JPH09246169A - テーブル制御装置ならびに露光装置および方法 - Google Patents
テーブル制御装置ならびに露光装置および方法Info
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- JPH09246169A JPH09246169A JP8073118A JP7311896A JPH09246169A JP H09246169 A JPH09246169 A JP H09246169A JP 8073118 A JP8073118 A JP 8073118A JP 7311896 A JP7311896 A JP 7311896A JP H09246169 A JPH09246169 A JP H09246169A
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- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70216—Mask projection systems
- G03F7/70358—Scanning exposure, i.e. relative movement of patterned beam and workpiece during imaging
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Control Of Position Or Direction (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 安価なプロセッサを使用して簡単な構成で、
テーブルの定速駆動時の振動を減少し、動作精度を向上
する。 【解決手段】 サンプリングタイミング毎に、目標値を
発生させテーブル（ステージ）の現在位置との差分を制
御演算するデジタルサーボ系を有するスキャンテーブル
制御装置において、加減速駆動時のサンプリング処理に
使用するタイマからの割り込み信号と、定速駆動時のサ
ンプリング処理に使用するタイマからの割り込み信号と
を別に設ける。また、定速駆動時のサンプリング周期Ｔ
２を加減速駆動時のサンプリング周期Ｔ１より短くす
る。
テーブルの定速駆動時の振動を減少し、動作精度を向上
する。 【解決手段】 サンプリングタイミング毎に、目標値を
発生させテーブル（ステージ）の現在位置との差分を制
御演算するデジタルサーボ系を有するスキャンテーブル
制御装置において、加減速駆動時のサンプリング処理に
使用するタイマからの割り込み信号と、定速駆動時のサ
ンプリング処理に使用するタイマからの割り込み信号と
を別に設ける。また、定速駆動時のサンプリング周期Ｔ
２を加減速駆動時のサンプリング周期Ｔ１より短くす
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、工作機械、半導体
露光装置などに使用するテーブル制御装置、ならびにそ
のテーブル制御方式を用いてテーブルを定速移動させて
露光を行なうスキャン（走査）形の露光装置および方法
に関する。
露光装置などに使用するテーブル制御装置、ならびにそ
のテーブル制御方式を用いてテーブルを定速移動させて
露光を行なうスキャン（走査）形の露光装置および方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は従来のスキャン露光装置の概念を
示す。同図において、１は照明系、２はレチクルステー
ジ、３はレチクル、４は投影レンズ、５はウエハステー
ジ、６はウエハである。レチクル３とウエハ６はそれぞ
れレチクルステージ２、ウエハステージ５に搭載され、
スキャン露光中、両ステージ２，５は互いに反対の方向
に同期走査される。この場合、両ステージ２，５は停止
状態から加速され、両ステージが定速領域に入り振動が
整定したのち露光が開始され、レチクル３上のパターン
は投影レンズ４を通してウエハ６に縮小露光される。し
たがって、このようなステージ（テーブル）を走査する
スキャンテーブル制御装置では、定速領域に移行した際
に速やかにテーブルの振動を整定させ、かつ定速（露
光）移動時はテーブルが振動しないように高精度に制御
しなければならない。
示す。同図において、１は照明系、２はレチクルステー
ジ、３はレチクル、４は投影レンズ、５はウエハステー
ジ、６はウエハである。レチクル３とウエハ６はそれぞ
れレチクルステージ２、ウエハステージ５に搭載され、
スキャン露光中、両ステージ２，５は互いに反対の方向
に同期走査される。この場合、両ステージ２，５は停止
状態から加速され、両ステージが定速領域に入り振動が
整定したのち露光が開始され、レチクル３上のパターン
は投影レンズ４を通してウエハ６に縮小露光される。し
たがって、このようなステージ（テーブル）を走査する
スキャンテーブル制御装置では、定速領域に移行した際
に速やかにテーブルの振動を整定させ、かつ定速（露
光）移動時はテーブルが振動しないように高精度に制御
しなければならない。
【０００３】図５は従来例のスキャンテーブル制御装置
の制御ブロック図を示す。スキャン露光装置のように、
２つの軸を同期走査させるような従来例の制御系では、
プロセッサ１０７などを使ったデジタルサーボ系が用い
られる。プロセッサ１０７はタイマ１０８からＴ１
（秒）毎の割り込み信号を受け、指令値発生器１０９か
ら各ステージへの指令値を同時に発生させ、両ステージ
を同時に駆動する。それぞれのステージの位置は干渉計
１１０，１１１にて計測され、その計測位置と指令値と
の差分を制御器１１２，１１３にて制御（ＰＩＤ）演算
し、各ステージ１０２，１０３をフィードバック制御す
る。また同期精度を高めるために、同期制御器１１４を
設けてある。
の制御ブロック図を示す。スキャン露光装置のように、
２つの軸を同期走査させるような従来例の制御系では、
プロセッサ１０７などを使ったデジタルサーボ系が用い
られる。プロセッサ１０７はタイマ１０８からＴ１
（秒）毎の割り込み信号を受け、指令値発生器１０９か
ら各ステージへの指令値を同時に発生させ、両ステージ
を同時に駆動する。それぞれのステージの位置は干渉計
１１０，１１１にて計測され、その計測位置と指令値と
の差分を制御器１１２，１１３にて制御（ＰＩＤ）演算
し、各ステージ１０２，１０３をフィードバック制御す
る。また同期精度を高めるために、同期制御器１１４を
設けてある。
【０００４】図６は指令値発生器１０９から指令される
駆動パターンの一例を示す。ステージの高次の振動モー
ドを刺激しステージを振動させないように、できるだけ
加速度の変化が滑らかになるような曲線が採用される。
図６の曲線の各部における加速度α１〜α７は、例えば
下記の演算式により求められる。
駆動パターンの一例を示す。ステージの高次の振動モー
ドを刺激しステージを振動させないように、できるだけ
加速度の変化が滑らかになるような曲線が採用される。
図６の曲線の各部における加速度α１〜α７は、例えば
下記の演算式により求められる。
【０００５】
【数１】 指令値発生器１０９では、図７のように、タイマ１０８
からのＴ１（秒）毎の割り込み毎に、高次の多項式によ
る指令値演算とＰＩＤ制御演算を繰り返しながら、各テ
ーブルを同期制御していく。
からのＴ１（秒）毎の割り込み毎に、高次の多項式によ
る指令値演算とＰＩＤ制御演算を繰り返しながら、各テ
ーブルを同期制御していく。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】図８は定速（露光）駆
動中の指令値と実テーブル（ステージ）の応答を表す。
プロセッサによるデジタルサーボ系であるために、指令
値はＴ１（秒）毎に離散的に与えられ、またテーブルの
位置もＴ１（秒）毎に取り込み制御演算を行なう。した
がってデジタルサーボ系では、サンプリング間のテーブ
ルの挙動は制御できないため、サンプリング時間Ｔ１を
十分短くしないと、テーブルは滑らかな応答ができなく
なり振動が大きくなってしまうという問題点があった。
動中の指令値と実テーブル（ステージ）の応答を表す。
プロセッサによるデジタルサーボ系であるために、指令
値はＴ１（秒）毎に離散的に与えられ、またテーブルの
位置もＴ１（秒）毎に取り込み制御演算を行なう。した
がってデジタルサーボ系では、サンプリング間のテーブ
ルの挙動は制御できないため、サンプリング時間Ｔ１を
十分短くしないと、テーブルは滑らかな応答ができなく
なり振動が大きくなってしまうという問題点があった。
【０００７】サンプリング時間Ｔ１を短くして振動を抑
えるためには、数１式に示したような高次の多項式で表
される指令値の計算を高速に処理できる高価なプロセッ
サが必要となるため問題となる。
えるためには、数１式に示したような高次の多項式で表
される指令値の計算を高速に処理できる高価なプロセッ
サが必要となるため問題となる。
【０００８】また、指令曲線を事前に計算しメモリに記
憶しておき、駆動時に順次ロードする方法も考えられる
が、メモリを大量に必要とするなど問題点があった。
憶しておき、駆動時に順次ロードする方法も考えられる
が、メモリを大量に必要とするなど問題点があった。
【０００９】本発明の目的は、これらの従来技術の問題
点に鑑み、安価なプロセッサを使用しても簡単な構成
で、定速（露光）駆動中のテーブルの振動が小さい、高
精度なスキャンテーブル制御方式を提供することにあ
る。
点に鑑み、安価なプロセッサを使用しても簡単な構成
で、定速（露光）駆動中のテーブルの振動が小さい、高
精度なスキャンテーブル制御方式を提供することにあ
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明のテーブル制御装置は、サンプリングタイミング
毎のサンプリング処理で目標値を発生させ該目標値とテ
ーブルの現在位置との差分を制御演算して該テーブルを
加減速および定速駆動するデジタルサーボ系を有するテ
ーブル制御装置において、加減速駆動時のサンプリング
処理の周期と定速駆動時のサンプリング処理の周期とを
異ならせたことを特徴とする。
本発明のテーブル制御装置は、サンプリングタイミング
毎のサンプリング処理で目標値を発生させ該目標値とテ
ーブルの現在位置との差分を制御演算して該テーブルを
加減速および定速駆動するデジタルサーボ系を有するテ
ーブル制御装置において、加減速駆動時のサンプリング
処理の周期と定速駆動時のサンプリング処理の周期とを
異ならせたことを特徴とする。
【００１１】本発明は好ましくは前記加減速駆動時と前
記定速駆動時とで異なる周期のサンプリング信号を発生
するタイマ手段を設け、該タイマ手段がサンプリング信
号を発生する度に前記サンプリング処理を割り込みで実
行する。また前記定速駆動時のサンプリング処理の周期
を、前記加減速駆動時のサンプリング処理の周期よりも
短く設定する。さらに、テーブルの現在位置も加味して
サンプリング処理の周期を変更するようにすることも好
ましい。例えば、前記テーブルにスクライブラインおよ
び被処理領域（実素子領域等）を有する物体（ウエハ
等）を搭載して所定の処理領域（露光領域等）を通過さ
せる場合には、前記被処理領域の前側のスクライブライ
ンが前記処理領域に到達する前のサンプリング処理の周
期Ｔ１よりも、該スクライブラインが前記処理領域に到
達した後のサンプリング処理の周期Ｔ２の方を短く（Ｔ
１＞Ｔ２と）なるように設定する。
記定速駆動時とで異なる周期のサンプリング信号を発生
するタイマ手段を設け、該タイマ手段がサンプリング信
号を発生する度に前記サンプリング処理を割り込みで実
行する。また前記定速駆動時のサンプリング処理の周期
を、前記加減速駆動時のサンプリング処理の周期よりも
短く設定する。さらに、テーブルの現在位置も加味して
サンプリング処理の周期を変更するようにすることも好
ましい。例えば、前記テーブルにスクライブラインおよ
び被処理領域（実素子領域等）を有する物体（ウエハ
等）を搭載して所定の処理領域（露光領域等）を通過さ
せる場合には、前記被処理領域の前側のスクライブライ
ンが前記処理領域に到達する前のサンプリング処理の周
期Ｔ１よりも、該スクライブラインが前記処理領域に到
達した後のサンプリング処理の周期Ｔ２の方を短く（Ｔ
１＞Ｔ２と）なるように設定する。
【００１２】本発明のテーブル制御方式は、原板（レチ
クル等）を搭載して移動する第１ステージ（テーブル）
と、被露光体（ウエハ等）を搭載して移動する第２ステ
ージ（テーブル）と、第１ステージに搭載された原板の
像を第２ステージ搭載された被露光体上に投影する投影
光学系とを具備する露光装置において、前記第１ステー
ジと第２ステージをそれぞれ前記投影光学系に対して相
対的に走査させる際のステージ制御方式として好適に用
いられる。
クル等）を搭載して移動する第１ステージ（テーブル）
と、被露光体（ウエハ等）を搭載して移動する第２ステ
ージ（テーブル）と、第１ステージに搭載された原板の
像を第２ステージ搭載された被露光体上に投影する投影
光学系とを具備する露光装置において、前記第１ステー
ジと第２ステージをそれぞれ前記投影光学系に対して相
対的に走査させる際のステージ制御方式として好適に用
いられる。
【００１３】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態に係るスキャ
ンテーブル制御装置は、サンプリング時（タイミング）
毎に、目標値を発生させテーブルの現在位置との差分を
制御演算するデジタルサーボ系を有するスキャンテーブ
ル制御装置において、加減速駆動時のサンプリング処理
に使用するタイマからの割り込み信号と、定速（露光）
駆動時のサンプリング処理に使用するタイマからの割り
込み信号とを別に設けたことを特徴とする。また、加減
速駆動時のサンプリング時間（周期）をＴ１（秒）、定
速（露光）駆動時のサンプリング時間（周期）をＴ２
（秒）とし、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定することを特
徴とする。さらに、スクライブライン到達前のサンプリ
ング時間をＴ１（秒）、スクライブライン到達後のサン
プリング時間をＴ２（秒）とし、Ｔ１＞Ｔ２となるよう
に決定することを特徴とする。
ンテーブル制御装置は、サンプリング時（タイミング）
毎に、目標値を発生させテーブルの現在位置との差分を
制御演算するデジタルサーボ系を有するスキャンテーブ
ル制御装置において、加減速駆動時のサンプリング処理
に使用するタイマからの割り込み信号と、定速（露光）
駆動時のサンプリング処理に使用するタイマからの割り
込み信号とを別に設けたことを特徴とする。また、加減
速駆動時のサンプリング時間（周期）をＴ１（秒）、定
速（露光）駆動時のサンプリング時間（周期）をＴ２
（秒）とし、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定することを特
徴とする。さらに、スクライブライン到達前のサンプリ
ング時間をＴ１（秒）、スクライブライン到達後のサン
プリング時間をＴ２（秒）とし、Ｔ１＞Ｔ２となるよう
に決定することを特徴とする。
【００１４】
【作用】上述のように本発明では、加減速駆動時に使用
するタイマからの割り込み信号とは別に、定速（露光）
駆動時にのみ使用するタイマからの割り込み信号を別に
設ける。また、定速（露光）駆動時は加速度が零になる
ため、指令値の演算時間は極めて短くて済むことに着目
し、加減速駆動時のサンプリング時間をＴ１（秒）、定
速（露光）駆動時のサンプリング時間をＴ２（秒）と
し、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定しておく。こうした構
成によれば、定速（露光）駆動時のサンプリング時間を
短くすることが可能となり、その結果、定速駆動時に指
令値をより細かく与えることができ、デジタルサーボ系
においてもテーブルの応答性が向上し振動を抑えた高精
度な定速（露光）動作が可能となる。
するタイマからの割り込み信号とは別に、定速（露光）
駆動時にのみ使用するタイマからの割り込み信号を別に
設ける。また、定速（露光）駆動時は加速度が零になる
ため、指令値の演算時間は極めて短くて済むことに着目
し、加減速駆動時のサンプリング時間をＴ１（秒）、定
速（露光）駆動時のサンプリング時間をＴ２（秒）と
し、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定しておく。こうした構
成によれば、定速（露光）駆動時のサンプリング時間を
短くすることが可能となり、その結果、定速駆動時に指
令値をより細かく与えることができ、デジタルサーボ系
においてもテーブルの応答性が向上し振動を抑えた高精
度な定速（露光）動作が可能となる。
【００１５】
【実施例１】以下、本発明の実施例を図面に基づき説明
する。図１は本発明の一実施例に係るスキャンテーブル
制御装置の制御ブロック図を示す。基本的には図５のス
キャンテーブル制御装置や従来のスキャン露光装置と同
様に、プロセッサ７などを使ったデジタルサーボ系を用
いて２つの軸を同期走査させるような制御系である。但
し、本実施例では、加減速駆動時に使用するタイマから
の割り込み信号とは別に、定速（露光）駆動時にのみ使
用するタイマからの割り込み信号を設ける。図１におい
て、プロセッサ７はタイマ８から加減速駆動時はＴ１
（秒）、定速（スキャン）駆動時はＴ２（秒）毎の割り
込み信号を受け、指令値発生器９から各ステージ２，４
への指令値を同時に発生させ、両ステージを同時に駆動
する。それぞれのステージ２，４の位置は干渉計１０，
１１にて計測され、指令値との差分を制御器１２，１３
にて制御（ＰＩＤ）演算し、各ステージ２，４をフィー
ドバック制御する。また同期精度を高めるために、同期
制御器１４を設けてある。
する。図１は本発明の一実施例に係るスキャンテーブル
制御装置の制御ブロック図を示す。基本的には図５のス
キャンテーブル制御装置や従来のスキャン露光装置と同
様に、プロセッサ７などを使ったデジタルサーボ系を用
いて２つの軸を同期走査させるような制御系である。但
し、本実施例では、加減速駆動時に使用するタイマから
の割り込み信号とは別に、定速（露光）駆動時にのみ使
用するタイマからの割り込み信号を設ける。図１におい
て、プロセッサ７はタイマ８から加減速駆動時はＴ１
（秒）、定速（スキャン）駆動時はＴ２（秒）毎の割り
込み信号を受け、指令値発生器９から各ステージ２，４
への指令値を同時に発生させ、両ステージを同時に駆動
する。それぞれのステージ２，４の位置は干渉計１０，
１１にて計測され、指令値との差分を制御器１２，１３
にて制御（ＰＩＤ）演算し、各ステージ２，４をフィー
ドバック制御する。また同期精度を高めるために、同期
制御器１４を設けてある。
【００１６】前述の数１式からもわかるように、定速
（露光）駆動時は加速度が零となるため、高次の多項式
による指令値演算を行う必要はない。本実施例では、こ
れに着目し、タイマからの２本の割り込み信号を設け、
図２に示すように加減速駆動時のサンプリング時間をＴ
１（秒）、定速（露光）駆動時のサンプリング時間をＴ
２（秒）とし、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定する。
（露光）駆動時は加速度が零となるため、高次の多項式
による指令値演算を行う必要はない。本実施例では、こ
れに着目し、タイマからの２本の割り込み信号を設け、
図２に示すように加減速駆動時のサンプリング時間をＴ
１（秒）、定速（露光）駆動時のサンプリング時間をＴ
２（秒）とし、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定する。
【００１７】その結果、図３に示すように定速（スキャ
ン）駆動時のサンプリング時間を短くすることで指令値
をより細かく与えることができ、安価なプロセッサを用
いたデジタルサーボ系においてもテーブル（ステージ）
の応答性が向上し、振動を抑えた高精度な定速（露光）
動作が可能となる。
ン）駆動時のサンプリング時間を短くすることで指令値
をより細かく与えることができ、安価なプロセッサを用
いたデジタルサーボ系においてもテーブル（ステージ）
の応答性が向上し、振動を抑えた高精度な定速（露光）
動作が可能となる。
【００１８】
【実施例２】図９に示すように、サンプリング時間の切
り替えタイミングをウエハ６のスクライブラインに一致
させることも考えられる。図９に示すようにスクライブ
ライン到達前のサンプリング時間をＴ１（秒）、スクラ
イブライン到達後のサンプリング時間をＴ２（秒）と
し、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定する。
り替えタイミングをウエハ６のスクライブラインに一致
させることも考えられる。図９に示すようにスクライブ
ライン到達前のサンプリング時間をＴ１（秒）、スクラ
イブライン到達後のサンプリング時間をＴ２（秒）と
し、Ｔ１＞Ｔ２となるように決定する。
【００１９】こうした構成によれば、スクライブライン
到達後のサンプリング時間を短くすることが可能とな
り、その結果指令値をより細かく与えることができ、デ
ジタルサーボ系においてもテーブルの応答性が向上し振
動を抑えた高精度な定速（露光）動作が可能となる。
到達後のサンプリング時間を短くすることが可能とな
り、その結果指令値をより細かく与えることができ、デ
ジタルサーボ系においてもテーブルの応答性が向上し振
動を抑えた高精度な定速（露光）動作が可能となる。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、安
価なプロセッサを使用したデジタルサーボ系において
も、定速（露光）駆動時のサンプリング時間を短くする
ことが可能となり、その結果指令値をより細かく与える
ことができ、テーブルの応答が向上し振動を抑えた高精
度な定速（露光）動作が可能となる。
価なプロセッサを使用したデジタルサーボ系において
も、定速（露光）駆動時のサンプリング時間を短くする
ことが可能となり、その結果指令値をより細かく与える
ことができ、テーブルの応答が向上し振動を抑えた高精
度な定速（露光）動作が可能となる。
【図１】 本発明のテーブル装置の実施例の制御ブロッ
ク図である。
ク図である。
【図２】 図１の装置におけるサンプリング処理の説明
図である。
図である。
【図３】 図１の装置の定速（露光）時のテーブルの応
答波形である。
答波形である。
【図４】 従来のスキャン露光装置の説明図である。
【図５】 従来例のテーブル装置の制御ブロック図であ
る。
る。
【図６】 図１および図５の装置における指令値の加速
度パターンの一例を示す図である。
度パターンの一例を示す図である。
【図７】 従来例におけるサンプリング処理の説明図で
ある。
ある。
【図８】 従来例の定速（露光）時のテーブルの応答波
形である。
形である。
【図９】 本発明の実施例２に係るスキャン露光装置の
動作説明図である。
動作説明図である。
１：照明系、２：レチクルステージ、３：レチクル、
４：投影レンズ、５：ウエハステージ、６：ウエハ、
７：プロセッサ、８：タイマ、９：指令値発生器、１
０：干渉計、１１：干渉計、１２：制御器、１３：制御
器、１４：同期制御器。
４：投影レンズ、５：ウエハステージ、６：ウエハ、
７：プロセッサ、８：タイマ、９：指令値発生器、１
０：干渉計、１１：干渉計、１２：制御器、１３：制御
器、１４：同期制御器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５１５Ｇ
Claims (10)
- 【請求項１】 サンプリングタイミング毎のサンプリン
グ処理で目標値を発生させ該目標値とテーブルの現在位
置との差分を制御演算して該テーブルを加減速および定
速駆動するデジタルサーボ系を有するテーブル制御装置
において、 加減速駆動時のサンプリング処理の周期と定速駆動時の
サンプリング処理の周期とを異ならせたことを特徴とす
るテーブル制御装置。 - 【請求項２】 前記加減速駆動時と前記定速駆動時とで
異なる周期のサンプリング信号を発生するタイマ手段を
有し、該タイマ手段がサンプリング信号を発生する度に
前記サンプリング処理を割り込みで実行することを特徴
とする請求項１記載のテーブル制御装置。 - 【請求項３】 前記定速駆動時のサンプリング処理の周
期を、前記加減速駆動時のサンプリング処理の周期より
も短く設定したことを特徴とする請求項１または２記載
のテーブル制御装置。 - 【請求項４】 サンプリングタイミング毎のサンプリン
グ処理で目標値を発生させ該目標値とテーブルの現在位
置との差分を制御演算して該テーブルを加減速および定
速駆動するデジタルサーボ系を有するテーブル制御装置
において、 前記テーブルの現在位置に応じてサンプリング処理の周
期を変更することを特徴とするテーブル制御装置。 - 【請求項５】 前記テーブルにスクライブラインおよび
被処理領域を有する物体を搭載して所定の処理領域を通
過させる際、前記被処理領域の前のスクライブラインが
前記処理領域に到達する前のサンプリング処理の周期を
Ｔ１、該スクライブラインが前記処理領域に到達した後
のサンプリング処理の周期をＴ２とし、Ｔ１＞Ｔ２とな
るように設定したことを特徴とする請求項４記載のテー
ブル制御装置。 - 【請求項６】 原板を搭載して移動する第１ステージ
と、被露光体を搭載して移動する第２ステージと、第１
ステージに搭載された原板の像を第２ステージ搭載され
た被露光体上に投影する投影光学系と、前記第１ステー
ジと第２ステージをそれぞれ前記投影光学系に対して相
対的に走査させるステージ制御装置とを具備する露光装
置において、 前記ステージ制御装置として前記ステージであるテーブ
ルを駆動する請求項１〜５のいずれかに記載のテーブル
制御装置を用いたことを特徴とする露光装置。 - 【請求項７】 原板を搭載して移動する第１ステージ
と、被露光体を搭載して移動する第２ステージと、第１
ステージに搭載された原板の像を第２ステージ搭載され
た被露光体上に投影する投影光学系とを具備する露光装
置を用い、第１ステージに原板を搭載し、第２ステージ
に被露光体を搭載し、それらのステージをそれぞれ、サ
ンプリングタイミング毎のサンプリング処理で該ステー
ジの目標位置情報を発生し該目標位置と該ステージの現
在位置との差分を制御演算して該ステージを加減速およ
び定速駆動するデジタルサーボ処理により、前記投影光
学系に対して相対的に走査させることによって、前記原
板の像を前記被露光体上に露光する、露光方法におい
て、 前記加減速駆動時のサンプリング処理の周期と前記定速
駆動時のサンプリング処理の周期とを異ならせたことを
特徴とする露光方法。 - 【請求項８】 前記サンプリング処理を前記加減速駆動
時と定速駆動時とで異なる周期のタイマ信号に基づくタ
イマ割り込み処理で実行することを特徴とする請求項７
記載の露光方法。 - 【請求項９】 前記定速駆動時のサンプリング処理の周
期を、前記加減速駆動時のサンプリング処理の周期より
も短く設定したことを特徴とする請求項７または８記載
の露光方法。 - 【請求項１０】 前記被露光体にスクライブラインが設
けられる場合において、前記原板のスクライブライン相
当部分が前記被露光体上に投影される前のサンプリング
時間をＴ１、該スクライブラインが前記投影された後の
サンプリング時間をＴ２とし、Ｔ１＞Ｔ２となるように
設定したことを特徴とする請求項７〜９のいずれかに記
載の露光方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8073118A JPH09246169A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | テーブル制御装置ならびに露光装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8073118A JPH09246169A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | テーブル制御装置ならびに露光装置および方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09246169A true JPH09246169A (ja) | 1997-09-19 |
Family
ID=13509023
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8073118A Pending JPH09246169A (ja) | 1996-03-05 | 1996-03-05 | テーブル制御装置ならびに露光装置および方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09246169A (ja) |
-
1996
- 1996-03-05 JP JP8073118A patent/JPH09246169A/ja active Pending
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