JPH09252021A - 混成集積回路のワイヤボンディング用パッド及び該パッドの形成方法 - Google Patents

混成集積回路のワイヤボンディング用パッド及び該パッドの形成方法

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JPH09252021A
JPH09252021A JP8058635A JP5863596A JPH09252021A JP H09252021 A JPH09252021 A JP H09252021A JP 8058635 A JP8058635 A JP 8058635A JP 5863596 A JP5863596 A JP 5863596A JP H09252021 A JPH09252021 A JP H09252021A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 混成集積回路用のワイヤボンディング用パッ
ドと、必要な電極パッドのみをワイヤボンディング対応
可能とする電極パッドの形成方法とを提供する。 【解決手段】 ワイヤボンディング用パッドの形成方法
は、混成集積回路の基板11上の所定の位置に、所定の
形状で、導電層によりパッドB12を形成し、片面に金
めっき層が形成された金属板を、金めっき層を接着面と
してポリマーシート14上に剥離可能に接着し、金属板
の反対面に導電性接着剤17を重着し、接着剤17と金
属板との不要部分をポリマーシート14上から除去し
て、所定の位置に所定のパッド形状のパッドA13を形
成し、パッドB12の上面に、パッドA13の導電性接
着剤面が整合するように、ポリマーシート14を配置し
て、パッドA13をパッドB12に導電性接着剤17で
固着させ、ポリマーシート14を剥離することにより接
続面に金めっきを有するパッドを形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は混合集積回路のワイ
ヤボンディング用パッドに関し、特にベアチップLSI
等の高集積IC搭載用基板のワイヤボンディング用パッ
ドに関する。
【0002】
【従来の技術】従来用いられていたこの種の混成集積回
路の基板用電極パッドは、絶縁層を有する金属基板上に
導電性接着剤を介してパッドとなる金属薄膜を固着し、
これに重畳するように所望のパターンに導電性塗料を印
刷焼成して導電層を固着して形成していた。図4は特開
昭60−45092公報で開示された従来技術の電極パ
ッドの構造を示す模式的断面図であり、図中符号41で
示されるものは金属基板、42は導電性接着剤、43は
金属薄膜、44は電極パッド、45は導電層、46は外
部導線、47ははんだ層を示す。
【0003】図5は、図4の基板用電極パッドの製造工
程を示す説明図であり、(a)は金属薄膜の片面に一部
を除いて導電性接着剤を塗布した状態の斜視図、(b)
は金属基板に金属薄膜を接着した状態の斜視図、(c)
は金属薄膜の一部を除去した状態の斜視図、(d)は露
出した導電性接着剤に重畳して導電層を形成した状態の
斜視図、(e)は金属薄膜に外部導線をはんだで接続し
た状態の断面図であり、符号42aは露出した導電性接
着剤、43aは除去される金属薄膜部を示す。
【0004】ほぼ金属パッドの形状に形成した銅などの
金属薄膜43の片面に、導電性接着剤42を隣接する2
つの隅部を除いて塗布し(a)、熱伝導の良好なAl板
の表面を陽極酸化してアルミナ絶縁層を設けた金属基板
41の絶縁層面に、裏返して導電性接着剤42を下面と
した金属薄膜43を所定の位置に固着し(b)、エッチ
ングにより金属薄膜43の不要部43aを除去し、導電
性接着剤42の一部42aを露出させる(c)、露出し
た導電性接着剤42aに重畳するように所定のパターン
に導電性塗料を印刷焼成して導電層45を形成し
(d)、金属薄膜43に外部導線46をはんだ層47で
接続する。
【0005】以上のような工程で、外部導線46は電極
パッド44の金属薄膜43に強力に接続される。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来の技術で
は、通常のはんだによる外部導線の接続には十分対応で
きるが、ワイヤボンディング用の電極処理が行なわれて
いないので、最近小型軽量化の目的で搭載の機会の増加
しているLSI等の高集積IC(半導体装置)のワイヤ
によるボンディングは難しく、接続できたとしても信頼
性に乏しいという問題がある。
【0007】ワイヤボンディング用に電極パッドに処理
を行なうためには、一般に金めっきを用いるが、そのた
めには構造上全部のパッドを一括してめっきを行なう必
要があり、ワイヤボンディングの必要のない金属パッド
にまで高価な金めっき処理を行なう必要があるという問
題点もあった。
【0008】本発明の目的は、混成集積回路用のワイヤ
ボンディング用パッドと、必要な電極パッドのみをワイ
ヤボンディング対応可能とする電極パッドの形成方法と
を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の混成集積回路の
ワイヤボンディング用パッドは、混成集積回路のワイヤ
ボンディング用パッドであって、混成集積回路の基板上
に導電層により形成された第1のパッドと、片面に金め
っき層が形成された金属片と反対面に重着された導電性
接着剤とからなる第2のパッドとから構成され、第2の
パッドは導電性接着剤を介して第1のパッド上に固着さ
れている。
【0010】また、混成集積回路の基板上に導電層によ
り形成された第1のパッドと、片面に金めっき層が形成
され、反対面に接着層が形成された誘電体とからなる第
2のパッドとから構成され、第2のパッドは金めっき層
を表面として接着層で第1のパッド上に固着されていて
もよい。
【0011】本発明の混成集積回路のワイヤボンディン
グ用パッドの形成方法は、混成集積回路の基板上の所定
の位置に、所定の形状で、導電層により第1のパッドを
形成し、片面に金めっき層が形成された金属板を、金め
っき層を接着面としてポリマーのフイルム上に剥離可能
に接着し、金属板の反対面に導電性接着剤を重着し、導
電性接着剤と金属板との不要部分をフイルム上から除去
して、所定の位置に所定のパッド形状の第2のパッドを
形成し、第1のパッドの上面に、第2のパッドの導電性
接着剤面が整合するように、フイルムを配置して、第2
のパッドを第1のパッドに導電性接着剤で固着させ、フ
ィルムを剥離することにより接続面に金めっきを有する
パッドを形成する。
【0012】また、混成集積回路の基板上の所定の位置
に、所定の形状で、導電層により第1のパッドを形成
し、所定のパッド形状に形成された第2のパッドを、金
めっき層を接着面としてポリマーのフイルム上に、剥離
可能に所定の位置に接着し、第1のパッドの上面に、第
2のパッドの接着面が整合するように、フイルムを配置
して、第2のパッドを第1のパッドに固着させ、フィル
ムを剥離することにより接続面に金めっきを有するパッ
ドを形成してもよい。
【0013】混成集積回路の電極パッドの内、ワイヤボ
ンディングで接続される電極パッドを、ワイヤボンディ
ングに適したパッドの構造とできるので、ワイヤによる
電気的接続信頼性が向上する。
【0014】また、それ以外の電極パッドには、ワイヤ
ボンディング用の処理を行なわないので、経済的に電極
パッドを形成することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して説明する。図1は本発明の第1の実施
の形態のワイヤボンディング用パッドの形成工程を示す
模式的斜視図であり、(a)はパッドAが所定のパター
ンに配置されたポリマーシートを示し、(b)は導電層
と接続したパッドBが所定のパターンに配設された基板
を示す。図2はパッドB上にパッドAが固着され、基板
上に固着されたICのパッドCとワイヤでボンディング
された状態を示し、(a)は斜視図、(b)は(a)の
断面X−Xの断面図である。両図中、符号11は基板、
12はパッドB、13はパッドA、14はポリマーシー
ト、15はIC、15aはパッドC、16はワイヤ、1
7は導電性接着剤、18は金属片である。
【0016】フイルム状の柔軟性のあるポリマーシート
14上の、ワイヤボンディング用の電極パッドの配置に
対応する位置に、パッドA13が配置されている。パッ
ドAは、ワイヤと接続させるための金めっきが片面に施
された銅やコバールなどの金属片18と、反対面の全面
に塗布された導電性接着剤17とから構成され、金属片
18の金めっき面がポリマーシート14に剥離可能に貼
り付けられている。
【0017】一方、混成集積回路の基板11の絶縁層面
には、通常のはんだによる接続用の従来技術による電極
パッドの他に、ワイヤ16によるボンディングを必要と
するLSI等のIC15の接続するパッド位置に、所定
のパターンで導電層と一体となったパッドB12が形成
されており、パッドB12上にポリマーシート14を用
いてパッドA13を接着剤17を下面として整合状態で
転載して接着させ、ポリマーシート14を除去すること
によって金めっき面を有するワイヤボンディング用の電
極パッドが基板11上に形成される。
【0018】次にこの形成工程を一実施例によって詳細
に説明する。先ず、厚さ100μmの透明なポリマーシ
ート14上に、厚さ0.2〜0.5μmの金めっき処理
をしたコバールからなる厚さ100μmの金属板が、金
めっき面を下にして剥離可能に貼り付けられる。
【0019】貼り付けられた金属板の上面に銀ペースト
等の導電性接着剤17が塗布される。
【0020】次に、ワイヤ16によるボンディングを必
要とするLSI等のIC15の接続するパッド位置にパ
ッドが形成されるように接着剤17をマスク加工し、金
属板をエッチングで除去して、ポリマーシート14上の
所定の位置に、所定の形状のパッドA13が形成され
る。
【0021】混成集積回路の、陽極酸化により表面にア
ルミナ絶縁層が形成されたAlなどの金属やセラミック
等の基板11の絶縁層面に、通常のはんだによる接続用
の従来技術による電極パッドを形成するとともに、ワイ
ヤ16によるボンディングを必要とするLSI等のIC
15の接続するパッド位置に、所定のパターンで従来技
術の導電層と一体となったパッドB12を形成する。
【0022】基板11に形成されたパッドB12上に、
ポリマーシート14とともにパッドA13を接着剤17
を下面として位置合わせして転載して接着し、ポリマー
シート14を除去することによって金めっき面を有する
ワイヤボンディング用の電極パッドが基板11上に形成
される。
【0023】基板11上の所定の位置にIC15を固着
し、IC15のパッドC15aと基板11に形成された
ワイヤボンディング用の電極パッドの金めっき面とを金
ワイヤ16で接続する。
【0024】本実施例ではポリマーシート14に貼り付
けられた金属板をエッチングにより整形してパッドA1
3を形成したが、予めパッドの形状に形成されたパッド
A13をポリマーシート14の所定の位置に貼り付けて
もよい。
【0025】次に図3を参照して第2の実施の形態を説
明する。図3は本発明の第2の実施の形態のワイヤボン
ディング用パッドの近傍の模式的断面図であり、符号3
1は基板、32はパッドB、35はIC、35aはパッ
ドC、36はワイヤ、38は、誘電体38aは金めっ
き、38bは接着層である。
【0026】本実施の形態では、第1の実施の形態で、
金属片18と接着剤17で構成されていたパッドA13
が、片面が金めっきされ反対面に接着層を持つ、誘電体
で構成される。その他の構成及びワイヤボンディング用
パッドの形成工程は第1の実施の形態と同様である。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、混成集積
回路の電極パッドの内、ワイヤボンディングで接続され
る電極パッドを、ワイヤボンディングに適したパッドの
構造とすることができるので、ワイヤによる電気的接続
強度を向上させ信頼性を高めることができるという効果
がある。
【0028】また、それ以外の電極パッドは、ワイヤボ
ンディング用の処理を行なわず従来技術が応用できるの
で全体のコストが下がり、経済的に電極パッドを形成す
ることができるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態のワイヤボンディン
グ用パッドの形成工程を示す模式的斜視図である。
(a)はパッドAが所定のパターンに配置されたポリマ
ーシートを示す。(b)は導電層と接続したパッドBが
所定のパターンに配設された基板を示す。
【図2】パッドB上にパッドAが固着され、基板上に固
着されたICのパッドCとワイヤでボンディングされた
状態を示す説明図である。(a)は斜視図である。
(b)は(a)の断面X−Xの断面図である。
【図3】本発明の第2の実施の形態のワイヤボンディン
グ用パッドの近傍の模式的断面図である。
【図4】特開昭60−45092公報で開示された従来
技術の電極パッドの構造を示す模式的断面図である。
【図5】図4の基板用電極パッドの製造工程を示す説明
図である。(a)は金属薄膜の片面に一部を除いて導電
性接着剤を塗布した状態の斜視図である。(b)は金属
基板に金属薄膜を接着した状態の斜視図である。(c)
は金属薄膜の一部を除去した状態の斜視図である。
(d)は露出した導電性接着剤に重畳して導電層を形成
した状態の斜視図である。(e)は金属薄膜に外部導線
をはんだで接続した状態の断面図である。
【符号の説明】
11、31 基板 12、32 パッドB 13 パッドA 14 ポリマーシート 15、35 IC 15a パッドC 16、36 ワイヤ 17 導電性接着剤 18 金属片 38 誘電体 38a 金めっき 38b 接着層 41 金属基板 42 導電性接着剤 42a 露出した導電性接着剤 43 金属薄膜 43a 除去される金属薄膜部 44 電極パッド 45 導電層 46 外部導線 47 はんだ層

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 混成集積回路のワイヤボンディング用パ
    ッドであって、 前記混成集積回路の基板上に導電層により形成された第
    1のパッドと、 片面に金めっき層が形成された金属片と反対面に重着さ
    れた導電性接着剤とからなる第2のパッドとから構成さ
    れ、 前記第2のパッドは前記導電性接着剤を介して前記第1
    のパッド上に固着されていることを特徴とするワイヤボ
    ンディング用パッド。
  2. 【請求項2】 混成集積回路のワイヤボンディング用パ
    ッドであって、 前記混成集積回路の基板上に導電層により形成された第
    1のパッドと、 片面に金めっき層が形成され、反対面に接着層が形成さ
    れた誘電体とからなる第2のパッドとから構成され、 前記第2のパッドは前記金めっき層を表面として前記接
    着層で前記第1のパッド上に固着されていることを特徴
    とするワイヤボンディング用パッド。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の混成集積回路のワイヤ
    ボンディング用パッドの形成方法であって、 混成集積回路の基板上の所定の位置に、所定の形状で、
    導電層により第1のパッドを形成し、 片面に金めっき層が形成された金属板を、前記金めっき
    層を接着面としてポリマーのフイルム上に剥離可能に接
    着し、前記金属板の反対面に導電性接着剤を重着し、前
    記導電性接着剤と前記金属板との不要部分を前記フイル
    ム上から除去して、所定の位置に所定のパッド形状の前
    記第2のパッドを形成し、 前記第1のパッドの上面に、前記第2のパッドの導電性
    接着剤面が整合するように、前記フイルムを配置して、
    前記第2のパッドを前記第1のパッドに前記導電性接着
    剤で固着させ、 前記フィルムを剥離することにより接続面に金めっきを
    有するパッドを形成することを特徴とするワイヤボンデ
    ィング用パッドの形成方法。
  4. 【請求項4】 請求項1又は請求項2に記載の混成集積
    回路のワイヤボンディング用パッドの形成方法であっ
    て、 混成集積回路の基板上の所定の位置に、所定の形状で、
    導電層により第1のパッドを形成し、 所定のパッド形状に形成された前記第2のパッドを、金
    めっき層を接着面としてポリマーのフイルム上に、剥離
    可能に所定の位置に接着し、 前記第1のパッドの上面に、前記第2のパッドの接着面
    が整合するように、前記フイルムを配置して、前記第2
    のパッドを前記第1のパッドに固着させ、 前記フィルムを剥離することにより接続面に金めっきを
    有するパッドを形成することを特徴とするワイヤボンデ
    ィング用パッドの形成方法。
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