JPH09265001A - Half mirror - Google Patents

Half mirror

Info

Publication number
JPH09265001A
JPH09265001A JP8103628A JP10362896A JPH09265001A JP H09265001 A JPH09265001 A JP H09265001A JP 8103628 A JP8103628 A JP 8103628A JP 10362896 A JP10362896 A JP 10362896A JP H09265001 A JPH09265001 A JP H09265001A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
substrate
base material
half mirror
hard coat
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP8103628A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masahide Tokunaga
正秀 徳永
Takashi Hashimoto
敬 橋本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shimadzu Corp filed Critical Shimadzu Corp
Priority to JP8103628A priority Critical patent/JPH09265001A/en
Publication of JPH09265001A publication Critical patent/JPH09265001A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the peeling of a translucent reflecting film from the substrate as well as to suppress the cracking of the film due to a thermal shock and to prevent the deterioration of the function by making the coefft. of linear expansion of each of the film and a hard coating film lower than that of the substrate. SOLUTION: This optical half mirror 1 has a transparent substrate 2 made of a synthetic resin, a translucent reflecting film 3 formed on the substrate 2 and a hard coating film 4 coating the film 3. The coefft. of linear expansion of each of the films 3, 4 is lower than that of the substrate 2. The thermal expansion and shrinkage of the substrate 2 are suppressed by the coating film 4 and the cracking of the reflecting film 3 due to sudden thermal deformation of the substrate 2 can be prevented. Since the reflecting film 3 is coated with the coating film 4, the peeling of the film 3 from the substrate 2 is prevented even if the film 3 cracks and the function can be maintained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はハーフミラーに関
し、例えば、航空機や自動車等においてヘッドアップデ
ィスプレイを構成するのに適したものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a half mirror, which is suitable for constituting a head-up display in, for example, an aircraft or an automobile.

【0002】[0002]

【従来の技術】合成樹脂製の透明基材と、その基材上に
成膜される半透明反射膜とから構成されるハーフミラー
が、航空機や自動車等に装備されるヘッドアップディス
プレイを構成するために用いられている。
2. Description of the Related Art A half mirror composed of a transparent base material made of synthetic resin and a semitransparent reflective film formed on the base material constitutes a head-up display equipped in an aircraft, an automobile or the like. It is used for

【0003】その基材は、例えば、日本光学会(応用物
理学会)、1995年2月発行、光学、第24巻、第2
号、第69頁〜75頁に開示される光学用プラスチック
材料を用いて構成できる。その半透明反射膜は、例え
ば、同誌、第76頁〜82頁に開示される薄膜材料を、
その基材に蒸着することで構成できる。
The base material is, for example, the Optical Society of Japan (Japan Society of Applied Physics), published in February 1995, Optics, Vol. 24, No. 2.
No. pp. 69-75, the optical plastic material can be used. The semitransparent reflective film is made of, for example, a thin film material disclosed in the same magazine, pages 76 to 82,
It can be configured by vapor deposition on the base material.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ハーフミラーの基材を
構成する構成する合成樹脂材料の線膨張率は、半透明反
射膜を構成する薄膜材料の線膨張率の約10倍もある。
そのため、例えば、低温環境下においてデフロスターか
らの温風を受けること等により、ハーフミラーが急激な
温度変化すなわち熱衝撃にさらされた場合、基材の急激
な熱変形により引っ張られることで半透明反射膜にクラ
ック(割れ)が生じ、基材から半透明反射膜が剥離する
という問題がある。
The linear expansion coefficient of the synthetic resin material constituting the base material of the half mirror is about 10 times the linear expansion coefficient of the thin film material constituting the semitransparent reflective film.
Therefore, for example, when the half mirror is exposed to a sudden temperature change, that is, thermal shock, such as by receiving hot air from the defroster in a low temperature environment, it is pulled by the abrupt thermal deformation of the base material and is thus semi-transparent. There is a problem that the film is cracked and the semitransparent reflective film is separated from the base material.

【0005】本発明は、上記問題を解決することのでき
るハーフミラーを提供することを目的とする。
It is an object of the present invention to provide a half mirror which can solve the above problems.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明のハーフミラー
は、合成樹脂製の基材と、その基材上に成膜される半透
明反射膜と、その基材上に成膜された半透明反射膜を被
覆するハードコート膜とを備え、その半透明反射膜とハ
ードコート膜の各線膨張率は、その基材の線膨張率より
も小さいことを特徴とするハーフミラー。
The half mirror of the present invention comprises a base material made of synthetic resin, a semitransparent reflective film formed on the base material, and a semitransparent film formed on the base material. A half mirror, comprising: a hard coat film that covers the reflection film, wherein the linear expansion coefficient of each of the semitransparent reflection film and the hard coat film is smaller than the linear expansion coefficient of the substrate.

【0007】本発明の構成によれば、基材の熱膨張、熱
収縮がハードコート膜により抑制されるので、基材の急
激な熱変形により半透明反射膜にクラックが生じるのを
防止でき、また、半透明反射膜がハードコート膜により
被覆されることで、たとえクラックが生じても半透明反
射膜が基材から剥離するのを防止して機能を維持でき
る。
According to the constitution of the present invention, the thermal expansion and the thermal contraction of the base material are suppressed by the hard coat film, so that it is possible to prevent the semitransparent reflective film from being cracked due to the rapid thermal deformation of the base material. Further, by covering the semitransparent reflective film with the hard coat film, even if a crack occurs, the semitransparent reflective film can be prevented from peeling from the base material and the function can be maintained.

【0008】その半透明反射膜と基材の全体をハードコ
ート膜により被覆するのが好ましい。これにより、半透
明反射膜のクラック発生と基材からの剥離を、より確実
に防止できる。
It is preferable that the semitransparent reflective film and the entire substrate are covered with a hard coat film. This makes it possible to more reliably prevent the semitransparent reflective film from cracking and peeling from the base material.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施形態を説明する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0010】図1に示す光学用ハーフミラー1は、合成
樹脂製の透明基材2と、この基材2上に成膜される半透
明反射膜3と、この基材2上に成膜された半透明反射膜
3を被覆するハードコート膜4とを備える。
The optical half mirror 1 shown in FIG. 1 has a transparent base material 2 made of synthetic resin, a semitransparent reflective film 3 formed on the base material 2, and a film formed on the base material 2. And a hard coat film 4 that covers the semitransparent reflection film 3.

【0011】その半透明反射膜3とハードコート膜4の
各線膨張率は、その基材2の線膨張率よりも小さくされ
ている。
The linear expansion coefficient of each of the semitransparent reflection film 3 and the hard coat film 4 is smaller than that of the base material 2.

【0012】その基材2は、例えば、PMMA(アクリ
ル)、PC(ポリカーボネート)、ポリオレフィン系樹
脂等の透明合成樹脂から構成できる。その例示された各
合成樹脂材の線膨張率は7.0×10-5cm/cm/℃
である。
The substrate 2 can be made of, for example, a transparent synthetic resin such as PMMA (acrylic), PC (polycarbonate), or a polyolefin resin. The linear expansion coefficient of each of the exemplified synthetic resin materials is 7.0 × 10 −5 cm / cm / ° C.
It is.

【0013】その半透明反射膜3は、例えば、Al2
3 、ZrO2 、Y2 3 、HfO2、Sc2 3 、Th
2 、MgO等の高屈折材や、SiO2 、MgF2 、L
iF、LaF3 、NaF等の低屈折材を、基材2に蒸着
することで構成できる。なお、ハーフミラー用としては
高屈折材が主に用いられる。以下に、その例示された半
透明反射膜3の構成材料の線膨張率(単位はcm/cm
/℃)を示す。
The semitransparent reflective film 3 is made of, for example, Al 2 O.
3 , ZrO 2 , Y 2 O 3 , HfO 2 , Sc 2 O 3 , Th
High refraction materials such as O 2 and MgO, SiO 2 , MgF 2 and L
It can be formed by vapor-depositing a low-refractive material such as iF, LaF 3 , or NaF on the base material 2. A high refractive material is mainly used for the half mirror. The linear expansion coefficient (unit is cm / cm) of the constituent materials of the exemplified semitransparent reflective film 3 is shown below.
/ ° C.).

【0014】高屈折材 Al2 3 :0.59×10-5 ZrO2 :0.42×10-52 3 :0.73×10-5 HfO2 :0.38×10-5 Sc2 3 :0.66×10-5 ThO2 :0.724×10-5 MgO :1.05×10-5 低屈折材 SiO2 :0.05×10-5 MgF2 :1.6×10-5 LiF :3.7×10-5 LaF3 :0.46×10-5 NaF :3.6×10-5 High Refractive Material Al 2 O 3 : 0.59 × 10 -5 ZrO 2 : 0.42 × 10 -5 Y 2 O 3 : 0.73 × 10 -5 HfO 2 : 0.38 × 10 -5 Sc 2 O 3 : 0.66 × 10 −5 ThO 2 : 0.724 × 10 −5 MgO: 1.05 × 10 −5 Low refractive index material SiO 2 : 0.05 × 10 −5 MgF 2 : 1.6 × 10 -5 LiF: 3.7 × 10 -5 LaF 3: 0.46 × 10 -5 NaF: 3.6 × 10 -5

【0015】そのハードコート膜4は、基材2に成膜さ
れた半透明反射膜3を、例えば、ディップコートやスピ
ンコートによってシリコン系ハードコート材により被覆
することで構成できる。図示の状態はディップコートに
より、半透明反射膜3と基材2の全体をハードコート膜
4により被覆している。そのハードコート膜4を構成す
るシリコン系ハードコート材の線膨張率は、SiO2
同等の0.05×10-5cm/cm/℃と考えられる。
そのシリコン系ハードコート膜4は、屈折率nd=1.
43であり、構造は以下の構造式(1)に示す通りで
る。
The hard coat film 4 can be formed by coating the semitransparent reflective film 3 formed on the base material 2 with a silicon-based hard coat material by, for example, dip coating or spin coating. In the illustrated state, dip coating is used, and the semitransparent reflective film 3 and the substrate 2 are entirely covered with the hard coat film 4. The linear expansion coefficient of the silicon-based hard coat material forming the hard coat film 4 is considered to be 0.05 × 10 −5 cm / cm / ° C., which is equivalent to that of SiO 2 .
The silicon-based hard coat film 4 has a refractive index nd = 1.
43, and the structure is as shown in the following structural formula (1).

【0016】[0016]

【化1】 Embedded image

【0017】上記構成のハーフミラー1によれば、基材
2に成膜された半透明反射膜3を、その基材2よりも線
膨張率の小さいハードコート膜4により被覆すること
で、基材2の熱膨張、熱収縮をハードコート膜4により
抑制できる。これにより、基材2の急激な熱変形により
半透明反射膜3にクラックが生じるのを防止でき、ま
た、半透明反射膜3がハードコート膜4により被覆され
ることで、たとえクラックが生じても半透明反射膜3が
基材2から剥離するのを防止して機能を維持できる。こ
れにより、例えば、温度差60℃の熱衝撃にも耐えうる
耐熱衝撃性ハーフミラー1を得ることができる。
According to the half mirror 1 having the above structure, the semi-transparent reflective film 3 formed on the base material 2 is covered with the hard coat film 4 having a linear expansion coefficient smaller than that of the base material 2 to form a base. The thermal expansion and thermal contraction of the material 2 can be suppressed by the hard coat film 4. Thereby, it is possible to prevent the semitransparent reflective film 3 from being cracked due to the rapid thermal deformation of the base material 2. Further, by coating the semitransparent reflective film 3 with the hard coat film 4, even if the crack is generated, Also, the semitransparent reflective film 3 can be prevented from peeling from the base material 2 and the function can be maintained. Thereby, for example, the thermal shock resistant half mirror 1 that can withstand the thermal shock with the temperature difference of 60 ° C. can be obtained.

【0018】なお、本発明は上記実施形態に限定されな
い。例えば、基材、半透明反射膜、ハードコート膜の材
質は、半透明反射膜とハードコート膜の各線膨張率が基
材の線膨張率よりも小さく、ハーフミラーとして機能で
きるものであれば特に限定されない。
The present invention is not limited to the above embodiment. For example, the material of the base material, the semi-transparent reflection film, and the hard coat film is particularly preferably, if the linear expansion coefficient of each of the semi-transparent reflection film and the hard coat film is smaller than the linear expansion coefficient of the base material and can function as a half mirror. Not limited.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明のハーフミラーによれば、熱衝撃
による半透明反射膜のクラック発生を抑えると共に基材
からの剥離を防止し、機能不全に陥るのを防止できる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the half mirror of the present invention, it is possible to prevent the semitransparent reflective film from cracking due to thermal shock, prevent peeling from the substrate, and prevent malfunction.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施形態のハーフミラーの断面構成説
明図
FIG. 1 is a sectional configuration explanatory diagram of a half mirror according to an embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ハーフミラー 2 基材 3 半透明反射膜 4 ハードコート膜 1 Half mirror 2 Base material 3 Semi-transparent reflective film 4 Hard coat film

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 合成樹脂製の基材と、 その基材上に成膜される半透明反射膜と、 その基材上に成膜された半透明反射膜を被覆するハード
コート膜とを備え、 その半透明反射膜とハードコート膜の各線膨張率は、そ
の基材の線膨張率よりも小さいことを特徴とするハーフ
ミラー。
1. A base material made of synthetic resin, a semitransparent reflective film formed on the base material, and a hard coat film covering the semitransparent reflective film formed on the base material. A half mirror characterized in that the linear expansion coefficient of each of the semitransparent reflection film and the hard coat film is smaller than the linear expansion coefficient of the substrate.
【請求項2】 半透明反射膜と基材の全体をハードコー
ト膜により被覆する請求項1に記載のハーフミラー。
2. The half mirror according to claim 1, wherein the semitransparent reflective film and the entire substrate are covered with a hard coat film.
JP8103628A 1996-03-28 1996-03-28 Half mirror Pending JPH09265001A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8103628A JPH09265001A (en) 1996-03-28 1996-03-28 Half mirror

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8103628A JPH09265001A (en) 1996-03-28 1996-03-28 Half mirror

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09265001A true JPH09265001A (en) 1997-10-07

Family

ID=14359040

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP8103628A Pending JPH09265001A (en) 1996-03-28 1996-03-28 Half mirror

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09265001A (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013532297A (en) * 2010-04-09 2013-08-15 ザ テクノロジー パートナーシップ ピーエルシー Embedded lattice structure
WO2016158550A1 (en) * 2015-03-27 2016-10-06 コニカミノルタ株式会社 Display member and head-up display device
WO2023228780A1 (en) * 2022-05-27 2023-11-30 株式会社デンソー Display device and display optical component

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013532297A (en) * 2010-04-09 2013-08-15 ザ テクノロジー パートナーシップ ピーエルシー Embedded lattice structure
WO2016158550A1 (en) * 2015-03-27 2016-10-06 コニカミノルタ株式会社 Display member and head-up display device
WO2023228780A1 (en) * 2022-05-27 2023-11-30 株式会社デンソー Display device and display optical component

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4784467A (en) Multi-layered anti-reflection coating
US5725959A (en) Antireflection film for plastic optical element
JPH0282201A (en) Rear reflecting mirror of multilayered film for optical parts made of synthetic resin
US5172269A (en) Anti-reflection film for plastic optical component
US4988164A (en) Anti-reflection film for synthetic resin optical elements
JPH09265001A (en) Half mirror
JPS6135521B2 (en)
JPS60131501A (en) Reflective mirror of synthetic resin base
JP2000221302A (en) Antireflection film and its production
JP2000241612A (en) Reflector
JPH10123303A (en) Antireflection optical parts
JPH0442737B2 (en)
TR199600486A2 (en) Mirrors and mirrors.
JPH0836101A (en) Antireflection film of optical parts made of synthetic resin
JP3353948B2 (en) Beam splitter
JP2624827B2 (en) Half mirror
JPS6326603A (en) Reflection mirror consisting of synthetic resin member
JPH0461321B2 (en)
JPS63172201A (en) Two-layer antireflection coating
JP2979327B2 (en) Anti-reflective coating deposited on low melting point substrate
JP3502150B2 (en) Anti-reflective coating
JPS6258201A (en) Antireflection filter
JPH10123302A (en) Antireflection film
JP3560638B2 (en) Reflective film
KR930012260A (en) AR coating method for plastic material