm厚のアモ
ルファスカーボン（ダイヤモンドライクカーボン）から
なる保護層を設けた。
【００３６】(2) 突起除去工程 上記(1) にて成膜された基板に突起除去処理を施した。
この突起除去処理は、本発明例１、２、比較例１のそれ
ぞれについて下記(a) 〜(c) の如くとした。
この突起除去処理は、本発明例１、２、比較例１のそれ
ぞれについて下記(a) 〜(c) の如くとした。
【００３７】(a) 本発明例１…前記異常突起除去装置１
０を用い、酸素ガス雰囲気中で紫外線照射を行なった。
酸素ガスの酸素分圧は360mmHg とした。紫外線照射用光
源は184.9nm 及び253.7nm の高効率特殊低圧水銀燈、照
射時間 1分とした。
０を用い、酸素ガス雰囲気中で紫外線照射を行なった。
酸素ガスの酸素分圧は360mmHg とした。紫外線照射用光
源は184.9nm 及び253.7nm の高効率特殊低圧水銀燈、照
射時間 1分とした。
【００３８】(b) 本発明例２…本発明例１の酸素の代わ
りに空気を用い、紫外線照射時間 5分としたこと以外
は、本発明例１と同じ
りに空気を用い、紫外線照射時間 5分としたこと以外
は、本発明例１と同じ
【００３９】(c) 比較例１…テープ研磨によった。バー
ニッシュ加工後、常法により、パーフルオロポリエーテ
ル系潤滑剤（モンテカチーニ社製のＦｏｍｂｌｉｎ Ａ
Ｍ２００１）溶液を、乾燥後の厚さが17オングストロー
ムとなるように塗布して保護層上に潤滑剤層を形成し
た。
ニッシュ加工後、常法により、パーフルオロポリエーテ
ル系潤滑剤（モンテカチーニ社製のＦｏｍｂｌｉｎ Ａ
Ｍ２００１）溶液を、乾燥後の厚さが17オングストロー
ムとなるように塗布して保護層上に潤滑剤層を形成し
た。
【００４０】(3) 評価 以上により得られた磁気ディスクについて、グライドハ
イトテスト（ＧＨＴ)、サーティファイテストを行な
い、表１の結果を得た。
イトテスト（ＧＨＴ)、サーティファイテストを行な
い、表１の結果を得た。
【表１】
【００４１】尚、グライドハイトテストは、ＰＲＯＱＵ
ＩＰ社製ＭＧ150T、50％スライダヘッドを用い、 1.5μ
インチの浮上量の通過率で評価した。
ＩＰ社製ＭＧ150T、50％スライダヘッドを用い、 1.5μ
インチの浮上量の通過率で評価した。
【００４２】また、サーティファイテストは、上記と同
じＰＲＯＱＵＩＰ社製ＭＧ150Tを用い、トラックピッチ
7.7 μm 、記録条件50Kfciにて欠陥数２０個以内を合格
としたときの合格率で評価した。
じＰＲＯＱＵＩＰ社製ＭＧ150Tを用い、トラックピッチ
7.7 μm 、記録条件50Kfciにて欠陥数２０個以内を合格
としたときの合格率で評価した。
【００４３】
【発明の効果】以上のように本発明によれば、磁気ディ
スク表面の異常突起を除去するとともに、磁気ディスク
表面における異物の残存やスクラッチの発生を防止する
ことができる。
スク表面の異常突起を除去するとともに、磁気ディスク
表面における異物の残存やスクラッチの発生を防止する
ことができる。
【図１】図１は異常突起除去装置の一例を示す模式図で
ある。
ある。
１ 磁気ディスク １０ 異常突起除去装置 １１ 処理室 １２ ディスクセット部 １３ 紫外線照射用光源 １４ 酸化性ガス供給口 １５ 強制排気口
Claims (2)
- 【請求項１】 基板の上に磁性層を形成し、磁性層の上
にカーボン保護層を形成することを含む磁気ディスクの
製造方法において、 前記カーボン保護層を形成した後処理として、該保護層
に対して酸化性のガス雰囲気中で紫外線照射を行なうこ
とを特徴とする磁気ディスクの製造方法。 - 【請求項２】 請求項１に記載の磁気ディスクの製造方
法を実施するための磁気ディスクの製造装置であって、 磁気ディスクを配置するディスクセット部と、ディスク
セット部に相対して設けられる紫外線照射用光源とを処
理室に備え、 上記処理室のディスクセット部に対する一方側に酸化ガ
ス供給口を設け、他方側に強制排気口を設けてなること
を特徴とする磁気ディスクの製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19262995A JPH0927121A (ja) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | 磁気ディスクの製造方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19262995A JPH0927121A (ja) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | 磁気ディスクの製造方法及び装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0927121A true JPH0927121A (ja) | 1997-01-28 |
Family
ID=16294435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19262995A Withdrawn JPH0927121A (ja) | 1995-07-06 | 1995-07-06 | 磁気ディスクの製造方法及び装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0927121A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007031773A (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Nissan Motor Co Ltd | 高速摺動部材及びその製造方法 |
| US20150136730A1 (en) * | 2013-11-21 | 2015-05-21 | HGST Netherlands B.V. | Vapor phase chemical mechanical polishing of magnetic recording disks |
-
1995
- 1995-07-06 JP JP19262995A patent/JPH0927121A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007031773A (ja) * | 2005-07-27 | 2007-02-08 | Nissan Motor Co Ltd | 高速摺動部材及びその製造方法 |
| US20150136730A1 (en) * | 2013-11-21 | 2015-05-21 | HGST Netherlands B.V. | Vapor phase chemical mechanical polishing of magnetic recording disks |
| US9312141B2 (en) * | 2013-11-21 | 2016-04-12 | HGST Netherlands B.V. | Vapor phase chemical mechanical polishing of magnetic recording disks |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20021001 |