JPH09254018A - ポリッシング装置 - Google Patents

ポリッシング装置

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JPH09254018A
JPH09254018A JP9056996A JP9056996A JPH09254018A JP H09254018 A JPH09254018 A JP H09254018A JP 9056996 A JP9056996 A JP 9056996A JP 9056996 A JP9056996 A JP 9056996A JP H09254018 A JPH09254018 A JP H09254018A
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憲雄 木村
Kunihiko Sakurai
邦彦 桜井
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哲二 戸川
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 トップリング及びドレッシングツールをター
ンテーブル外側位置で待機中に洗浄液で湿潤状態に保つ
ことにより、スラリー等の除去と乾燥を防止することが
できるポリッシング装置を提供すること。 【解決手段】ポリッシング装置において、トップリング
２０及びドレッサーリング３０がターンテーブル１０の
外側の待機位置Ｇ、Ｊで待機中、該トップリング２０及
びドレッシングツール３０を湿潤状態に保つ湿潤手段
（洗浄水を噴射する洗浄水ノズル４０、４１又は洗浄水
を満たした容器４４、４５）を設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はポリッシング装置に
関し、トップリング及びドレッシングツール洗浄装置が
ターンテーブルの外側位置で待機している間、湿潤状態
に保つことができるポリッシング装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図３はポリッシング装置の平面概略構成
を示す図である。図示するように、ポリッシング装置は
上面に研磨布（図示せず）を貼付たターンテーブル１
０、トップリング２０、ドレッシングツール３０を具備
し、回転する（矢印Ａ方向）該ターンテーブル１０の研
磨布に回転（矢印Ｃ方向）するトップリング２０の下面
に保持された被研磨物（図示せず）を押し当て、該被研
磨物の研磨面を研磨すると共に、回転する該ターンテー
ブル１０の研磨布に回転するドレッシングツール３０を
押し当て該研磨布の研磨による経時的変化を修正し目立
てを行なっている。
【０００３】上記ポリッシング装置において、トップリ
ング２０は被研磨物受渡位置Ｄでロボットアーム６０等
から被研磨物を受取り、経路Ｅを通ってポリッシング位
置Ｆで被研磨物を研磨し、研磨終了後同じく経路Ｅを通
って被研磨物受渡位置Ｄに戻りロボットアーム６０に研
磨終了した被研磨物を渡し、再び被研磨物をロボットア
ーム６０から受取り、ポリッシング位置Ｆで該被研磨物
を研磨するという作業を１ロットの被研磨物の研磨終了
迄続ける。そして該１ロットの研磨物の研磨が終了後は
ロット待ちとなって他のロットの被搬送物が搬入される
まで、トップリング２０は位置Ｄで待機する。また、位
置Ｇはメンテナンス時のトップリング２０の待機位置で
ある。
【０００４】一方ドレッシングツール３０はその下面を
ドレッシング位置Ｈでターンテーブル１０の研磨布上面
に押し当て、該研磨布が研磨等で経時的変化したのを修
正し目立てを行う。ドレッシング終了後は経路Ｉを通っ
て待機位置Ｊに移動し、該待機位置Ｊで次のポリッシン
グまで待機するようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記ポリッシング装置
において、従来トップリング２０はメンテナンス時の待
機位置Ｇで待機する場合、またドレッシングツール３０
は待機位置Ｊで待機する場合、湿潤状態に維持すること
なく待機するため、トップリング２０及びドレッシング
ツール３０に付着したスラリーが乾燥し、該乾燥したス
ラリーがターンテーブル１０の研磨布の上に落ちて被研
磨物の研磨等に悪影響を与えるという問題があった。
【０００６】本発明は上述の点に鑑みてなされてもの
で、トップリング及びドレッシングツールがターンテー
ブルの外側位置で待機する場合、洗浄液で湿潤状態に保
つことにより、トップリング及びドレッシングツールに
付着したスラリーを除去すると共に、該トップリング及
びドレッシングツールの乾燥を防止することができるポ
リッシング装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１に記載の発明は、上面に研磨布を貼付たターン
テーブル、被研磨物を保持するトップリング及び研磨布
をドレッシングするドレッシングツールを具備し、回転
する該ターンテーブルの研磨布に回転するトップリング
に保持された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を
研磨すると共に、回転する該ターンテーブルの研磨布に
回転するドレッシングツールを押し当て該研磨布の経時
的変化を修正し目立てを行うポリッシング装置におい
て、トップリング及び／又はドレッシングツールがター
ンテーブルの外側位置で待機中該トップリング及び／又
はドレッシングツールの少なくとも下面を湿潤状態に保
つ湿潤手段を設けたことを特徴とする。
【０００８】また、請求項２に記載の発明は請求項１に
記載の発明において、湿潤手段は待機位置にあるトップ
リング及び／又はドレッシングツールの少なくとも下面
に洗浄液を噴射するノズルを具備することを特徴とす
る。
【０００９】また、請求項３に記載の発明は請求項２に
記載の発明において、ノズルによる洗浄液の噴射は間歇
的に行うことを特徴とする。
【００１０】また、請求項４に記載の発明は請求項１乃
至３のいずれか１に記載の発明において、トップリング
及び／又はドレッシングツールは回転していることを特
徴とする。
【００１１】また、請求項５に記載の発明は請求項１に
記載の発明において、洗浄手段は洗浄液を満たした容器
を具備し、該容器の洗浄液に待機中のトップリング及び
／又はドレッシングツールの少なくとも下面を浸して洗
浄することを特徴とする。
【００１２】また、請求項６に記載の発明は請求項５に
記載の発明において、トップリング及び／又はドレッシ
ングツールは少なくとも下面を容器の洗浄液に浸してい
る期間回転させることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は本発明に係るポリッシング
装置の概略構成を示す図である。なお、図１において、
図３と同一符号を付した部分は同一又は相当部分を示
す。また、他の図面においても同様とする。本ポリッシ
ング装置は図示するように、メンテナンス時の待機位置
Ｇにあるトップリング２０の下面に洗浄水４２を噴射す
る洗浄水ノズル４０を配置すると共に、待機位置Ｊにあ
るドレッシングツール３０の下面に洗浄水４３を噴射す
る洗浄水ノズル４１を配設している。
【００１４】上記構成のポリッシング装置において、メ
ンテナンス時の待機位置Ｇで待機しているトップリング
２０の下面に洗浄水ノズル４０から洗浄水４２を噴射
し、該トップリング２０の下面を湿潤状態に保つ。この
時トップリング２０を回転させることにより、下面を均
一に湿潤状態にすることが可能となる。また、ドレッシ
ング終了後待機位置Ｊで待機しているドレッシングツー
ル３０の下面にも洗浄水ノズル４１から洗浄水４３を噴
射し、該ドレッシングツール３０の下面を湿潤状態に保
つ。また、この時ドレッシングツール３０を回転するこ
とにより、下面を均一に湿潤状態にすることが可能とな
る。
【００１５】上記洗浄水ノズル４０及び洗浄水ノズル４
１による洗浄水４２及び洗浄水４３の噴射は、トップリ
ング２０の下面及びドレッシングツール３０の下面を湿
潤状態に維持することが主たる目的であるから、洗浄水
４２及び洗浄水４３の噴射はトップリング２０及びドレ
ッシングツール３０が待機している間中連続して噴射し
てもよいが、洗浄水の節約のため乾燥しない適当な時間
間隔で間歇的に噴射するようにしても良い。このように
間歇的に洗浄水を噴射させることにより、純水等からな
る高価な洗浄水の節約が可能となる。
【００１６】なお、上記実施例では洗浄水ノズル４０及
び洗浄水ノズル４１により、トップリング２０及びドレ
ッシングツール３０の下面を洗浄するように構成した
が、下面のみではなく、下面を含む所定の範囲が湿潤状
態に保たれるように洗浄水ノズルを構成し、又は複数の
洗浄水ノズルを配置してもよい。
【００１７】図２は本発明に係るポリッシング装置にお
けるトップリング及びドレッシングツール洗浄装置の概
略構成を示す図である。本トップリング及びドレッシン
グツール洗浄装置は図示するように、トップリング２０
のメンテナンス時の待機位置Ｇに洗浄水４６を満たした
容器４４を配設し、ドレッシングツール３０の待機位置
Ｊに洗浄水４７を満たした容器４５を配設している。
【００１８】上記構成のポリッシング装置において、メ
ンテナンス時の待機位置Ｇにあるトップリング２０を容
器４４内の洗浄水４６に浸し、該トップリング２０の下
面を含む所定の範囲を湿潤状態にする。この時トップリ
ング２０を回転させることにより、洗浄効果も向上す
る。また、ドレッシング終了後のドレッシングツール３
０を待機位置Ｊで容器４５の洗浄水４７に浸し、該ドレ
ッシングツール３０の下面を含む所定の範囲を湿潤状態
に保つ。この時ドレッシングツール３０を回転させるこ
とにより、洗浄効果も向上する。
【００１９】また、容器４４には洗浄水の水位を所定レ
ベルに保つフロー管４８を設け、供給管４９より洗浄水
を少量ずつ又は間歇的に供給することにより、洗浄水４
６の節約が可能となる。同様に容器４５にも洗浄水の水
位を所定レベルに保つフロー管５０を設け、供給管５１
より洗浄水を少量ずつ又は間歇的に供給することによ
り、洗浄水４７の節約が可能となる。また、容器４４及
び容器４５のそれぞれの底部にはドレン管５２及びドレ
ン管５３を設ける。
【００２０】上記のようにターンテーブル１０の外側に
ある待機位置Ｇ及び待機位置Ｊにそれぞれ容器４４及び
容器４５を配設し、該容器４４及び容器４５のそれぞれ
に洗浄水４６及び洗浄水４７を満たし、トップリング２
０及びドレッシングツール３０を浸すようにすることに
より、図１に示す洗浄ノズル４０及び洗浄水ノズル４１
を配設する方法に比べて、確実に湿潤状態に保つことが
できると共に、洗浄水の飛散がなく、ポリッシャールー
ムが汚れることがない。また、洗浄水の節水も可能とな
る。
【００２１】なお、上記実施の形態では、トップリング
２０及びドレッシングツール３０の両者をターンテーブ
ル１０の外側の待機位置Ｇ、Ｊで湿潤状態に保つように
したが、両者を湿潤状態に保つことにより、上記の乾燥
したスラリーがターンテーブル１０の研磨布の上に落ち
て悪影響を与えるのを防止するという効果は、より一層
発揮されるが、場合によってはトップリング２０又はド
レッシングツール３０の何れか一方のみを湿潤状態に保
つように構成してもよい。
【００２２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
トップリングやドレッシングツールがターンテーブルの
外側位置で待機中、該トップリングやドレッシングツー
ルを湿潤状態に保つ湿潤手段を設けたので、トップリン
グやドレッシングツールの待機中に湿潤状態に保つこと
ができると共に、湿潤手段による洗浄効果も待機でき、
乾燥したスラリーがターンテーブル上に落下して悪影響
を与えるという問題を除去できるという優れた効果が得
られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のトップリング及びドレッシングツール
洗浄装置を具備するポリッシング装置の概略構成を示す
図である。
【図２】本発明のトップリング及びドレッシングツール
洗浄装置を具備するポリッシング装置の概略構成を示す
図である。
【図３】ポリッシング装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
１０ ターンテーブル ２０ トップリング ３０ ドレッシングツール ４０ 洗浄水ノズル ４１ 洗浄水ノズル ４２ 洗浄水 ４３ 洗浄水 ４４ 容器 ４５ 容器 ４６ 洗浄水 ４７ 洗浄水 ４８ フロー管 ４９ 供給管 ５０ フロー管 ５１ 供給管 ５２ ドレン管 ５３ ドレン管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 勝岡 誠司 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 上面に研磨布を貼付たターンテーブル、
    被研磨物を保持するトップリング及び前記研磨布をドレ
    ッシングするドレッシングツールを具備し、回転する該
    ターンテーブルの研磨布に回転するトップリングに保持
    された被研磨物を押し当て該被研磨物の研磨面を研磨す
    ると共に、回転する該ターンテーブルの研磨布に回転す
    るドレッシングツールを押し当て該研磨布の経時的変化
    を修正し目立てを行うポリッシング装置において、 前記トップリング及び／又はドレッシングツールがター
    ンテーブルの外側位置で待機中該トップリング及び／又
    はドレッシングツールの少なくとも下面を湿潤状態に保
    つ湿潤手段を設けたことを特徴とするポリッシング装
    置。
  2. 【請求項２】 前記湿潤手段は前記待機位置にある前記
    トップリング及び／又はドレッシングツールの少なくと
    も下面に洗浄液を噴射するノズルを具備することを特徴
    とする請求項１に記載のポリッシング装置。
  3. 【請求項３】 前記ノズルによる洗浄液噴射は間歇的に
    行うことを特徴とする請求項２に記載のポリッシング装
    置。
  4. 【請求項４】 前記湿潤中のトップリング及び／又はド
    レッシングツールは回転していることを特徴とする請求
    項１乃至３のいずれか１に記載のポリッシング装置。
  5. 【請求項５】 前記湿潤手段は洗浄液を満たした容器を
    具備し、該容器の洗浄液に待機中の前記トップリング及
    び／又はドレッシングツールの少なくとも下面を浸して
    湿潤状態にすることを特徴とする請求項１に記載のポリ
    ッシング装置。
  6. 【請求項６】 前記トップリング及び／又はドレッシン
    グツールは少なくとも下面を容器の洗浄液に浸している
    期間回転させることを特徴とする請求項５に記載のポリ
    ッシング装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999046083A1 (fr) * 1998-03-13 1999-09-16 Speedfam Co., Ltd. Dispositif de nettoyage pour dresseur correcteur de marbre
US6095908A (en) * 1998-06-29 2000-08-01 Nec Corporation Polishing apparatus having a material for adjusting a surface of a polishing pad and method for adjusting the surface of the polishing pad
KR100493650B1 (ko) * 1997-12-29 2005-08-29 삼성전자주식회사 세정부를갖는화학적기계적연마장치
US8562392B2 (en) 2009-04-27 2013-10-22 Renesas Electronics Corporation Polishing apparatus and polishing method

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