JPH09252075A - Semiconductor device and manufacture thereof - Google Patents

Semiconductor device and manufacture thereof

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JPH09252075A
JPH09252075A JP8060447A JP6044796A JPH09252075A JP H09252075 A JPH09252075 A JP H09252075A JP 8060447 A JP8060447 A JP 8060447A JP 6044796 A JP6044796 A JP 6044796A JP H09252075 A JPH09252075 A JP H09252075A
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support plate
mold
wiring board
lead frame
semiconductor device
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Hiroyuki Takahashi
広幸 高橋
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Akita Electronics Systems Co Ltd
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Hitachi Ltd
Akita Electronics Co Ltd
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  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
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  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To eliminated the vertical movements of a support plate at the time of molding a semiconductor chip fixed to the plate, by casting resin in the cavity of a transfer mold to form a sealer in the state that the plate of a lead frame is supported in a predetermined height by a magnetic force at the time of transfer molding. SOLUTION: After an assembled lead frame 15 is mold clamped in the mold 30 of a transfer molding machine, electromagnets 41, 41 contained in lower and upper molds 31, 32 are magnetized by a controller 45 to predetermined magnetic force. As a result, the upper and lower surfaces of a permanent magnet 11 fixed to a support plate 4 are repelled to the upper surface of the electromagnet 41 of the mold 31 and the lower surface of the electromagnet 42 of the mold 32. Accordingly, the plate 4 is extended parallel to the bottom 46 and the ceiling 47 of the cavity, and supported by the magnetic forces of the electromagnets 41, 42. Melted resin 50 is cast in the cavity 35 from the gate 34 in this state to cover the material to be sealed such as the plate 4, a semiconductor chip 6 and the like with sealant.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置(混成集
積回路装置)およびその製造方法に関し、特に樹脂封止
型半導体装置において封止体の表面(主面と裏面)にワ
イヤ,支持板,配線基板等の被封止物部分を露出させな
いトランスファモールド技術に適用して有効な技術に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device (hybrid integrated circuit device) and a method for manufacturing the same, and particularly to a wire, a support plate and a wiring on the front surface (main surface and back surface) of a sealing body in a resin-sealed semiconductor device. The present invention relates to a technique effectively applied to a transfer molding technique that does not expose a portion of an object to be sealed such as a substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】IC(集積回路装置)等の半導体装置に
おいて、半導体チップ等を被うパッケージ構造として樹
脂(レジン)による封止構造が知られている。
2. Description of the Related Art In semiconductor devices such as ICs (integrated circuit devices), a resin (resin) sealing structure is known as a package structure for covering semiconductor chips and the like.

【0003】樹脂封止型半導体装置は、リードフレーム
を使用して製造される。リードフレームは、薄い金属板
をエッチングや精密プレスによってパターニングするこ
とによって形成される。リードフレームの一例について
説明すると、リードフレームは矩形の枠体と、この枠体
の中央に位置し、前記枠体から延在する2本または4本
の支持リードに支持される支持板と、前記枠体から延在
して先端を前記支持板の周囲に近接させる複数のリード
と、前記リードや枠体を連結するとともに、トランスフ
ァモールド時に溶けた樹脂の流出を防止するダムとから
なっている。
The resin-sealed semiconductor device is manufactured using a lead frame. The lead frame is formed by patterning a thin metal plate by etching or precision press. Explaining an example of the lead frame, the lead frame includes a rectangular frame body, a support plate positioned in the center of the frame body, and supported by two or four support leads extending from the frame body, It is composed of a plurality of leads extending from the frame body and having their tips close to the periphery of the support plate, and a dam for connecting the leads and the frame body and for preventing the melted resin from flowing out at the time of transfer molding.

【0004】樹脂封止型半導体装置の製造においては、
最初に前記支持板の主面に半導体チップを固定する。そ
の後、前記半導体チップの電極とリードの先端を導電性
のワイヤで接続する。つぎに、トランスファモールド装
置のモールド型にリードフレームを型締めした後、モー
ルド型のキャビティに溶けた樹脂を注入して封止体(パ
ッケージ)で半導体チップやワイヤ等を被う。また、ト
ランスファモールド後は、不要なリードフレーム部分を
切断除去するとともに、パッケージから突出するリード
を所望の形状に成形することによって所望の半導体装置
を製造する。
In manufacturing a resin-sealed semiconductor device,
First, the semiconductor chip is fixed to the main surface of the support plate. After that, the electrodes of the semiconductor chip and the tips of the leads are connected by a conductive wire. Next, after the lead frame is clamped in the mold of the transfer molding apparatus, the melted resin is injected into the cavity of the mold to cover the semiconductor chip, wires, etc. with the sealing body (package). After the transfer molding, unnecessary lead frame portions are cut and removed, and the leads protruding from the package are molded into a desired shape to manufacture a desired semiconductor device.

【0005】半導体装置は、パッケージの厚さをより薄
くし、半導体装置の薄型化が図られている。レジンパッ
ケージの厚さを1mmと薄くしたTQFP(Thin Quad
FlatPackage) については、たとえば、日経BP社発行
「日経マイクロデバイス」1988年9月号、同年9月1日
発行、P115〜P121に記載されている。この文献には、チ
ップ上とダイ・パッド下での樹脂の流れの違いによって
ダイ・パッドが変位すること、ワイヤの高さを200μ
m以下に抑えたこと、モールド時のワイヤ変形によるシ
ョート対策について記載されている。
Semiconductor devices have been made thinner by making the package thinner. TQFP (Thin Quad) with resin package thickness as thin as 1mm
FlatPackage) is described in, for example, “Nikkei Microdevice”, September 1988 issue, published by Nikkei BP, September 115, pp. 115-P121. In this document, the die pad is displaced by the difference in the resin flow on the chip and under the die pad, and the wire height is 200 μm.
It describes that it is suppressed to m or less, and measures against short circuit due to wire deformation during molding.

【0006】一方、工業調査会発行「最新ハイブリッド
実装技術」1988年5月15日発行、P13 およびP14 に記載
されているように、リードフレームを使用し、封止をト
ランスファモールドによって行うトランスファモールド
形ハイブリッドIC(混成集積回路装置)が知られてい
る。
On the other hand, as described in P13 and P14, "Latest Hybrid Mounting Technology" issued by the Industrial Research Institute, May 13, 1988, a transfer mold type in which a lead frame is used and sealing is performed by transfer molding. A hybrid IC (hybrid integrated circuit device) is known.

【0007】また、特願平6-273202号公報には、トラン
スファモールド時、モールド型の上下型に設けた突子で
支持板を挟み(クランプ)、流入するレジンで前記支持
板が上下しないようにして、パッケージの表面にワイヤ
を露出させない混成集積回路装置の製造技術について記
載されている。また、この技術では、前記支持板を枠形
状とし、支持板の裏面(下面)に放熱板を固定させる構
造とし、かつモールド時には、前記クランプ時、放熱板
の下面をモールド型のキャビティ底面に密着させ、放熱
板の下面(裏面)にレジンが回り込まないようにしてモ
ールドすることが記載されている。
Further, in Japanese Patent Application No. 6-273202, at the time of transfer molding, a support plate is clamped by a protrusion provided on the upper and lower molds (clamp) so that the support plate does not move up and down by an inflowing resin. The manufacturing technique of the hybrid integrated circuit device in which the wire is not exposed on the surface of the package is described. In addition, in this technology, the support plate has a frame shape, and the heat dissipation plate is fixed to the back surface (lower surface) of the support plate, and the bottom surface of the heat dissipation plate is closely adhered to the bottom surface of the cavity of the mold during clamping during molding. It is described that the resin is molded so as not to go around the lower surface (back surface) of the heat dissipation plate.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】前記文献にも記載され
ているように、樹脂封止型半導体装置の製造におけるト
ランスファモールド時、キャビティ内に流入する樹脂の
流入圧力によって支持板が上下に変動したり傾いたりす
ることがある。この場合、パッケージの表面に支持板や
ワイヤの一部が露出する現象が発生することがある。
As described in the above document, during transfer molding in the manufacture of a resin-sealed semiconductor device, the support plate fluctuates vertically due to the inflow pressure of the resin flowing into the cavity. It may tilt or tilt. In this case, a phenomenon may occur in which a part of the support plate or the wire is exposed on the surface of the package.

【0009】また、前記樹脂の流入圧力によってワイヤ
が変形し、隣接するワイヤとの間でショートを起こす状
態となる場合もある。
There is also a case where the wire is deformed by the inflow pressure of the resin and a short circuit occurs between adjacent wires.

【0010】特に封止体の薄型化が進む現況では、ワイ
ヤの一部露出は大きな問題となるおそれがある。
Particularly in the present situation where the sealing body is becoming thinner, partial exposure of the wire may pose a serious problem.

【0011】本発明の目的は、ワイヤや支持板等の被封
止物部分がパッケージ面に露出することがない耐湿性に
優れた半導体装置およびその製造方法を提供することに
ある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device excellent in moisture resistance in which parts of an object to be sealed such as wires and supporting plates are not exposed on the package surface, and a method of manufacturing the same.

【0012】本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
[0012] The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The following is a brief description of an outline of typical inventions disclosed in the present application.

【0014】(1)トランスファモールドによって形成
される樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しか
つ支持リードに支持される支持板と、前記支持板の周囲
に一端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる複数
のリードと、前記支持板の主面に固定される一つ以上の
半導体チップと、前記半導体チップの電極と前記リード
を電気的に接続するワイヤとを有する半導体装置であっ
て、前記支持板および前記リードは非磁性体からなると
ともに、前記支持板の主面側および裏面側が相互に異な
る磁極となるように前記支持板に永久磁石が固定されて
いる。前記支持板には複数の穴が設けられ、前記穴の少
なくとも一部に前記永久磁石が埋め込まれている。前記
支持板およびリードは銅または銅合金で形成されてい
る。
(1) A sealing body made of resin formed by transfer molding, a support plate located in the sealing body and supported by a support lead, and one end of which faces the periphery of the support plate and the other end. A plurality of leads that extend outside the sealing body, one or more semiconductor chips fixed to the main surface of the support plate, and a wire that electrically connects the electrodes of the semiconductor chip and the leads. In the semiconductor device, the support plate and the leads are made of a non-magnetic material, and a permanent magnet is fixed to the support plate so that the main surface side and the back surface side of the support plate have different magnetic poles. There is. A plurality of holes are provided in the support plate, and the permanent magnet is embedded in at least a part of the holes. The support plate and the leads are made of copper or a copper alloy.

【0015】このような半導体装置はつぎの方法によっ
て製造される。
Such a semiconductor device is manufactured by the following method.

【0016】半導体チップ固定用の支持板を有する非磁
性体からなるリードフレームを用意する工程と、前記支
持板の主面に半導体チップを固定する工程と、前記半導
体チップの電極とリードフレームのリード先端を導電性
のワイヤで接続する工程と、トランスファモールド装置
のモールド型に前記リードフレームを型締めした後、前
記モールド型のキャビティ内に溶けた樹脂を注入して前
記支持板,前記半導体チップ,ワイヤ等を封止体で被う
工程とを有する半導体装置の製造方法であって、あらか
じめ前記支持板の主面側および裏面側が相互に異なる磁
極となるように永久磁石を前記支持板に固定しておくと
ともに、前記モールド型の下型と上型にそれぞれ電磁石
を組み込んでおき、その後前記リードフレームを前記モ
ールド型に型締めするとともに、前記各電磁石の磁力を
制御して前記永久磁石を前記各電磁石に対して反発動作
させて前記支持板をキャビティ内の所定の高さに磁力に
よって支持し、ついで溶けた樹脂をキャビティ内に流入
させて前記封止体を形成する。前記永久磁石は前記支持
板に設けた穴の少なくとも一部に埋め込まれている。前
記リードフレームは銅または銅合金で形成されている。
A step of preparing a lead frame made of a non-magnetic material having a supporting plate for fixing the semiconductor chip, a step of fixing the semiconductor chip to the main surface of the supporting plate, an electrode of the semiconductor chip and a lead of the lead frame. A step of connecting the ends with a conductive wire; and after clamping the lead frame in a mold of a transfer mold device, injecting a melted resin into the cavity of the mold to support the support plate, the semiconductor chip, A method of manufacturing a semiconductor device, comprising a step of covering wires and the like with a sealing body, wherein a permanent magnet is fixed to the support plate in advance so that main surface side and back surface side of the support plate have mutually different magnetic poles. In addition, the lower mold and the upper mold of the mold are respectively fitted with electromagnets, and then the lead frame is clamped to the mold. At the same time, the magnetic force of each electromagnet is controlled to cause the permanent magnets to repel the electromagnets to support the supporting plate by magnetic force at a predetermined height in the cavity, and then melted resin in the cavity. To form the sealing body. The permanent magnet is embedded in at least a part of the hole provided in the support plate. The lead frame is made of copper or copper alloy.

【0017】(2)トランスファモールドによって形成
される樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しか
つ支持板に支持される配線基板と、前記配線基板の周囲
に一端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる複数
のリードと、前記配線基板の主面に固定される一つ以上
の半導体チップおよび受動部品と、所望の電極や配線間
を電気的に接続するワイヤとを有する混成集積回路構造
の半導体装置であって、前記支持板および前記リードは
非磁性体からなるとともに、前記配線基板の主面側およ
び裏面側が相互に異なる磁極となるように前記配線基板
または支持板に永久磁石が固定されている。前記配線基
板には複数の穴が設けられ、前記穴の少なくとも一部に
前記永久磁石が埋め込まれている。前記支持板およびリ
ードは銅または銅合金で形成されている。
(2) A sealing body made of resin formed by transfer molding, a wiring board positioned in the sealing body and supported by a supporting plate, and one end of which faces the circumference of the wiring board and the other end. A plurality of leads extending outside the encapsulant, one or more semiconductor chips and passive components fixed to the main surface of the wiring board, and a wire for electrically connecting desired electrodes and wirings. A semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure including: the support plate and the leads made of a non-magnetic material, and the wiring board or the wiring board so that the main surface side and the back surface side of the wiring board have mutually different magnetic poles. A permanent magnet is fixed to the support plate. The wiring board is provided with a plurality of holes, and the permanent magnet is embedded in at least a part of the holes. The support plate and the leads are made of copper or a copper alloy.

【0018】このような半導体装置はつぎの方法によっ
て製造される。
Such a semiconductor device is manufactured by the following method.

【0019】配線基板をリードフレームの支持板で支持
するリードフレームを用意する工程と、前記配線基板の
主面に一つ以上の半導体チップや受動部品を固定する工
程と、所定の電極や配線間を導電性のワイヤで接続する
工程と、トランスファモールド装置のモールド型に前記
リードフレームを型締めした後、前記モールド型のキャ
ビティ内に溶けた樹脂を注入して前記配線基板,半導体
チップ,受動部品,ワイヤ等を封止体で被う工程とを有
する混成集積回路構造の半導体装置の製造方法であっ
て、あらかじめ前記配線基板の主面側および裏面側が相
互に異なる磁極となるように前記配線基板または前記支
持板に永久磁石を固定しておくとともに、前記モールド
型の下型と上型にそれぞれ電磁石を組み込んでおき、そ
の後前記リードフレームをモールド型に型締めするとと
もに、前記各電磁石の磁力を制御して前記永久磁石を前
記各電磁石に対して反発動作させて前記配線基板をキャ
ビティ内の所定の高さに磁力によって支持し、ついで溶
けた樹脂をキャビティ内に流入させて前記封止体を形成
する。前記永久磁石は前記配線基板に設けた穴の少なく
とも一部に埋め込まれている。前記リードフレームは銅
または銅合金で形成されている。
A step of preparing a lead frame for supporting the wiring board by a support plate of the lead frame; a step of fixing one or more semiconductor chips or passive components on the main surface of the wiring board; Are connected with a conductive wire, and after the lead frame is clamped in the mold of the transfer mold device, the molten resin is injected into the cavity of the mold so that the wiring board, the semiconductor chip, the passive component A method of manufacturing a semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure, the method including the step of covering wires and the like with a sealing body, wherein the main surface side and the rear surface side of the wiring board have different magnetic poles in advance. Alternatively, a permanent magnet is fixed to the support plate, and electromagnets are respectively incorporated in the lower mold and the upper mold of the mold, and then the lead frame is used. The mold is clamped in a mold, and the magnetic force of each electromagnet is controlled to cause the permanent magnet to repel the electromagnet to support the wiring board by magnetic force at a predetermined height in the cavity. Then, the melted resin is caused to flow into the cavity to form the sealing body. The permanent magnet is embedded in at least a part of the hole provided in the wiring board. The lead frame is made of copper or copper alloy.

【0020】前記(1)の手段によれば、トランスファ
モールド装置のモールドの上下型にそれぞれ電磁石を組
み込むとともに、被封止物であるリードフレームにおい
ては、リードフレームの支持板に設けた穴に前記支持板
の主面側および裏面側が相互に異なる磁極となるように
永久磁石を埋め込んである。そして、モールド時には、
前記各電磁石を制御して前記支持板に固定された永久磁
石を各電磁石に対して反発させて前記支持板をキャビテ
ィ内の所定の高さに磁力によって支持し、その後モール
ドを行うことから、キャビティ内に勢い良くレジンが流
入しても、支持板は上下に変動しない。この結果、前記
支持板の主面側および裏面側のモールド空間が薄く設計
されていても、支持板の一部や半導体チップとリードと
の間に張られるワイヤ(ワイヤループ)の一部が封止体
の表面に露出したり、表面に近接するようなことは起き
なくなる。
According to the above-mentioned means (1), electromagnets are respectively incorporated in the upper and lower molds of the transfer molding apparatus, and in the lead frame which is the object to be sealed, the holes are formed in the holes provided in the support plate of the lead frame. Permanent magnets are embedded so that the main surface side and the back surface side of the support plate have mutually different magnetic poles. And at the time of molding,
A cavity is formed by controlling each electromagnet to repel a permanent magnet fixed to the support plate against each electromagnet to magnetically support the support plate at a predetermined height in the cavity, and then perform molding. The support plate does not move up and down even if the resin flows in strongly. As a result, even if the mold space on the main surface side and the back surface side of the support plate is designed thin, a part of the support plate and a part of the wire (wire loop) stretched between the semiconductor chip and the lead are sealed. It will not be exposed to or close to the surface of the stopper.

【0021】前記(2)の手段によれば、前記手段
(1)の場合と同様に、トランスファモールド装置のモ
ールドの上下型にそれぞれ電磁石を組み込むとともに、
被封止物であるリードフレームにおいては、リードフレ
ームの支持板に固定される配線基板に設けた穴に前記配
線基板の主面側および裏面側が相互に異なる磁極となる
ように永久磁石を埋め込んである。そして、モールド時
には、前記各電磁石を制御して前記配線基板に固定され
た永久磁石を各電磁石に対して反発させて前記配線基板
をキャビティ内の所定の高さに磁力によって支持し、そ
の後モールドを行うことから、キャビティ内に勢い良く
レジンが流入しても、配線基板は上下に変動しない。こ
の結果、前記配線基板の主面側および裏面側のモールド
空間が薄く設計されていても、配線基板や支持板の一部
や半導体チップとリードとの間に張られるワイヤ(ワイ
ヤループ)の一部が封止体の表面に露出したり、表面に
近接するようなことは起きなくなる。
According to the above-mentioned means (2), as in the case of the above-mentioned means (1), electromagnets are respectively incorporated in the upper and lower molds of the mold of the transfer molding apparatus, and
In a lead frame which is an object to be sealed, a permanent magnet is embedded in a hole provided in a wiring board fixed to a support plate of the lead frame so that the main surface side and the back surface side of the wiring board have different magnetic poles from each other. is there. During molding, the electromagnets are controlled to repel the permanent magnets fixed to the wiring board against the electromagnets to support the wiring board at a predetermined height in the cavity by magnetic force, and then the molding is performed. As a result, the wiring board does not fluctuate vertically even if the resin flows into the cavity vigorously. As a result, even if the mold spaces on the main surface side and the back surface side of the wiring board are designed to be thin, a part of the wiring board or the support plate or one of the wires (wire loops) stretched between the semiconductor chip and the leads is formed. The part will not be exposed on the surface of the sealing body or come close to the surface.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。なお、発明の実施の形態を
説明するための全図において、同一機能を有するものは
同一符号を付け、その繰り返しの説明は省略する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In all the drawings for describing the embodiments of the present invention, components having the same functions are denoted by the same reference numerals, and their repeated description will be omitted.

【0023】(実施形態1)図1乃至図4は本発明の一
実施形態(実施形態1)である半導体装置の製造方法に
係わる図であって、図1はトランスファモールド状態を
示す模式的断面図、図2は半導体装置を示す断面図、図
3は半導体チップが固定されワイヤボンディングが行わ
れたリードフレームを示す平面図、図4は半導体装置の
製造方法においてキャビティ内での支持板の高さ制御状
態を示す模式図である。
(Embodiment 1) FIGS. 1 to 4 are views relating to a method of manufacturing a semiconductor device which is an embodiment (Embodiment 1) of the present invention, and FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transfer mold state. 2 is a cross-sectional view showing a semiconductor device, FIG. 3 is a plan view showing a lead frame on which a semiconductor chip is fixed and wire bonding is performed, and FIG. 4 is a height of a supporting plate in a cavity in a method of manufacturing a semiconductor device. It is a schematic diagram which shows a control state.

【0024】本実施形態1の半導体装置1は、図2に示
すように、外観的には偏平な樹脂(レジン)からなる封
止体(パッケージ)2と、このパッケージ2の周面、4
辺から突出する複数のリード3とからなっている。たと
えば、前記パッケージ1の厚さは略1mm程度である。
As shown in FIG. 2, the semiconductor device 1 according to the first embodiment has a sealing body (package) 2 made of a resin (resin) that is flat in appearance, a peripheral surface of the package 2, and a package 4.
It is composed of a plurality of leads 3 protruding from the sides. For example, the thickness of the package 1 is about 1 mm.

【0025】前記リード3はパッケージ2の内外に亘っ
て延在するとともに、ガルウィング型となっている。前
記パッケージ2の内部には支持板4が位置している。こ
の支持板4はタブとも称され、同図では図示しない支持
リード(タブ吊りリード)によって支持されている。前
記支持板4,リード3および支持リードは、非磁性体、
たとえば、銅合金板で形成されている。これら支持板
4,リード3および支持リードは、後述する銅合金板か
らなるリードフレームを構成するものである。
The lead 3 extends inside and outside the package 2 and is of a gull wing type. A support plate 4 is located inside the package 2. The support plate 4 is also called a tab and is supported by a support lead (tab suspension lead) not shown in the figure. The support plate 4, the lead 3 and the support lead are made of a non-magnetic material,
For example, it is formed of a copper alloy plate. The support plate 4, the leads 3 and the support leads constitute a lead frame made of a copper alloy plate described later.

【0026】前記支持板4の主面、すなわち図中上面に
は接合材5(図4参照)を介してIC等を構成する半導
体チップ6が固定されている。また、半導体チップ6の
上面の図示しない電極と、前記パッケージ2内に延在す
るリード3の先端は導電性のワイヤ7を介して電気的に
接続されている。
A semiconductor chip 6 constituting an IC or the like is fixed to the main surface of the support plate 4, that is, the upper surface in the figure, with a bonding material 5 (see FIG. 4) interposed. Further, the electrodes (not shown) on the upper surface of the semiconductor chip 6 and the tips of the leads 3 extending inside the package 2 are electrically connected via a conductive wire 7.

【0027】また、前記支持板4には、図3に示すよう
に、十文字状配列に4つの穴10が設けられている。こ
の穴10は、パッケージ2を形成する樹脂の充填を図
り、半導体チップ6とパッケージ2との接着強度を向上
させるための穴である。
As shown in FIG. 3, the support plate 4 is provided with four holes 10 arranged in a cross pattern. The hole 10 is a hole for filling the resin forming the package 2 and improving the adhesive strength between the semiconductor chip 6 and the package 2.

【0028】前記穴10の一部には永久磁石11が埋め
込まれている。この永久磁石11は、前記支持板4と略
同じ厚さとなるとともに、表裏面は相互に異なる磁極面
となっている。たとえば、本実施形態1では、前記永久
磁石11は、図1および図4に示すように、上面がS
極、下面がN極となるように埋め込まれる。
A permanent magnet 11 is embedded in a part of the hole 10. The permanent magnet 11 has substantially the same thickness as the support plate 4, and the front and back surfaces have different magnetic pole surfaces. For example, in the first embodiment, the upper surface of the permanent magnet 11 is S as shown in FIGS.
It is embedded so that the pole and the lower surface become the N pole.

【0029】永久磁石11は、前記穴10に嵌合によっ
て固定されている。永久磁石11は、支持板4に半導体
チップ6を固定する接合材5によっても固定されるた
め、前記嵌合は強固でなくともよい。この結果、嵌合に
よって支持板4を変形させるようなこともなく、半導体
チップ6の搭載にも支障を来さなくなる。
The permanent magnet 11 is fixed in the hole 10 by fitting. Since the permanent magnet 11 is also fixed to the support plate 4 by the bonding material 5 that fixes the semiconductor chip 6, the fitting does not have to be strong. As a result, the support plate 4 is not deformed by the fitting, and the mounting of the semiconductor chip 6 is not hindered.

【0030】本実施形態1の半導体装置1は、永久磁石
11を非磁性体からなる支持板4に固定した構造となっ
ていることから、半導体装置の製造において前記永久磁
石11を利用することによって、支持板4のパッケージ
2内での高さ位置を正確に規定でき、かつ姿勢も保持さ
れた状態でトランスファモールドできることから、支持
板4,半導体チップ6,ワイヤ7の一部がパッケージ2
の表面に露出したり、パッケージ2の表面に近接するよ
うなことがなく、耐湿性が高くなる。すなわち、支持板
4の一部がパッケージ2の裏面に露出したり、耐湿性を
損なう程パッケージ2の裏面に近接するようなこともな
く、また、同様に半導体チップ6の一部やワイヤ7の一
部がパッケージ2の主面(上面)に露出したり、耐湿性
を損なう程パッケージ2の裏面に近接するようなことも
ない。
Since the semiconductor device 1 of the first embodiment has a structure in which the permanent magnet 11 is fixed to the support plate 4 made of a non-magnetic material, it is possible to use the permanent magnet 11 in manufacturing the semiconductor device. Since the height position of the support plate 4 in the package 2 can be accurately defined and transfer molding can be performed in a state in which the posture is maintained, the support plate 4, the semiconductor chip 6, and a part of the wire 7 are part of the package 2.
Since it is not exposed to the surface of or of the package 2 and is not close to the surface of the package 2, the moisture resistance is high. That is, a part of the support plate 4 is not exposed on the back surface of the package 2 and is not so close to the back surface of the package 2 that the moisture resistance is impaired. Similarly, a part of the semiconductor chip 6 and the wires 7 are not provided. Part of it is not exposed to the main surface (upper surface) of the package 2 and is not so close to the back surface of the package 2 that the moisture resistance is impaired.

【0031】また、永久磁石11は支持板4に設けた穴
10に嵌合によって固定するため、永久磁石11の取り
付け作業が容易となり、かつ取付コストも低くなる。
Further, since the permanent magnet 11 is fixed by fitting it into the hole 10 provided in the support plate 4, the work of attaching the permanent magnet 11 is facilitated and the attachment cost is reduced.

【0032】つぎに、本実施形態1の半導体装置の製造
方法について説明する。半導体装置1の製造において
は、図3に示すようにリードフレーム15が用意され
る。図3は、半導体チップ6を固定し、かつワイヤボン
ディングを終了した状態のリードフレーム15を示す。
リードフレーム15は、0.15mm程度の厚さの非磁
性体、たとえば、銅板または銅合金板をエッチングまた
は精密プレスによってパターニングすることによって形
成される。
Next, a method of manufacturing the semiconductor device according to the first embodiment will be described. In manufacturing the semiconductor device 1, a lead frame 15 is prepared as shown in FIG. FIG. 3 shows the lead frame 15 in a state where the semiconductor chip 6 is fixed and wire bonding is completed.
The lead frame 15 is formed by patterning a non-magnetic material having a thickness of about 0.15 mm, for example, a copper plate or a copper alloy plate by etching or precision pressing.

【0033】リードフレーム15は複数の単位リードパ
ターンを一方向に直列に並べた短冊体となっている。単
位リードパターンは、一対の平行に延在する外枠16
と、この一対の外枠16を連結しかつ外枠16に直交す
る方向に延在する一対の内枠17とによって形成される
枠内に形成されている。
The lead frame 15 is a strip body in which a plurality of unit lead patterns are arranged in series in one direction. The unit lead pattern is a pair of outer frames 16 extending in parallel.
And a pair of inner frames 17 connecting the pair of outer frames 16 and extending in a direction orthogonal to the outer frame 16 are formed in a frame.

【0034】また、前記枠の中央には、半導体チップを
搭載するための矩形状の支持板(タブ)4が設けられて
いる。この支持板4は、前記枠の4隅に張り出した支持
片20から延在する支持リード(タブ吊りリード)21
に支持されている。
A rectangular support plate (tab) 4 for mounting a semiconductor chip is provided in the center of the frame. The support plate 4 has a support lead (tab suspension lead) 21 extending from a support piece 20 protruding at four corners of the frame.
It is supported by.

【0035】前記支持板4には、十文字状配列に4つの
穴10が設けられている。この穴10は、パッケージ2
を形成する樹脂の充填を図り、半導体チップ6とパッケ
ージ2との接着強度を向上させるための穴である。
The support plate 4 is provided with four holes 10 in a cross-shaped arrangement. This hole 10 is for the package 2
This is a hole for filling the resin that forms the resin and improving the adhesive strength between the semiconductor chip 6 and the package 2.

【0036】前記穴10には、部分的ではあるが、その
外側寄りの部分に永久磁石11が埋め込まれている。前
記永久磁石11は、前記支持板4と略同じ厚さとなると
ともに、表裏面は相互に異なる磁極面となっている。た
とえば、本実施形態1では、前記永久磁石11は、図1
および図4に示すように、上面がS極、下面がN極とな
るように埋め込まれている。
A permanent magnet 11 is embedded in a part of the hole 10 which is located at a part of the hole 10 on the outer side thereof. The permanent magnet 11 has substantially the same thickness as the support plate 4, and the front and back surfaces have different magnetic pole surfaces. For example, in the first embodiment, the permanent magnet 11 has the structure shown in FIG.
Further, as shown in FIG. 4, the upper surface is embedded so as to have the S pole and the lower surface is provided with the N pole.

【0037】永久磁石11は、前記穴10に嵌合によっ
て固定されている。永久磁石11の固定状態は、支持板
4に半導体チップ6を固定するまでの間少なくとも維持
されればよい。すなわち、半導体チップ6の固定におい
ては、半導体チップ6は接合材5を介して支持板4に固
定されるが、この接合材5が永久磁石11を半導体チッ
プ6の裏面に固定することになる。この結果、永久磁石
11を嵌合によって支持板4に固定させる場合、支持板
4を変形させるような大きな嵌込力は不要となる。
The permanent magnet 11 is fixed in the hole 10 by fitting. The fixed state of the permanent magnet 11 may be maintained at least until the semiconductor chip 6 is fixed to the support plate 4. That is, in fixing the semiconductor chip 6, the semiconductor chip 6 is fixed to the support plate 4 via the bonding material 5, and the bonding material 5 fixes the permanent magnet 11 to the back surface of the semiconductor chip 6. As a result, when the permanent magnet 11 is fixed to the support plate 4 by fitting, a large fitting force that deforms the support plate 4 is unnecessary.

【0038】なお、永久磁石11は、後述するように、
トランスファモールド時の樹脂の流れによって支持板4
を上下動したり、振れるのを防止するために設けること
から、永久磁石11は支持板4の周囲に配置することが
望ましい。
The permanent magnet 11 is, as described later,
Support plate 4 due to the flow of resin during transfer molding
It is desirable to dispose the permanent magnets 11 around the support plate 4, because the permanent magnets 11 are provided to prevent them from moving up and down and swinging.

【0039】一方、前記枠の各外枠16および内枠17
の内側から枠の中央に向かって複数のリード3が延在し
ている。前記リード3は、枠の各辺ごとに相互に平行と
なり、先端を前記支持板4の周囲に近接させるパターン
となっている。また、各辺において、前記リード3は、
前記支持片20間に亘って設けられた細いダム22と交
差するパターンとなっている。したがって、各リード3
は前記ダム22によってその途中を支持されることにな
る。前記ダム22は、後述するトランスファモールド
時、溶けたレジンの流出を阻止するダムとして作用す
る。また、このダム22の内側の片持梁状のリード部分
を一般にインナーリードと呼称し、外側の部分をアウタ
ーリードと呼称する。
On the other hand, each outer frame 16 and inner frame 17 of the frame
A plurality of leads 3 extend from the inside to the center of the frame. The leads 3 are parallel to each other on each side of the frame, and have a pattern in which the tips are brought close to the periphery of the support plate 4. Further, on each side, the lead 3 is
The pattern intersects with a narrow dam 22 provided between the supporting pieces 20. Therefore, each lead 3
Will be supported on the way by the dam 22. The dam 22 functions as a dam that prevents the melted resin from flowing out during transfer molding described later. The cantilevered lead portion inside the dam 22 is generally called an inner lead, and the outer portion is called an outer lead.

【0040】前記支持リード21は、途中で一段階段状
に折れ曲がっている。この結果、前記支持板4はリード
3よりも一段低くなる(図2参照)。
The support lead 21 is bent in a step shape in the middle. As a result, the support plate 4 is lower than the lead 3 by one step (see FIG. 2).

【0041】また、前記外枠16には、ガイド孔25,
26が設けられている。このガイド孔25,26は、リ
ードフレーム15の移送や位置決め等のガイドとして利
用される。なお、前記リードフレーム15は必要に応じ
て所望個所にメッキが施される。
The outer frame 16 has guide holes 25,
26 are provided. The guide holes 25 and 26 are used as guides for transferring and positioning the lead frame 15. It should be noted that the lead frame 15 is plated at a desired portion as needed.

【0042】他方、本実施形態1では、トランスファモ
ールド装置のモールド型30に電磁石を組み込んでお
く。すなわち、モールド型30は、図1および図4に示
すように、下型31と上型32からなっている。下型3
1の主面(上面)に被封止物であるリードフレーム15
を載置し、下型31と上型32を合わせて型締めを行う
ことによって、下型31と上型32のパーティング面部
分には、いずれも空間となる図示しないカル,ランナー
(サブランナー)33,ゲート34,キャビティ35,
エアーベント等が形成される。前記カルは溶かされかつ
加圧された樹脂を受ける窪み部分である。ランナー33
は前記カルから延在し直接またはサブランナーを介して
キャビティ35に至るレジン流路であり、キャビティ3
5の入口部分はゲート34となる。また、エアーベント
は前記キャビティ35内の空気をモールド型外に案内す
る空気案内路である。
On the other hand, in the first embodiment, an electromagnet is incorporated in the mold 30 of the transfer molding apparatus. That is, the mold die 30 includes a lower die 31 and an upper die 32, as shown in FIGS. Lower mold 3
The lead frame 15 which is an object to be sealed on the main surface (top surface) of
By placing the lower mold 31 and the upper mold 32 together and performing mold clamping, the parting surface portions of the lower mold 31 and the upper mold 32 both become spaces, which are not shown in the drawing. ) 33, gate 34, cavity 35,
Air vents etc. are formed. The cull is a recessed portion that receives the melted and pressurized resin. Runner 33
Is a resin flow path extending from the cull to reach the cavity 35 directly or through the sub-runner.
The entrance portion of 5 becomes a gate 34. The air vent is an air guide path for guiding the air in the cavity 35 to the outside of the mold.

【0043】前記キャビティ35の底側および天井側と
なる下型31内部分と上型32内部分に電磁石41,4
2が取り付けられる。この電磁石41,42はキャビテ
ィ底面46またはキャビティ天井面47に対して平行に
設置されている。前記電磁石41,42はケーブル4
3,44を介して制御装置45に接続されている。制御
装置45は、前記電磁石41,42を所望の磁力に磁化
させることができる。また、電磁石41,42の極性の
変換も可能となっている。本実施形態1では、半導体チ
ップ6が固定される支持板4の主面(上面)側が永久磁
石11によってS極となり、裏面(下面)がN極となる
ことから、下型31に組み込まれた電磁石41のキャビ
ティ側の面はN極、上型32に組み込まれた電磁石41
のキャビティ側の面はS極になる。
Electromagnets 41, 4 are provided on the inner side of the lower die 31 and the inner side of the upper die 32 on the bottom side and the ceiling side of the cavity 35.
2 is attached. The electromagnets 41 and 42 are installed parallel to the cavity bottom surface 46 or the cavity ceiling surface 47. The electromagnets 41 and 42 are cables 4
It is connected to the control device 45 via 3, 44. The control device 45 can magnetize the electromagnets 41 and 42 to a desired magnetic force. Further, the polarities of the electromagnets 41 and 42 can be changed. In the first embodiment, since the main surface (upper surface) side of the support plate 4 to which the semiconductor chip 6 is fixed becomes the S pole by the permanent magnet 11 and the back surface (lower surface) becomes the N pole, it is incorporated in the lower mold 31. The surface of the electromagnet 41 on the cavity side is the N pole, and the electromagnet 41 incorporated in the upper die 32.
The surface on the cavity side of is the S pole.

【0044】つぎに、前記リードフレーム15に対して
組み立てが行われる。すなわち、永久磁石11を固定し
た支持板4の主面に、図3および図4に示すように、接
合材5(図4参照)を介して半導体チップ6が固定され
る。また、前記半導体チップ6の図示しない電極と、対
応するリード3の先端とが導電性のワイヤ7で電気的に
接続される。
Next, the lead frame 15 is assembled. That is, as shown in FIGS. 3 and 4, the semiconductor chip 6 is fixed to the main surface of the support plate 4 to which the permanent magnet 11 is fixed, via the bonding material 5 (see FIG. 4). Further, an electrode (not shown) of the semiconductor chip 6 and the corresponding tip of the lead 3 are electrically connected by a conductive wire 7.

【0045】なお、本実施形態1では、支持板4に一つ
の半導体チップ6を固定する例について説明するが、半
導体チップは複数個でもよい。
In the first embodiment, an example in which one semiconductor chip 6 is fixed to the support plate 4 will be described, but a plurality of semiconductor chips may be used.

【0046】つぎに、組立が終了したリードフレーム1
5を、図1および図4に示すように、トランスファモー
ルド装置のモールド型30に型締めする。その後、前記
制御装置45によって下型31および上型32に内蔵し
た電磁石41,42をそれぞれ所定の磁力に磁化させ
る。これにより、支持板4に固定された永久磁石11の
上面(S極)および下面(N極)は、下型31の電磁石
41の上面(N極)および上型32の電磁石42の下面
(S極)に対して磁力によって反発する。この結果、図
4に示すように、前記支持板4はキャビティ底面46お
よびキャビティ天井面47に対して平行に延在し、支持
板4の裏面側のモールド空間の高さaおよび半導体チッ
プ6の主面側のモールド空間の高さcは、それぞれ全域
に亘って一定となる。また、前記永久磁石11、すなわ
ち支持板4は、前記各電磁石41,42によって磁力で
保持(支持)される。
Next, the lead frame 1 that has been assembled
As shown in FIGS. 1 and 4, the mold 5 is clamped to the mold 30 of the transfer mold device. After that, the control device 45 magnetizes the electromagnets 41 and 42 incorporated in the lower die 31 and the upper die 32 to predetermined magnetic forces. As a result, the upper surface (S pole) and the lower surface (N pole) of the permanent magnet 11 fixed to the support plate 4 are the upper surface (N pole) of the electromagnet 41 of the lower die 31 and the lower surface (S pole) of the electromagnet 42 of the upper die 32. Pole) is repelled by magnetic force. As a result, as shown in FIG. 4, the support plate 4 extends in parallel with the cavity bottom surface 46 and the cavity ceiling surface 47, and the height a of the mold space on the back surface side of the support plate 4 and the semiconductor chip 6 are increased. The height c of the mold space on the main surface side is constant over the entire area. The permanent magnet 11, that is, the support plate 4 is magnetically held (supported) by the electromagnets 41 and 42.

【0047】つぎに、前記ゲート34からキャビティ3
5内に溶けた樹脂50を流入させてモールドを行い、支
持板4,半導体チップ6,ワイヤ7,リード3の先端部
分等の被封止物部分を封止体(パッケージ)2で被う。
この際、各電磁石41,42にと各永久磁石11との作
用によって、各永久磁石11は磁力で保持(支持)され
た状態となるため、キャビティ35内に勢い良く流入す
る溶けた樹脂50によっても上下に動くことがない。し
たがって、永久磁石11が埋め込まれた支持板4および
この支持板4上に固定された半導体チップ6も上下に動
かない。
Next, from the gate 34 to the cavity 3
The melted resin 50 is caused to flow into the mold 5 for molding, and the sealed body (package) 2 covers the sealed plate (package) 2 such as the support plate 4, the semiconductor chip 6, the wires 7, and the tips of the leads 3.
At this time, since the permanent magnets 11 are held (supported) by the magnetic force by the action of the electromagnets 41, 42 and the permanent magnets 11, the melted resin 50 flowing into the cavity 35 vigorously Also does not move up and down. Therefore, the support plate 4 in which the permanent magnet 11 is embedded and the semiconductor chip 6 fixed on the support plate 4 do not move up and down.

【0048】この結果、被封止物部分がパッケージ2の
表面に露出するような不良は発生しなくなる。すなわ
ち、支持板4がパッケージ2の裏面(下面)に露出した
り、半導体チップ6やワイヤ7の一部がパッケージ2の
主面(上面)に露出する不良は発生しないことになる。
As a result, the defect that the portion to be sealed is exposed on the surface of the package 2 does not occur. That is, the support plate 4 is not exposed on the back surface (lower surface) of the package 2 and the semiconductor chip 6 or a part of the wire 7 is not exposed on the main surface (upper surface) of the package 2.

【0049】また、モールド時、支持板4および半導体
チップ6が上下に動かないことから、支持板4,半導体
チップ6,ワイヤ7とパッケージ2の表面との距離も充
分なものとなり、耐湿性に優れたパッケージ2となる。
Further, since the support plate 4 and the semiconductor chip 6 do not move up and down during the molding, the distance between the support plate 4, the semiconductor chip 6, the wires 7 and the surface of the package 2 becomes sufficient, and the moisture resistance is improved. Excellent package 2.

【0050】つぎに、モールド型30からリードフレー
ム15が取り出される。その後、リードフレーム15の
不要部分が切断除去される。また、パッケージ2の周囲
から突出するリード3は成形されてガルウィング型とさ
れる。これによって、図2に示すような半導体装置1が
製造される。
Next, the lead frame 15 is taken out from the mold 30. After that, unnecessary portions of the lead frame 15 are cut and removed. Further, the leads 3 projecting from the periphery of the package 2 are formed into a gull wing type. As a result, the semiconductor device 1 as shown in FIG. 2 is manufactured.

【0051】本実施形態1の半導体装置の製造方法によ
れば、トランスファモールドにおいて支持板4や半導体
チップ6が上下方向等に変動しないことから、パッケー
ジ2の表面に被封止物部分である支持板4,半導体チッ
プ6,ワイヤ7等が露出しなくなり、モールドの歩留り
向上を達成することができる。
According to the method of manufacturing the semiconductor device of the first embodiment, since the support plate 4 and the semiconductor chip 6 do not move vertically in the transfer molding, the package 2 is supported on the surface of the object to be sealed. The plate 4, the semiconductor chip 6, the wire 7, etc. are not exposed, and the yield of the mold can be improved.

【0052】また、前記支持板4,半導体チップ6,ワ
イヤ7等がパッケージ2の表面近傍に位置することがな
くなるため、半導体装置の耐湿性が向上する。
Further, since the supporting plate 4, the semiconductor chip 6, the wires 7, etc. are not located near the surface of the package 2, the moisture resistance of the semiconductor device is improved.

【0053】本実施形態1では、支持板4の穴10に永
久磁石11を嵌合によって固定してあるが、接合材を使
用して永久磁石11を固定してもよい。また、支持板4
の主面(上面)あるいは半導体チップ6の主面(上面)
に永久磁石11を接着剤で固定してもよい。半導体チッ
プ6の主面に永久磁石11を接着する場合、永久磁石1
1の厚さはワイヤ7のループ高さを最大限の厚さとする
ことが、永久磁石11のパッケージ2の表面への近接防
止を図る上で望ましい。
In the first embodiment, the permanent magnet 11 is fixed to the hole 10 of the support plate 4 by fitting, but the permanent magnet 11 may be fixed by using a bonding material. Also, the support plate 4
Main surface (upper surface) or the main surface of semiconductor chip 6 (upper surface)
Alternatively, the permanent magnet 11 may be fixed with an adhesive. When the permanent magnet 11 is bonded to the main surface of the semiconductor chip 6, the permanent magnet 1
In order to prevent the permanent magnet 11 from approaching the surface of the package 2, it is desirable that the thickness of 1 be the maximum loop height of the wire 7.

【0054】(実施形態2)図5は本発明の他の実施形
態(実施形態2)である混成集積回路構造の半導体装置
を示す断面図、図6は本実施形態2の半導体装置の製造
に用いられるリードフレームを示す平面図である。
(Embodiment 2) FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure which is another embodiment (embodiment 2) of the present invention, and FIG. It is a top view which shows the lead frame used.

【0055】本実施形態2の混成集積回路構造の半導体
装置1は、配線基板を固定したリードフレームを使用し
て製造される。
The semiconductor device 1 having the hybrid integrated circuit structure according to the second embodiment is manufactured by using the lead frame to which the wiring board is fixed.

【0056】本実施形態2の半導体装置1は、図5に示
すように、外観的には、前記実施形態1と同様に矩形偏
平状のレジンで形成されるパッケージ2と、このパッケ
ージ2の周囲から突出するガルウィング型の複数のリー
ド3とからなっている。前記パッケージ2の厚さは、前
記実施形態1に比較して厚く、たとえば、2〜3mm程
度である。
As shown in FIG. 5, the semiconductor device 1 according to the second embodiment has a package 2 formed of a resin having a rectangular flat shape in appearance as in the first embodiment, and a periphery of the package 2. It is composed of a plurality of gull wing-type leads 3 protruding from. The thickness of the package 2 is thicker than that of the first embodiment, and is, for example, about 2 to 3 mm.

【0057】本実施形態2の半導体装置1においては、
パッケージ2内に埋め込まれる支持板4は、図6に示す
ように矩形枠形状となっている。そして、この支持板4
の主面に矩形状の配線基板60が接合材で固定された構
造となっている。
In the semiconductor device 1 of the second embodiment,
The support plate 4 embedded in the package 2 has a rectangular frame shape as shown in FIG. And this support plate 4
A rectangular wiring board 60 is fixed to the main surface of the substrate with a bonding material.

【0058】配線基板60は、特に図示はしないが、主
面に配線や電極(パッド)が設けられている。たとえ
ば、半導体チップ6を搭載する部分には固定用パッドが
設けられている。また、チップコンデンサやチップ抵抗
等の受動部品61を搭載する部分には、前記受動部品6
1の電極が固定されるパッド(電極)が設けられてい
る。また、前記半導体チップ6の周囲には、ワイヤボン
ディング用のパッド(電極)が設けられている。さら
に、配線基板60の周辺部分には、リード3に接続され
るワイヤ7を接続するためのパッド(電極)が設けられ
ている。
Although not shown, the wiring board 60 is provided with wirings and electrodes (pads) on its main surface. For example, a fixing pad is provided in the portion where the semiconductor chip 6 is mounted. The passive component 6 such as a chip capacitor or a chip resistor is mounted on the portion where the passive component 61 is mounted.
A pad (electrode) to which one electrode is fixed is provided. Around the semiconductor chip 6, pads (electrodes) for wire bonding are provided. Further, pads (electrodes) for connecting the wires 7 connected to the leads 3 are provided in the peripheral portion of the wiring board 60.

【0059】図5では、配線基板60の主面に2つの半
導体チップ6と1つの受動部品61が固定された状態を
示す。また、前記半導体チップ6の電極と配線基板60
のパッド(あるいは配線)は導電性のワイヤ7によって
電気的に接続されている。また、配線基板60の周辺部
分のパッドとパッケージ2内に延在するリード3の先端
は導電性のワイヤ7で接続されている。
FIG. 5 shows a state in which two semiconductor chips 6 and one passive component 61 are fixed to the main surface of the wiring board 60. Further, the electrodes of the semiconductor chip 6 and the wiring board 60.
Pads (or wirings) are electrically connected by conductive wires 7. Further, the pads on the peripheral portion of the wiring board 60 and the tips of the leads 3 extending into the package 2 are connected by a conductive wire 7.

【0060】また、本実施形態2では、配線基板60に
設けた穴62に永久磁石11が埋め込まれている。永久
磁石11は配線基板60の穴62に嵌合によって固定し
てもよく、また、接着剤で固定してもよい。永久磁石1
1は、図6に示すように、矩形状の配線基板60の4隅
に設けられている。配線基板60のトランスファモール
ド時の上下の変動や振れを防止するためには、永久磁石
11は配線基板60の周囲に配置することが望ましい。
In the second embodiment, the permanent magnet 11 is embedded in the hole 62 provided in the wiring board 60. The permanent magnet 11 may be fixed in the hole 62 of the wiring board 60 by fitting, or may be fixed by an adhesive. Permanent magnet 1
As shown in FIG. 6, 1 is provided at four corners of a rectangular wiring board 60. In order to prevent vertical fluctuation and shake of the wiring board 60 during transfer molding, it is desirable to arrange the permanent magnets 11 around the wiring board 60.

【0061】なお、永久磁石11を配線基板60や支持
板4あるいは半導体チップ6上に接着剤で固定してもよ
い。半導体チップ6の主面に永久磁石11を接着する場
合、永久磁石11の厚さはワイヤ7のループ高さを最大
限の厚さとすることが、永久磁石11のパッケージ2の
表面への近接防止を図る上で望ましい。
The permanent magnet 11 may be fixed on the wiring board 60, the support plate 4 or the semiconductor chip 6 with an adhesive. When the permanent magnet 11 is adhered to the main surface of the semiconductor chip 6, the thickness of the permanent magnet 11 should be set so that the loop height of the wire 7 is maximized so that the permanent magnet 11 is prevented from coming close to the surface of the package 2. It is desirable to achieve

【0062】前記永久磁石11は、前記実施形態1と同
様に、半導体チップ6を固定するための主面(上面)側
がS極となり、裏面(下面)側がN極となっている。
As in the first embodiment, the permanent magnet 11 has an S pole on the main surface (upper surface) side for fixing the semiconductor chip 6 and an N pole on the back surface (lower surface) side.

【0063】本実施形態2の混成集積回路構造の半導体
装置1はつぎの方法によって製造される。
The semiconductor device 1 having the hybrid integrated circuit structure according to the second embodiment is manufactured by the following method.

【0064】半導体装置1の製造において、図6に示す
ような配線基板付きリードフレームが用意される。
In manufacturing the semiconductor device 1, a lead frame with a wiring board as shown in FIG. 6 is prepared.

【0065】このリードフレーム15は、前記実施形態
1のリードフレームにおいて、支持板4が枠状となって
いる。そして、この支持板4に矩形状の配線基板60が
図示しない接合材を介して固定された構造となってい
る。前記支持板4は、複数の半導体チップや受動部品を
搭載するため、前記実施形態1の場合よりも大きな寸法
となっている。
This lead frame 15 is the same as the lead frame of the first embodiment, except that the support plate 4 has a frame shape. A rectangular wiring board 60 is fixed to the support plate 4 via a bonding material (not shown). Since the support plate 4 has a plurality of semiconductor chips and passive components mounted thereon, the support plate 4 has a larger size than that of the first embodiment.

【0066】配線基板60は、特に図示はしないが、前
述のように主面(上面)に配線や電極(パッド)が設け
られている。たとえば、半導体チップ6を搭載する部分
には固定用パッドが設けられ、チップコンデンサやチッ
プ抵抗等の受動部品61を搭載する部分には前記受動部
品61の電極が固定されるパッド(電極)が設けられ、
前記半導体チップ6の周囲の面にはワイヤボンディング
用のパッド(電極)が設けられ、配線基板60の周辺部
分にはリード3に接続されるワイヤ7を接続するための
パッド(電極)が設けられている。
Although not shown, the wiring board 60 is provided with wirings and electrodes (pads) on the main surface (upper surface) as described above. For example, a fixing pad is provided in a portion where the semiconductor chip 6 is mounted, and a pad (electrode) to which an electrode of the passive component 61 is fixed is provided in a portion where the passive component 61 such as a chip capacitor or a chip resistor is mounted. The
Pads (electrodes) for wire bonding are provided on the peripheral surface of the semiconductor chip 6, and pads (electrodes) for connecting the wires 7 connected to the leads 3 are provided on the peripheral portion of the wiring board 60. ing.

【0067】また、図6に示すように、配線基板60の
4隅には穴62が設けられている。この穴62には永久
磁石11が埋め込まれている。永久磁石11は穴62に
嵌合または接着剤によって固定されている。永久磁石1
1の厚さは、配線基板60の厚さと同一かあるいは厚く
なっている。永久磁石11は、下面が支持板4の裏面
(下面)よりも内側で、上面がワイヤ7のループの頂上
部分よりも内側であるならば、その厚さは自由である。
Further, as shown in FIG. 6, holes 62 are provided at the four corners of the wiring board 60. The permanent magnet 11 is embedded in the hole 62. The permanent magnet 11 is fitted in the hole 62 or fixed by an adhesive. Permanent magnet 1
The thickness of 1 is the same as or thicker than the thickness of the wiring board 60. The thickness of the permanent magnet 11 is free as long as the lower surface is inside the back surface (lower surface) of the support plate 4 and the upper surface is inside the top portion of the loop of the wire 7.

【0068】半導体装置1の組立においては、前記リー
ドフレーム15の配線基板60の主面に、常用のボンデ
ィング方法によって複数の半導体チップ6や受動部品6
1が搭載される。図5では、配線基板60の主面に2つ
の半導体チップ6と1つの受動部品61が固定された状
態を示す。
In assembling the semiconductor device 1, a plurality of semiconductor chips 6 and passive components 6 are formed on the main surface of the wiring board 60 of the lead frame 15 by a conventional bonding method.
1 is installed. In FIG. 5, two semiconductor chips 6 and one passive component 61 are fixed to the main surface of the wiring board 60.

【0069】つぎに、常用のワイヤボンディング方法に
よって、前記半導体チップ6の電極と配線基板60のパ
ッド(あるいは配線)は導電性のワイヤ7によって電気
的に接続される。また、同様に配線基板60の周辺部分
のパッドと、前記配線基板60の周囲に先端を近接させ
るリード3の先端部分が導電性のワイヤ7で接続され
る。
Next, the electrodes of the semiconductor chip 6 and the pads (or wirings) of the wiring board 60 are electrically connected by the conductive wires 7 by a conventional wire bonding method. Similarly, the pads on the peripheral portion of the wiring board 60 are connected to the tip portions of the leads 3 whose tips are brought close to the periphery of the wiring board 60 by the conductive wires 7.

【0070】つぎに、組立が終了したリードフレーム1
5をトランスファモールド装置のモールド型に型締め
し、モールドを行い、パッケージ2を形成する。図示は
しないが、トランスファモールド装置のモールド型は、
前記実施形態1と同様なものを使用する。すなわち、下
型31に電磁石41を組み込み、上型32に電磁石42
を組み込んだモールド型30を使用する。
Next, the lead frame 1 which has been assembled
The mold 5 is clamped in the mold of the transfer mold device and molded to form the package 2. Although not shown, the mold of the transfer mold device is
The same one as in the first embodiment is used. That is, the electromagnet 41 is incorporated in the lower die 31, and the electromagnet 42 is incorporated in the upper die 32.
The mold die 30 incorporating the is used.

【0071】モールド型30に型締めされたリードフレ
ーム15の配線基板60に固定された永久磁石11は、
前記制御装置45によって磁化された電磁石41,42
によって反発状態でキャビティ35の所定の高さに磁力
で支持(保持)される。この結果、永久磁石11が固定
された配線基板60,配線基板60が固定される支持板
4,配線基板60に固定される半導体チップ6,半導体
チップ6または配線基板60もしくはリード3に固定さ
れるワイヤ7は、磁力によってキャビティ35の所定高
さに保持されることになる。
The permanent magnet 11 fixed to the wiring board 60 of the lead frame 15 clamped in the mold 30 is
Electromagnets 41, 42 magnetized by the controller 45
By the repulsive state, the cavity 35 is magnetically supported (held) at a predetermined height. As a result, the wiring board 60 to which the permanent magnets 11 are fixed, the support plate 4 to which the wiring board 60 is fixed, the semiconductor chip 6 to be fixed to the wiring board 60, the semiconductor chip 6, or the wiring board 60 or the lead 3 are fixed. The wire 7 is held at the predetermined height of the cavity 35 by the magnetic force.

【0072】したがって、キャビティ35内に溶けた樹
脂50を流入させても、勢い良く流入する溶けた樹脂5
0によっても前記配線基板60等の被封止物部分は上下
に動くことがない。この結果、被封止物部分がパッケー
ジ2の表面に露出するような不良は発生しなくなる。ま
た、モールド時、配線基板60や半導体チップ6が上下
に動かないことから、配線基板60,支持板4,受動部
品61,半導体チップ6,ワイヤ7とパッケージ2の表
面との距離も充分なものとなり、耐湿性に優れたパッケ
ージ2となる。
Therefore, even if the melted resin 50 is made to flow into the cavity 35, the melted resin 5 flowing in vigorously
Even if 0, the part of the object to be sealed such as the wiring board 60 does not move up and down. As a result, such a defect that the portion to be sealed is exposed on the surface of the package 2 does not occur. In addition, since the wiring board 60 and the semiconductor chip 6 do not move up and down during molding, the distance between the wiring board 60, the support plate 4, the passive component 61, the semiconductor chip 6, the wires 7 and the surface of the package 2 is sufficient. The package 2 has excellent moisture resistance.

【0073】つぎに、モールド型30からリードフレー
ム15が取り出される。その後、不要なリードフレーム
部分を切断除去した後、成形を行ってパッケージ2から
突出するリード3をガルウィング型に形成する。これに
よって、図5に示す混成集積回路構造の半導体装置1が
製造される。
Next, the lead frame 15 is taken out of the mold 30. Then, after removing unnecessary lead frame portions by cutting, molding is performed to form the leads 3 protruding from the package 2 in a gull wing type. As a result, the semiconductor device 1 having the hybrid integrated circuit structure shown in FIG. 5 is manufactured.

【0074】本実施形態2の混成集積回路構造の半導体
装置1は、パッケージ2の表面に被封止物部分が露出し
たり、パッケージ2の表面近傍に被封止物部分が近接し
なくなり、信頼性が向上するとともに、耐湿性が向上す
る。
In the semiconductor device 1 having the hybrid integrated circuit structure according to the second embodiment, the sealed object portion is not exposed on the surface of the package 2 and the sealed object portion does not come close to the surface of the package 2. The moisture resistance is improved as well as the moisture resistance.

【0075】本実施形態2の混成集積回路構造の半導体
装置の製造方法によれば、トランスファモールド時、配
線基板60が上下動することがないことから、外観不良
や耐湿性の低い半導体装置1を製造することがなくな
り、製造歩留りの向上を図ることができるとともに、信
頼性が高く、かつ耐湿性の良好な半導体装置1を提供す
ることができる。
According to the method of manufacturing the semiconductor device having the hybrid integrated circuit structure of the second embodiment, since the wiring substrate 60 does not move up and down during transfer molding, the semiconductor device 1 having poor appearance and low moisture resistance can be obtained. It is possible to provide the semiconductor device 1 which is not required to be manufactured, can improve the manufacturing yield, and has high reliability and good moisture resistance.

【0076】なお、本実施形態2では、支持板4は矩形
枠状となることから配線基板60の裏面は部分的に露出
する。そこで、この露出部分に放熱板(ヒート・スプレ
ッダ)を設けてもよい。この放熱板は、たとえば、銅等
熱伝導性の良好な金属で形成される。この放熱板の裏面
は、パッケージ2の裏面に露出する。
In the second embodiment, since the support plate 4 has a rectangular frame shape, the back surface of the wiring board 60 is partially exposed. Therefore, a heat dissipation plate (heat spreader) may be provided on this exposed portion. The heat dissipation plate is formed of a metal having good thermal conductivity such as copper. The back surface of the heat sink is exposed on the back surface of the package 2.

【0077】この実施形態の場合には、トランスファモ
ールド時、配線基板60が上下に変動しないことから、
放熱板の露出する裏面にレジンが付着することがなく、
放熱性の良好な半導体装置を製造することができる。す
なわち、この実施形態の半導体装置は、実装された場
合、マザーボードやシャーシに前記放熱板が接触するこ
とから、半導体装置内で発生した熱は直接前記マザーボ
ードやシャーシに伝熱されることになる。
In the case of this embodiment, since the wiring board 60 does not move up and down during transfer molding,
The resin does not adhere to the exposed back surface of the heat sink,
A semiconductor device having good heat dissipation can be manufactured. That is, when the semiconductor device of this embodiment is mounted, the heat dissipation plate comes into contact with the motherboard or the chassis, so that the heat generated in the semiconductor device is directly transferred to the motherboard or the chassis.

【0078】以上本発明者によってなされた発明を実施
形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施形
態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範
囲で種々変更可能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically described based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications can be made without departing from the spirit of the invention. Needless to say.

【0079】本発明は少なくとも上下に変動する板状物
の両面をトランスファモールドによって封止する技術に
は適用できる。
The present invention can be applied to a technique of sealing at least both surfaces of a plate-like object that fluctuates up and down by transfer molding.

【0080】[0080]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。
The effects obtained by the representative ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows.

【0081】(1)非磁性体からなるリードフレームの
支持板に支持板の主面側および裏面側が相互に異なる磁
極となるように永久磁石を固定するとともに、トランス
ファモールド装置のモールド型の下型と上型にそれぞれ
電磁石を組み込んでおき、モールド時には、前記両電磁
石の磁力を制御して永久磁石を各電磁石に対して反発動
作させて支持板をキャビティ内の所定の高さに磁力によ
って支持し、ついで溶けた樹脂をキャビティ内に流入さ
せて前記封止体を形成することから、支持板や支持板に
固定された半導体チップはモールド時上下動しなくな
り、支持板,半導体チップ,ワイヤ等の被封止物部分が
パッケージの表面に露出したり、表面に近接することが
なくなるため、モールド歩留りの向上を図ることができ
るとともに、耐湿性に優れた半導体装置を提供すること
ができる。
(1) A permanent magnet is fixed to a support plate of a lead frame made of a non-magnetic material so that the main surface side and the back surface side of the support plate have mutually different magnetic poles, and the lower mold of the transfer mold device is used. Electromagnets are built in the upper mold and the upper mold respectively, and at the time of molding, the magnetic forces of the electromagnets are controlled to cause the permanent magnets to repel each electromagnet so that the support plate is magnetically supported at a predetermined height in the cavity. Since the molten resin is then allowed to flow into the cavity to form the sealing body, the support plate and the semiconductor chip fixed to the support plate do not move up and down during molding, and the support plate, the semiconductor chip, the wire, etc. Since the part to be sealed is not exposed on the surface of the package or close to the surface, the mold yield can be improved and the moisture resistance is high. It is possible to provide a semiconductor device excellent.

【0082】(2)前記支持板に配線基板を固定し、か
つ前記配線基板の主面に半導体チップや受動部品を固定
しかつワイヤボンディングした混成集積回路構造の半導
体装置の製造において、前記配線基板に配線基板の主面
側および裏面側が相互に異なる磁極となるように永久磁
石を固定した構造にあっても、モールド型の下型と上型
にそれぞれ電磁石を組み込んだトランスファモールド装
置を使用し、モールド時に、前記両電磁石の磁力を制御
して永久磁石を各電磁石に対して反発動作させて配線基
板をキャビティ内の所定の高さに磁力によって支持し、
ついで溶けた樹脂をキャビティ内に流入させて前記封止
体を形成することから、配線基板,支持板,配線基板に
固定された半導体チップはモールド時上下動しなくな
り、配線基板,支持板,半導体チップ,ワイヤ等の被封
止物部分がパッケージの表面に露出したり、表面に近接
することがなくなるため、モールド歩留りの向上を図る
ことができるとともに、耐湿性に優れた混成集積回路構
造の半導体装置を提供することができる。
(2) In manufacturing a semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure in which a wiring board is fixed to the support plate, and a semiconductor chip or a passive component is fixed to the main surface of the wiring board and wire bonding is performed, the wiring board is used. Even in the structure in which the permanent magnets are fixed so that the main surface side and the back surface side of the wiring board have mutually different magnetic poles, the transfer mold apparatus incorporating electromagnets in the lower mold and upper mold of the mold is used. At the time of molding, the magnetic forces of the two electromagnets are controlled to cause the permanent magnets to repel each electromagnet to support the wiring board at a predetermined height in the cavity by magnetic force,
Then, since the melted resin is caused to flow into the cavity to form the sealing body, the wiring board, the support plate, and the semiconductor chip fixed to the wiring board do not move up and down during molding, and thus the wiring board, the support plate, and the semiconductor. Since the parts to be sealed such as chips and wires are not exposed to the surface of the package or close to the surface, the mold yield can be improved and the semiconductor of the hybrid integrated circuit structure excellent in moisture resistance is also provided. A device can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施形態(実施形態1)である半導
体装置の製造方法におけるトランスファモールド状態を
示す模式的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing a transfer mold state in a method for manufacturing a semiconductor device according to an embodiment (Embodiment 1) of the present invention.

【図2】本実施形態1の半導体装置を示す断面図であ
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing the semiconductor device of the first embodiment.

【図3】本実施形態1の半導体装置の製造方法におい
て、半導体チップが固定され、ワイヤボンディングが行
われたリードフレームを示す平面図である。
FIG. 3 is a plan view showing a lead frame to which a semiconductor chip is fixed and wire bonding is performed in the method for manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment.

【図4】本実施形態1の半導体装置の製造方法におい
て、キャビティ内での支持板の高さ制御状態を示す模式
図である。
FIG. 4 is a schematic view showing a height control state of a support plate in a cavity in the method of manufacturing a semiconductor device according to the first embodiment.

【図5】本発明の他の実施形態(実施形態2)である混
成集積回路構造の半導体装置を示す断面図である。
FIG. 5 is a sectional view showing a semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure according to another embodiment (Embodiment 2) of the present invention.

【図6】本実施形態3の半導体装置の製造に用いられる
リードフレームを示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing a lead frame used for manufacturing the semiconductor device of the third embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…半導体装置、2…封止体(パッケージ)、3…リー
ド、4…支持板、5…接合材、6…半導体チップ、7…
ワイヤ、10…穴、11…永久磁石、15…リードフレ
ーム、16…外枠、17…内枠、20…支持片、21…
支持リード、22…ダム、25,26…ガイド孔、30
…モールド型、31…下型、32…上型、33…ランナ
ー、34…ゲート、35…キャビティ、41,42…電
磁石、43,44…ケーブル、45…制御装置、46…
キャビティ底面、47…キャビティ天井面、50…溶け
た樹脂、60…配線基板、61…受動部品、62…穴。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor device, 2 ... Sealing body (package), 3 ... Lead, 4 ... Support plate, 5 ... Bonding material, 6 ... Semiconductor chip, 7 ...
Wire, 10 ... Hole, 11 ... Permanent magnet, 15 ... Lead frame, 16 ... Outer frame, 17 ... Inner frame, 20 ... Supporting piece, 21 ...
Support lead, 22 ... Dam, 25, 26 ... Guide hole, 30
... Mold type, 31 ... Lower mold, 32 ... Upper mold, 33 ... Runner, 34 ... Gate, 35 ... Cavity, 41, 42 ... Electromagnet, 43, 44 ... Cable, 45 ... Control device, 46 ...
Cavity bottom surface, 47 ... Cavity ceiling surface, 50 ... Melted resin, 60 ... Wiring board, 61 ... Passive component, 62 ... Hole.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29L 31:34 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical indication // B29L 31:34

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 トランスファモールドによって形成され
る樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しかつ支
持リードに支持される支持板と、前記支持板の周囲に一
端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる複数のリ
ードと、前記支持板の主面に固定される一つ以上の半導
体チップと、前記半導体チップの電極と前記リードを電
気的に接続するワイヤとを有する半導体装置であって、
前記支持板および前記リードは非磁性体からなるととも
に、前記支持板の主面側および裏面側が相互に異なる磁
極となるように前記支持板に永久磁石が固定されている
ことを特徴とする半導体装置。
1. A sealing body made of resin formed by transfer molding, a support plate positioned in the sealing body and supported by a support lead, and one end of which faces the periphery of the support plate and the other end of which is opposite. A plurality of leads extending outside the sealing body, one or more semiconductor chips fixed to the main surface of the support plate, and a wire electrically connecting the electrodes of the semiconductor chip and the leads. A semiconductor device having
The support plate and the lead are made of a non-magnetic material, and a permanent magnet is fixed to the support plate so that the main surface side and the back surface side of the support plate have different magnetic poles from each other. .
【請求項2】 トランスファモールドによって形成され
る樹脂からなる封止体と、前記封止体内に位置しかつ支
持板に支持される配線基板と、前記配線基板の周囲に一
端を臨ませ他端を前記封止体の外に延在させる複数のリ
ードと、前記配線基板の主面に固定される一つ以上の半
導体チップおよび受動部品と、所望の電極や配線間を電
気的に接続するワイヤとを有する混成集積回路構造の半
導体装置であって、前記支持板および前記リードは非磁
性体からなるとともに、前記配線基板の主面側および裏
面側が相互に異なる磁極となるように前記配線基板また
は支持板に永久磁石が固定されていることを特徴とする
半導体装置。
2. A sealing body made of resin formed by transfer molding, a wiring board positioned in the sealing body and supported by a support plate, and one end of which faces the periphery of the wiring board and the other end A plurality of leads extending outside the sealing body, one or more semiconductor chips and passive components fixed to the main surface of the wiring board, and wires for electrically connecting desired electrodes and wirings A semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure, wherein the support plate and the lead are made of a non-magnetic material, and the main surface side and the rear surface side of the wiring board have different magnetic poles from each other or the support. A semiconductor device having a permanent magnet fixed to a plate.
【請求項3】 前記支持板または配線基板には複数の穴
が設けられ、前記穴の少なくとも一部に前記永久磁石が
埋め込まれていることを特徴とする請求項1または請求
項2記載の半導体装置。
3. The semiconductor according to claim 1, wherein the support plate or the wiring board is provided with a plurality of holes, and the permanent magnet is embedded in at least a part of the holes. apparatus.
【請求項4】 前記支持板およびリードは銅または銅合
金で形成されていることを特徴とする請求項1乃至請求
項3のいずれか1項記載の半導体装置。
4. The semiconductor device according to claim 1, wherein the support plate and the leads are made of copper or a copper alloy.
【請求項5】 半導体チップ固定用の支持板を有する非
磁性体からなるリードフレームを用意する工程と、前記
支持板の主面に半導体チップを固定する工程と、前記半
導体チップの電極とリードフレームのリード先端を導電
性のワイヤで接続する工程と、トランスファモールド装
置のモールド型に前記リードフレームを型締めした後、
前記モールド型のキャビティ内に溶けた樹脂を注入して
前記支持板,前記半導体チップ,ワイヤ等を封止体で被
う工程とを有する半導体装置の製造方法であって、あら
かじめ前記支持板の主面側および裏面側が相互に異なる
磁極となるように永久磁石を前記支持板に固定しておく
とともに、前記モールド型の下型と上型にそれぞれ電磁
石を組み込んでおき、その後前記リードフレームを前記
モールド型に型締めするとともに、前記各電磁石の磁力
を制御して前記永久磁石を前記各電磁石に対して反発動
作させて前記支持板をキャビティ内の所定の高さに磁力
によって支持し、ついで溶けた樹脂をキャビティ内に流
入させて前記封止体を形成することを特徴とする半導体
装置の製造方法。
5. A step of preparing a lead frame made of a non-magnetic material having a support plate for fixing a semiconductor chip, a step of fixing the semiconductor chip to a main surface of the support plate, an electrode of the semiconductor chip and a lead frame. The step of connecting the lead tips with a conductive wire, and after clamping the lead frame to the mold of the transfer molding device,
A method of manufacturing a semiconductor device, comprising the steps of injecting a melted resin into a cavity of the mold and covering the support plate, the semiconductor chip, the wire, etc. with a sealing body. The permanent magnet is fixed to the support plate so that the front side and the back side have different magnetic poles, and electromagnets are respectively incorporated in the lower mold and the upper mold of the mold, and then the lead frame is molded in the mold. The mold was clamped, and the magnetic force of each electromagnet was controlled to cause the permanent magnet to repel the electromagnets to magnetically support the support plate at a predetermined height in the cavity, and then melted. A method of manufacturing a semiconductor device, characterized in that a resin is caused to flow into a cavity to form the sealing body.
【請求項6】 配線基板をリードフレームの支持板で支
持するリードフレームを用意する工程と、前記配線基板
の主面に一つ以上の半導体チップや受動部品を固定する
工程と、所定の電極や配線間を導電性のワイヤで接続す
る工程と、トランスファモールド装置のモールド型に前
記リードフレームを型締めした後、前記モールド型のキ
ャビティ内に溶けた樹脂を注入して前記配線基板,半導
体チップ,受動部品,ワイヤ等を封止体で被う工程とを
有する混成集積回路構造の半導体装置の製造方法であっ
て、あらかじめ前記配線基板の主面側および裏面側が相
互に異なる磁極となるように前記配線基板または前記支
持板に永久磁石を固定しておくとともに、前記モールド
型の下型と上型にそれぞれ電磁石を組み込んでおき、そ
の後前記リードフレームをモールド型に型締めするとと
もに、前記各電磁石の磁力を制御して前記永久磁石を前
記各電磁石に対して反発動作させて前記配線基板をキャ
ビティ内の所定の高さに磁力によって支持し、ついで溶
けた樹脂をキャビティ内に流入させて前記封止体を形成
することを特徴とする半導体装置の製造方法。
6. A step of preparing a lead frame for supporting a wiring board by a support plate of the lead frame, a step of fixing one or more semiconductor chips or passive components to the main surface of the wiring board, a predetermined electrode and A step of connecting the wirings with a conductive wire; and, after clamping the lead frame in a mold of a transfer mold device, injecting a melted resin into a cavity of the mold to form the wiring board, the semiconductor chip, A method of manufacturing a semiconductor device having a hybrid integrated circuit structure, comprising a step of covering passive components, wires, etc. with a sealing body, wherein the main surface side and the back surface side of the wiring board have different magnetic poles in advance. A permanent magnet is fixed to the wiring board or the supporting plate, and electromagnets are respectively incorporated in the lower mold and the upper mold of the mold, and then the lead frame is used. The mold is clamped in a mold and the magnetic force of each electromagnet is controlled to cause the permanent magnets to repel the electromagnets to support the wiring board by magnetic force at a predetermined height in the cavity. Then, a method for manufacturing a semiconductor device is characterized in that the molten resin is allowed to flow into the cavity to form the sealing body.
【請求項7】 前記永久磁石は前記支持板または配線基
板に設けた穴の少なくとも一部に埋め込まれていること
を特徴とする請求項5または請求項6記載の半導体装置
の製造方法。
7. The method of manufacturing a semiconductor device according to claim 5, wherein the permanent magnet is embedded in at least a part of a hole provided in the support plate or the wiring board.
【請求項8】 前記リードフレームは銅または銅合金で
形成されていることを特徴とする請求項5乃至請求項7
のいずれか1項記載の半導体装置の製造方法。
8. The method according to claim 5, wherein the lead frame is formed of copper or a copper alloy.
13. The method for manufacturing a semiconductor device according to claim 1.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR19990040606A (en) * 1997-11-19 1999-06-05 윤종용 Semiconductor chip package
US6815261B2 (en) * 1997-07-23 2004-11-09 Micron Technology, Inc. Encapsulation method in a molding machine for an electronic device
JP2016125942A (en) * 2015-01-06 2016-07-11 株式会社東海理化電機製作所 Magnetic sensor device

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