JP3475004B2 - ポリッシング装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は半導体ウエハ等の被
研磨物を研磨するポリッシング装置に関し、特にトップ
リング洗浄機構及びドレッシングツール洗浄機構を具備
するポリッシング装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】図７及び図８はポリッシング装置の概略
構成を示す図で、図７は正面図、図８は平面図である。
ポリッシング装置は図示するように、互いに同一方向
（図では矢印Ａ、Ｂ方向）に回転できるターンテーブル
１０とトップリング２０とドレッシングツール６０を具
備する。該ターンテーブル１０の上面には研磨布（図示
を省略）が貼付けられており、該ターンテーブル１０の
研磨布上面とトップリング２０の下面の間に半導体ウエ
ハ等の被研磨物（図示を省略）を挟持すると共に、研磨
布上面にノズル（図示せず）から砥液を供給しながら被
研磨物を研磨すると共に、ターンテーブル１０の研磨布
に回転するドレッシングツール６０を押し当て該研磨布
の経時的変化を修正して目立てを行うようになってい
る。

【０００３】上記構成のポリッシング装置において、ポ
リッシング終了、即ち研磨終了後はトップリング２０を
昇降機構（図示を省略）で所定量上昇させ、図８に示す
ようにターンテーブル１０の外側方向（矢印Ｃ）に旋回
させ、所定の位置（被研磨物引渡位置Ｄ）でトップリン
グ２０の下部に伸びたロボットハンド等の搬送用ハンド
７０に被研磨物を渡し、この状態で待機し搬送用ハンド
７０で送られて来た被研磨物をトップリング２０の下面
に吸着し、再びターンテーブル１０上に旋回し、下降し
てポリッシングを行う。また、メンテナンス時はトップ
リング２０は退避位置Ｅにある。また、ドレッシングツ
ール６０は常時はターンテーブル１０の外側方向（矢印
Ｆ）に旋回し、退避位置Ｇにある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記構成のポリッシン
グ装置において、ポリッシング終了後のトップリング２
０の下面は研磨前の被研磨物を吸着することにより汚染
したり、ポリッシングに際し砥液等が付着することによ
り汚染する。そこで研磨終了後にトップリング下面を洗
浄する必要がある。従来この洗浄に際し、ノズルから洗
浄液（主に純水）をトップリング２０の下面に噴射した
り、この洗浄液噴射洗浄とブラシ洗浄等を併用して洗浄
していたが、研磨終了後直後にトップリング２０の下面
を洗浄するのではないため、トップリング２０の下面や
被研磨物に付着した砥液が固化してしまったり、洗浄液
や研磨屑が研磨布上に飛散してポリッシングの際の砥液
の組成が変わってしまい、ポリッシング性能を変えてし
まったり、ブラシの毛が研磨布に落下し、ポリッシング
の際被研磨物に傷を与えてしまう等の問題があった。ま
た、ドレッシングツール６０もドレッシング終了直後に
洗浄しなかったため同様の問題があった。

【０００５】本発明は上述の点に鑑みてなされたもの
で、ターンテーブルの上の研磨布上の砥液の組成を変え
ることなく、機構が簡単で洗浄液の飛散が少なく効果的
にトップリング下面及び／又はドレッシングツール下面
を洗浄できるポリッシング装置を提供することを目的と
する。

【０００６】また、トップリングの洗浄と共に、トップ
リングへ被研磨物を渡したりトップリングから被研磨物
を受け取る搬送用ハンドや被研磨物も洗浄できるポリッ
シング装置を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本願請求項１に記載の発明は、上面に研磨布を貼付けた
ターンテーブル、被研磨物を保持するトップリング及び
前記研磨布面をドレッシングするドレッシングツールを
具備し、該回転するターンテーブルの研磨布面に回転す
るトップリングに保持された被研磨物を押し当て被研磨
物の被研磨面を研磨すると共に、該ターンテーブルの研
磨布面にドレッシングツールを押し当て該研磨布面の目
立てを行うポリッシング装置において、トップリングを
研磨終了後所定量上昇及び旋回させて前記ターンテーブ
ル外側の所定位置まで移動させるトップリング昇降旋回
機構と、ドレッシングツールをドレッシング終了後所定
量上昇及び旋回させて前記ターンテーブル外側の所定位
置まで移動させるドレッシングツール昇降旋回機構とを
具備し、トップリングが所定位置に待機した状態で該ト
ップリング下方にノズルが進入し該トップリング下面に
洗浄液を噴射して洗浄するトップリング洗浄機構とドレ
ッシングツールが前記所定位置に待機した状態で該ドレ
ッシングツール下方にノズルが進入し該ドレッシングツ
ール下面に洗浄液を噴射して洗浄するドレッシングツー
ル洗浄機構を設けたことを特徴とする。

【０００８】請求項２に記載の発明は、上面に研磨布を
貼付けたターンテーブル、被研磨物を保持するトップリ
ング及び研磨布面をドレッシングするドレッシングツー
ルを具備し、該回転するターンテーブルの研磨布面にト
ップリングに保持された被研磨物を押し当て被研磨物の
被研磨面を研磨すると共に、該ターンテーブルの研磨布
面にドレッシングツールを押し当て該研磨布面の目立て
を行うポリッシング装置において、ターンテーブルの上
部所定範囲を覆い外部に飛散する流体を防止するテーブ
ルドームと、トップリングを研磨終了後所定量上昇及び
旋回させて所定位置まで移動させるトップリング昇降旋
回機構と、ドレッシングツールをドレッシング終了後所
定量上昇及び旋回させて所定位置まで移動させるドレッ
シングツール昇降旋回機構とを具備し、トップリングが
所定位置に待機している間に少なくともトップリング下
面を洗浄するトップリング洗浄機構又はドレッシングツ
ールが所定位置に待機している間に少なくともドレッシ
ングツール下面を洗浄するドレッシングツール洗浄機構
の何れか一方又は双方をテーブルドームに設けたことを
特徴とする。

【０００９】請求項３に記載の発明は、請求項１又は２
に記載のポリッシング装置において、トップリング洗浄
機構はトップリングから被研磨物を引き渡す搬送用ハン
ド及び／又は被研磨物にも洗浄液を噴射して洗浄する機
能を具備することを特徴とする。

【００１０】請求項４に記載の発明は、上面に研磨布を
貼付けたターンテーブルと、被研磨物を保持するトップ
リングを具備し、該研磨布面と該トップリングの間に被
研磨物を挟持しながら被研磨物を研磨するポリッシング
装置において、トップリングを昇降及び旋回させて研磨
位置と非研磨位置の間で移動させるトップリング昇降旋
回機構、該トップリングが非研磨位置の被研磨物受渡位
置にある時に、該トップリングの上方、側方及び下方か
らトップリングに洗浄液を噴射し、該トップリングを洗
浄するトップリング洗浄機構を具備することを特徴とす
る。

【００１１】請求項５に記載の発明は、請求項４に記載
のポリッシング装置において、ターンテーブルの研磨布
面に押し当て、研磨布面の目立てを行うドレッシングツ
ールを有し、該ドレッシングツールはドレッシングツー
ル昇降旋回機構の昇降及び旋回動作によりドレッシング
位置と非ドレッシング位置を移動することができ、ドレ
ッシングツールが非ドレッシング位置にある時に該ドレ
ッシングツールの下方から洗浄液を噴射し、該ドレッシ
ングツールを洗浄するドレッシングツール洗浄機構を具
備することを特徴とする。

【００１２】請求項６に記載の発明は、請求項５に記載
のポリッシング装置において、ドレッシングツール洗浄
機構は、ドレッシングツールの上方、側方及び下方から
ドレッシングツールに洗浄液を噴射することができるよ
うに構成されていることを特徴とする。

【００１３】請求項７に記載の発明は、請求項４に記載
のポリッシング装置において、トップリング洗浄機構
は、トップリングに吸着されている被研磨物の被研磨面
及び／又は該トップリングから離脱した被研磨物の被研
磨面の反対側面に洗浄液を噴射することができるように
構成されていることを特徴とする。

【００１４】請求項８に記載の発明は、上面に研磨布を
貼付けたターンテーブル、被研磨物を保持するトップリ
ングを具備し、該回転するターンテーブルの研磨布面に
回転するトップリングに保持された被研磨物を押し当て
被研磨物の被研磨面を研磨するポリッシング装置におい
て、トップリングが非研磨位置の被研磨物受渡位置にあ
る時にトップリングを洗浄するトップリング洗浄機構を
具備し、トップリング洗浄機構は被研磨物受渡位置で被
研磨物を搬送する被研磨物搬送用ハンドに洗浄液を噴射
して該被研磨物搬送用ハンドを洗浄することを特徴とす
る。

【００１５】請求項９に記載の発明は、請求項８に記載
のポリッシング装置において、被研磨物搬送用ハンドは
ロボットハンドであることを特徴とする。

【００１６】請求項１０に記載の発明は、請求項８又は
９に記載のポリッシング装置において、トップリング洗
浄機構は、洗浄液ノズルから被研磨物搬送用ハンドに洗
浄液を噴射し該被研磨物搬送用ハンドを洗浄するように
構成されていることを特徴とする。

【００１７】請求項１１に記載の発明は、請求項１０に
記載のポリッシング装置において、トップリング洗浄機
構は、被研磨物搬送用ハンドが被研磨物受渡位置にある
ときその上方、側方及び下方の方向から洗浄液を噴射す
るように構成されていることを特徴とする。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。図１は本発明のポリッシング装置
の概略構成を示す図である。本ポリッシング装置は互い
に同一方向（図では矢印Ａ、Ｂ方向）に回転できるター
ンテーブル１０とトップリング２０を具備し、該ターン
テーブル１０の上面には研磨布１１が貼付けられている
点は、図７及び図８に示すポリッシング装置と同一であ
る。

【００１９】 また、トップリング２０は図示しない昇降
機構及び旋回機構を具備し、ポリッシング終了後、昇降
機構で所定量上昇し、旋回機構でターンテーブル１０の
外側方向（図８のＤ位置）に旋回し、所定位置で図示し
ないロボットハンド等の被研磨物搬送用ハンドに被研磨
物を受渡し、また該位置でポリッシング前の被研磨物を
被研磨物搬送用ハンドから受け取る点も図７及び図８に
示すポリッシング装置と同一である。

【００２０】 本ポリッシング装置はトップリング２０の
下面を洗浄するためのトップリング洗浄機構３０を具備
する。該トップリング洗浄機構３０は洗浄液（主に純
水）を噴射する洗浄液ノズル３１と、該洗浄液ノズル３
１を支持するシャフト３２と、該シャフト３２を上下に
昇降させると共にシャフト３２を回動させて洗浄液ノズ
ル３１を旋回させる昇降旋回機構３３を具備している。
前記シャフト３２内には洗浄液Ｗが通る流路が形成され
ており、該流路を通った洗浄液Ｗは洗浄液ノズル３１か
ら上方に向かって噴出されるようになっている。

【００２１】 上記構成のポリッシング装置において、該
互いに回転するターンテーブル１０の研磨布１１の上面
とトップリング２０の下面の間に被研磨物を挟持し、該
研磨布上に砥液ノズル１２から砥液Ｑを供給しながら被
研磨物をポリッシングする。そしてポリッシング終了
後、トップリング２０を昇降機構（図示せず）で所定量
上昇させ、図８の矢印Ｃに示すターンテーブル１０の上
の所定位置で搬送用ハンド７０に被研磨物を渡す。この
時のトップリング２０の状態は図１に示すようになる。

【００２２】 次に、トップリング洗浄機構３０を昇降旋
回機構３３により、洗浄液ノズル３１をトップリング２
０とターンテーブル１０の間の位置まで下降させ、更に
該位置で洗浄液ノズル３１をシャフト３２を中心に旋回
させ、洗浄液ノズル３１をトップリング２０の下面に対
向するようにする。この状態で洗浄液ノズル３１から洗
浄液Ｗをトップリング２０の下面に向けて噴射し、該ト
ップリング２０の下面を洗浄する。

【００２３】 トップリング２０の下面に浸入する洗浄液
ノズル３１の位置は噴射した洗浄液Ｗが、ターンテーブ
ル１０の外側に落下するようにし、ターンテーブル１０
の上面に落下しないようにする。これは砥液ノズル１２
から供給される砥液（スラリー）Ｑは濃度が調整されて
いるから、トップリング２０を洗浄した洗浄液Ｗがター
ンテーブル１０の上に落ちるとその濃度が変わるからで
ある。

【００２４】 図２は本発明のポリッシング装置の概略構
成を示す図である。本トップリング洗浄装置は、ターン
テーブル１０の上部所定範囲を覆うテーブルドーム１３
の所定位置（トップリング２０が研磨後の被研磨物を搬
送用ハンド７０に渡し、搬送用ハンド７０から研磨前の
被研磨物を受け取る位置の近傍）に洗浄液Ｗを噴射する
洗浄液ノズル４１及び洗浄液ノズル４２等を具備するト
ップリング洗浄機構４０を取り付けた構成である。

【００２５】 図３はテーブルドームの外観構成を示す図
である。テーブルドーム１３は図示するように、砥液等
の外部への飛散を防止するためターンテーブル１０を覆
うドーム状のカバーであり、トップリング２０が被研磨
物受渡位置Ｄ（図８の被研磨物受渡位置Ｄ参照）と退避
位置Ｅ（図８の退避位置Ｅ参照）を矢印Ｃに沿って旋回
するための凹部が設けられ、該凹部の所定位置にトップ
リング２０がターンテーブル１０の上面に降下し及びタ
ーンテーブル１０の上面から上昇するためのトップリン
グ挿入孔１３−１が設けられている。また、ドレッシン
グツール６０（図８参照）が矢印Ｆ方向に旋回するため
の凹部も設けられ、該凹部にドレッシングツール挿入口
１３−２が設けられている。

【００２６】 上記トップリング洗浄機構４０はテーブル
ドーム１３のトップリング２０の被研磨物受渡位置Ｄに
設けられ、該位置にあるトップリング２０からポリッシ
ング終了後の被研磨物を搬送用ハンド（図８の搬送用ハ
ンド７０参照）に渡した後、トップリング２０の下面に
洗浄液を噴射し洗浄する。なお、図３において、１３−
３は砥液を噴出する砥液ノズル１２やリンス液を噴出す
るリンス液ノズルを具備するノズルユニット、１３−
４，１３−５は排気孔、１３−６，１３−７は取っ手で
ある。

【００２７】 図４はトップリング洗浄機構４０の各ノズ
ル、ノズル継手及び配管経路を示す図である。図示する
ように、トップリング洗浄機構４０は洗浄液Ｗをトップ
リング２０の下面に向かって噴射する洗浄液ノズル４
１、該洗浄液ノズル４１を挟んで両側に配置し互いに対
向する方向に洗浄液Ｗを噴射する一対の洗浄液ノズル４
２，４２、同じく洗浄液ノズル４１を挟んで両側に配置
し下方に向かって洗浄液Ｗを噴射する一対の洗浄液ノズ
ル４３，４３を具備し、洗浄液ノズル４１はノズル継手
５１，５２を介して、洗浄液ノズル４２，４２及び洗浄
液ノズル４３，４３はノズル継手４４〜５０を介して配
管に接続されている。

【００２８】 図５は被研磨物受渡位置Ｄに伸びた搬送用
ハンド（ロボットハンド）７０の洗浄状態を示す図で、
図示するように搬送用ハンド７０の上面及び側面に洗浄
液ノズル４２，４２及び洗浄液ノズル４３，４３から洗
浄液を噴射し洗浄する。この状態で図８に示すように、
被研磨物受渡位置Ｄにポリッシングの終了した被研磨物
を下面に吸着したトップリング２０が旋回移動し、該位
置で被研磨物を搬送用ハンド７０に渡す。この時、洗浄
液ノズル４２，４２及び洗浄液ノズル４３，４３から該
被研磨物に洗浄液を噴射し続けることにより、被洗浄物
の裏面（研磨面の反対側）も洗浄できる。

【００２９】 続いて、被研磨物を受け取った搬送用ハン
ド７０が後退した後、洗浄液ノズル４１から洗浄液Ｗを
噴射し、トップリング２０の下面（被研磨物の吸着面）
を洗浄する。その後、トップリング２０はその下面に搬
送用ハンド７０で搬送されて来た未研磨の被研磨物を受
け取り（被研磨物を下面に吸着）、該被研磨物の研磨を
行う。

【００３０】 また、洗浄液ノズル４２，４２及び洗浄液
ノズル４３，４３から被研磨物受渡位置Ｄにあるトップ
リング２０に上方及び両側から洗浄液Ｗを噴射し、該ト
ップリング２０が乾燥するのを防止する。

【００３１】 なお、上記例では被研磨物受渡位置Ｄにあ
り、被研磨物を搬送用ハンド７０に受渡した後のトップ
リング２０の下面に洗浄液Ｗを噴射して洗浄する例を説
明したが、ポリッシング終了直後の被研磨物を吸着して
いるトップリング２０の下面に洗浄液Ｗを噴射すること
により、被研磨物の被ポリッシング面（被研磨面）を洗
浄することも可能であり、これにより被研磨物に付着し
たパーティクルの除去効果が大きくなる。また、この場
合洗浄液Ｗの噴射はトップリング２０が被研磨物受渡位
置Ｄに到達してからに限定されるものではなく、該位置
に到達するまでの間に行うように洗浄液ノズルを配置し
ても良い。

【００３２】 また、図４に示す洗浄機構のノズル、ノズ
ル継手及び配管経路の構成は一例であり、本発明のトッ
プリング洗浄装置のノズル、ノズル継手及び配管経路の
構成はこれに限定されるものではない。

【００３３】 上述のトップリング２０の洗浄は、被研磨
物を１枚処理する毎に行うが、ロット待ち及び装置正常
停止時にも行い、トップリング２０の乾燥を防ぐことが
できる。また、図示は省略するが、上記トップリング洗
浄機構３０、４０と同様な洗浄機構をドレッシングツー
ル６０を洗浄するためのドレッシングツール洗浄機構と
して設けることにより、ドレッシングツール６０の洗浄
も行うことができる。また、この場合、必要に応じてト
ップリング洗浄機構とドレッシングツール洗浄機構のい
ずれか一方又は双方を設けるようにしてもよい。

【００３４】

【発明の効果】以上説明したように本願各請求項に記載
の発明によれば、ターンテーブル上の砥液の組成を変え
ることなく、トップリング、ドレッシングツールの洗浄
を行うことができる。また、トップリングの洗浄を被研
磨物の受渡し時、受渡し場所で行うことにより、洗浄専
用ステーションで洗浄しなくてもよく、省スペース化と
トップリング洗浄のために全体の処理時間が長くなるこ
とへの影響を最小限に抑えることができるという優れた
効果が得られる。

【００３５】 また、請求項１に記載の発明によれば、簡
単な構成でトップリング下面及びドレッシングツール下
面を効果的に洗浄できるトップリング洗浄装置を提供で
きる。また、トップリングがポリッシング終了直後の被
研磨物を吸着している場合は、該被研磨物に付着したパ
ーティクルを効果的に除去することが可能となる。

【００３６】 また、請求項２に記載の発明によれば、テ
ーブルドームと、トップリング昇降旋回機構と、ドレッ
シングツール昇降旋回機構とを具備し、トップリングが
所定位置に待機している間にトップリング下面を洗浄す
るトップリング洗浄機構又はドレッシングツールが所定
位置に待機している間にドレッシングツール下面を洗浄
するドレッシングツール洗浄機構の何れか一方又は双方
を設けたので、簡単な構成でトップリング下面及びドレ
ッシングツール下面の何れか一方又は双方を効果的に洗
浄できるポリッシング装置を提供できる。また、トップ
リングがポリッシング終了直後の被研磨物を吸着してい
る場合は、この洗浄液の噴射により該被研磨物に付着し
たパーティクルを効果的に除去することが可能となる。

【００３７】また、請求項４に記載の発明によれば、ト
ップリング洗浄機構により、トップリングが非研磨位置
にある時に、該トップリングの上方、側方及び下方から
トップリングに洗浄液を噴射して洗浄することができ
る。

【００３８】また、請求項８に記載の発明によれば、ト
ップリング洗浄機構により、装置内の被研磨物を搬送す
る被研磨物搬送用ハンドも洗浄することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のポリッシング装置のトップリング洗浄
装置の概略構成を示す図である。

【図２】本発明のポリッシング装置のトップリング洗浄
装置の概略構成を示す図である。

【図３】テーブルドームの外観構成例を示す図である。

【図４】本発明のポリッシング装置の洗浄機構の各ノズ
ル、ノズル継手及び配管経路を示す図である。

【図５】本発明のポリッシング装置の洗浄機構による搬
送用ハンドの洗浄状態を示す図である。

【図６】本発明のポリッシング装置の洗浄機構によるト
ップリング下面の洗浄状態を示す図である。

【図７】ポリッシング装置の概略構成を示す図である。

【図８】ポリッシング装置の概略構成を示す図である。

【符号の説明】

１０ ターンテーブル １１ 研磨布 １２ 砥液ノズル ２０ トップリング ３０ トップリング洗浄機構 ３１ 洗浄液ノズル ３２ シャフト ３３ 昇降旋回機構 ４０ トップリング洗浄機構 ４１ 洗浄液ノズル ４２ 洗浄液ノズル ４３ 洗浄液ノズル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平８−153693（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−299738（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−33859（ＪＰ，Ａ) 特表 平７−508685（ＪＰ，Ａ)

Claims (11)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 上面に研磨布を貼付けたターンテーブ
   ル、被研磨物を保持するトップリング及び前記研磨布面
   をドレッシングするドレッシングツールを具備し、該回
   転するターンテーブルの研磨布面に回転するトップリン
   グに保持された被研磨物を押し当て被研磨物の被研磨面
   を研磨すると共に、該ターンテーブルの研磨布面にドレ
   ッシングツールを押し当て該研磨布面の目立てを行うポ
   リッシング装置において、 前記トップリングを研磨終了後所定量上昇及び旋回させ
   て前記ターンテーブル外側の所定位置まで移動させるト
   ップリング昇降旋回機構と、前記ドレッシングツールを
   ドレッシング終了後所定量上昇及び旋回させて前記ター
   ンテーブル外側の所定位置まで移動させるドレッシング
   ツール昇降旋回機構とを具備し、 前記トップリングが前記所定位置に待機した状態で該ト
   ップリング下方にノズルが進入し該トップリング下面に
   洗浄液を噴射して洗浄するトップリング洗浄機構と前記
   ドレッシングツールが前記所定位置に待機した状態で該
   ドレッシングツール下方にノズルが進入し該ドレッシン
   グツール下面に洗浄液を噴射して洗浄するドレッシング
   ツール洗浄機構を設けたことを特徴とするポリッシング
   装置。
2. 【請求項２】 上面に研磨布を貼付けたターンテーブ
   ル、被研磨物を保持するトップリング及び前記研磨布面
   をドレッシングするドレッシングツールを具備し、該回
   転するターンテーブルの研磨布面にトップリングに保持
   された被研磨物を押し当て被研磨物の被研磨面を研磨す
   ると共に、該ターンテーブルの研磨布面にドレッシング
   ツールを押し当て該研磨布面の目立てを行うポリッシン
   グ装置において、 前記ターンテーブルの上部所定範囲を覆い外部に飛散す
   る流体を防止するテーブルドームと、前記トップリング
   を研磨終了後所定量上昇及び旋回させて所定位置まで移
   動させるトップリング昇降旋回機構と、前記ドレッシン
   グツールをドレッシング終了後所定量上昇及び旋回させ
   て所定位置まで移動させるドレッシングツール昇降旋回
   機構とを具備し、 前記トップリングが前記所定位置に待機している間に少
   なくともトップリング下面を洗浄するトップリング洗浄
   機構又は前記ドレッシングツールが前記所定位置に待機
   している間に少なくともドレッシングツール下面を洗浄
   するドレッシングツール洗浄機構の何れか一方又は双方
   を前記テーブルドームに設けたことを特徴とするポリッ
   シング装置。
3. 【請求項３】 前記トップリング洗浄機構はトップリン
   グから被研磨物を引き渡す搬送用ハンド及び／又は被研
   磨物にも洗浄液を噴射して洗浄する機能を具備すること
   を特徴とする請求項１又は２に記載のポリッシング装
   置。
4. 【請求項４】 上面に研磨布を貼付けたターンテーブル
   と、被研磨物を保持するトップリングを具備し、該研磨
   布面と該トップリングの間に被研磨物を挟持しながら被
   研磨物を研磨するポリッシング装置において、 前記トップリングを昇降及び旋回させて研磨位置と非研
   磨位置の間で移動させるトップリング昇降旋回機構、該
   トップリングが非研磨位置の被研磨物受渡位置にある時
   に、該トップリングの上方、側方及び下方からトップリ
   ングに洗浄液を噴射し、該トップリングを洗浄するトッ
   プリング洗浄機構を具備することを特徴とするポリッシ
   ング装置。
5. 【請求項５】 前記ターンテーブルの研磨布面に押し当
   て、研磨布面の目立てを行うドレッシングツールを有
   し、該ドレッシングツールはドレッシングツール昇降旋
   回機構の昇降及び旋回動作によりドレッシング位置と非
   ドレッシング位置を移動することができ、 前記ドレッシングツールが前記非ドレッシング位置にあ
   る時に該ドレッシングツールの下方から洗浄液を噴射
   し、該ドレッシングツールを洗浄するドレッシングツー
   ル洗浄機構を具備することを特徴とする請求項４に記載
   のポリッシング装置。
6. 【請求項６】 前記ドレッシングツール洗浄機構は、前
   記ドレッシングツールの上方、側方及び下方から前記ド
   レッシングツールに洗浄液を噴射することができるよう
   に構成されていることを特徴とする請求項５に記載のポ
   リッシング装置。
7. 【請求項７】 前記トップリング洗浄機構は、前記トッ
   プリングに吸着されている被研磨 物の被研磨面及び／又
   は該トップリングから離脱した被研磨物の被研磨面の反
   対側面に洗浄液を噴射することができるように構成され
   ていることを特徴とする請求項４に記載のポリッシング
   装置。
8. 【請求項８】 上面に研磨布を貼付けたターンテーブ
   ル、被研磨物を保持するトップリングを具備し、該回転
   するターンテーブルの研磨布面に回転するトップリング
   に保持された被研磨物を押し当て被研磨物の被研磨面を
   研磨するポリッシング装置において、 前記トップリングが非研磨位置の被研磨物受渡位置にあ
   る時にトップリングを洗浄するトップリング洗浄機構を
   具備し、 前記トップリング洗浄機構は前記被研磨物受渡位置で被
   研磨物を搬送する被研磨物搬送用ハンドに洗浄液を噴射
   して該被研磨物搬送用ハンドを洗浄することを特徴とす
   るポリッシング装置。
9. 【請求項９】 前記被研磨物搬送用ハンドはロボットハ
   ンドであることを特徴とする請求項８に記載のポリッシ
   ング装置。
10. 【請求項１０】 前記トップリング洗浄機構は、洗浄液
    ノズルから前記被研磨物搬送用ハンドに洗浄液を噴射し
    該被研磨物搬送用ハンドを洗浄するように構成されてい
    ることを特徴とする請求項８又は９に記載のポリッシン
    グ装置。
11. 【請求項１１】 前記トップリング洗浄機構は、前記被
    研磨物搬送用ハンドが被研磨物受渡位置にあるときその
    上方、側方及び下方の方向から洗浄液を噴射するように
    構成されていることを特徴とする請求項１０に記載のポ
    リッシング装置。