JPH09263761A - 液晶精製用ペースト、それを用いた液晶セル及び液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶自体には影響を与えることなく不純物を
吸着でき、長期に亘って表示安定性があり特に高温環境
下（４０℃〜８０℃）でも長期表示安定性のある液晶セ
ル及び液晶表示装置を得る。 【解決手段】 テトラカルボン酸二無水物と、ジアミン
とを、生成するポリイミドを溶解しない溶媒中で反応さ
せて得られる多孔質ポリイミド粒子をペースト基剤に分
散させた液晶精製用ペーストを、液晶セルの液晶注入口
４付近又はシール材６内縁付近に塗布する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶精製用ペース
ト、それを用いた液晶セル及び液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】現在、液晶表示素子では、液晶注入口付
近と他の部分での表示むらや焼き付き現象などの表示特
性の劣化が問題となっている。このような表示特性の劣
化は、いずれも液晶中の不純物が原因となっている。す
なわち、液晶注入口付近と他の部分での表示むらは、液
晶をセル内に注入するとき、液晶中の不純物が注入口近
傍のポリイミド配向膜に吸着することに起因する。ま
た、焼き付きは、液晶を長期間同じ状態に置いたときに
生ずる現象であるが、これもセル内の液晶に含まれる不
純物に起因すると考えられている。

【０００３】液晶中に含まれる不純物を除去する手段と
しては、アルミナ、シリカ等の無機系化合物の粉末、イ
オン交換樹脂などを精製材として用いて液晶中のイオン
性不純物を除去する手段が提案されている（特開平１−
８７６８５号公報参照）。また、液晶を注入するための
液晶溜等の治具や配管内壁にポリイミド配向膜の材料と
同じ材料を被覆し、ポリイミド配向膜に吸着する不純物
を選択的に除去する手段が提案されている（特開平４−
２５８９２５号公報参照）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ところが、アルミナ、
シリカ等の無機系化合物の粉末、イオン交換樹脂など
は、吸着能が非常に強いため、ポリイミド配向膜に吸着
し液晶表示素子特性を劣化させるイオン性不純物ばかり
でなく、極性基を持つ液晶の混合物やカイラル剤等の他
の添加剤も吸着し液晶組成を変えてしまい、かえって表
示特性を劣化させてしまう。ポリイミドを破砕して精製
材として利用することも考えられるが、充分な不純物除
去効果を出すためには多量に添加しなければならず、高
価な液晶のロス分が大きくなってしまうという問題が生
じている。液晶を注入するための液晶溜等の治具や配管
内壁にポリイミド配向膜の材料と同じ材料を被覆し、ポ
リイミド配向膜に吸着する不純物を除去する手段では、
液晶と接触する面積が狭く、かつ、液晶を注入する過程
においてしか精製材と接触しないため不純物の除去が十
分行われない。初期表示特性は満足するが長期に亘って
の表示安定性及び高温環境下（４０℃〜８０℃）での長
期表示安定性が得られていない。さらに、液晶表示装置
の表示特性に影響する不純物は、配向膜、基板のシール
材や注入口の封口材から溶出する。精製材で不純物を除
去する手段では、このような不純物の対策とはなりえ
ず、したがって、初期表示特性は満足するが、長期に亘
っての表示安定性及び高温環境下（４０℃〜８０℃）で
の長期表示安定性が得られない。本発明は、液晶自体に
は影響を与えることなく不純物を吸着できる液晶精製用
ペースト、及び、、かつ、長期に亘っての表示安定性及
び高温環境下（４０℃〜８０℃）での長期表示安定性の
ある液晶セル及び液晶表示装置を提供することを目的と
するものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、液晶中の不純
物を吸着する吸着剤をペースト基剤に分散させてなる液
晶精製用ペーストである。吸着剤としては、吸着能が適
正であることからポリイミド粒子が好ましい。特に、テ
トラカルボン酸二無水物と、ジアミン又はジイソシアナ
ートとを、生成するポリイミドを溶解しない溶媒中で反
応させて得られる多孔質ポリイミド粒子がさらに好まし
い。本発明の液晶精製用ペーストは、液晶セル内におい
て、液晶注入口付近又はシール材内縁付近に塗布し、液
晶を注入して液晶表示装置とする。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明に用いられる液晶は、液晶
表示装置に一般的に使用される液晶であれば特に制限は
なく、また単一化合物でも、混合物でも特に制限はな
い。このような液晶としては、例えば、シッフ塩基系、
アゾ系、アゾキシ系、安息香酸エステル系、ビフェニル
系、ターフェニル系、シクロヘキシルカルボン酸エステ
ル系、フェニルシクロヘキサン系、ビフェニルシクロヘ
キサン系、ピリミジン系、ジオキサン系、シクロヘキシ
ルシクロヘキサンエステル系、シクロヘキシルエタン
系、シクロヘキサン系、トラン系、アルケニル系、２，
３−ジフルオロフェニレン系等のネマチック液晶、コレ
ステリック液晶、スメクチック液晶等が挙げられる。

【０００７】本発明に用いられる吸着剤としては、用い
る液晶に溶解しないものであればとくに制限はないが、
例えば、テトラカルボン酸二無水物とジアミン又はジイ
ソシアナートとを反応させて得られる一般式化１で表さ
れるポリイミドのほか、一般式化２で表されるポリアミ
ドイミド及びビスマレイミド重合体も含む。

【化１】 （化１中、Ｒ１は４価の有機基を示し、Ｒ２は２価の有
機基を示し、ｎは１より大きい整数である）

【化２】 （化１中、Ｒ３は２価の有機基を示し、Ｒ４は３価の有
機基を示し、ｑは１より大きい整数である。） なかでも、化１において、Ｒ１が４価の芳香族残基、Ｒ
２が２価の芳香族残基であるポリイミドが好ましく、Ｒ
１が化３で表される４価の芳香族残基から選ばれた基で
あり、Ｒ２が化４で表される２価の芳香族残基から選ば
れた基であるものが特に好ましい。

【化３】

【化４】 （化３及び化４において、Ｚは化５で表される基から選
ばれた基を示す）

【化５】

【０００８】テトラカルボン酸二無水物としては、特に
制限されるものではないが、例えば、ピロメリット酸二
無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカ
ルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテ
トラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレン
テトラカルボン酸二無水物、２，３，６，７−ナフタレ
ンテトラカルボン酸二無水物、２，３，５，６−ピリジ
ンテトラカルボン酸二無水物、１，４，５，８−ナフタ
レンテトラカルボン酸二無水物、３，４，９，１０−ペ
リレンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−スルホニ
ルジフタル酸二無水物、ｍ−ターフェニル−３，３”，
４，４”−テトラカルボン酸二無水物、ｐ−ターフェニ
ル−３，３”，４，４”−テトラカルボン酸二無水物、
４，４’−オキシジフタル酸無水物、１，１，１，３，
３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（２，３−又は
３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン二無水物、
２，２−ビス（２，３−又は３，４−ジカルボキシフェ
ニル）プロパン二無水物、２，２−ビス〔４，（２，３
−又は３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル〕プ
ロパン二無水物、１，１，１，３，３，３−ヘキサフル
オロ−２，２−ビス〔４−（２，３又は３，４−ジカル
ボキシフェノキシ）フェニル〕プロパン二無水物、１，
３−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）−１，１，
３，３−テトラメチルジシロキサン二無水物、１，１０
−デカンジオールビス（トリメリット酸無水物）等の芳
香族テトラカルボン酸二無水物、これらの芳香族テトラ
カルボン酸二無水物の水素還元体、及び、化６で表され
る脂環式テトラカルボン酸二無水物、２，３，５−トリ
カルボキシ−シクロペンチル酢酸二無水物、シクロブタ
ン−１，２，３，４−テトラカルボン酸二無水物、３，
３，４，４−シクロビフェニルテトラカルボン酸二無水
物などが用いられる。これらのテトラカルボン酸二無水
物は、単独でも２種類以上を組み合わせても使用するこ
とができる。

【化６】

【０００９】これらの酸無水物のうち、ポリイミド配向
膜に用いられている、ピロメリット酸二無水物、１，１
０−デカンジオールビス（トリメリット酸無水物）、
３，３，４，４−シクロビフェニルテトラカルボン酸二
無水物、シクロブタン−１，２，３，４−テトラカルボ
ン酸二無水物、２，３，５−トリカルボキシ−シクロペ
ンチル酢酸二無水物などが好ましい。

【００１０】ジアミンとしては、特に制限されるもので
はないが、例えば、脂肪族系、脂環族系、複素環族系、
芳香族系、シリコン系等のジアミンが使用できる。なか
でも、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、３，
４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミ
ノジフェニルメタン、４，４’−メチレン−ビス−
（２，６−ジメチルアニリン）、４，４’−メチレン−
ビス−（２，６−ジエチルアニリン）、４，４’−メチ
レン−ビス−（２−メチル−６−エチルアニリン）、
４，４’−ジアミノジフェニルスルホン、３，３’−ジ
アミノジフェニルスルホン、４，４’−ベンゾフェノン
ジアミン、３，３’−ベンゾフェノンジアミン、メタフ
ェニレンジアミン、パラフェニレンジアミン、４，４’
−ジ（４−アミノフェノキシ）フェニルスルホン、４，
４’−ジ（３−アミノフェノキシ）フェニルスルホン、
４，４’−ジ（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、３，
３’−ジ（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’
−ジ（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，４−ジア
ミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、４，４’−
ジアミノジフェニルプロパン、２，２−ビス〔４−（４
−アミノフェノキシ）フエニル〕プロパン、２，２−ビ
ス〔４−（３−アミノフェノキシ）フェニル〕プロパ
ン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２
−ビス〔４−（４−アミノフェノキシ）フェニル〕プロ
パン等の芳香族ジアミン、これら芳香族ジアミンの水素
還元体である脂環式ジアミンなどが用いられる。

【００１１】なかでも、４，４’−ジアミノジフェニル
エーテル、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，
４’−ベンゾフェノンジアミン、４，４’−ジアミノジ
フェニルスルホン、２，２−ビス〔４−（４−アミノフ
ェノキシ）フェニル〕プロパン、４，４’−メチレン−
ビス−（２，６−ジメチルアニリン）、４，４’−メチ
レン−ビス−（２，６−ジエチルアニリン）、４，４’
−メチレン−ビス−（２−メチル−６−エチルアニリ
ン）等の芳香族ジアミンが特に好ましい。

【００１２】また、ジアミンのほかに、３官能性以上の
ポリアミンをあわせて使用することにより、架橋性ポリ
イミドを得ることができる。このようなポリアミンとし
ては例えば１，２，４−トリアミノベンゼン等の芳香族
トリアミン、１，２，４，５−テトラアミノベンゼン、
３，３’−ジアミノベンジジン等の芳香族テトラアミ
ン、下記の一般式化７で表される芳香族ポリアミン等が
用いられる。

【化７】 （式中、ｊは０〜１０の整数）

【００１３】ジイソシアネートとしては、例えば、前記
したジアミンをホスゲン又は塩化チオニルと反応させて
得られるジイソシアネートが用いられる。また前記した
ポリアミンを同様に処理して得られるポリイソシアネー
ト又はジイソシアネートを三量化反応させて得られるイ
ソシアヌレート環含有ポリイソシアネートも用いられ
る。

【００１４】なかでも、４，４’−ジフェニルメタンジ
イソシアネート、４，４’−ジフェニルエーテルジイソ
シアネート、３，３’−ジメチルジフェニル−４，４’
−ジイソシアネート、トリレンジイソシアネート等の芳
香族ジイソシアネート等が好ましく用いられる。

【００１５】一般式化２で表されるポリアミドイミド
は、トリメリット酸の反応性酸誘導体とジアミン又はジ
イソシアナートとを反応させて得られる。トリメリット
酸の反応性酸誘導体としては、例えば、トリメリット酸
無水物、トリメリット酸無水物モノクロライド、１，４
−ジカルボキシ−３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルベ
ンゼン、１，４−ジカルボキシ−３−カルボフェノキシ
ベンゼン、１，４−ジカルボメトキシ−３−カルボキシ
ベンゼン、トリメリット酸とアンモニア、ジメチルアミ
ン、トリエチルアミンなどからなるアンモニウム塩類な
どが用いられる。トリメリット酸無水物、トリメリット
酸無水物モノクロライドが好ましい。

【００１６】以上述べたポリイミドとしては、一般式化
１又は化２で表される繰り返し単位と異なる繰り返し単
位（分岐した繰り返し単位又は三次元橋かけした繰り返
し単位）を含むことができる。

【００１７】ビスマレイミド重合体としては、例えば、
４，４’−ビスマレイミドジフェニルメタン、２，２−
ビス（４−（４−マレイミドフェノキシ）フェニル）プ
ロパン、ビス（４−（３−マレイミドフェノキシ）フェ
ニル）スルホン、３，４’−ビスマレイミドジフェニル
エーテル、１，２−ビス（４−マレイミドフェノキシ）
エタン、１，２−ビス（２−（４−マレイミドフェノキ
シ）エトキシ）エタン、１，６−ビスマレイミドヘキサ
ン等の重合体などが挙げられる。

【００１８】吸着剤としてのポリイミド粒子を得る方法
としては、例えば、ポリイミドの生成反応をポリイミド
配向膜材料の合成と同様にして溶液中で行い、溶液から
回収した粉粒体を機械粉砕する方法、溶液をポリイミド
の貧溶媒に加えながら高せん断下に微粒子化する方法、
溶液の噴霧油滴を乾燥して微粒子を得る方法、細孔を通
して形成した微粒子から回収する方法（膜乳化法）、非
水分散重合法（特公昭６０−４８５３１号公報、特開昭
５９−２３００１８号公報参照）、分散重合法（特開昭
５９−１０８０３０号公報、特開昭６０−２２１４２５
号公報、特開昭６３−２７７２４１号公報参照）、膜乳
化法（特開平２−９５４３３号公報参照）等で直接合成
によって得る方法等があり、任意の方法が用いられる。

【００１９】吸着剤としてのポリイミド粒子は、好まし
くはテトラカルボン酸二無水物とジアミンとを、得られ
る粒子状ポリイミドを溶解しない溶媒中で反応させて得
られる多孔質な粒子状ポリイミド及びテトラカルボン酸
二無水物とジイソシアナートとを、得られる粒子状ポリ
イミドを溶解しない溶媒中で反応させて得られる多孔質
な粒子状ポリイミドが好ましい。より好ましくは、芳香
族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミンとを、得
られる粒子状ポリイミドを溶解しない溶媒中で分散重合
させて得られる多孔質な粒子状ポリイミドが用いられ
る。

【００２０】上記した得られる粒子状ポリイミドを溶解
しない溶媒としては、例えば、アセトン、メチルエチル
ケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエ
ン、キシレン等の芳香族系溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、メタノール、エタノール、ブタノー
ル等のアルコール系溶媒、γ−ブチロラクトン、ε−カ
プロラクトン等のラクトン系溶媒、エチレングリコール
ジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチ
レングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリ
コールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル系溶媒、フェノール、メタクレゾール
等のフェノール系溶媒、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ
−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ−メチルカプロラクタム等の塩基性溶媒、水など
が用いられる。

【００２１】上記した分散重合の好ましい態様として
は、芳香族テトラカルボン酸二無水物（Ｉ）、芳香族ジ
アミン（II）及び水（III） を（Ｉ）と（II）をほぼ当
モルとし、（III） を（Ｉ）に対して１０〜２００モル
％の割合として１５０℃未満の温度で塩基性溶媒に溶解
させ、ついで、−２０〜３００℃の温度で反応させるこ
とが挙げられる。

【００２２】吸着剤としてのポリイミドには、分子主鎖
中にカルボキシル基又はアミド酸基を有していてもよ
く、その量は、反応率によって任意に調整できる。

【００２３】吸着剤の平均粒子径は、０．１〜５．０μ
ｍの範囲とされることが好ましく、１〜４．０μｍの範
囲とされることがより好ましい。平均粒子径大きすぎる
と比表面積が小さくなって不純物の吸着能が小さくな
り、電圧電圧保持率の向上効果が小さくなる傾向があ
り、また、ペーストのチキソトロピック性を低下させ
る。当然ではあるが、スペーサービーズよりも大きいと
液晶セルのギャップに影響するのでよくない。なお、ス
ペーサービーズの大きさは、通常、液晶セルのギャップ
（通常０．７〜１０μｍ）と同程度とされる。

【００２４】吸着剤の比表面積は、小さ過ぎると、液晶
の精製及び電圧保持率の向上効果が小さくなる傾向があ
るため、１ｍ²／ｇ以上とされることが好ましく、５ｍ²
／ｇ以上とされることがより好ましく、１０ｍ²／ｇ以
上とされることが特に好ましく、２０ｍ²／ｇ以上とさ
れることが極めて好ましい。比表面積の上限は特にない
が、通常５，０００ｍ²／ｇ程度である。吸着剤の平均
粒子径及び比表面積を所望の範囲とすることは、例え
ば、製造する際の反応条件（溶媒の種類、組合せ、使用
量、撹拌の仕方、反応温度、反応時間、沈でんのさせ方
等）を調整することにより行うことができる。

【００２５】吸着剤を分散させるペースト基剤として
は、ペースト可能な樹脂が用いられるが、熱硬化性樹
脂、光硬化性樹脂、２液性又は１液性の硬化性樹脂が好
ましい。２液性又は１液性の硬化性樹脂としては、液晶
パネルのシール材として市販れているものでもよい。硬
化性樹脂のほか耐熱性の熱可塑性樹脂でもよく、例え
ば、溶媒可溶性のポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
アミド樹脂が使用可能である。ペースト基剤はペースト
化可能な範囲で吸着剤と混合され、吸着剤１００重量部
に対して、２〜１００重量部が好ましく、さらに好まし
くは２〜５０重量部、より好ましくは５〜３０重量部と
される。吸着剤とペースト基剤との混練方法としては、
三本ロールミル法、ニーダー法を用いるのが好ましく、
特に、三本ロールミル法は吸着剤粒子を応力で破壊しな
いので好ましい。

【００２６】ペーストを液晶セル内に塗布する方法とし
ては、スクリーン印刷法、転写法、ノズル法、インクジ
ェット法などがあり、適宜選択すればよい。ペーストを
液晶セル内に塗布する位置やパターンは、液晶配向膜の
作用に影響しない位置、パターンであればよく他に制限
はないが、シール材を塗布する内側近傍や液晶注入口の
内側近傍が好ましい。シール材を塗布する内側近傍に塗
布するとシール材から溶出する不純物を吸着し、液晶注
入口の内側近傍に塗布すると、液晶注入時に液晶中の不
純物を吸着するからである。液晶セル内へのペーストの
塗布量は、吸着剤による不純物の吸着能が保持され、か
つ、得られる液晶セルに必要とされる光透過能力と表示
部分の面積が損なわれなければよく他に制限はない。吸
着能と光透過能力とのバランスの点から、液晶セル内の
容積に対し、通常、１〜５０容積％とされる。これより
多いと、液晶セルに必要とされる光透過能力及び表示部
分の面積を維持できない。また少ないと、不純物を充分
に吸着しえない。ペーストの塗布量は、塗布する幅と厚
さで制御される。ペーストを塗布する厚さは、使用する
吸着剤の粒子径と液晶セルのギャップに依存し、通常、
０．１〜１０μｍの範囲内で選択される。この範囲より
薄いと必要な塗布量を確保できないため、不純物の吸着
が不充分となるおそれがある。また、この範囲より厚く
塗布すると液晶セルの密封に支障がある。ペーストを塗
布する幅は、塗布厚さとも関連し、吸着剤による不純物
の吸着能が保持され、かつ、得られる液晶セルに必要と
される光透過能力と表示部分の面積を損なわない範囲で
可能な限り大きくするのが望ましい。通常は、シール材
の幅と同程度、すなわち、１〜２ｍｍとされる。この範
囲より狭いと、塗布量不足となり、広いと液晶セルに必
要とされる光透過能力及び表示部分の面積を維持できな
い可能性がある。なお、シール材の幅は、特に制限され
るものではないが、通常、１〜２ｍｍとされている。

【００２７】本発明の液晶セルは、吸着剤を分散した液
晶精製用ペーストを塗布する以外は、公知の方法によっ
て製造できる（例えば、「液晶の基礎と応用」（松本、
角田共著工業調査会発行１９９１年５月）参照）。その
方法を以下に簡単に説明する。２枚のガラス基板上に、
各々スパッタリング法等により所定のＩＴＯ透明電極を
形成し、さらに、その上にポリイミド又はその前駆体の
ワニスを成膜、乾燥し、必要に応じてラビングして液晶
配向膜を形成して液晶挟持基板とし、この液晶挟持基板
２枚を各々液晶配向膜が対向するようにして配置し、周
縁をシール材でシールし、シール部分に残した液晶注入
口から液晶を注入し、液晶注入口を封鎖する。液晶の注
入には、毛細管現象を利用する方法、減圧容器を用いて
液晶セルの内部と外部との気圧の差を利用する方法が用
いられる。

【００２８】本発明の液晶表示装置は、吸着剤を分散し
た液晶精製用ペーストをセル内に塗布する以外は、公知
の方法（例えば、「液晶の基礎と応用」（松本、角田共
著工業調査会発行１９９１年５月）参照）によって作成
することができる。液晶表示装置は、その表示形態によ
ってセグメント形表示、マトリクス形表示等に大別で
き、また、マトリクス形表示も、さらに単純マトリクス
形表示、アクティブマトリクス形表示等に分けられる。

【００２９】

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明はこれによって制限されるものではな
い。

【００３０】実施例１ 吸着剤の調製 温度計、かくはん機及び水分定量器を取り付けた３リッ
トルの四つ口フラスコ内にチッ素ガスを通しながら、ピ
ロメリット酸二無水物２１８ｇ（１モル）とＮ−メチル
ピロリドン１，６７３ｇとを入れ、かくはんしながら５
０℃に昇温し、この温度に３０分間保ってピロメリット
酸二無水物を完全に溶解して均一な溶液とした。これ
に、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル２００ｇ
（１モル）と水３６ｇ（２モル）を加え、ただちに１１
０℃に昇温し、この温度に２０分間保って４，４’−ジ
アミノジフェニルエーテルを完全に溶解した。次いで、
２時間かけて２００℃に昇温し、この温度で３時間反応
させた。この途中、１２５℃で粒子状ポリイミドの析出
が観察された。なお、反応中溜出するみずは速やかに系
外に除去するようにした。この反応により、Ｎ−メチル
ピロリドン中に分散した黄褐色の粒子状ポリイミドを得
た。粒子状ポリイミドをろ過回収し、アセトン煮沸を２
回繰り返した後、減圧下２００℃で５時間乾燥させた。
得られた粒子状ポリイミドはあ、平均粒径９μｍ、比表
面積４０ｍ²／ｇ（ＢＥＴ法、カルロエルバー社製ソー
プトマチック１８００型使用、以下も同じ）であった。
また、赤外吸収スペクトルでは、１，７８０ｃｍ^- イミ
ド基の特性吸収が顕著に認められた。

【００３１】液晶精製用ペーストの調製 得られた吸着剤１００部（重量部、以下同じ）と液晶表
示素子用シール材（三井東圧化学株式会社の商品名スト
ラクトボンド ＸＮ−２１−Ｓを使用）３０部とを混合
し、さらにジエチレングリコールモノメチルエーテル１
０部を加え、三本ロールミルにセットし、スクリーン印
刷に使用可能な粘度（４０〜６０Ｐａ・ｓ）になるまで
ジエチレングリコールモノメチルエーテルを蒸発させな
がら混練りして液晶精製用ペーストを得た。

【００３２】液晶セルの調製 ２枚のガラス基板１，１上にスパッタリング法により所
定のＩＴＯ透明電極２，２を形成した。ＩＴＯ透明電極
２，２を形成した面に、ピロメリット酸二無水物この上
に、と４，４’−ジアミノジフェニルエーテルとを反応
させて得られた配向膜用ポリアミド酸ワニスをスピンコ
ーターによって塗布し、２００℃で３０分間熱処理して
配向膜３，３を形成し、２枚の基板を向き合わせ、直径
５．０μｍのプラスチック粒子をスペーサーとして、シ
ール材６で貼りあわせた（図１の（ａ）参照）。シール
材としては、樹脂がＳＥ−４５００Ｃｌｅａｒ、硬化剤
がＳＥ−４５００ＣＡＴＡＬＹＳＴ（いずれも、ハブン
ケミカル社製であり、同社の商品名）である。このと
き、基板を貼りあわせる前に、液晶注入口４の内側近傍
５に前記液晶精製用ペーストをスクリーン印刷によって
塗布し、１５０℃で９０分間熱処理した（図１の（ｂ）
参照）。次に、基板間に液晶（メルク社製、商品名ＺＬ
Ｉ−４７９２）を真空含浸法によって注入し、注入口を
封止した。封止剤としては、紫外線硬化性樹脂（スリー
ボンド株式会社製の商品名 Ｔｈｒｅｅ ｂｏｎｄ３０
５２）を使用した。

【００３３】実施例２ 液晶精製用ペーストをシール材６内側近傍５１全周に塗
布した（図１の（ｃ）参照）ほか実施例１と同様にして
液晶セルを得た。

【００３４】比較例 液晶精製用ペーストを塗布せず、その他は実施例１と同
様にして液晶セルを得た。

【００３５】液晶セルの電圧保持率の測定 得られた液晶セルを用いて、電圧保持率を測定した。電
圧保持率の測定は、上記両基板のＩＴＯ電極間の電圧を
デジタルメモリースコープによりモニターする状態で、
パルス電圧を印加し、ＩＴＯ電極間の電圧の変化を測定
して行った。測定条件は、図２に示すモデル回路におけ
るゲートＧ−ソースＳ間に、パルス幅３０μ秒、電圧１
０Ｖのゲート信号を入力し、ドレインＤの電圧変化をソ
ノスコープ上に表し、その波形からドレイン波形実効値
を求め、下記計算式数１により計算した。

【００３６】

【数１】電圧保持率（％）＝１００×（ドレイン波形実
効値（Ｖ）／５（Ｖ））

【００３７】同様の測定を、得られた液晶セルを８０℃
で一定時間放置した後に行って経時変化を調べた。その
結果をあわせて表１に示す。表１において、放置時間の
単位は時間であり、電圧保持率の単位は％である。１０
００も比較例実施例５では６０．１％と低下したが、実
施例４では８５．０％と高く、高温下での表示安定性が
良好であった。

【００３８】

【表１】 ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━ 放置時間 ０ １００ ２００ ５００ １０００ ──────────────────────────────────── 実施例１ ９３．５ ８８．５ ８８．２ ８７．９ ８７．５ 実施例２ ９７．５ ９５．３ ９３．５ ９２．８ ９２．１ 比較例 ７８．２ ７０．１ ６７．５ ６５．１ ６２．３ ━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━━

【００３９】表１によれば、実施例１及び実施例２の液
晶セルは、当初の電圧保持率が９０％以上と高く、表示
特性が良好である。また、８０℃、１０００時間放置後
においても、実施例１の液晶セルでは８７．５％、実施
例２の液晶セルでは９２．１％である。これに対して、
比較例の液晶セルは当初の電圧保持率が７８．２％でと
低く、８０℃、１０００時間放置後においては６２．３
％に低下している。

【００４０】液晶表示装置の表示性能 液晶精製用ペーストを液晶注入口内側近傍５に塗布した
アクティブ駆動型液晶表示装置を作成したところ、その
表示特性（特に表示ムラ）は極めて優れたものであっ
た。同様に液晶精製用ペーストをシール材の内側近傍５
１全周に塗布したアクティブ駆動型液晶表示装置を作成
したところ、その表示特性（特に表示ムラ）は極めて優
れたものであった。

【００４１】

【発明の効果】本発明によれば、液晶中の不純物を吸着
する吸着剤をペースト基剤に分散させてなる液晶精製用
ペーストを用いることにより、液晶自体には影響を与え
ることなく不純物を吸着でき、この液晶精製用ペースト
を、液晶セル内に塗布しておくことにより、長期に亘っ
て表示安定性があり特に高温環境下（４０℃〜８０℃）
でも長期表示安定性のある液晶セル及び液晶表示装置を
得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例に関し、（ａ）は液晶セルの断
面図、（ｂ）及び（ｃ）は、液晶精製用ペーストの塗布
状態を示す平面図である。

【図２】電圧保持率測定の等価回路図である。

【符号の説明】

１ ガラス基板 ２ ＩＴＯ透明電極 ３ 配向膜 ４ 液晶注入口 ５ 液晶注入口内側近傍 ５１ シール材内側近傍 ６ シール材

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥田 直紀 茨城県日立市東町四丁目13番１号 日立化 成工業株式会社山崎工場内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 液晶中の不純物を吸着する吸着剤をペー
   スト基剤に分散させてなる液晶精製用ペースト。
2. 【請求項２】 吸着剤が、ポリイミド粒子である請求項
   １記載の液晶精製用ペースト。
3. 【請求項３】 ポリイミド粒子が、テトラカルボン酸二
   無水物と、ジアミンとを、生成するポリイミドを溶解し
   ない溶媒中で反応させて得られる多孔質ポリイミド粒子
   である請求項２記載の液晶精製用ペースト。
4. 【請求項４】 ポリイミド粒子が、テトラカルボン酸二
   無水物と、ジイソシアナートとを、生成するポリイミド
   を溶解しない溶媒中で反応させて得られる多孔質ポリイ
   ミド粒子である請求項２記載の液晶精製用ペースト。
5. 【請求項５】 請求項１、２、３又は４に記載の液晶精
   製用ペーストを液晶注入口付近又はシール材内縁付近に
   塗布してなる液晶セル。
6. 【請求項６】 請求項５記載の液晶セルを表示素子とし
   てなる液晶表示装置。