JPH09257832A

JPH09257832A - エレクトレット応用装置及びその製造方法

Info

Publication number: JPH09257832A
Application number: JP7069096A
Authority: JP
Inventors: Takuro Nakamura; 卓郎中邑; Shigeaki Tomonari; 恵昭友成; Mitsuo Ichiya; 光雄一矢
Original assignee: Matsushita Electric Works Ltd
Current assignee: Panasonic Electric Works Co Ltd
Priority date: 1996-03-26
Filing date: 1996-03-26
Publication date: 1997-10-03

Abstract

(57)【要約】【課題】性能ばらつきの小さなエレクトレット応用装置
を提供する。【解決手段】固定片２０と、可動部１０ａを一体的に
有する可動片１０と、可動部１０ａにおける固定片２０
側の面に形成されたエレクトレット３とを有する。エレ
クトレット３の等価電圧は、固定片２０と可動片１０と
を接合した後に可動部１０ａのエレクトレット３が形成
された面と反対側の面にレーザー照射を行うことによっ
て調整してある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エレクトレット応
用装置及びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来のエレクトレット応用装置の公知例
としては特開平２−１００２２４号公報に示される静電
駆動型リレーがあり、この静電駆動型リレーは、シリコ
ン基板からなる固定電極上にエレクトレットが形成され
た固定片と、シリコン基板を異方性エッチングすること
によって形成したカンチレバー部よりなる可動電極を有
する可動片とが接合されている。ここで、エレクトレッ
トは、固定片と可動片とを接合する前にコロナ放電、電
子ビーム照射、イオン照射等によって帯電させてエレク
トレット化してある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記静電駆
動型リレーの製造においては、固定片と可動片とを接合
する際に２００℃〜５００℃程度の温度が印加される。
また、ガラス基板よりなる固定片とシリコン基板からな
る可動片とを陽極接合技術によって接合する場合は基板
を４００℃程度まで加熱する必要がある。このような接
合工程は、他のエレクトレット応用装置、例えば、加速
度センサや圧力センサ等の固定片と可動片とを接合する
場合も同様である。しかしながら、いずれのエレクトレ
ット応用装置も固定片と可動片とを接合する前にエレク
トレットが形成されているので、前記接合工程によって
エレクトレットの等価電圧が低下し、この際に接合温度
や接合時間等の若干の違いによりエレクトレットの等価
電圧の値が異なって等価電圧のばらつきが大きくなって
しまうという問題があった。このため、静電駆動型リレ
ーの場合は製品間の駆動電圧のばらつきが大きくなり、
加速度センサや圧力センサ等の場合は製品間のセンサ出
力のばらつきが大きくなるという問題があった。

【０００４】本発明は上記事由に鑑みて為されたもので
あり、その目的は、性能ばらつきの小さいエレクトレッ
ト応用装置及びその製造方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明は、上記
目的を達成するために、固定電極を有する固定片と、前
記固定電極に空隙を介して対向する可動部を有し前記可
動部が揺動自在に支持され前記固定片に接合された可動
片と、前記可動部における前記固定片に対向する面側に
形成されたエレクトレットとを有し、前記エレクトレッ
トは、前記固定片と前記可動片とを接合した後に等価電
圧が調整されていることを特徴とするものであり、エレ
クトレットの等価電圧のばらつきが小さいので、性能ば
らつきが小さなエレクトレット応用装置を提供すること
ができる。

【０００６】請求項２の発明は、固定電極を有する固定
片と、前記固定電極に空隙を介して対向する可動部を有
し前記可動部が揺動自在に支持され前記固定片に接合さ
れる可動片と、前記可動部における前記固定片に対向す
る面側に形成されるエレクトレットとを有するエレクト
レット応用装置の製造方法において、前記エレクトレッ
トを形成して前記固定片と前記可動片とを接合した後
に、可動部のエレクトレットが形成された面と反対側の
面にレーザ照射を行うことによって前記エレクトレット
の等価電圧を調整する調整工程を有することを特徴とす
るものであり、レーザの強度、パルス幅、レーザ照射時
間等を任意に設定することによって前記可動部を介して
エレクトレット３に与える熱の温度を制御することによ
り、エレクトレットの等価電圧を制御性良く調整するこ
とができる。また、比較的波長が短い青色域から紫外線
域までのレーザを用いることにより光励起によってエレ
クトレットの等価電圧を制御性良く小さくすることがで
きるので、等価電圧を調整してエレクトレット応用装置
の性能ばらつきを小さくすることができる。

【０００７】請求項３の発明は、請求項１の発明におい
て、エレクトレットと可動部との間に抵抗加熱用電極が
形成されているので、固定片と可動片とを接合した後に
前記抵抗加熱用電極に電流を流すことによって前記エレ
クトレットに効率良く熱を与えて等価電圧の調整を行う
ことができ、この際に電流値と電流供給時間を電源側で
制御することにより前記エレクトレットに与える熱を調
整でき、制御性良く等価電圧の調整を行うことができる
から、エレクトレットの等価電圧のばらつきが小さく、
性能ばらつきが小さなエレクトレット応用装置を提供す
ることができる。

【０００８】請求項４の発明は、請求項１の発明におい
て、可動部のエレクトレットが形成された面と反対側の
面に抵抗加熱用電極が形成されているので、固定片と可
動片とを接合した後に前記抵抗加熱用電極に電流を流す
ことによって前記エレクトレットに効率良く熱を与えて
等価電圧の調整を行うことができ、この際に電流値と電
流供給時間を電源側で制御することにより前記エレクト
レットに与える熱を調整できるから、制御性良く等価電
圧の調整を行うことができ、エレクトレットの等価電圧
のばらつきが小さくて性能ばらつきが小さなエレクトレ
ット応用装置を提供することができる。

【０００９】請求項５の発明は、固定電極を有する固定
片と、前記固定電極に空隙を介して対向する可動部を有
し前記可動部が揺動自在に支持され前記固定片に接合さ
れた可動片と、前記固定片の固定電極の前記可動部に対
向する面に形成されたエレクトレットとを有し、前記エ
レクトレットは、前記固定片と前記可動片とを接合した
後に等価電圧が調整されていることを特徴とするもので
あり、前記エレクトレットの等価電圧のばらつきが小さ
いので、性能ばらつきの小さなエレクトレットを提供す
ることができる。

【００１０】請求項６の発明は、固定電極を有する固定
片と、前記固定電極に空隙を介して対向する可動部を有
し前記可動部が揺動自在に支持され前記固定片に接合さ
れる可動片と、前記可動部における前記固定片に対向す
る面側に形成されるエレクトレットとを有するエレクト
レット応用装置の製造方法において、前記可動部におけ
る前記固定片に対向する面側に抵抗加熱用電極を形成す
る第１の工程と、前記抵抗加熱用電極の表面に前記エレ
クトレットを形成する第２の工程と、前記固定片と前記
可動片とを接合する第３の工程と、前記固定片と前記可
動片とを接合した後に前記抵抗加熱用電極に電流を流し
前記抵抗加熱用電極を加熱することによって前記エレク
トレットの等価電圧を調整する第４の工程を有すること
を特徴とするものであり、前記抵抗加熱用電極に流す電
流の大きさ及び供給時間を制御することによりエレクト
レットの等価電圧を制御性良く調整することができる。

【００１１】請求項７の発明は、固定電極を有する固定
片と、前記固定電極に空隙を介して対向する可動部を有
し前記可動部が揺動自在に支持され前記固定片に接合さ
れる可動片と、前記可動部における前記固定片に対向す
る面側に形成されるエレクトレットとを有するエレクト
レット応用装置の製造方法において、前記可動部におけ
る前記固定片に対向する面と反対側の面に抵抗加熱用電
極を形成する第１の工程と、前記可動部における前記固
定片と対向する面側に前記エレクトレットを形成する第
２の工程と、前記固定片と前記可動片とを接合する第３
の工程と、前記固定片と前記可動片とを接合した後に前
記抵抗加熱用電極に電流を流し前記抵抗加熱用電極を加
熱することによって前記エレクトレットの等価電圧を調
整する第４の工程を有することを特徴とするものであ
り、前記抵抗加熱用電極に流す電流の大きさ及び供給時
間を制御することによりエレクトレットの等価電圧を制
御性良く調整することができる。

【００１２】請求項８の発明は、請求項３又は請求項４
の発明において、抵抗加熱用電極が、入力電圧印加用電
極又は出力電圧検出用電極を兼ねるので、製造工程を削
減でき、製造コストを低減することができる。請求項９
の発明は、請求項１、３、４、８いずれか１項に記載の
発明において、可動部は固定電極に対向する可動電極を
有し前記固定電極と前記可動電極との間に印加される外
部電圧によって発生する静電力で前記固定電極側に一端
部が移動するように他端部が支持固定され、前記可動部
の移動により互いに接離する接点が可動部の一端部とこ
の一端部に対応する固定片の端部とに形成され、これら
接点が外部電気回路に接続された静電駆動型リレーを構
成したので、駆動電圧のばらつきが小さな静電駆動型リ
レーを提供することができる。

【００１３】請求項１０の発明は、請求項１、３、４、
８いずれか１項に記載の発明において、可動片は重り
部、一端が前記重り部に一体連結された撓み部、前記撓
み部の他端が一体連結され前記撓み部により前記重り部
を揺動自在に支持する支持部が形成され、固定片は前記
重り部と間隔を空けて対向する固定電極を有し前記可動
片に接合される加速度センサを構成したので、センサ出
力のばらつきが小さな加速度センサを提供することがで
きる。

【００１４】請求項１１の発明は、請求項１、３、４、
８いずれか１項に記載の発明において、可動部がダイア
フラム部よりなり、圧力センサを構成したので、センサ
出力のばらつきが小さな圧力センサを提供することがで
きる。請求項１２の発明は、可動部がダイアフラム部よ
りなり、可動片及び固定片の少なくともどちらか一方に
前記ダイアフラム部と前記固定片との間の空間と外部と
を連通させる通気孔を備えたマイクロホンを構成したの
で、出力のばらつきが小さなマイクロホンを提供するこ
とができる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。（実施の形態１）図１に本実施の形態のエレクトレット
応用装置の概略断面図を示す。本エレクトレット応用装
置は、固定片２０と、可動部１０ａを一体的に有する可
動片１０と、可動部１０ａにおける固定片２０側の面に
形成されたエレクトレット３とを有する。ここで、エレ
クトレット３の等価電圧は、固定片２０と可動片１０と
を接合した後に可動部１０ａのエレクトレット３が形成
された面と反対側の面にレーザー照射を行うことによっ
て調整してある。

【００１６】図２に静電駆動型リレーの断面図を示す。
本静電駆動型リレーは、固定電極を有する固定片２０
に、可動部（カンチレバー部）１０を有する可動片１０
がＡｕＧｅ−Ａｕ共晶よりなる金属薄膜層３０を介して
接合してある。なお、固定片２０と可動片１０とは絶縁
膜２７、絶縁膜１８によって電気的に絶縁分離されてい
る。本静電駆動型リレーでは、可動部１０ａが可動電極
を兼ねており、可動部１０ａは固定片１０と対向する面
側にはエレクトレット３及び接点４１が形成されてい
る。また、固定片２０はシリコン基板２２よりなり固定
電極を兼ねており、接点４１と対向する部位には絶縁膜
２７ａを介して接点４２が形成されている。この静電駆
動型リレーでは、固定片２０と可動片１０とに駆動電圧
を印加することにより静電力を発生させ接点４１、４２
を接離させリレーを動作させる。

【００１７】ところで、従来の静電駆動型リレーでは、
固定片２０と可動片１０との接合工程における熱の影響
で製品間の駆動電圧のばらついていたが、本静電駆動型
リレーでは、固定片２０と可動片１０とを接合した後
に、可動部１０ａの上側からレーザ照射を行うことによ
ってエレクトレット３を加熱しエレクトレット３の等価
電位を調整してあるので、従来よりも駆動電圧のばらつ
きが小さい。

【００１８】以下、上記静電駆動型リレーの製造方法を
簡単に説明する。まず、固定片２０の製造方法について
述べる。所謂熱酸化法によってシリコン基板２２の全面
にシリコン酸化膜を形成し、例えばフォトリソグラフィ
技術とドライエッチング技術によってシリコン基板２２
の一面側に形成されたシリコン酸化膜の一部をエッチン
グしてシリコン酸化膜からなるマスクを形成する。その
後、露出したシリコン基板２２を所定深さだけ異方性エ
ッチングすることにより凹部２２ａを形成する。その
後、再び熱酸化を行ってシリコン基板２２の全面にシリ
コン酸化膜を形成し、フォトリソグラフィ技術とドライ
エッチング技術によって前記シリコン酸化膜を所定領域
だけ除去するこによってシリコン酸化膜よりなる絶縁膜
２７、２７ａ、２８を形成する。その後、メッキ技術に
よって絶縁膜２７ａ上に接点４２を形成し、図２の接合
部３０に相当する位置にＡｕを形成することによって図
２に示す構造の固定片２０が得られる。

【００１９】次に、可動片１０の製造方法について述べ
る。なお、可動片１０と固定片２０の製造はどちらが先
という順序はない。所謂熱酸化法によってシリコン基板
１１の全面にシリコン酸化膜を形成し、例えばフォトリ
ソグラフィ技術とドライエッチング技術等によって所定
領域のシリコン酸化膜をエッチングしてシリコン酸化膜
よりなる絶縁膜１７、１８を形成する。その後、絶縁膜
１７、１８をマスクとして、シリコン基板１１をエッチ
ングすることにより可動部１０ａを形成する。続いて、
例えばプラズマＣＶＤ法等によってエレクトレット用の
酸化膜３を可動部１０ａの一表面に形成し、所定の形状
にエッチングした。ここで、酸化膜３は、例えばモノシ
ラン（ＳｉＨ₄）ガスと亜酸化窒素（Ｎ₂Ｏ）ガスとを
原料ガスとしたプラズマＣＶＤ法により形成する。な
お、プラズマＣＶＤ装置の電極に印加する高周波電圧の
周波数は１３．５６ＭＨｚとすることが望ましい。

【００２０】次に、可動部１０ａの、酸化膜３が形成さ
れた面側に、メッキ技術によって接点４１を形成し、そ
の上にＡｕＧｅを形成する。その後、異方性ドライエッ
チング技術（例えば、反応性イオンエッチング）可動部
１０ａの周囲をコ字状に切り離すことによって図５に示
した構造の可動片１０が得られる（なお、可動部１０ａ
を切り離す際には酸化膜３が帯電しないようにしてい
る）。

【００２１】次に、コロナ放電によって酸化膜３を帯電
させるこによりエレクトレット３を形成する（酸化膜３
をエレクトレット化する）。続いて、例えば略３５０℃
に加熱された加熱試料台の上に固定片２０と可動片１０
とを載せ１分間加熱しＡｕＧｅ−Ａｕ共晶よりなる金属
薄膜層３０を形成することによって金属薄膜層３０を介
して固定片２０と可動片１０とを接合する。

【００２２】ところで、この接合工程によってエレクト
レットの等価電圧は、コロナ放電によって帯電した時の
値よりも低下する。しかし、本実施の形態では、接合工
程の後に、例えばＹＡＧレーザ等によって、可動部１０
ａのエレクトレット３が形成されていない側の面に矢印
Ａの方向からレーザ照射を行う（すなわち、エレクトレ
ット３には直接レーザが当たらない）ことによってエレ
クトレット３の等価電圧の調整を行う。レーザ照射を行
う場合は、レーザの強度、パルス幅、レーザ照射時間等
を任意に設定することによってエレクトレット３に与え
る熱の温度を制御性良く調整している。このため、エレ
クトレット３の等価電圧のばらつきを小さくすることが
でき、その結果、製造時の歩留りが向上するとともに、
駆動電圧のばらつきが小さな静電駆動型リレーを提供す
ることができるのである。

【００２３】また、比較的波長が短い（光子エネルギが
大きい）青色域から紫外線域までのレーザ（例えば、Ａ
ｒ⁺レーザ、Ｎ₂レーザ、エキシマレーザ等）を用いれ
ば、光励起によってエレクトレットの等価電圧を制御性
良く小さくすることができるので、コロナ放電等によっ
て酸化膜３を帯電させる時に等価電圧を目標値よりも大
きく設定しておくことにより、等価電圧を調整して目標
値に合わせることができ、静電駆動型リレーの性能ばら
つきを小さくすることができる。

【００２４】さらに、レーザのビーム径を小さくするこ
とによって、微細な部分への熱又は光の供給が可能とな
る。なお、レーザ照射がエレクトレット３に直接行われ
ないので、レーザ照射によるエレクトレットの損傷は発
生しない。また、可動片１０と固定片２０とを接合する
前のエレクトレットの帯電方法はコロナ放電に限定する
ものではなく、電子ビーム照射やイオン照射等でもよ
い。

【００２５】図３に加速度センサの断面図を示す。本加
速度センサは、重り部１３、一端が重り部１３に一体連
結された撓み部１４、撓み部１４の他端が一体連結され
撓み部１４により重り部１３を揺動自在に支持する支持
部１２が形成された可動片１０と、重り部１３と間隔を
空けて対向する検出用電極２３が形成された固定片２０
と、重り部１３において検出用電極２２に対向する面側
に形成されたエレクトレット３とを有する。ここで、こ
の加速度センサでは、固定片２０と可動片１０とを陽極
接合技術によって接合した後に、重り部１３のエレクト
レット３が形成されていない方の面に矢印Ａの方向から
レーザ照射を行うことによってエレクトレット３を加熱
しエレクトレット３の等価電位を調整してある。

【００２６】以下、上記加速度センサの製造方法を説明
する。まず、固定片２０の製造方法について述べる。ガ
ラス基板である絶縁基板２３をエッチングすることによ
り絶縁基板２３に凹所４を設ける。その後、凹所４の内
周面に例えばクロム（Ｃｒ）からなる検出用電極２２を
形成することによって図３に示す構造の固定片２０が得
られる。

【００２７】次に、可動片１０の製造方法について述べ
る。シリコン基板１１の全面に所謂熱酸化法によってシ
リコン酸化膜を形成し、例えばフォトリソグラフィ技術
とドライエッチング技術等によって所定領域のシリコン
酸化膜をエッチングしてシリコン酸化膜よりなるマスク
を形成する。その後、露出したシリコン基板１１を異方
性エッチングすることにより重り部１３、撓み部１４、
支持部１２を形成する。その後、重り部１３の一方の面
にプラズマＣＶＤ法などによってエレクトレット用の酸
化膜３を形成する。続いて、例えば反応性ドライエッチ
ング装置（以下、ＲＩＥ装置と称す）等を用いた異方性
ドライエッチングによって、重り部１３を撓み部１４以
外の部位で切り離す。

【００２８】次に、例えばコロナ放電によって酸化膜３
を帯電させるこによりエレクトレット３を形成する。続
いて、４００℃に加熱した加熱試料台の上で陽極接合技
術によって可動片１０と固定片２０とを接合する。な
お、固定片２０と可動片１０とはどちらを先に製造して
もよい。次に、例えばＹＡＧレーザなどによって図３の
矢印Ａの方向からレーザ照射を行うことによりエレクト
レット３の等価電圧の調整を行う。ここで、静電駆動型
リレーで説明したように、レーザ照射を行うこによって
等価電圧のばらつきを小さくできるので、センサ出力の
ばらつきが小さな加速度センサが得られるのである。

【００２９】図４に圧力センサの断面図を示す。本圧力
センサは、絶縁基板２３に固定電極２５が形成された固
定片２０と、シリコン基板１１に凹所４を設けるこによ
ってダイアフラム部よりなる可動部１０ａ’が形成され
た可動片１０と、可動部１０ａ’における固定電極（検
出用電極）２５に対向する面側に形成されたエレクトレ
ット３とを有する。ここで、本圧力センサでは、固定片
２０と可動片１０とを陽極接合技術によって接合した後
に、可動部１０ａ’のエレクトレット３が形成されてい
ない側の面に矢印Ａの方向からレーザ照射を行うことに
よってエレクトレット３を加熱しエレクトレット３の等
価電位を調整してある。

【００３０】以下、上記圧力センサの製造方法を説明す
が、固定片２０と可動片１０とはどちらを先に製造して
もよい。固定片２０は、絶縁基板２３の一表面に固定電
極２５を形成することによって図４に示す構造が得られ
る。一方、可動片１０は、シリコン基板１１に熱酸化膜
を形成し、この熱酸化膜を所定の形状に加工し、熱酸化
膜をマスクとして露出したシリコン基板１１を異方性エ
ッチングすることによってシリコン基板１１に凹所４を
設けダイアフラム部よりなる可動部１０ａ’を形成す
る。次に、シリコン基板の凹所４が形成された面側から
プラズマＣＶＤ法等によってエレクトレット用の酸化膜
３を形成し、エッチングによって可動部１０ａ’の部位
にのみ残るように加工する。その後、コロナ放電等によ
って酸化膜３を帯電させることによりエレクトレット３
を形成する。続いて、図５に示すように、例えば４００
℃に加熱した加熱試料台６０の上に固定片２０を載せ、
その上に固定電極２５とエレクトレット３とが凹所４を
介して対向するように配置して陽極接合技術によって可
動片１０と固定片２０とを接合する。なお、本製造方法
では、接合工程時、上記配置にすることによって、図５
中に矢印で示すように熱が伝わるようにして、エレクト
レット３の等価電圧の低下を小さくしている。次に、例
えばＹＡＧレーザなどによって図３の矢印Ａの方向から
レーザ照射を行うことによりエレクトレット３の等価電
圧の調整を行う。ここで、静電駆動型リレーで説明した
ように、レーザ照射を行うこによって等価電圧のばらつ
きを小さくできるので、センサ出力のばらつきが小さな
圧力センサが得られるのである。

【００３１】図６にマイクロホンの断面図を示す。本マ
イクロホンは、絶縁基板２３に固定電極２５が形成され
空気孔５１が貫設された固定片２０と、シリコン基板１
１に凹所４を設けるこによってダイアフラム部よりなる
可動部１０ａ’が形成された可動片１０と、可動部１０
ａ’の固定電極２５に対向する面側に形成されたエレク
トレット３とを有する。ここで、本マイクロホンでは、
固定片２０と可動片１０とを陽極接合技術によって接合
した後に、可動部１０ａ’のエレクトレット３が形成さ
れていない方の面に矢印Ａの方向からレーザ照射を行う
ことによってエレクトレット３を加熱しエレクトレット
３の等価電位を調整してある。なお、可動部１０ａ’は
所謂振動板電極を兼ねており、固定電極及び振動板電極
に電源電圧が供給されている時、音圧によって可動部１
０ａ’が振動して電極間隔（可動部１０ａ’と固定電極
との距離）が変わるとともに静電容量が変化し、このと
き生じる電圧が音声信号として取り出されるのである。

【００３２】以下、上記マイクロホンの製造方法を簡単
に説明する。固定片２０は、絶縁基板２３の一表面にＣ
ｒよりなる固定電極２５を形成し、その後、絶縁基板２
３に穴を開けることによって空気孔５１を形成すること
によって図６に示す構造が得られる。一方、可動片１０
は、シリコン基板１１に熱酸化膜を形成し、この熱酸化
膜を所定の形状に加工し、熱酸化膜をマスクとして露出
したシリコン基板１１を異方性エッチングすることによ
ってシリコン基板１１に凹所４を設けダイアフラム部よ
りなる可動部１０ａ’を形成する。次に、シリコン基板
１１の凹所４が形成された面側からプラズマＣＶＤ法等
によってエレクトレット用の酸化膜３を形成し、エッチ
ングによって可動部１０ａ’の部位にのみ残るように加
工する。その後、コロナ放電等によって酸化膜３を帯電
させることによりエレクトレット３を形成する。続い
て、４００℃に加熱した加熱試料台の上に載せ、陽極接
合技術によって可動片１０と固定片２０とを接合する。
次に、例えばＹＡＧレーザなどによって図３の矢印Ａの
方向からレーザ照射を行うことによりエレクトレット３
の等価電圧の調整を行う。ここで、静電駆動型リレーで
説明したように、レーザ照射を行うこによって等価電圧
のばらつきを小さくできるので、出力のばらつきが小さ
なマイクロホンが得られるのである。

【００３３】（実施の形態２）図７に本実施の形態のエ
レクトレット応用装置の概略断面図を示す。本エレクト
レット応用装置は、固定片２０と、可動部１０ａを一体
的に有する可動片１０と、可動部１０ａにおける固定片
２０に対向する面側に形成されたエレクトレット３と、
可動部１０ａにおいてエレクトレット３が形成された面
と反対側の面に形成された抵抗加熱用電極５とを有す
る。ここで、エレクトレット３の等価電圧は、固定片２
０と可動片１０ａとを接合した後に抵抗加熱用電極５に
電流を流すことによってエレクトレット３の等価電位を
調整してある。

【００３４】図８に静電駆動型リレーの断面図を示す。
本静電駆動型リレーの基本構造は実施の形態１の図２と
略同じであり、その特徴とするところは、可動部１０ａ
におけるエレクトレット３が形成されている面と反対側
の面に抵抗加熱用電極５が形成され、固定片２０と可動
片１０とを接合した後に、抵抗加熱用電極５に電流を流
すことによってエレクトレット３の等価電位が調整され
ていることにある。

【００３５】本静電駆動型リレーの製造方法も実施の形
態１の静電駆動型リレーの製造方法と略同じなので、特
徴となる工程についてのみ説明する。本静電駆動型リレ
ーでは、可動部１０ａの一方の面にエレクトレット用の
酸化膜３を形成した後に、可動部１０ａの酸化膜３が形
成された面と反対側の面に抵抗加熱用電極５を所定の形
状に形成する。その後、コロナ放電等によって酸化膜３
を帯電させるこによりエレクトレット３を形成する。次
に、可動片１０と固定片２０とを接合し、その後に、抵
抗加熱用電極５に電流を流すことによってエレクトレッ
ト３に熱を与えて等価電圧の調整を行う。このため、電
流値と電流供給時間を電源側で制御することにより制御
性良く等価電圧の調整を行うことができるのである。そ
の結果、駆動電圧のばらつきが小さな静電駆動型リレー
を得ることができるのである。

【００３６】図９に加速度センサの断面図を示す。本加
速度センサの基本構造は実施の形態１の図３と略同じで
あり、その特徴とするところは、重り部１３においてエ
レクトレット３が形成されている面と反対側の面に絶縁
膜１７を介して抵抗加熱用電極５が形成され、固定片２
０と可動片１０とを接合した後に、抵抗加熱用電極５に
電流を流すことによってエレクトレット３の等価電位が
調整されていることにある。

【００３７】以下、上記加速度センサの製造方法を簡単
に説明する。本加速度センサの製造方法も実施の形態１
の加速度センサの製造方法と略同じなので、特徴となる
工程についてのみ説明する。本加速度センサでは、重り
部１３の一面にエレクトレット用の酸化膜３形成した後
に、重り部１３の酸化膜３が形成された面と反対側の面
に絶縁膜１７、抵抗加熱用電極５を形成する。その後、
コロナ放電等によって酸化膜３を帯電させることにより
エレクトレット３を形成する。次に、抵抗加熱用電極５
に電流を流すことによってエレクトレット３に熱を与え
て等価電圧の調整を行う。このため、電流値と電流供給
時間を電源側で制御することにより制御性良く等価電圧
の調整を行うことができるのである。その結果、センサ
出力のばらつきが小さな加速度センサが得られるのであ
る。

【００３８】図１０に圧力センサの断面図を示す。本圧
力センサの基本構造は実施の形態１の図４と略同じであ
り、その特徴とするところは、可動部１０ａ’のエレク
トレット３が形成されている面と反対側の面に絶縁膜１
７を介して抵抗加熱用電極５が形成され、固定片２０と
可動片１０とを接合した後に抵抗加熱用電極５に電流を
流すことによってエレクトレット３の等価電位が調整さ
れていることにある。

【００３９】以下、上記圧力センサの製造方法を簡単に
説明する。本圧力センサの製造方法も実施の形態１の圧
力センサの製造方法と略同じなので、特徴となる工程に
ついてのみ説明する。本圧力センサでは、可動部１０
ａ’の凹所４が形成されている側の面にエレクトレット
用の酸化膜３を形成した後、エレクトレット３が形成さ
れていない側の面に絶縁膜１７を介して抵抗加熱用電極
５を可動部１０ａ’を挟んで酸化膜３に対向するように
形成する。コロナ放電等によって酸化膜３を帯電させる
ことによりエレクトレット３を形成する。次に、抵抗加
熱用電極５に電流を流すことによってエレクトレット３
に熱を与えて等価電圧の調整を行う。このため、電流値
と電流供給時間を電源側で制御することにより制御性良
く等価電圧の調整を行うことができるのである。その結
果、センサ出力のばらつきが小さな圧力センサが得られ
るのである。

【００４０】図１１にマイクロホンの断面図を示す。本
マイクロホンの基本構造は実施の形態１の図６と略同じ
であり、その特徴とするところは、可動部１０ａ’のエ
レクトレット３が形成されている面と反対側の面に絶縁
膜１７を介して抵抗加熱用電極５が形成され、固定片２
０と可動片１０とを接合した後に抵抗加熱用電極５に電
流を流すことによってエレクトレット３の等価電位が調
整されていることにある。

【００４１】以下、上記マイクロホンの製造方法を簡単
に説明する。本マイクロホンの製造方法も実施の形態１
のマイクロホンの製造方法と略同じなので、特徴となる
工程についてのみ説明する。本マイクロホンでは、可動
部１０ａ’の凹所４が形成されている側の面にエレクト
レット用の酸化膜３を形成した後、エレクトレット３が
形成されていない側の面に絶縁膜１７を介して抵抗加熱
用電極５を可動部１０ａ’を挟んで酸化膜３に対向する
ように形成する。コロナ放電によって酸化膜３を帯電さ
せることによりエレクトレット３を形成する。次に、抵
抗加熱用電極５に電流を流すことによってエレクトレッ
ト３に熱を与えて等価電圧の調整を行う。このため、電
流値と電流供給時間を電源側で制御することにより制御
性良く等価電圧の調整を行うことができるのである。そ
の結果、出力ばらつきが小さなマイクロホンを得ること
ができるのである。

【００４２】（実施の形態３）図１２に本実施の形態の
エレクトレット応用装置の概略断面図を示す。本エレク
トレット応用装置は、固定片２０と、可動部１０ａを一
体的に有する可動片１０と、可動部１０における固定片
２０に対向する面側に形成されたエレクトレット３と、
可動部においてエレクトレット３が形成された面と反対
側の面に形成された抵抗加熱用電極５とを有する。ここ
で、エレクトレット３の等価電圧は、固定片２０と可動
片１０ａとを接合した後に抵抗加熱用電極５に電流を流
すことによってエレクトレット３の等価電位を調整して
ある。

【００４３】図１３に静電駆動型リレーの断面図を示
す。本静電駆動型リレーの基本構造は実施の形態１の図
２と略同じであり、その特徴とするところは、エレクト
レット３とカンチレバーよりなる可動部１０ａとの間に
抵抗加熱用電極５が形成され、固定片２０と可動片１０
とを接合した後に、抵抗加熱用電極５に電流を流すこと
によってエレクトレット３の等価電位が調整されている
ことにある。このため、駆動電圧のばらつきが小さな静
電駆動型リレーを提供することができるのである。

【００４４】本静電駆動型リレーの製造方法も実施の形
態１の静電駆動型リレーの製造方法と略同じなので、特
徴となる工程についてのみ説明する。本静電駆動型リレ
ーでは、可動片１０のカンチレバーよりなる可動部１０
ａを形成した後に、可動部１０ａの一方の面に抵抗加熱
用電極５を形成する。その後、抵抗加熱用電極５を覆う
ようにエレクトレット用の酸化膜３を形成し、コロナ放
電によって酸化膜３を帯電させるこによりエレクトレッ
ト３を形成する。次に、可動片１０と固定片２０とを接
合し、その後に、抵抗加熱用電極５に電流を流すことに
よってエレクトレット３に熱を与えて等価電圧の調整を
行う。このため、電流値と電流供給時間を電源側で制御
することにより制御性良く等価電圧の調整を行うことが
できるのである。

【００４５】図１４に加速度センサの断面図を示す。本
加速度センサの基本構造は実施の形態１の図３と略同じ
であり、その特徴とするところは、エレクトレット３と
重り部１３との間に抵抗加熱用電極５及び絶縁膜１７が
形成され、固定片２０と可動片１０とを接合した後に、
抵抗加熱用電極５に電流を流すことによってエレクトレ
ット３の等価電位が調整されていることにある。このた
め、センサ出力のばらつきが小さな加速度センサを提供
することができるのである。

【００４６】以下、上記加速度センサの製造方法を簡単
に説明する。本加速度センサの製造方法も実施の形態１
の加速度センサの製造方法と略同じなので、特徴となる
工程についてのみ説明する。本加速度センサでは、重り
部１３、撓み部１４、支持部１２を形成した後、重り部
１３の一方の面に絶縁膜１７を介して抵抗加熱用電極５
を形成する。その後、抵抗加熱用電極５を覆うようにエ
レクトレット用の酸化膜３を形成し、コロナ放電によっ
て酸化膜３を帯電させることによりエレクトレット３を
形成する。次に、重り部１３を撓み部１４以外の部位で
切り離し、可動片１０と固定片２０とを接合する。その
後、抵抗加熱用電極５に電流を流すことによってエレク
トレット３に熱を与えて等価電圧の調整を行う。このた
め、電流値と電流供給時間を電源側で制御することによ
り制御性良く等価電圧の調整を行うことができるのであ
る。

【００４７】図１５に上記構成を有する圧力センサの断
面図を示す。本圧力センサの基本構造は実施の形態１の
図４と略同じであり、その特徴とするところは、エレク
トレット３と可動部１０ａ’との間に抵抗加熱用電極５
と絶縁膜７が形成され、固定片２０と可動片１０とを接
合した後に、抵抗加熱用電極５に電流を流すことによっ
てエレクトレット３の等価電位が調整されていることに
ある。このため、センサ出力のばらつきが小さな圧力セ
ンサを提供することができるのである。

【００４８】以下、上記圧力センサの製造方法を簡単に
説明する。本圧力センサの製造方法も実施の形態１の圧
力センサの製造方法と略同じなので、特徴となる工程に
ついてのみ説明する。本圧力センサでは、可動部１０
ａ’を形成した後、凹所４の内周面の底部である可動部
１０ａ’に絶縁膜１７を形成し、抵抗加熱用電極５を形
成し、エレクトレット用の酸化膜３を形成する。その
後、コロナ放電によって酸化膜３を帯電させることによ
りエレクトレット３を形成する。次に、抵抗加熱用電極
５に電流を流すことによってエレクトレット３に熱を与
えて等価電圧の調整を行う。このため、電流値と電流供
給時間を電源側で制御することにより制御性良く等価電
圧の調整を行うことができるのである。

【００４９】図１６にマイクロホンの断面図を示す。本
マイクロホンの基本構造は実施の形態１の図６と略同じ
であり、その特徴とするところは、エレクトレット３と
可動部１０ａ’との間に抵抗加熱用電極５が形成され、
固定片２０と可動片１０とを接合した後に、抵抗加熱用
電極５に電流を流すことによってエレクトレット３の等
価電位が調整されていることにある。このため、出力の
ばらつきがちいさなマイクロホンを提供することができ
るのである。

【００５０】以下、上記マイクロホンの製造方法を簡単
に説明する。本マイクロホンの製造方法も実施の形態１
の圧力センサの製造方法と略同じなので、特徴となる工
程についてのみ説明する。本マイクロホンでは、可動部
１０ａ’を形成した後、凹所４の内周面の底部である可
動部１０ａ’に抵抗加熱用電極５を形成し、エレクトレ
ット用の酸化膜３を形成する。その後、コロナ放電によ
って酸化膜３を帯電させることによりエレクトレット３
を形成する。次に、抵抗加熱用電極５に電流を流すこと
によってエレクトレット３に熱を与えて等価電圧の調整
を行う。このため、電流値と電流供給時間を電源側で制
御することにより制御性良く等価電圧の調整を行うこと
ができるのである。

【００５１】（実施の形態４）図１７に本実施の形態の
エレクトレット応用装置の概略断面図を示す。本エレク
トレット応用装置は、固定片２０と、可動部１０ａを一
体的に有する可動片１０と、固定片２０の可動部１０ａ
に対向する面側に形成された抵抗加熱用電極５と、抵抗
加熱電極５を覆うように形成されたエレクトレット３と
を有する。ここで、エレクトレット３の等価電圧は、固
定片２０と可動片１０ａとを接合した後に抵抗加熱用電
極５に電流を流すことによってエレクトレット３の等価
電位を調整してある。

【００５２】図１８に静電駆動型リレーの断面図を示
す。本静電駆動型リレーの基本構造は実施の形態の図２
と略同じであり、その特徴とするところは、固定片２０
が絶縁基板を加工して形成されているとともにエレクト
レット３が固定片２０側にあり、エレクトレット３と固
定片２０との間に抵抗加熱用電極５が形成され、固定片
２０と可動片１０とを接合した後に、抵抗加熱用電極５
に電流を流すことによってエレクトレット３の等価電位
が調整されていることにある。本静電駆動型リレーでは
固定片２０が絶縁基板であり、抵抗加熱用電極２６が外
部電圧印加用電極を兼ねている。このため、製造工程を
削減することができる。

【００５３】以下、本静電駆動型リレーの製造方法につ
いて説明する。ただし、可動片１０は実施の形態１の可
動片１０の製造方法と略同じであり、本実施の形態の可
動片１０では可動片１０にエレクトレット３を形成せ
ず、固定片２０に形成する。そこで、固定片２０の製造
方法について説明する。まず、絶縁基板２３の一表面側
に絶縁基板２３をエッチングするためのマスクを形成
し、露出した絶縁基板２３をエッチングすることによっ
て凹部２３ａを形成する。次に、凹部２３ａが形成され
た側の面上に抵抗加熱用電極２６を所定の形状に形成す
る。続いて、抵抗加熱用電極２６を覆うようにエレクト
レット用の酸化膜３を形成する。次に、メッキ技術によ
り接点４２を形成した後、接合用にＡｕを形成する。続
いて、コロナ放電等によって酸化膜３を帯電させるこに
よりエレクトレット３を形成する。次に、可動片１０と
固定片２０とを接合し、その後に、抵抗加熱用電極２６
に電流を流すことによってエレクトレット３に熱を与え
て等価電圧の調整を行う。このため、電流値と電流供給
時間を電源側で制御することにより制御性良く等価電圧
の調整を行うことができるのである。このため、エレク
トレット３の等価電圧のばらつきを小さくできるので、
駆動電圧のばらつきが小さな静電駆動型リレーを得るこ
とができるのである。

【００５４】図１９に加速度センサの断面図を示す。本
加速度センサの基本構造は実施の形態１の図３と略同じ
であり、その特徴とするところは、エレクトレット３が
固定片２０に検出用電極を兼ねる固定電極２５を介して
形成され、可動片１０の重り部１３と対向しており、固
定片２０と可動片１０とを接合した後に検出用電２５に
電流を流すことによってエレクトレット３の等価電圧が
調整されていることにある。ここで、抵抗加熱用電極２
５が検出用電極を兼ねているので、別途検出用電極を形
成する必要がないので、工程数を削減でき、コストを低
減させることができる。

【００５５】以下、上記加速度センサの製造方法を簡単
に説明する。本加速度センサの製造方法も実施の形態１
の加速度センサの製造方法と略同じなので、特徴となる
工程についてのみ説明する。まず、固定片２０の製造方
法について述べる。ガラス基板である絶縁基板２３をエ
ッチングすることによって凹所４を形成し、凹所４の内
周面の底部にＣｒよりなり検出用電極を兼ねる抵抗加熱
用電極２５を形成する。その後、検出用電極２５を覆う
ようにエレクトレット用の酸化膜３を形成する。その
後、コロナ放電によって酸化膜３を帯電させることによ
りエレクトレット３を形成する。

【００５６】その後、別途形成した可動片１０と、固定
片２０とを陽極接合技術によって接合する。さらに、そ
の後、抵抗加熱用電極２５に電流を流すことによってエ
レクトレット３に熱を与えて等価電圧の調整を行う。こ
のため、電流値と電流供給時間を電源側で制御すること
により制御性良く等価電圧の調整を行うことができるの
である。このため、センサ出力のばらつきが小さな加速
度センサが得られるのである。

【００５７】図２０に圧力センサの断面図を示す。本圧
力センサの基本構造は実施の形態１の図４と略同じであ
り、その特徴とするところは、エレクトレット３が固定
片２０に検出用電極２５を介して形成され、可動片１０
の可動部１０ａ’と対向しており、固定片２０と可動片
１０とを接合した後に、検出用電極を兼ねる抵抗加熱用
電極２５に電流を流すことによってエレクトレット３の
等価電位が調整されていることにある。ここで、抵抗加
熱用電極２５が検出用電極を兼ねているので別途検出用
電極を形成する必要がなく、工程数を削減でき、製造コ
ストを低減することができる。

【００５８】以下、上記圧力センサの製造方法を簡単に
説明する。本圧力センサの製造方法も実施の形態１の圧
力センサの製造方法と略同じなので、特徴となる工程に
ついてのみ説明する。本圧力センサでは、固定片２０に
例えばＣｒよりなる検出用電極２５を形成した後、検出
用電極２５上にエレクトレット用の酸化膜３を形成す
る。次に、コロナ放電によって酸化膜３を帯電させるこ
とによりエレクトレット３を形成する。

【００５９】その後、別途形成した可動片１０と、固定
片２０とを陽極接合技術によって接合すする。さらに、
その後、検出用電極２５に電流を流すことによってエレ
クトレット３に熱を与えて等価電圧の調整を行う。この
ため、電流値と電流供給時間を電源側で制御することに
より制御性良く等価電圧の調整を行うことができるので
ある。このため、センサ出力のばらつきが小さな圧力セ
ンサが得られるのである。

【００６０】図２１にマイクロホンの断面図を示す。本
マイクロホンの基本構造は実施の形態１の図６と略同じ
であり、その特徴とするところは、エレクトレット３が
固定片２０に検出用電極を兼ねる抵抗加熱用電極２５を
介して形成され、可動片１０の可動部１０ａ’と対向し
ており、固定片２０と可動片１０とを接合した後に、抵
抗加熱用電極２５に電流を流すことによってエレクトレ
ット３の等価電位が調整されていることにある。ここ
で、抵抗加熱用電極２５が検出用電極を兼ねているので
別途検出用電極を形成する必要がなく、工程数を削減で
き、製造コストを低減することができる。

【００６１】以下、上記マイクロホンの製造方法を簡単
に説明する。本マイクロホンの製造方法も実施の形態１
のマイクロホンの製造方法と略同じなので、特徴となる
工程についてのみ説明する。本マイクロホンでは、固定
片２０に例えばＣｒよりなる検出用電極２５を形成した
後、抵抗加熱用電極２５上にエレクトレット用の酸化膜
３を形成し、その後、絶縁基板２３に穴を開け空気孔５
１を形成することによって図２１に示す構造が得られ
る。その後、コロナ放電によって酸化膜３を帯電させる
ことによりエレクトレット３を形成する。

【００６２】その後、別途形成した可動片１０と、固定
片２０とを陽極接合技術によって接合すする。さらに、
その後、抵抗加熱用電極２５に電流を流すことによって
エレクトレット３に熱を与えて等価電圧の調整を行う。
このため、電流値と電流供給時間を電源側で制御するこ
とにより制御性良く等価電圧の調整を行うことができる
のである。その結果、エレクトレット３の等価電圧のば
らつきを小さくでき、出力ばらつきが小さなマイクロホ
ンを得ることができるのである。

【００６３】なお、各実施の形態１で説明したレーザ照
射や抵抗加熱によるエレクトレットの等価電圧のばらつ
きを抑える技術はコロナ放電によってエレクトレット化
を行った後の調整にも採用してもよい。

【００６４】

【発明の効果】請求項１の発明は、エレクトレットが、
固定片と可動片とを接合した後に等価電圧が調整されて
いるので、エレクトレットの等価電圧のばらつきが小さ
く、性能ばらつきが小さなエレクトレット応用装置を提
供することができるという効果がある。

【００６５】請求項２の発明は、エレクトレットを形成
して固定片と可動片とを接合した後に、可動部のエレク
トレットが形成された面と反対側の面にレーザ照射を行
うことので、レーザの強度、パルス幅、レーザ照射時間
等を任意に設定することによって前記可動部を介してエ
レクトレット３に与える熱の温度を制御することによ
り、エレクトレットの等価電圧を制御性良く調整するこ
とができるという効果がある。また、比較的波長が短い
青色域から紫外線域までのレーザを用いることにより光
励起によってエレクトレットの等価電圧を制御性良く小
さくすることができるので、等価電圧を調整してエレク
トレット応用装置の性能ばらつきを小さくすることがで
きるという効果がある。

【００６６】請求項３の発明は、請求項１の発明におい
て、エレクトレットと可動部との間に抵抗加熱用電極が
形成されているので、固定片と可動片とを接合した後に
前記抵抗加熱用電極に電流を流すことによって前記エレ
クトレットに効率良く熱を与えて等価電圧の調整を行う
ことができ、この際に電流値と電流供給時間を電源側で
制御することにより前記エレクトレットに与える熱を調
整でき、制御性良く等価電圧の調整を行うことができる
から、エレクトレットの等価電圧のばらつきが小さく、
性能ばらつきが小さなエレクトレット応用装置を提供す
ることができるという効果がある。

【００６７】請求項４の発明は、請求項１の発明におい
て、可動部のエレクトレットが形成された面と反対側の
面に抵抗加熱用電極が形成されているので、固定片と可
動片とを接合した後に前記抵抗加熱用電極に電流を流す
ことによって前記エレクトレットに効率良く熱を与えて
等価電圧の調整を行うことができ、この際に電流値と電
流供給時間を電源側で制御することにより前記エレクト
レットに与える熱を調整できるから、制御性良く等価電
圧の調整を行うことができ、エレクトレットの等価電圧
のばらつきが小さくて性能ばらつきが小さなエレクトレ
ット応用装置を提供することができるという効果があ
る。

【００６８】請求項５の発明は、固定電極を有する固定
片と、前記固定電極に空隙を介して対向する可動部を有
し前記可動部が揺動自在に支持され前記固定片に接合さ
れた可動片と、前記固定片の固定電極の前記可動部に対
向する面に形成されたエレクトレットとを有し、前記エ
レクトレットは、前記固定片と前記可動片とを接合した
後に等価電圧が調整されていることを特徴とするもので
あり、前記エレクトレットの等価電圧のばらつきが小さ
いので、性能ばらつきの小さなエレクトレットを提供す
ることができるという効果がある。

【００６９】請求項６の発明は、固定片と可動片とを接
合した後に前記抵抗加熱用電極に電流を流し前記抵抗加
熱用電極を加熱することによって前記エレクトレットの
等価電圧を調整するので、前記抵抗加熱用電極に流す電
流の大きさ及び供給時間を制御することによりエレクト
レットの等価電圧を制御性良く調整することができると
いう効果がある。

【００７０】請求項７の発明は、固定片と可動片とを接
合した後に前記抵抗加熱用電極に電流を流し前記抵抗加
熱用電極を加熱することによって前記エレクトレットの
等価電圧を調整するので、前記抵抗加熱用電極に流す電
流の大きさ及び供給時間を制御することによりエレクト
レットの等価電圧を制御性良く調整することができると
いう効果がある。

【００７１】請求項８の発明は、請求項３又は請求項４
の発明において、抵抗加熱用電極が、入力電圧印加用電
極又は出力電圧検出用電極を兼ねるので、製造工程を削
減でき、製造コストを低減することができるという効果
がある。請求項９の発明は、請求項１、３、４、８いず
れか１項に記載の発明において、可動部は固定電極に対
向する可動電極を有し前記固定電極と前記可動電極との
間に印加される外部電圧によって発生する静電力で前記
固定電極側に一端部が移動するように他端部が支持固定
され、前記可動部の移動により互いに接離する接点が可
動部の一端部とこの一端部に対応する固定片の端部とに
形成され、これら接点が外部電気回路に接続された静電
駆動型リレーを構成したので、駆動電圧のばらつきが小
さな静電駆動型リレーを提供することができるという効
果がある。

【００７２】請求項１０の発明は、請求項１、３、４、
８いずれか１項に記載の発明において、可動片は重り
部、一端が前記重り部に一体連結された撓み部、前記撓
み部の他端が一体連結され前記撓み部により前記重り部
を揺動自在に支持する支持部が形成され、固定片は前記
重り部と間隔を空けて対向する固定電極を有し前記可動
片に接合される加速度センサを構成したので、センサ出
力のばらつきが小さな加速度センサを提供することがで
きるという効果がある。

【００７３】請求項１１の発明は、請求項１、３、４、
８いずれか１項に記載の発明において、可動部がダイア
フラム部よりなり、圧力センサを構成したので、センサ
出力のばらつきが小さな圧力センサを提供することがで
きるという効果がある。請求項１２の発明は、可動部が
ダイアフラム部よりなり、可動片及び固定片の少なくと
もどちらか一方に前記ダイアフラム部と前記固定片との
間の空間と外部とを連通させる通気孔を備えたマイクロ
ホンを構成したので、出力のばらつきが小さなマイクロ
ホンを提供することができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態１を示す概略断面図である。

【図２】実施の形態１の静電駆動型リレーの断面図であ
る。

【図３】実施の形態１の加速度センサの断面図である。

【図４】実施の形態１の圧力センサの断面図である。

【図５】同上の固定片と可動片とを接合する時の熱の流
れの説明図である。

【図６】実施の形態１のマイクロホンの断面図である。

【図７】実施の形態２を示す概略断面図である。

【図８】実施の形態２の静電駆動型リレーの断面図であ
る。

【図９】実施の形態２の加速度センサの断面図である。

【図１０】実施の形態２の圧力センサの断面図である。

【図１１】実施の形態２のマイクロホンの断面図であ
る。

【図１２】実施の形態３を示す概略断面図である。

【図１３】実施の形態３の静電駆動型リレーの断面図で
ある。

【図１４】実施の形態３の加速度センサの断面図であ
る。

【図１５】実施の形態３の圧力センサの断面図である。

【図１６】実施の形態３のマイクロホンの断面図であ
る。

【図１７】実施の形態４を示す断面図である。

【図１８】実施の形態４の静電駆動型リレーの断面図で
ある。

【図１９】実施の形態４の加速度センサの断面図であ
る。

【図２０】実施の形態４の圧力センサの断面図である。

【図２１】実施の形態４のマイクロホンの断面図であ
る。

【符号の説明】

３エレクトレット４空隙１０可動片１０ａ可動部２０固定片

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】固定電極を有する固定片と、前記固定電
極に空隙を介して対向する可動部を有し前記可動部が揺
動自在に支持され前記固定片に接合された可動片と、前
記可動部における前記固定片に対向する面側に形成され
たエレクトレットとを有し、前記エレクトレットは、前
記固定片と前記可動片とを接合した後に等価電圧が調整
されていることを特徴とするエレクトレット応用装置。
【請求項２】固定電極を有する固定片と、前記固定電
極に空隙を介して対向する可動部を有し前記可動部が揺
動自在に支持され前記固定片に接合される可動片と、前
記可動部における前記固定片に対向する面側に形成され
るエレクトレットとを有するエレクトレット応用装置の
製造方法において、前記エレクトレットを形成して前記
固定片と前記可動片とを接合した後に、可動部のエレク
トレットが形成された面と反対側の面にレーザ照射を行
うことによって前記エレクトレットの等価電圧を調整す
る調整工程を有することを特徴とするエレクトレット応
用装置の製造方法。
【請求項３】エレクトレットと可動部との間に抵抗加
熱用電極が形成されて成ることを特徴とする請求項１記
載のエレクトレット応用装置。
【請求項４】可動部のエレクトレットが形成された面
と反対側の面に抵抗加熱用電極が形成されて成ることを
特徴とする請求項１記載のエレクトレット応用装置。
【請求項５】固定電極を有する固定片と、前記固定電
極に空隙を介して対向する可動部を有し前記可動部が揺
動自在に支持され前記固定片に接合された可動片と、前
記固定片の固定電極の前記可動部に対向する面に形成さ
れたエレクトレットとを有し、前記エレクトレットは、
前記固定片と前記可動片とを接合した後に等価電圧が調
整されていることを特徴とするエレクトレット応用装
置。
【請求項６】固定電極を有する固定片と、前記固定電
極に空隙を介して対向する可動部を有し前記可動部が揺
動自在に支持され前記固定片に接合される可動片と、前
記可動部における前記固定片に対向する面側に形成され
るエレクトレットとを有するエレクトレット応用装置の
製造方法において、前記可動部における前記固定片に対
向する面側に抵抗加熱用電極を形成する第１の工程と、
前記抵抗加熱用電極の表面に前記エレクトレットを形成
する第２の工程と、前記固定片と前記可動片とを接合す
る第３の工程と、前記固定片と前記可動片とを接合した
後に前記抵抗加熱用電極に電流を流し前記抵抗加熱用電
極を加熱することによって前記エレクトレットの等価電
圧を調整する第４の工程を有することを特徴とするエレ
クトレット応用装置の製造方法。
【請求項７】固定電極を有する固定片と、前記固定電
極に空隙を介して対向する可動部を有し前記可動部が揺
動自在に支持され前記固定片に接合される可動片と、前
記可動部における前記固定片に対向する面側に形成され
るエレクトレットとを有するエレクトレット応用装置の
製造方法において、前記可動部における前記固定片に対
向する面と反対側の面に抵抗加熱用電極を形成する第１
の工程と、前記可動部における前記固定片と対向する面
側に前記エレクトレットを形成する第２の工程と、前記
固定片と前記可動片とを接合する第３の工程と、前記固
定片と前記可動片とを接合した後に前記抵抗加熱用電極
に電流を流し前記抵抗加熱用電極を加熱することによっ
て前記エレクトレットの等価電圧を調整する第４の工程
を有することを特徴とするエレクトレット応用装置の製
造方法。
【請求項８】抵抗加熱用電極が、入力電圧印加用電極
又は出力電圧検出用電極を兼ねることを特徴とする請求
項３又は請求項４記載のエレクトレット応用装置。
【請求項９】可動部は固定電極に対向する可動電極を
有し前記固定電極と前記可動電極との間に印加される外
部電圧によって発生する静電力で前記固定電極側に一端
部が移動するように他端部が支持固定され、前記可動部
の移動により互いに接離する接点が可動部の一端部とこ
の一端部に対応する固定片の端部とに形成され、これら
接点が外部電気回路に接続された静電駆動型リレーを構
成したことを特徴とする請求項１、３、４、８のいずれ
か１項に記載のエレクトレット応用装置。
【請求項１０】可動片は重り部、一端が前記重り部に
一体連結された撓み部、前記撓み部の他端が一体連結さ
れ前記撓み部により前記重り部を揺動自在に支持する支
持部が形成され、固定片は前記重り部と間隔を空けて対
向する固定電極を有し前記可動片に接合される加速度セ
ンサを構成したことを特徴とする請求項１、３、４、８
のいずれか１項に記載のエレクトレット応用装置。
【請求項１１】可動部がダイアフラム部よりなり、圧
力センサを構成したことを特徴とする請求項１、３、
４、８のいずれか１項に記載のエレクトレット応用装
置。
【請求項１２】可動部がダイアフラム部よりなり、可
動片及び固定片の少なくともどちらか一方に前記ダイア
フラム部と前記固定片との間の空間と外部とを連通させ
る通気孔を備えたマイクロホンを構成したことを特徴と
する請求項１、３、４、８のいずれか１項に記載のエレ
クトレット応用装置。