JPH09236150A - 防振装置 - Google Patents

防振装置

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JPH09236150A
JPH09236150A JP8042697A JP4269796A JPH09236150A JP H09236150 A JPH09236150 A JP H09236150A JP 8042697 A JP8042697 A JP 8042697A JP 4269796 A JP4269796 A JP 4269796A JP H09236150 A JPH09236150 A JP H09236150A
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vibration
actuator
thrust
exposure apparatus
acceleration
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Hideaki Sakamoto
英昭 坂本
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 防振対象物の振動状態を検出するための検出
センサの配置スペースを抑制すると共に、防振対象物を
支持する定盤に上下方向の力を与えるアクチュエータの
推力による定盤の歪みを抑える。 【解決手段】 定盤6の上面の3箇所の角部近傍に配置
した3つの加速度センサにより露光装置本体30の3つ
の並進方向(X方向、Y方向、及びZ方向)の加速度、
並びにX軸、Y軸、及びZ軸の周りの3つの角速度を計
測して検出センサの配置スペースを抑える。防振マウン
ト3Aを構成するZ方向の推力を与えるアクチュエータ
とエアダンパからなるマウント部とを、定盤6とベース
フレーム2との間に実質的に並列に配置し、マウント部
の作用線とアクチュエータの推力中心線とを一致させ
て、定盤6の歪みを抑える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、対象とする装置の
振動を抑えるための防振装置に関し、特に半導体素子等
を製造するためのフォトリソグラフィ工程で使用される
露光装置のアクティブ型の防振装置として好適なもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来より例えば半導体素子、液晶表示素
子、撮像素子(CCD等)、又は薄膜磁気ヘッド等を製
造するためのフォトリソグラフィ工程では、レチクル
(又はフォトマスク等)上のパターンをウエハ(又はガ
ラスプレート等)上に露光するためにステッパー等の投
影露光装置、又はプロキシミティ方式の露光装置等の露
光装置が使用されている。これらの露光装置において
は、例えばレチクルのパターンをウエハ上に高い重ね合
わせ精度で転写するために極めて高度な防振特性が要求
される。そのため、これらの露光装置の本体(レチクル
のパターンをウエハ上に転写する部分)は、外部からの
振動、及び内部で発生する振動を減衰するための防振装
置上に設置されている。
【0003】この防振装置は通常ばね材と振動減衰材と
の組み合わせにより構成されており、従来、振動状態に
よって、あるいは装置の状態(姿勢等)によって防振性
能を変えることのない、いわば受動的な防振システムと
いえる防振装置が使用されてきた。これらの防振装置は
一般的に「パッシブ型防振装置」と呼ばれる。これに対
して、外部又は内部の振動状態をリアルタイムに加速度
計又は変位計等のセンサによって検出し、能動的に防振
装置の性能を変化させる「アクティブ型防振装置」も最
近使用されるようになっている。
【0004】ところで、露光装置に使用される防振装置
には主に2つの機能が要求される。1つは露光装置が設
置されている床面からの振動を露光装置本体に伝えない
という機能であり、もう1つは露光装置内部のステージ
部分等の駆動によって発生する露光装置本体内の振動を
速やかに減衰させるという機能である。この両者の機能
は、これまで長く使用されていたパッシブ型防振装置の
場合元々相反する機能であって、どちらかの機能を強化
するともう1つの機能が損なわれるという関係にある。
これに対して、アクティブ型防振装置であればそれら2
つの機能を満足できるため、最近はそのアクティブ型防
振装置が注目されている。
【0005】アクティブ型防振装置は、一般的には防振
対象の装置全体の重量を支持するマウントとして剛性の
小さな柔らかいばねである空気ばね(エアーダンパ)を
使用し、床の振動成分のうちの中高周波成分(20Hz
以上)の振動伝達を遮断する効果を持たせると共に、低
周波領域の振動成分については、振動検出センサと振動
抑制のための推力を発生するアクチュエータとのフィー
ドバック制御によって抑制することを特徴としている。
【0006】このようなアクティブ型防振装置は、露光
装置に適用した場合には、露光装置本体の重量を支持
するためのマウント部、露光装置本体の姿勢及び位置
を検出するための位置センサ、露光装置本体の運動状
態(振動)を検出するための振動センサ(速度又は加速
度センサ)、露光装置本体の振動の抑制力を発生する
ためのアクチュエータ、及びセンサの計測値に基づい
てアクチュエータ発生推力を算出する制御部等を主要な
要素として構成されている。そして、露光装置本体を安
定して支持し、且つ露光装置本体の振動を全自由度(6
自由度)について測定し制御するためには、少なくとも
3個以上のマウント部、6個以上の位置センサ、又は振
動センサ、及び6個以上のアクチュエータが必要とされ
ている。
【0007】ところで、アクティブ型防振装置は、既に
パッケージ化されたものが発表されている。このような
パッケージ化されたアクティブ型防振装置は、露光装置
にそのまま適用することもできる。しかしながら、スペ
ース的な理由から露光装置本体に一体化されたものを考
えた方が効率的である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
露光装置に一体化されたアクティブ型の防振装置におい
て、全部で6自由度(並進方向で3自由度、及び回転方
向で3自由度)の防振特性を満足させようとした場合、
前述のように、かなり多くの構成要素を配置しなくては
ならない。特に、回転方向の3自由度の振動特性の検出
については、並進方向の計測を行う検出センサを2つ組
み合わせ、その2つの検出センサの計測値の差分をとる
ことによって、1自由度毎の回転方向の振動成分が決定
される。この場合、回転方向の振動成分を高精度に測定
しようとすると、組み合わされる2つの検出センサの設
置間隔をできるだけ広くとることが必要となり、その分
検出センサの設置スペースを大きく確保しなければなら
ないという不都合がある。
【0009】また、露光装置に使用されるような精密な
防振装置の場合、3個以上のマウント部及び鉛直方向の
推力を発生する複数のアクチュエータ(以下、「Zアク
チュエータ」という)により、露光装置本体に対して鉛
直方向に力(反力)を与えるが、従来マウント部とZア
クチュエータとは設置面と露光装置本体の定盤との間に
隣り合うように並列に配置されていた。そのため、これ
らのマウント部及びZアクチュエータの反力は、共にそ
の力を受ける露光装置本体の定盤を弾性的に歪ませるこ
とになり、これがステージの位置決め精度等を悪化させ
ていた。それを防ぐために、従来から防振装置に対して
次のようなシステムが考えられている。 (イ)Zアクチュエータ及びマウント部の力を受圧する
定盤の剛性をできるだけ強いものとし、弾性変形を抑え
る。 (ロ)Zアクチュエータを床面と露光装置本体との間で
推力を発生させる構成とせず、振動を抑制させたい対象
物(露光装置本体)に直接に設置し、Zアクチュエータ
の駆動時の慣性力をもって振動抑制を図る。 (ハ)特にZアクチュエータを設けず、マウント部にお
いてZ方向の推力を発生させる。
【0010】しかしながら、例えば(ハ)のシステムで
はマウント部の耐久性及び発熱の問題を解消するための
新たな技術を必要とし、例えば(イ)のシステムでは、
定盤の微小な変形すらも許容されない精密な露光装置に
は対応することができないと共に、定盤が大型化しすぎ
る恐れがある。更に、(ロ)のようなシステムでは振動
抑制効率が低下し、充分な振動抑制を行うには製造コス
トが高くなるという不都合がある。
【0011】本発明は斯かる点に鑑み、防振対象物の振
動状態を検出するための検出センサの配置スペースを抑
制できる防振装置を提供することを第1の目的とする。
更に本発明は、防振対象物の弾性歪みを抑えると共に、
振動を効率的に抑制でき、且つ低コストの防振装置を提
供することを第2の目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明による第1の防振
装置は、防振対象物(6,30)を支持するための複数
の防振マウント(3A〜3C)と、その防振対象物
(6,30)の振動を制御するための複数のアクチュエ
ータ(8,31A〜31C)とを有する防振装置におい
て、その防振対象物(6,30)の異なる3箇所の変位
を検出するための3個の検出センサ(32A〜32C)
と、この3個の検出センサの出力に基づいてその複数の
アクチュエータ(8,31A〜31C)の動作を制御す
る制御手段(11)と、を設け、その3個の検出センサ
(32A〜32C)によりその防振対象物(6,30)
の6自由度の姿勢又は運動状態を検出するものである。
斯かる本発明の第1の防振装置によれば、3個の検出セ
ンサ(32A〜32C)だけで6自由度の姿勢又は運動
状態を検出するため、検出センサ(32A〜32C)を
配置するためのスペースを抑制できる。
【0013】この場合、その3個の検出センサ(32A
〜32C)の計測方向の自由度の数を、それぞれ3、
2、及び1とすることが好ましい。これにより、例えば
自由度3の検出センサ(32A)によって防振対象物
(6,30)の3自由度の並進方向の姿勢又は運動状態
が正確に検出できる。また、その3個の検出センサ(3
2D〜32F)の計測方向の自由度の数を共に2として
もよい。これによって、同一の3個の検出センサを計測
方向を変えて配置するのみでよいため、製造コストが低
減できる。
【0014】また、本発明による第2の防振装置は、防
振対象物(6,30)を支持するための複数の防振マウ
ント(3A〜3C)と、その防振対象物(6,30)の
振動を制御するための複数のアクチュエータ(8,31
A〜31C)とを有する防振装置において、その複数の
防振マウント(3A〜3C)の内の所定の防振マウント
は、所定の作用線(S2)に沿ってその防振対象物
(6,30)を支持するばね部材(7)を有し、このば
ね部材に対してその複数のアクチュエータ(8,31A
〜31C)の内の1つのアクチュエータ(8)を、この
アクチュエータの推力中心線(S1)とそのばね部材
(7)の作用線(S2)とが一致するように配置したも
のである。
【0015】斯かる本発明の第2の防振装置によれば、
例えばそのアクチュエータ(8)を駆動させた場合、ア
クチュエータ(8)の推力中心線(S1)と、そのばね
部材(7)の作用線(S2)とが一致しているため、ア
クチュエータ(8)の推力とそのばね部材(7)の反力
とは同じ作用線上に合成される。従って、防振対象物
(6,30)内の例えば定盤(6)の弾性歪みを抑える
と共に、アクチュエータ(8)の推力がその定盤に効率
的に伝達される。また、アクチュエータ(8)の推力中
心線(S1)とばね部材(7)の作用線(S2)とを一
致させるだけでよいため、構成的に簡単で装置コストを
節約できる。なお、例えばばね部材(7)及びアクチュ
エータ(8)を単純に直列に配置することも考えられ
る。しかしながら、アクチュエータ(8)にかなりの荷
重負荷(数百kg〜1t以上)がかかり、耐久性或いは
発熱等の問題が生じる。そこで、本発明では、推力中心
線と作用線とを一致させて、且つばね部材(7)とアク
チュエータ(8)とを並列に配置するのが好ましい。
【0016】
【発明の実施の形態】以下、本発明による防振装置の実
施の形態の一例につき図1、図2、及び図4を参照して
説明する。本例は、ステッパー型の投影露光装置の防振
装置に本発明を適用したものである。図1は、本例の投
影露光装置の全体の構成を表す斜視図を示し、この図1
において、所定のチャンバ内の床の上に固定されたベー
スフレーム2上に、4個の防振マウント(図1では3個
の防振マウント3A〜3Cのみが現れている。以下同
様)が設置され、これらの防振マウント3A〜3Cを介
して投影露光装置の定盤6が設置されている。防振マウ
ント3A〜3Cは、それぞれ定盤6の四角形の底面の頂
点付近に配置されており、防振マウント3A〜3Cのそ
れぞれの底面側はベースフレーム2上に固定され、頂部
側は定盤6に固定されている。これらの防振マウント3
A〜3Cは装置全体の動作を統轄制御する制御部11に
より制御される。防振マウント3A〜3Cの構成につい
ては後で詳しく説明する。ここで、後述のように本例で
は投影光学系25が使用されているため、投影光学系2
5の光軸に平行にZ軸を取り、Z軸に垂直な平面内での
直交座標系をX軸及びY軸として説明する。
【0017】また、定盤6上にウエハステージ20が固
定され、ウエハステージ20上にウエハホルダ21を介
してウエハ22が吸着保持されている。定盤6上でその
ウエハステージ20を囲むように4脚の第1コラム24
が植設され、第1コラム24の上板の中央部に投影光学
系25が固定されている。更に、第1コラム24の上板
に投影光学系25を囲むように4脚の第2コラム26が
植設され、第2コラム26の上板の中央部にレチクルス
テージ27を介してレチクル28が載置されている。定
盤6の上面の−Y方向の端部にはウエハステージ20の
Y方向の位置を計測するためのレーザ干渉計23Yが設
置されている。同様にウエハステージ20のX方向の位
置を計測するX方向のレーザ干渉計(不図示)も設置さ
れており、Y方向のレーザ干渉計23Y及びX方向のレ
ーザ干渉計の測定結果に基づいて、ウエハステージ20
は2次元的にウエハ22の位置決めを行うと共に、ウエ
ハ22のZ方向への移動、回転、及びレベリングを行う
機能を有する。
【0018】また、第2コラム26の上板の−X方向及
び+Y方向の端部にはそれぞれレチクルステージ27の
X方向及びY方向の位置を計測するためのレーザ干渉計
29X,29Yが設置されており、レチクルステージ2
7は、レーザ干渉計29X,29Yの計測値に基づいて
レチクル28の2次元的な位置の微調整、及び回転角の
調整を行う機能を有する。レチクル28の上方に不図示
の照明光学系が配置され、照明光学系からの露光用の照
明光のもとで、レチクル28のパターンの投影光学系2
5を介した像がウエハ22の各ショット領域に順次露光
される。以上のレチクルステージ27及びウエハステー
ジ20、並びにそれらを支持する第1コラム24、及び
第2コラム26等から露光装置本体30が構成されてい
る。なお、定盤6も本来は露光装置本体30に含まれる
べきであるが、以下では説明の便宜上定盤6上に露光装
置本体30が載置されているものとする。
【0019】更に、ベースフレーム2の−X方向及び+
X方向のそれぞれの端部には、実質的に剛体とみなせる
「コの字」型の支柱4A,4Bが植設されている。支柱
4Aの上板の−Y方向の端部付近には、ボイスコイルモ
ータ方式のアクチュエータ31Aが設置されている。ア
クチュエータ31Aに内蔵されたコイルよりなる固定子
への電流を制御することにより第1コラム24の上板に
固定された発磁体よりなる可動子35Aに対して+Y方
向又は−Y方向の付勢力を与えることができる。同様
に、支柱4Bの上板の−Y方向の端部付近には、アクチ
ュエータ31Aと同様のアクチュエータ31Bが設置さ
れており、第1コラム24の上板の−Y方向の端部に設
置された可動子35Bに対して+Y方向又は−Y方向の
付勢力を与える。更に、支柱4Bの上板のほぼ中央部に
は、アクチュエータ31Cが設けられており、第1コラ
ム24のアクチュエータ31Cに対応する側面に固定さ
れた発磁体よりなる可動子34に+X方向、又は−X方
向の付勢力を与えるように構成されている。それらのア
クチュエータ31A〜31Cは、それぞれ制御部11に
より制御されており、制御部11によりアクチュエータ
31A〜31Cから対応する可動子35A,35B,3
4への付勢力が制御される。本例ではアクチュエータ3
1A,31Bによって、露光装置本体30のY方向への
変位、及びZ軸の周りの回転角を制御し、アクチュエー
タ31CによってそのX方向への変位を制御する。ま
た、4個の防振マウント(3A〜3C等)によって、露
光装置本体30のZ方向への変位、X軸の周りの回転
角、及びY軸の周りの回転角を制御する。
【0020】更に、定盤6上には露光装置本体30の振
動状態を検出するための3個の加速度センサが設置され
ている。図2は、図1の定盤6上の加速度センサの配置
を説明するための簡略化した斜視図を示し、この図2に
おいて、防振マウント3A〜3C上の定盤6上に固定さ
れた露光装置本体30の近傍に、定盤6ひいては露光装
置本体30の振動状態を検出するための3個の加速度セ
ンサ32A〜32Cが設置されている。3個の加速度セ
ンサ32A〜32Cはそれぞれ、定盤6表面の+X,−
Y方向の角部の近傍、−X,−Y方向の角部の近傍、及
び+X,+Y方向の角部の近傍に配置されている。図2
の矢印で示すように、加速度センサ32Aは、設置され
た位置におけるX方向、Y方向、及びZ方向の加速度を
検出し、加速度センサ32Bは、その位置におけるY方
向及びZ方向の加速度を検出する。また、加速度センサ
32Cは、設置された位置におけるZ方向の加速度を検
出する。検出センサ32A〜32Cの検出値は図1の演
算部13に供給される。
【0021】図1の制御部11に付属する記憶部12に
は、各アクチュエータの推力を計算するためのパラメー
タ(ゲイン等)が格納されており、演算部13はそのパ
ラメータと各加速度センサ32A〜32Cの検出値とに
基づいて、露光装置本体30の振動を抑制するための各
アクチュエータの必要な推力を計算し、その結果を制御
部11に供給する。制御部11は、演算部13から供給
された結果に基づいて、露光装置本体30の振動を収束
するように各アクチュエータを制御する。なお、加速度
センサ32A〜32Cとしては、サーボ型、又は圧電型
の加速度センサ等を使用することができる。また、それ
らの加速度センサ32A〜32Cに代えて、他の検出セ
ンサを使用することもできる。例えば、渦電流型、静電
容量型、及びレーザ光反射型等の変位センサ(位置セン
サ)を使用してもよい。但し、3個の検出センサは全て
変位センサか、又は全て加速度センサである等同種の検
出センサを使用することが望ましい。
【0022】次に、防振マウント3Aの構成について説
明する。図4は、防振マウント3Aの構成を説明するた
めの斜視図を示し、この図4において、本例の防振マウ
ント3Aは、定盤6を支持するマウント部7と定盤6に
推力を与えるアクチュエータ8とを積み重ねるように一
体化したものであり、マウント部7とアクチュエータ8
とは、作用力の方向(この場合はZ方向)が合致するよ
うに、且つ実質的に並列に配置されている。アクチュエ
ータ8は、角型のコイルからなる固定子10と、発磁体
よりなる可動子9とにより構成されたボイスコイルモー
タ方式のアクチュエータであり、固定子10に流す電流
を変化させることによりアクチュエータ8の推力が調節
される。図4に示すように、相対する2つの側面が開放
され、上部が少し狭まったケース状のフレーム41のほ
ぼ正方形の上板上に円筒状のマウント部7が固定されて
いる。マウント部7は、ばね材として空気を使用したエ
アーダンパからなり、マウント部7の下部側面に設けら
れたエアーバルブ45を介してマウント部7の空気圧が
調整される。図1のベースフレーム2上に固定されるフ
レーム41の下板上にはアクチュエータ8を構成する固
定子10が固定されており、この固定子10の内面に接
するように可動子9が配置されている。可動子9は、フ
レーム41の開放部と直交する2つの側面が開放され、
下部が少し狭まったケース状のフレーム42の下部板の
下面に固定されている。フレーム42の下部板はフレー
ム41の内部に遊挿され、アクチュエータ8の推力に対
応してフレーム41の内部を上下に移動する。即ち、マ
ウント部7に加わる重量はそのままアクチュエータ8に
加わることはなく、マウント部7とアクチュエータ8と
は、一種の「入れ子」構造の状態で実質的に並列に配置
されている。
【0023】また、フレーム42はマウント部7を囲む
ように配置され、マウント部7の頂部は、フレーム42
の上板に接触している。マウント部7の頂部のほぼ中心
には、その中心からZ方向に伸びた(マウント部7の作
用線に沿った)丸棒状の中心軸43が固定されている。
そして、フレーム42の上板の中心部には、その中心軸
43を遊嵌するための中心軸43より僅かに大きな径の
円形の開口部44が設けられており、中心軸43はその
開口部44を突き抜けて、フレーム42の上板の外側に
少し突き出ている。フレーム42の上板は図1の定盤6
に固定されており、アクチュエータ8の推力がフレーム
42を介して定盤6に伝えられる。この場合、マウント
部7の中心とアクチュエータ8の中心とは、ほぼZ軸に
平行な線上に配置され、アクチュエータ8の推力を伝達
するフレーム42の上板は中心軸43に沿って摺動する
ように構成されており、アクチュエータ8の推力中心線
S1は、中心軸43、即ち、マウント部7の作用線S2
と一致する。また、マウント部7を図1のベースフレー
ム2上に支持するフレーム41、アクチュエータ8の推
力を伝達するフレーム42、及びマウントの中心軸43
等は、全て剛体に近い材料から構成されている。なお、
マウント部7のばね材としては空気の他、通常の構造用
ばね、油等の粘性流体を利用したものでもよい。
【0024】次に、本例の防振装置の動作について説明
する。本例では、定盤6上の3個の加速度センサ32A
〜32Cにより露光装置本体30の振動状態を検出し、
それに基づいて4個の防振マウント(3A〜3C等)の
アクチュエータ(防振マウント3Aではアクチュエータ
8)、及び3個のアクチュエータ31A〜31Cの推力
を制御して露光装置本体30の振動を抑制する。
【0025】先ず、露光装置本体30の振動状態の検出
動作について説明する。露光装置本体30は、設置面と
しての床からベースフレーム2を介して伝達される振
動、及び露光装置本体30内部のウエハステージ20及
びレチクルステージ27等のステージ系の移動に伴う振
動の影響を受けて振動する。これに伴い、各加速度セン
サ32A〜32Cからそれぞれその位置における露光装
置本体30の加速度が検出される。即ち、加速度センサ
32Aからは、図2に示すように、X方向の加速度
XA、Y方向の加速度GYA、及びZ方向の加速度GZA
検出され、加速度センサ32BからはY方向の加速度G
YB及びZ方向の加速度GZBが検出される。また、加速度
センサ32CからはZ方向の加速度GZCが検出される。
それらの検出された加速度のデータは演算部13に供給
され、演算部13ではそれらのデータに基づいて、露光
装置本体30の振動状態を計算する。
【0026】加速度センサ32Aにより計測される3自
由度の加速度GXA,GYA,GZAに加えて、加速度センサ
32A,32Bの2つのY方向の加速度GYA,GYBから
露光装置本体30のXY平面上の回転方向の(Z軸の周
りの)加速度(角加速度)G XYが求められる。また、加
速度センサ32A,32Bの2つのZ方向の加速度
ZA,GZBから露光装置本体30のZX平面での(Y軸
の周りの)角加速度GZXが求められ、加速度センサ32
A,32Cの2つのZ方向の加速度GZA,GZCから露光
装置本体30のZY平面上での(X軸の周りの)角加速
度GZYが求められる。即ち、加速度センサ32A〜32
Cにより、露光装置本体30の並進方向に3自由度及び
回転方向に3自由度の計6自由度の加速度GXA,GYA
ZA,GXY,GZX,GZYが検出される。
【0027】更に、演算部13では、以上の計算された
データ及び記憶部12に記憶された各アクチュエータの
推力を計算するためのパラメータから露光装置本体30
の振動を0にするための各アクチュエータに必要な推力
を計算し、制御部11に供給する。制御部11はその結
果に基づいて、防振マウント3A〜3CのZ方向用のア
クチュエータ、Y方向用の2個のアクチュエータ31
A,31B、及びX軸用の1個のアクチュエータ31C
を駆動する。これによって、露光装置本体30の6自由
度の搖れを迅速に止めることができる。以上のように本
例では、定盤6上に3個の加速度センサ32A〜32C
を設けるだけでよいため、加速度センサの設置場所を露
光装置の中に3箇所用意すればよいことになり、スペー
スを効率的に運用することができる。
【0028】更に、本例の防振マウント3Aは、図2に
示すように、露光装置本体30を支持するマウント部7
と上下方向(Z方向)に推力を発生するアクチュエータ
8とを、露光装置本体30とベースフレーム2との間に
実質的に並列に組み合わせた構成としている。この場
合、例えば単にマウント部7とアクチュエータ8とを露
光装置本体30の荷重方向に並べて配置するだけでは、
アクチュエータ8の推力発生時にマウント部7の作用線
S2が歪み、それに対応してアクチュエータ8の推力中
心線S1が定盤6の垂直方向に対して歪むため、定盤6
に不必要な歪みが生じてしまう。本例では、その現象を
防ぐために、マウント部7とアクチュエータ8とを一種
の「入れ子」構造とし、マウント部7(本例ではエアダ
ンパを使用しているため、空気ばねとして考える)の作
用線S2とアクチュエータ8の推力中心線S1とが常に
一致するような構成とした。このような構成により、ア
クチュエータ8を駆動させた場合、アクチュエータ8の
推力とマウント部7の反力とが同一の作用線上に合成さ
れるため、アクチュエータ8の推力が効率よく定盤6に
伝達され、定盤6に不必要な歪みや変形を生じさせな
い。
【0029】次に、図2の例の変形例について図3を参
照して説明する。本例は、図2の3個の加速度センサの
検出方向及び検出方向の自由度の数を変えたものであ
る。その他の構成は図2の例と同様であり、図3におい
て図2に対応する部分には同一符号を付し、その詳細説
明を省略する。図3は、本例における定盤6上の加速度
センサの配置を表す斜視図を示し、この図3において、
定盤6上には図2の加速度センサ32A〜32Cが配置
されたのと同様の位置に3個の加速度センサ32D〜3
2Fが設置されている。図3に示すように、加速度セン
サ32Dにより露光装置本体30のY方向の加速度GYD
及びZ方向の加速度GZDが検出される。また、加速度セ
ンサ32Eにより露光装置本体30のY方向の加速度G
YE及びZ方向の加速度GZEが検出され、加速度センサ3
2Fにより露光装置本体30のX方向の加速度GXF及び
Z方向の加速度G ZFが検出される。そして、2つの加速
度GYD,GYEから露光装置本体30のXY平面上での
(Z軸の周りの)角加速度GZKが求められ、2つの加速
度GZD,GZEから露光装置本体30のZX平面上での
(Y軸の周りの)角加速度GYKが求められる。また、2
つの加速度GZD,GZFから露光装置本体30のZY平面
上での(X軸の周りの)角加速度GXKが求められる。即
ち、3個の加速度センサ32D〜32Fにより、図2の
例と同様に露光装置本体30の並進方向に3自由度及び
回転方向に3自由度の計6自由度の方向の加速度を検出
することができる。
【0030】次に、防振マウント3Aの変形例について
図5を参照して説明する。本例は図4の防振マウント3
Aを更にコンパクトな構成にしたものであり、図5にお
いて図4に対応する部分には同一符号を付し、その詳細
説明を省略する。図5は、本例の防振マウントの構成を
説明するための一部を切り欠いた斜視図を示し、この図
5において、可動子9A及び固定子10Aからなるボイ
スコイルモータ方式のアクチュエータ8Aがマウント部
7を囲むようにして配置されている。角型コイルからな
る固定子10A及びマウント部7は共に、図1のベース
フレーム2上に直接固定される。可動子9Aは、固定子
10Aの相対する2つの側面に接するにようにして配置
された発磁体よりなる2つの平板状の可動部46a,4
6bから構成され、それら可動部46a,46bの上部
は平板上の支持部材47に固定されている。支持部材4
7は、図1の定盤6に固定される。
【0031】また、マウント部7の頂部は、支持部材4
7の下面に接触している。支持部材47の中心部には図
4の例と同様の開口部44が設けられており、マウント
部7の頂部からZ方向に伸びた(マウント部7の作用線
に沿った)丸棒状の中心軸43がその開口部44から突
き出ている。アクチュエータ8Aの固定子10Aに流す
電流を制御することにより固定子10Aに沿って可動子
9Aが上下に摺動し、可動子9Aを支持する支持部材4
7を介して定盤6に推力を与える。この場合、マウント
部7の中心とアクチュエータ8Aの中心とはほぼ一致
し、アクチュエータ8Aの推力を伝達する支持部材47
はマウントの中心軸43に沿って摺動するため、アクチ
ュエータ8Aの推力中心線S3は、図4の例と同様に、
マウント部7の中心軸43、即ち、マウント部7の作用
線S2と一致する。なお、支持部材47は剛体に近い材
料から構成されている。本例の場合は図4の例に比較し
てマウント部7が直接ベースフレーム2上に設置される
ため、安定性が更に向上し、定盤6の歪みも減少する。
【0032】次に、本発明による防振装置の実施の形態
の他の例について図6を参照して説明する。本例は、2
つのアクチュエータをマウント部に対して隣接するよう
に並列に設けると共に、2つのアクチュエータによる合
成推力の推力中心線とマウント部の作用中心線とを一致
させるようにしたものである。図6(a)はマウント部
7Aの近傍に、推力中心線が共にZ軸に垂直な線に平行
な2つのアクチュエータ8B,8Cを設けた例を示し、
この図6(a)において、マウント部7Aと2つのアク
チュエータ8B,8Cとは、共にベースフレーム2上に
固定されている。2つのアクチュエータ8B,8Cをそ
れぞれ構成する固定子10B,10Cはベースフレーム
2に固定され、可動子9B,9Cはアクチュエータ8の
推力を伝達する支持部材48に固定されている。また、
マウント部7Aの上部は、支持部材48と接触して、支
持部材48を介して露光装置本体30の荷重を支える構
成となっている。この場合、アクチュエータ8B,8C
のそれぞれの推力中心線S4A,S4Bに向かう推力を
合成した合成推力の中心線がマウント部7Aの作用線S
5に一致するように、2つのアクチュエータ8B,8C
の推力が調節される。
【0033】また、図6(b)は、ベースフレーム2上
に固定されたマウント部7Aの近傍に推力中心線が上部
に向けて内側に傾斜した2つのアクチュエータ8D,8
Eを配置したものであり、2つのアクチュエータ8D,
8Eをそれぞれ構成する固定子10D,10Eは、支持
部材49A,49Bを介してベースフレーム2に固定さ
れ、可動子9D,9Eは駆動軸50A,50Bを介して
アクチュエータ8の推力を伝達する支持部材48Aに固
定されている。そして、アクチュエータ8D,8Eのそ
れぞれの推力中心線S6A,S6Bは、マウント部7A
の作用線S5上で交差するように構成されており、2つ
のアクチュエータ8D,8Eの推力を合成した合成推力
の中心線はマウント部7Aの作用線S5と一致するよう
に構成されている。以上の図6(a)及び図6(b)に
示す方法は、防振対象物の荷重が非常に大きい場合や、
瞬間的に大きな推力を必要とする場合に有効となる。
【0034】なお、上述の例はステッパー方式の投影露
光装置に本発明を適用したものであるが、本発明はステ
ップ・アンド・スキャン方式等の走査露光型の投影露光
装置にも適用できる。特に、走査露光型では走査露光の
開始時に大きな加速度が発生するため、本例のように定
盤6の搖れを止めるアクチュエータが備えられているア
クティブ型の防振装置は有効である。
【0035】このように、本発明は上述の実施の形態に
限定されず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構
成を取り得る。
【0036】
【発明の効果】本発明による第1の防振装置によれば、
3個の検出センサを配置するだけで防振対象物の6自由
度の姿勢又は運動状態が検出できるため、検出センサの
配置スペースの確保が容易になると共に、スペースを抑
制できる利点がある。その上、検出センサに対する電源
ケーブル及び信号ケーブル等の引き回しについても、本
来6箇所に対して行われるべき作業が半減することにな
り、設計及び組立時のコストダウンが計れる。
【0037】また、3個の検出センサの計測方向の自由
度の数を、それぞれ3、2、及び1とする場合には、例
えば3自由度の1つの検出センサによって並進方向の3
自由度の変位が正確に検出され、それら3個の検出セン
サの計測値の組合せによって、回転方向の3自由度の変
位が正確に検出できる利点がある。また、3個の検出セ
ンサの計測方向の自由度の数を共に2とした場合には、
同一の2自由度の3個の検出センサを計測方向を変えて
配置するだけでよいため、検出センサのコストダウンが
図られる。
【0038】また、本発明による第2の防振装置によれ
ば、アクチュエータの推力とばね部材の反力とは同じ作
用線上に合成されるため、防振対象物を支持する例えば
定盤の弾性歪みを抑えると共に、アクチュエータの推力
が定盤に効率的に伝達される利点がある。また、アクチ
ュエータの推力中心線とばね部材の作用線とを一致させ
るだけでよいため、構成的に簡単で装置コストが節約で
きる。また、防振対象物からみれば、ばね部材とアクチ
ュエータとは同じ機能を並列的に有していることにな
り、ばね部材とアクチュエータとの両者の組み合わせに
より防振対象物の振動を精密に制御できる利点もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による防振装置の実施の形態の一例で使
用される投影露光装置の全体の概略構成を示す斜視図で
ある。
【図2】図1の投影露光装置に使用される加速度センサ
の配置及び検出方向を示す斜視図である。
【図3】図2の変形例における加速度センサの配置及び
計測方向を示す斜視図である。
【図4】図1の防振マウント3Aの構成を示す斜視図で
ある。
【図5】図4の防振マウント3Aの変形例を示す斜視図
である。
【図6】本発明による防振装置の実施の形態の他の例を
示す斜視図である。
【符号の説明】
2 ベースフレーム 3A〜3C 防振マウント 6 定盤 7,7A マウント部 8,8A〜8E,31A〜31C アクチュエータ 9,9A〜9E 可動子 10,10A〜10E 固定子 11 制御部 13 演算部 20 ウエハステージ 27 レチクルステージ 32A〜32F 加速度センサ S1,S3,S4A,S4B,S6A,S6B アクチ
ュエータの推力中心線 S2,S5 マウント部の作用線

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 防振対象物を支持するための複数の防振
    マウントと、前記防振対象物の振動を制御するための複
    数のアクチュエータとを有する防振装置において、 前記防振対象物の異なる3箇所の変位を検出するための
    3個の検出センサと、 該3個の検出センサの出力に基づいて前記複数のアクチ
    ュエータの動作を制御する制御手段と、を設け、 前記3個の検出センサにより前記防振対象物の6自由度
    の姿勢又は運動状態を検出することを特徴とする防振装
    置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の防振装置であって、 前記3個の検出センサの計測方向の自由度の数をそれぞ
    れ3、2、及び1とすることを特徴とする防振装置。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の防振装置であって、 前記3個の検出センサの計測方向の自由度の数を共に2
    とすることを特徴とする防振装置。
  4. 【請求項4】 防振対象物を支持するための複数の防振
    マウントと、前記防振対象物の振動を制御するための複
    数のアクチュエータとを有する防振装置において、 前記複数の防振マウントの内の所定の防振マウントは、
    所定の作用線に沿って前記防振対象物を支持するばね部
    材を有し、該ばね部材に対して前記複数のアクチュエー
    タの内の1つのアクチュエータを、該アクチュエータの
    推力中心線と前記ばね部材の作用線とが一致するように
    配置したことを特徴とする防振装置。
JP8042697A 1996-02-29 1996-02-29 防振装置 Pending JPH09236150A (ja)

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JP8042697A JPH09236150A (ja) 1996-02-29 1996-02-29 防振装置
US08/807,902 US5931441A (en) 1996-02-29 1997-02-27 Method of isolating vibration in exposure apparatus
KR1019970006683A KR100478527B1 (ko) 1996-02-29 1997-02-28 방진장치

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6518721B2 (en) * 2000-03-24 2003-02-11 Canon Kabushiki Kaisha Oscillation isolator
CN113335540A (zh) * 2021-07-26 2021-09-03 中国空气动力研究与发展中心低速空气动力研究所 一种抗振垂直起降飞行器

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6518721B2 (en) * 2000-03-24 2003-02-11 Canon Kabushiki Kaisha Oscillation isolator
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