JPH09260443A - 半導体装置及びそのテスト方法 - Google Patents

半導体装置及びそのテスト方法

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JPH09260443A
JPH09260443A JP8062542A JP6254296A JPH09260443A JP H09260443 A JPH09260443 A JP H09260443A JP 8062542 A JP8062542 A JP 8062542A JP 6254296 A JP6254296 A JP 6254296A JP H09260443 A JPH09260443 A JP H09260443A
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positioning pad
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Hitoshi Imai
仁 今井
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  • Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 コンタクトの位置合わせの確認はできるが、
コンタクトの位置がずれた場合、ずれの方向が目視以外
では確認できないという問題がある。 【解決手段】 スクライブライン領域8内の、一の集積
回路形成領域7毎に、一方の位置決めパッドV1,V
2,V3,V4に電源電圧が印加されており、他方の位
置決めパッドG1,G2,G3,G4が接地されてお
り、所定の間隔を有する位置決めパッド対1〜4が形成
されており、第1の位置決めパッド対1はX軸方向に平
行に隣接しており、第2の位置決めパッド対2はY軸方
向に平行に隣接しており、第3の位置決めパッド対3は
X軸方向に対して時計回りに45°回転した方向に平行
に隣接しており、第4の位置決めパッド対4はX軸方向
に対して反時計回りに45°回転した方向に平行に隣接
している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造途中で
実施されるウエハ状態での、ウエハに形成された集積回
路のテスト工程において、テスタに装着されるプローブ
と集積回路の入出力端子や電源端子となるパッドとのコ
ンタクト位置合わせを行う半導体装置及びそのテスト方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】ウエハ状態でのウエハに形成された集積
回路の電気的及び機能的なテストを実施する場合、テス
トにて生成した信号の入力や電源を、プローバに装着し
たプローブカードに介して集積回路内部に供給する。そ
して、この集積回路は、テストから供給された入力信号
や電源に対して動作信号を出力し、今度は逆にプローブ
カードを介してその出力信号をテスタへ供給することに
より良否判定を行っていた。
【0003】したがって、ウエハ状態で集積回路のテス
トを実施する場合、プローブカードとパッドとのコンタ
クト位置にずれが生じていると、入力及び出力信号がテ
スタもしくは集積回路は供給されないため、集積回路の
正確な良否判定を行うことができない。
【0004】従来のプローブとパッドとの位置決めは、
プローバ装置の画像処理によるアライメント機能の有無
に関係無く、最終的には目視による徴調整を行ってい
た。その結果、多ピン化、狭ピッチ化が進むと目視での
コンタクト位置合わせ及び徴調整が困難になる。
【0005】上記問題点を解決するために、特開平1−
129432号公報に示されるように、位置決め探針5
1a〜51dがLSIチップ50の4コーナに設けられ
た位置決め端子52a〜52dを示している。この場
合、位置決め探針51a、LSI内の配線パターン53
a、位置決め探針51b、外部配線54、位置決め探針
51c、LSI内の配線パターン53b、位置決め探針
51dという閉ループがオープンモニタ55を介して構
成されている。
【0006】そして、オープンモニタ55で位置決め探
針51a、51d間の抵抗値を測定することにより、探
針の位置決めが正確に行われているときは低抵抗値を示
すことになる。また、1本以上が位置決め端子から外れ
ている場合、位置決め探針間の一部がオープン状態にな
り、オープンモニタでの抵抗値は非常に大きい値或は無
限大を示すことになる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
特開平1−129432号公報に示される方法では、コ
ンタクトの位置合わせの確認はできるが、コンタクトの
位置がずれた場合、ずれの方向が目視以外では確認でき
ないという問題がある。また、チップ内にコンタクト位
置ずれ確認用パッド等の回路を設ける必要があるため、
チップ面積の増大等の問題が発生する。
【0008】また、図11(a)、(b)に示すよう
に、チップ内に2重構造のコンタクト位置決めパッドを
設け、例えば、その2重構造パッドの外周部をn分割
し、それぞれのパッド61a〜61eに5種類の抵抗R
1〜R5を設け、この抵抗値を検出することにより、正
確なコンタクト位置合わせと、コンタクト位置ずれが発
生した場合、どの方向にずれが生じているかの確認を行
う方法を出願人は提案している(特願平7−26290
3号)。尚、60は半導体チップ、62は集積回路内の
電源端子や入出力端子となるパッドを示す。
【0009】尚、図11(a)は関連技術による半導体
装置の平面図であり、同(b)は図11(a)の一部拡
大図を示す。
【0010】しかしながら、この方法では、ずれの方向
はわかるが、2重構造のコンタクト位置決めパッドそれ
ぞれに設けられている抵抗の抵抗値が、ウエハ特性及び
ウエハ製造時の問題により、目標抵抗値と実抵抗値とは
異なる可能性があるため、場合によっては、正確にコン
タクト位置ずれの方向が検出できなくなる恐れがある。
【0011】本発明は、コンタクト位置合わせが正しく
されているか否かの確認と、コンタクト位置ずれが生じ
た場合に、各端子のパッドからプローブがはみ出る前
に、どの方向にどれだけずれているかを容易に認識する
手段を提供することを目的とするものである。
【0012】
【課題を解決するための手段】請求項1記載の本発明の
半導体装置は、複数の集積回路が形成された半導体ウエ
ハからなる半導体装置において、上記半導体ウエハの所
定の領域に、一方のパッドに電源電圧が印加されてお
り、他方のパッドが接地されており、所定の間隔を有す
るパッド対が少なくとも4組形成されており、第1の上
記パッド対のパッド同士はX軸方向に平行に隣接してお
り、第2の上記パッド対のパッド同士はY軸方向に平行
に隣接しており、第3の上記パッド対のパッド同士はX
軸方向に対して時計回りに45°回転した方向に平行に
隣接しており、第4の上記パッド対のパッド同士はX軸
方向に対して反時計回りに45°回転した方向に平行に
隣接していることを特徴とするものである。
【0013】また、請求項2記載の本発明の半導体装置
は、上記第1のパッド対、第2のパッド対、第3のパッ
ド対及び第4のパッド対が、上記半導体ウエハのスクラ
イブライン領域内の、一の上記集積回路毎、又は複数の
上記集積回路が形成された所定の領域毎に形成されてい
ることを特徴とする、請求項1記載の半導体装置であ
る。
【0014】更に、請求項3記載の本発明の半導体装置
のテスト方法は、請求項1又は請求項2記載の半導体装
置におけるテスト方法であって、上記第1のパッド対、
第2のパッド対、第3のパッド対及び第4のパッド対と
上記集積回路の所定のパッドとに同時にプローブをコン
タクトさせ、上記第1のパッド対、第2のパッド対、第
3のパッド対及び第4のパッド対における電圧状態の検
出出力に基づいて、上記プローブの上記集積回路内のパ
ッドに対する位置ずれの方向を判断して、上記プローブ
と上記集積回路内のパッドとの位置合わせを行った後、
上記プローブを用いた所定のテストを行うことを特徴と
するものである。
【0015】
【発明の実施の形態】以下、発明の一実施の形態に基づ
いて本発明について詳細に説明する。
【0016】図1(a)は本発明の一実施の形態の半導
体装置のコンタクト位置決め用パッドの配置を示す図、
同(b)は図1(a)のプローブをコンタクトした状態
での一部拡大図、図2は図1の半導体装置において、プ
ローブがコンタクト位置決め用パッド(以下、「位置決
めパッド」と略す。)及び集積回路内の電源端子や入出
力端子となるパッド(以下、「集積回路内パッド」と略
す。)に対して、位置ずれの無いコンタクト状態を示す
図、図3は図1の半導体装置において、プローブが位置
決めパッド及び集積回路内パッドに対して、上方向への
位置ずれが生じた場合のコンタクト状態を示す図、図4
は図1の半導体装置において、プローブが位置決めパッ
ド及び集積回路内パッドに対して、下方向への位置ずれ
が生じた場合のコンタクト状態を示す図、図5は図1の
半導体装置において、プローブが位置決めパッド及び集
積回路内パッドに対して、左斜め上方向への位置ずれが
生じた場合のコンタクト状態を示す図、図6は図1の半
導体装置において、プローブが位置決めパッド及び集積
回路内パッドに対して、右斜め下方向へのずれが生じた
場合のコンタクト状態を示す図、図7は図1の半導体装
置において、プローブが位置決めパッド及び集積回路内
パッドに対して、左回転方向(+θ)への位置ずれが生
じた場合のコンタクト状態を示す図である。
【0017】以下、図1を用いて、本発明の一実施の形
態の複数の集積回路が形成された半導体ウエハからなる
半導体装置に設けられた位置決めパッドについて説明す
る。
【0018】図1(b)に示すように、長方形の位置決
めパッドV1,V2,V3,V4は電源に接続されてお
り、パッドG1、G2、G3、G4は接地されている。
そして、位置決めパッドV1と位置決めパッドG1とが
所定の間隔を有して隣接してなる第1の位置決めパッド
対(以下、「第1の位置決めパッド対」と略す。)1、
位置決めパッドV2と位置決めパッドG2とが所定の間
隔を有して隣接してなる第2位置決めパッド対(以下、
「第2の位置決めパッド対」と略す。)2、位置決めパ
ッドV3と位置決めパッドG3とが所定の間隔を有して
隣接してなる第3位置決めパッド対(以下、「第3の位
置決めパッド対」と略す。)3、位置決めパッドV4と
位置決めパッドG4とが所定の間隔を有して隣接してな
る第4位置決めパッド対(以下、「第4の位置決めパッ
ド対」と略す。)4がそれぞれ、図1(a)に示すよう
にスクライブライン領域8上の集積回路領域7の4隅に
配置されている。
【0019】また、図1(a)に示すように、第1の位
置決めパッド対1はX軸方向に平行に、第2の位置決め
パッド対2はY軸方向に平行に、第3の位置決めパッド
対3はX軸方向に対して時計回りに45°回転した方向
に平行に、第4の位置決めパッド対4はX軸方向に対し
て反時計回りに45°回転した方向に平行に配置されて
いる。
【0020】尚、位置決めパッドVn、Gnの形状は長
方形に限定されない。また、位置決めパッドVnには同
一電源又はそれぞれ異なる電源と接続してもよい。
【0021】更に、図1(b)に示すように、位置決め
パッドVnと位置決めパッドGnとの間隔dn(n=1
〜4)が、位置決めパッドVn、Gnとコンタクトする
プローブ5bの先端径と等しければ、コンタクト位置ず
れ検出を高精度で行えるが、プローブ5bの先端径のバ
ラツキを考慮しなければならず、プローブカードの作製
が困難である。また、間隔dnがプローブ5bの先端径
の3倍以上である場合はコンタクトがプローブ5bの1
本分ずれた場合でもコンタクト位置ずれが検出不可能と
なり、精度は悪くなる。また、位置決めパッドVn、G
nの長さL、パッドの幅Wはコンタクト位置ずれの大き
さに関係しており、大きいほどコンタクト位置ずれの大
きさに対して余裕度がある。このような理由から、位置
決めパッドVn、Gn間の間隔dn、位置決めパッドV
n、Gnの長さL、位置決めパッドVn、Gnの幅Wは
プローブ5bの先端径及びコンタクト位置ずれを検出し
たときに集積回路内パッド6から集積回路内パッド6と
コンタクトするプローブ5aが外れないことを考慮し、
必要とするコンタクト位置ずれ検出精度に応じて適宜設
定する。
【0022】次に、図2〜図7を用いて、プローブ5a
が集積回路内パッド6に対してしてどのように位置ずれ
した場合に、プローブ5bが第1の位置決めパッド対
1、第2の位置決めパッド対2、第3の位置決めパッド
対及び、第4の位置決めパッド対4に対してどのような
位置にコンタクトしているかについて説明する。
【0023】尚、説明のため、位置ずれのない場合のプ
ローブ5aの集積回路内パッド6に対するコンタクト位
置をXY座標の原点とする。このとき、プローブ5bは
位置決めパッドV1、V2、V3、V4、G1、G2、
G3、G4のいずれにもコンタクトしないため、すべて
のプローブ5bに検出される電位はオープンとなる。
【0024】次に、プローブ5aの集積回路内パッド6
に対するコンタクト位置が、集積回路内パッド6の中心
から上方向(+Y)にずれた場合について説明する。図
3に示すように、この場合のプローブ5aの集積回路内
パッド6に対するコンタクト位置は、XY座標における
Y軸上正方向に位置する。このとき検出されるプローブ
5bの電位は第1の位置決めパッド対1においてはオー
プン、第2の位置決めパッド対2においては接地電位、
第3の位置決めパッド対3においては電源電位、第4の
位置決めパッド対4においては電源電位となる。
【0025】次に、プローブ5aの集積回路内パッド6
に対するコンタクト位置が、集積回路内パッド6の中心
から下方向(−Y)にずれた場合について説明する。図
4に示すように、この場合のプローブ5aの集積回路内
パッド6に対するコンタクト位置は、XY座標における
Y軸上負方向に位置する。このとき検出されるプローブ
5bの電位は、第1の位置決めパッド対1においてはオ
ープン、第2の位置決めパッド対2においては電源電
位、第3の位置決めパッド対3及び第4の位置決めパッ
ド対4においては接地電位となる。
【0026】次に、プローブ5aの集積回路内パッド6
に対するコンタクト位置が、集積回路内パッド6の中心
から左斜め上方向にずれた場合について説明する。図5
に示すように、この場合のプローブ5aの集積回路内パ
ッド6に対するコンタクト位置は、XY座標における第
2象限に位置する。このとき検出されるプローブ5bの
電位は、第1の位置決めパッド対1においては電源電
位、第2の位置決めパッド対2においては接地電位、第
3の位置決めパッド対3においては電源電位、第4の位
置決めパッド対4においてはオープンとなる。
【0027】次に、プローブ5aの集積回路内パッド6
に対するコンタクト位置が、集積回路内パッド6の中心
から右斜め下方向にずれた場合について説明する。図6
に示すように、この場合のプローブ5aの集積回路内パ
ッド6に対するコンタクト位置は、XY座標における第
4象限に位置する。このとき検出されるプローブ5b電
位は、第1の位置決めパッド対1においては接地電位、
第2の位置決めパッド対2においては電源電位、第3の
位置決めパッド対3においては接地電位、第4の位置決
めパッド対4においてはオープンとなる。
【0028】次に、プローブ5aの集積回路内パッド6
に対するコンタクト位置が、左回転方向(+θ)にずれ
た場合について説明する。図7に示すように、この場
合、プローブ5aの集積回路内パッド6に対するコンタ
クト位置はXY座標における第3象限、第1の位置決め
パッド対1はXY座標における第4象限、第2の位置決
めパッド対2はXY座標における第1象限、第3の位置
決めパッド対3はXY座標における第3象限、第4の位
置決めパッド対4はXY座標における第2象限に位置す
るとすると、このとき検出されるプローブ5bの電位
は、第1の位置決めパッド対1及び第2の位置決めパッ
ド対2は接地電位、第3の位置決めパッド対3及び第4
の位置決めパッド対4はオープンとなる。
【0029】また、右方向、左方向、左斜め下方向、右
斜め上方向、右回転方向にずれた場合も同様にしてコン
タクト位置ずれを検出する。すべてのコンタクト位置ず
れについての各プローブ5bに検出される電位を表1に
示す。
【0030】
【表1】
【0031】このように、コンタクト位置ずれ方向によ
って検出される電位の組み合わせがすべて異なるため、
コンタクト位置ずれ及びずれ方向を検出することが可能
となる。
【0032】そして、第1の位置決めパッド対1、第2
の位置決めパッド対2、第3の位置決めパッド対3、第
4の位置決めパッド対4にプローブ5bをコンタクトさ
せ、電源及び接地に対する導通チェックを行うことによ
り、プローブ5aの集積回路内パッド6に対するコンタ
クト位置を検出する。
【0033】以下、本発明のプローブ5aと集積回路内
パッド5aとの位置決め工程を示す図8を用いて、本発
明の半導体装置を用いたウエハ状態での集積回路の電気
的テスト及び機能的テストを行う際の、プローブ5aと
集積回路内パッド6との位置合わせ方法について説明す
る。
【0034】尚、テスタで集積回路の各種の電気的特性
を試験する場合には、テスタに装着されるプローブカー
ドにおいて、通常の入出力端子や、電源端子となる集積
回路内パッド6に接触すべきプローブ5aとは別に、位
置決めパッド対1〜4に対応したプローブ5bを設けて
おく。そして、初期状態で、プローブ5a、5bと位置
決めパッド対1〜4及び集積回路内パッド6とのコンタ
クトずれがないようにプローブ5a、5bを設定してお
く。
【0035】次に、プローブ5a、5bと位置決めパッ
ド対1〜4及び集積回路内パッド6とコンタクトさせ、
位置決めパッド対1〜4におけるプローブ5bの状態確
認し、ずれがない場合すなわち4隅の位置決めパッド対
1〜4におけるプローブ5bが全てオープン状態である
場合は、通常のプローブ5aによる集積回路の各種電気
的特性等のテストフローに移る。
【0036】また、ずれが発生し、いずれかの位置決め
パッド対1〜4におけるプローブ5bが電源もしくは接
地レベルであれば、どの位置決めパッド対1〜4におけ
るプローブ5bが電源又は接地レベルであるかを判断
し、表1に基づいて、どの方向にずれているかを判定す
る。
【0037】その後、プローブ5a、5bのずれを補正
し、再び、位置決めパッド対1〜4の電位状態確認す
る。そして、ずれがなくなるまで、上記工程を繰り返
し、プローブ5a、5bのずれを修正する。
【0038】尚、上記位置決め工程において、コンタク
ト位置ずれが検出された場合、コンタクト位置補正機能
をもったプローブ5aであれば、プローブ5bと位置決
めパッド対1〜4との、コンタクト状態を検出し、位置
ずれの補正を行うことにより、正確なコンタクトの位置
での電気的特性等の集積回路のテストが可能となる。
【0039】以上、本実施の形態においては、集積回路
領域のサイズ縮小のため、位置決めパッド対1〜4はス
クライブライン領域8上に形成したが、図9に示すよう
に、集積回路形成領域7内の例えば4隅に位置決めパッ
ド対1〜4を形成しても、位置ずれの方向の検出は可能
である。
【0040】
【発明の効果】以上、詳細に説明したように、本発明を
用いることにより、ウエハ製造時の特性バラツキの影響
を受けることなく、プローブと集積回路内の電源端子や
入出力端子となるパッドとのコンタクト位置ずれ方向を
容易に検出でき、半導体ウエハに搭載させた集積回路内
の入出力端子又は電源、接地のパッドからプローブがは
み出す前にコンタクト位置ずれを検出しながら徴調整を
行うことできるので、ウエハに搭載された集積回路を破
壊することはなく、正確な位置合わせができ、ウエハテ
スト時におけるコンタクト位置ずれ不良を防ぐことがで
きる。
【0041】また、集積回路形成領域の外部のスクライ
ブライン上に電源又は接地に接続した位置決めパッド対
を設けることにより、チップ面積を増大させることはな
い。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)は本発明の一実施の形態の半導体装置の
コンタクト位置決め用パッドの配置を示す図であり、
(b)は(a)におけるプローブをコンタクトした状態
での一部拡大図である。
【図2】図1の半導体装置において、プローブがコンタ
クト位置決め用パッド及び集積回路内の電源端子や入出
力端子となるパッドに対して、位置ずれの無いコンタク
状態を示す図である。
【図3】図1の半導体装置において、プローブがコンタ
クト位置決め用パッド及び集積回路内の電源端子や入出
力端子となるパッドに対して、上方向への位置ずれが生
じた場合のコンタクト状態を示す図である。
【図4】図1の半導体装置において、プローブがコンタ
クト位置決め用パッド及び集積回路内の電源端子や入出
力端子となるパッドに対して、下方向への位置ずれが生
じた場合のコンタクト状態を示す図である。
【図5】図1の半導体装置において、プローブがコンタ
クト位置決め用パッド及び集積回路内の電源端子や入出
力端子となるパッドに対して、左斜め上方向への位置ず
れが生じた場合のコンタクト状態を示す図である。
【図6】図1の半導体装置において、プローブがコンタ
クト位置決め用パッド及び集積回路内の電源端子や入出
力端子となるパッドに対して、右斜め下方向への位置ず
れが生じた場合のコンタクト状態を示す図である。
【図7】図1の半導体装置において、プローブがコンタ
クト位置決め用パッド及び集積回路内の電源端子や入出
力端子となるパッドに対して、左回転方向への位置ずれ
が生じた場合のコンタクト状態を示す図である。
【図8】本発明のプローブとパッドとの位置決め工程を
示す図である。
【図9】本発明の他の実施の形態の半導体装置の平面図
である。
【図10】第1の従来の半導体装置の平面図である。
【図11】(a)は関連技術における半導体装置の平面
図であり、(b)は同(a)の一部拡大図である。
【符号の説明】
1 第1の位置決めパッド対 2 第2の位置決めパッド対 3 第3の位置決めパッド対 4 第4の位置決めパッド対 5a、5b プローブ 6 集積回路内のパッド 7 集積回路形成領域 8 スクライブライン領域 V1、V2、V3、V4、G1、G2、G3、G4 位
置決めパッド

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の集積回路が形成された半導体ウエ
    ハからなる半導体装置において、 上記半導体ウエハの所定の領域に、一方のパッドに電源
    電圧が印加されており、他方のパッドが接地されてお
    り、所定の間隔を有するパッド対が少なくとも4組形成
    されており、 第1の上記パッド対のパッド同士はX軸方向に平行に隣
    接しており、 第2の上記パッド対のパッド同士はY軸方向に平行に隣
    接しており、 第3の上記パッド対のパッド同士はX軸方向に対して時
    計回りに45°回転した方向に平行に隣接しており、 第4の上記パッド対のパッド同士はX軸方向に対して反
    時計回りに45°回転した方向に平行に隣接しているこ
    とを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 上記第1のパッド対、第2のパッド対、
    第3のパッド対及び第4のパッド対が、上記半導体ウエ
    ハのスクライブライン領域内の、一の上記集積回路毎、
    又は複数の上記集積回路が形成された所定の領域毎に形
    成されていることを特徴とする、請求項1記載の半導体
    装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は請求項2記載の半導体装置
    におけるテスト方法であって、 上記第1のパッド対、第2のパッド対、第3のパッド対
    及び第4のパッド対と上記集積回路の所定のパッドとに
    同時にプローブをコンタクトさせ、上記第1のパッド
    対、第2のパッド対、第3のパッド対及び第4のパッド
    対における電圧状態の検出出力に基づいて、上記プロー
    ブの上記集積回路内のパッドに対する位置ずれの方向を
    判断して、上記プローブと上記集積回路内のパッドとの
    位置合わせを行った後、上記プローブを用いた所定のテ
    ストを行うことを特徴とする、請求項1又は請求項2記
    載の半導体装置のテスト方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006066561A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Nec Electronics Corp 半導体装置及びその検査方法と検査装置並びに半導体装置の製造方法
US8404496B2 (en) 1999-11-11 2013-03-26 Fujitsu Semiconductor Limited Method of testing a semiconductor device and suctioning a semiconductor device in the wafer state
CN106093750A (zh) * 2016-06-17 2016-11-09 深圳市燕麦科技股份有限公司 用于电路板测试的转接电路板和转接装置
CN112449721A (zh) * 2018-05-15 2021-03-05 深圳市柔宇科技股份有限公司 衬垫、覆晶薄膜及柔性装置

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8404496B2 (en) 1999-11-11 2013-03-26 Fujitsu Semiconductor Limited Method of testing a semiconductor device and suctioning a semiconductor device in the wafer state
US8759119B2 (en) 1999-11-11 2014-06-24 Fujitsu Semiconductor Limited Method of testing a semiconductor device and suctioning a semiconductor device in the wafer state
JP2006066561A (ja) * 2004-08-26 2006-03-09 Nec Electronics Corp 半導体装置及びその検査方法と検査装置並びに半導体装置の製造方法
JP4519571B2 (ja) * 2004-08-26 2010-08-04 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置及びその検査方法と検査装置並びに半導体装置の製造方法
CN106093750A (zh) * 2016-06-17 2016-11-09 深圳市燕麦科技股份有限公司 用于电路板测试的转接电路板和转接装置
CN112449721A (zh) * 2018-05-15 2021-03-05 深圳市柔宇科技股份有限公司 衬垫、覆晶薄膜及柔性装置

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