JPS6258201A - Antireflection filter - Google Patents

Antireflection filter

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JPS6258201A
JPS6258201A JP60198970A JP19897085A JPS6258201A JP S6258201 A JPS6258201 A JP S6258201A JP 60198970 A JP60198970 A JP 60198970A JP 19897085 A JP19897085 A JP 19897085A JP S6258201 A JPS6258201 A JP S6258201A
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Japan
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layer
base material
coating
plastic base
filter
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JP60198970A
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Toshiro Shinohara
篠原 敏郎
Yuichi Kanda
勇一 神田
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Mitsubishi Shindoh Co Ltd
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Mitsubishi Shindoh Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To prevent the generation of cracks in multi-layered coating films and to improve the antireflection effect thereof by using yttria (Y2O3) to form a layer which contacts with a base material among said films. CONSTITUTION:The coating films 2 are formed on the plastic base material 1. The films 2 consist of the yttria layer 3 directly formed on the material 1, the 2nd coating layer 4 formed on the yttria layer 3 and the 3rd coating layer 5 formed on the 2nd coating layer 4. The yttria layer 3 is formed by using a thin film forming method such as vacuum deposition or sputtering method. Since the layer which contacts with the plastic base material is formed by using the yttria (Y2O3), the generation of the cracks in the coating films is suppressed even if the plastic base material elongates or contracts with a temp. change and at the same time the adhesiveness of the coating films and the plastic base material is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、コンピュータ端末機およびワードプロセッ
サ等のCRT用フィルタ、ならびに光学部品等に用いら
れる反射防止フィルタに関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Field of Industrial Application" The present invention relates to filters for CRTs in computer terminals and word processors, and antireflection filters used in optical components and the like.

「従来の技術」 近年、オフィスオートメーシジンの普及は著しいものが
あり、それに伴って、ディスプレー用CRTを長時間目
視することによる目の疲労が問題視され始めている。
``Prior Art'' In recent years, office automation has become extremely popular, and as a result, eye fatigue caused by viewing CRTs for display for long periods of time has begun to be seen as a problem.

このような目の疲労は、CRTの表面に反射して目に入
射される室内光によるところが大きいため、一般的に目
の疲労防止手段としては、CRTの表面近傍に室内光の
反射を抑えるための反射防止フィルタを取り付ける方法
が採られている。
Such eye fatigue is largely due to indoor light reflecting off the surface of the CRT and entering the eyes, so a general measure to prevent eye fatigue is to install a device near the surface of the CRT to suppress the reflection of indoor light. The method used is to attach an anti-reflection filter.

上記のような反射防止フィルタとして当初は、プラスチ
ック基村上に直接、数種の金属酸化物等のコーティング
剤をコーティングしたものが試作された。例えば、最も
一般的な3層構成のコーティング膜として、プラスチッ
ク基村上にアルミナ、酸化ジルコニウム、フッ化マグネ
シウムを順次蒸着したものなどがあった。
Initially, anti-reflection filters such as those described above were prototyped by coating a plastic substrate directly with coating agents such as several types of metal oxides. For example, the most common three-layer coating film is one in which alumina, zirconium oxide, and magnesium fluoride are sequentially deposited on a plastic substrate.

しかしながら、上記プラスチック基材は熱膨張率が大き
いうえ、たわみ易く、一方上記コーティング膜は伸縮性
に乏しいために、真空蒸着法などによるコーティング時
の加熱およびコーティング後の冷却によってプラスチッ
ク基材表面が伸縮し、コーティング膜、その中でも特に
プラスチ・ツク基材に接するアルミナ層にクラックが生
じ易いという問題があった。
However, the above-mentioned plastic base material has a large coefficient of thermal expansion and is easy to bend, while the above-mentioned coating film has poor elasticity, so the surface of the plastic base material expands and contracts due to heating during coating by vacuum evaporation method and cooling after coating. However, there was a problem in that cracks were likely to occur in the coating film, especially in the alumina layer that was in contact with the plastic substrate.

そこで第3図に示すような反射防止フィルタが考案され
た。この反射防止フィルタは、コーティング膜2とプラ
スチック基材lとの間に、二酸化ケイ素等からなる緩衝
層6を設けたものであり、この緩衝層6によって、プラ
スチック基材lが伸縮した時にコーティング膜2に生じ
る応力を緩和してクラックの発生を防止するとともに、
プラスチック基材lとコーティング膜2との接着性を高
めることが可能となった。
Therefore, an antireflection filter as shown in FIG. 3 was devised. This anti-reflection filter is provided with a buffer layer 6 made of silicon dioxide or the like between the coating film 2 and the plastic base material l, and this buffer layer 6 prevents the coating film from expanding or contracting when the plastic base material l expands or contracts. In addition to relaxing the stress generated in 2 and preventing the occurrence of cracks,
It became possible to improve the adhesiveness between the plastic base material 1 and the coating film 2.

「発明が解決しようとする問題点」 しかしながら、上記従来の反射防止フィルタにあっては
、緩衝層6を構成する二酸化ケイ素の屈折率が1,46
であり、これはプラスチック基材の屈折率(1,52前
後)に近いため、緩衝層6によって反射防止効果を得る
ことは不可能である。したがって、上記従来の反射防止
フィルタでは、反射防止のためのコーティング膜2以外
に緩衝層6を形成しなければならず、工程数が多く、フ
ィルタの製造コストが高いという問題があった。
"Problems to be Solved by the Invention" However, in the above conventional antireflection filter, the refractive index of silicon dioxide constituting the buffer layer 6 is 1.46.
Since this is close to the refractive index of the plastic base material (around 1.52), it is impossible to obtain an antireflection effect by the buffer layer 6. Therefore, in the above-mentioned conventional antireflection filter, the buffer layer 6 must be formed in addition to the coating film 2 for antireflection, resulting in a problem that the number of steps is large and the manufacturing cost of the filter is high.

また、二酸化ケイ素からなる緩衝層6を形成した従来の
反射防止フィルターでは、この緩衝層6を有するたぬに
、緩衝層6上に蒸着する第1のコーティング層としてア
ルミナ(屈折率1.63)、第2コーティング層として
酸化ジルコニウム、第3コーティング層(最外層)とし
てフッ化マグネシウムを選択した場合に最もフィルター
の反射防止効果が高くなるが、最外層のフッ化マグネシ
ウムは、特にプラスチック基材を用いた場合のように蒸
着時に充分な加熱が行えない場合には、物理特性が不安
定であり、摩擦等に対する耐久性に劣るという問題があ
った。そして、第3コーティング層として物理特性が安
定な二酸化ケイ素を用いようとすると、コーティング膜
2の反射防止特性のバランスが崩れてしまい、結果的に
緩衝層6を形成することによって第3コーティング層と
して耐久性に優れる二酸化ケイ素を用いることができな
くなるという不満があった。
In addition, in a conventional antireflection filter in which a buffer layer 6 made of silicon dioxide is formed, the first coating layer deposited on the buffer layer 6 is made of alumina (refractive index 1.63). The antireflection effect of the filter will be highest when zirconium oxide is selected as the second coating layer and magnesium fluoride is selected as the third coating layer (outermost layer), but magnesium fluoride as the outermost layer is particularly effective against plastic substrates. When sufficient heating cannot be carried out during vapor deposition, as in the case of using a carbon fiber, there is a problem that the physical properties are unstable and the durability against friction and the like is poor. If silicon dioxide, which has stable physical properties, is tried to be used as the third coating layer, the anti-reflection properties of the coating film 2 will be unbalanced, and as a result, by forming the buffer layer 6, the third coating layer There was a dissatisfaction that silicon dioxide, which has excellent durability, could no longer be used.

「問題点を解決するための手段」 この発明の反射防止フィルタは、プラスチック基村上に
施された多層コーティング膜のうち基材と接触する層が
イツトリア(Y to s)によって形成されてなるも
のである。
"Means for Solving the Problems" The anti-reflection filter of the present invention has a multilayer coating film applied on a plastic base material, in which the layer in contact with the base material is formed of Y to S. be.

「作用」 この発明の反射防止フィルタでは、プラスチック基村上
に接触して形成されたイツトリアからなるコーティング
層によって、コーティング膜にクラックが発生すること
を防止するとともに、反射防止効果を高めるものである
"Function" In the antireflection filter of the present invention, the coating layer made of yttoria formed in contact with the plastic substrate prevents cracks from occurring in the coating film and enhances the antireflection effect.

「発明の具体的な構成」 以下、図面を参照して、この発明の具体的な構成を・説
明する。
"Specific Configuration of the Invention" Hereinafter, the specific configuration of the present invention will be explained with reference to the drawings.

第1図は、この発明の反射防止フィルタの第1実施例を
示すもので、この図において符号lはプラスチック基材
である。このプラスチック基材l上には、コーティング
膜2が形成されており、このコーティング膜2は、プラ
スチック基材1上に直接形成されたイツトリア層3と、
このイツトリア層3上に形成された第二コーティング層
4と、さらにこの第二コーティング層4上に形成された
第三コーティング層5とからなるものである。
FIG. 1 shows a first embodiment of the antireflection filter of the present invention, and in this figure, reference numeral 1 indicates a plastic base material. A coating film 2 is formed on this plastic base material l, and this coating film 2 includes an ittria layer 3 formed directly on the plastic base material 1,
It consists of a second coating layer 4 formed on this itria layer 3, and a third coating layer 5 further formed on this second coating layer 4.

上記プラスチック基材1は、アクリル樹脂、ポリカーボ
ネート樹脂(PC)あるいはポリスチレン樹脂(PS)
等のプラスチックによって形成されたものである。
The plastic base material 1 is made of acrylic resin, polycarbonate resin (PC), or polystyrene resin (PS).
It is made of plastic such as

上記のイツトリア層3は、真空蒸着法あるいはスパッタ
法等の薄膜形成法を用いて形成したものである。このイ
ツトリア層3は、その光学的厚さくnd)が1/4λと
されている。ここでれは層の屈折率、dは層の厚さ、λ
は中心波長である(以下同様)。
The above-mentioned ittria layer 3 is formed using a thin film forming method such as a vacuum evaporation method or a sputtering method. The optical thickness (nd) of this ittria layer 3 is 1/4λ. where is the refractive index of the layer, d is the layer thickness, λ
is the center wavelength (hereinafter the same).

第二コーティング層4は、二酸化チタン、二酸化ジルコ
ン等のように従来から使用されている高屈折率コーティ
ング剤を用いて、上記イツトリア層3と同様に形成した
ものであり、その光学的厚さは1/2λとされている。
The second coating layer 4 is formed in the same manner as the ittria layer 3 using a conventionally used high refractive index coating agent such as titanium dioxide or zirconium dioxide, and its optical thickness is It is assumed to be 1/2λ.

第三コーティング層5は、低屈折率のコーティング剤の
うちでも比較的強度が高く、耐磨耗性に優れる二酸化ケ
イ素またはフッ化マグネシウム等を、上記イツトリア層
3と同様′の方法で形成してなるものであって、その光
学的厚さは1/4λとされている。
The third coating layer 5 is made of silicon dioxide or magnesium fluoride, which is relatively strong among low refractive index coating agents and has excellent abrasion resistance, and is formed by the same method as that for the ittria layer 3. Its optical thickness is 1/4λ.

次に、この反射防止フィルタの効果について説明する。Next, the effect of this antireflection filter will be explained.

次表はイツトリアと、一般に中間屈折率として使用され
ている他のコーティング剤と、従来緩衝層として使用さ
れていた二酸化ケイ素とを、それぞれプラスチック基材
(商品名;三菱レイヨン製アクリライトMR;屈折率1
.52.厚さ2j+x)上に所定厚さになるように真空
蒸着し、こうして得られたコーティング層に対して種々
の特性を比較したものである。
The following table shows the properties of Ittria, other coating agents that are generally used as intermediate refractive index materials, and silicon dioxide, which has traditionally been used as a buffer layer. rate 1
.. 52. 2j+x) was vacuum-deposited to a predetermined thickness, and various properties of the coating layer thus obtained were compared.

セaテープ試験1;セロテープ密着残存率試験9it’
)”:顕微鏡によってコーティング膜を400倍に拡大
して明察し、クラックの程度を1.2.3.4.5の5
段階で評価したもので、数値が大きい程クラックの発生
が少ないことを意味する。
Seatape test 1; Cellotape adhesion residual rate test 9it'
)": The coating film was magnified 400 times and examined clearly using a microscope, and the degree of cracks was determined in 5 of 1.2.3.4.5.
It is evaluated in stages, and the higher the value, the less cracks occur.

硬度3;鉛筆硬度試験 温水浸漬試験4;試料を50℃の温水に漬けたのち、所
定時間毎に上記セロテープ試験を行ない、その結果コー
ティング膜の接着性が不良と認められるまでの時間。
Hardness 3: Pencil hardness test Hot water immersion test 4: After immersing the sample in 50°C hot water, perform the cellophane tape test at predetermined intervals, and the time it takes until the adhesion of the coating film is found to be poor.

表によって示されるように、イツトリアによって形成さ
れたコーティング層はアクリル基材に対して高い接着性
を示すとともに、クラックの発生が少ない。なお、表中
−酸化ケイ素は耐久性において優れているが、屈折率が
低いために中間屈折率層として充分な反射防止効果を得
ることが困難である。
As shown by the table, the coating layer formed by Ittria exhibits high adhesion to the acrylic substrate and less cracking. Although silicon oxide in the table is excellent in durability, it has a low refractive index, so it is difficult to obtain a sufficient antireflection effect as an intermediate refractive index layer.

このような構成の反射防止フィルタでは、イツトリア層
3をプラスチック基材1と接触する層としたから、プラ
スチック基材1が温度変化によりて伸縮した場合にも、
コーティング膜2にクラックが発生するのを抑えること
ができると同時に、コーティング膜2とプラスチック基
材1との接着性を高めることができる。したがって、こ
の反射防止フィルタでは、従来の反射防止フィルタのよ
うに、反射防止層の他に二酸化ケイ素等からなる緩衝層
を設ける必要がなく、よってフィルタ製造工程の簡略化
ならびに製造コストの低下が可能である。
In the anti-reflection filter having such a structure, since the ittria layer 3 is a layer in contact with the plastic base material 1, even if the plastic base material 1 expands or contracts due to temperature changes,
It is possible to suppress the occurrence of cracks in the coating film 2, and at the same time, it is possible to improve the adhesion between the coating film 2 and the plastic base material 1. Therefore, unlike conventional anti-reflection filters, this anti-reflection filter does not require a buffer layer made of silicon dioxide or the like in addition to the anti-reflection layer, which simplifies the filter manufacturing process and reduces manufacturing costs. It is.

また、この反射防止フィルタでは、イツトリア層3が、
従来から使用されているアルミナ(屈折率1.63)等
の他のコーティング剤と比較して屈折率が高い(1,7
9)ために、第3コーティング層(最外層)として、従
来の二酸化ケイ素の緩衝層を有するフィルターでは使用
することができな力)つた、耐久性に優れかつ蒸着が容
易な二酸化ケイ素を選択することができる。したがって
、この反射防止フィルターのコーティング膜2は、第3
コーティング層5として二酸化ケイ素を選択することに
よって、耐久性に優れたものとすることができる。
Moreover, in this anti-reflection filter, the ittria layer 3 is
It has a higher refractive index (1,7
9) For the third coating layer (outermost layer), select silicon dioxide, which is highly durable and easy to deposit, since it cannot be used in filters with conventional silicon dioxide buffer layers. be able to. Therefore, the coating film 2 of this anti-reflection filter is
By selecting silicon dioxide for the coating layer 5, excellent durability can be achieved.

なお、この発明の反射防止フィルタは上記実施例に限ら
れるものではなく、他にも様々な変形が可能である。例
えば第2図に示すように、プラスチック基材1の両面に
イツトリア層3.3を最内層とするコーティング膜2.
2を形成することも可能であり、このようにした場合に
は、より高い反射防止効果を得ることができる。
Note that the antireflection filter of the present invention is not limited to the above embodiments, and various other modifications are possible. For example, as shown in FIG. 2, a coating film 2.3 is coated on both sides of a plastic substrate 1 with an ittria layer 3.3 as the innermost layer.
2 can also be formed, and in this case, a higher antireflection effect can be obtained.

「発明の効果」 この発明の反射防止フィルタは、多層コーティング膜の
うち、プラスチック基材と接触する層をイツトリア(Y
*Os)を用いて形成したから、プラスチック基材が温
度変化によって伸縮した場合にも、コーティング膜にク
ラックが発生するのを抑えることができ、それと同時に
コーティング膜とプラスチック基材との接着性を高める
ことができる。したがって、この反射防止フィルタでは
、従来のプラスチック製反射防止フィルタのように、反
射防止のためのコーティング層の他に二酸化ケイ素等か
らなる緩衝層を設ける必要がなく、よってフィルタ製造
工程の簡略化ならびに製造コストの低下が可能である。
"Effects of the Invention" The antireflection filter of the present invention has a multilayer coating film in which the layer in contact with the plastic base material is
*Os), it is possible to suppress the occurrence of cracks in the coating film even when the plastic base material expands and contracts due to temperature changes, and at the same time, it improves the adhesion between the coating film and the plastic base material. can be increased. Therefore, unlike conventional plastic anti-reflection filters, this anti-reflection filter does not require a buffer layer made of silicon dioxide or the like in addition to a coating layer for anti-reflection, which simplifies the filter manufacturing process. It is possible to reduce manufacturing costs.

また、この反射防止フィルタでは、イツトリア層が、従
来から使用されているアルミナ(屈折率1゜63)等の
他のコーティング剤と比較して屈折率が高い(1,79
)ために、最外層として、従来の二酸化ケイ素の緩衝層
を有するフィルターでは使用することができなかった、
耐久性に優れ“かつ蒸着が容易な二酸化ケイ素を選択す
ることができる。したがって、この反射防止フィルター
のコーティング膜は、最外層として二酸化ケイ素を選択
することによって、耐久性に優れたものとすることがで
きる。
In addition, in this antireflection filter, the ittria layer has a higher refractive index (1,79
) could not be used in filters with a conventional silicon dioxide buffer layer as the outermost layer,
Silicon dioxide, which is highly durable and easy to vapor deposit, can be selected. Therefore, the coating film of this anti-reflection filter can be made to have excellent durability by selecting silicon dioxide as the outermost layer. I can do it.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明の反射防止フィルタの第1実施例を示
す断面図、第2図はこの発明の反射防止フィルタの第2
実施例を示す断面図、第3図は従来の反射防止フィルタ
を示す断面図である。 l・・・プラスチック基材 2・・・コーティング膜 3・・・イツトリア層
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of the anti-reflection filter of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view showing a second embodiment of the anti-reflection filter of the present invention.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a conventional anti-reflection filter. l...Plastic base material 2...Coating film 3...Ittria layer

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] プラスチック基材の片面または両面に多層コーティング
膜が形成されてなる反射防止フィルタにおいて、上記多
層コーティング膜のうち基材と接触する層がイットリア
(Y_2O_3)で形成されていることを特徴とする反
射防止フィルタ。
An antireflection filter comprising a multilayer coating film formed on one or both sides of a plastic base material, wherein a layer of the multilayer coating film that contacts the base material is formed of yttria (Y_2O_3). filter.
JP60198970A 1985-09-09 1985-09-09 Antireflection filter Granted JPS6258201A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60198970A JPS6258201A (en) 1985-09-09 1985-09-09 Antireflection filter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP60198970A JPS6258201A (en) 1985-09-09 1985-09-09 Antireflection filter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6258201A true JPS6258201A (en) 1987-03-13
JPH0238922B2 JPH0238922B2 (en) 1990-09-03

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ID=16399950

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012189986A (en) * 2010-12-16 2012-10-04 Dainippon Printing Co Ltd Front plate for display, and display device

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JPH0238922B2 (en) 1990-09-03

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