JPH09219432A - 気流搬送装置 - Google Patents
気流搬送装置Info
- Publication number
- JPH09219432A JPH09219432A JP2642096A JP2642096A JPH09219432A JP H09219432 A JPH09219432 A JP H09219432A JP 2642096 A JP2642096 A JP 2642096A JP 2642096 A JP2642096 A JP 2642096A JP H09219432 A JPH09219432 A JP H09219432A
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- Japan
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- electrostatic
- air flow
- path
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- Pending
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- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 搬送路内のパーティクルが半導体ウェハに付
着するのを防止する。 【解決手段】 搬送路下部１ａと搬送路上部１ｂとから
なる搬送路１を設け、搬送路下部１ａにガス噴射ノズル
４を設け、ガス噴射ノズル４をＮ2ガス等の噴射ガス供
給装置（図示せず）と接続し、搬送路上部１ｂの内表面
に正分割静電吸着体３ａと負分割静電吸着体３ｂとが交
互に並べられた静電吸着体３を着脱可能に取り付け、正
分割静電吸着体３ａ、負分割静電吸着体３ｂに電圧を制
御できる直流電源２を接続する。
着するのを防止する。 【解決手段】 搬送路下部１ａと搬送路上部１ｂとから
なる搬送路１を設け、搬送路下部１ａにガス噴射ノズル
４を設け、ガス噴射ノズル４をＮ2ガス等の噴射ガス供
給装置（図示せず）と接続し、搬送路上部１ｂの内表面
に正分割静電吸着体３ａと負分割静電吸着体３ｂとが交
互に並べられた静電吸着体３を着脱可能に取り付け、正
分割静電吸着体３ａ、負分割静電吸着体３ｂに電圧を制
御できる直流電源２を接続する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は被処理物を気流によ
って搬送路内を搬送する気流搬送装置、特に半導体製造
装置において半導体ウェハを搬送する気流搬送装置に関
するものである。
って搬送路内を搬送する気流搬送装置、特に半導体製造
装置において半導体ウェハを搬送する気流搬送装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置においては、半導体ウェ
ハを各処理装置間に搬送するために搬送装置を用いてい
る。この種の搬送装置としては、半導体ウェハカセット
治具を搬送車に積載して搬送する搬送装置、半導体ウェ
ハを一枚毎にロボットアームで搬送する搬送装置が一般
的である。しかし、これらの搬送装置においては、半導
体ウェハの処理空間の雰囲気は大気中であり、充分な高
清浄雰囲気空間となっていない。
ハを各処理装置間に搬送するために搬送装置を用いてい
る。この種の搬送装置としては、半導体ウェハカセット
治具を搬送車に積載して搬送する搬送装置、半導体ウェ
ハを一枚毎にロボットアームで搬送する搬送装置が一般
的である。しかし、これらの搬送装置においては、半導
体ウェハの処理空間の雰囲気は大気中であり、充分な高
清浄雰囲気空間となっていない。
【０００３】このため、半導体ウェハを気流（エアベア
リング）によって搬送路内を搬送する気流搬送装置が考
えられており、この気流搬送装置は搬送路内をクローズ
ドタイプ（密閉系）にすることができることから、充分
な高清浄雰囲気空間とすることができる。
リング）によって搬送路内を搬送する気流搬送装置が考
えられており、この気流搬送装置は搬送路内をクローズ
ドタイプ（密閉系）にすることができることから、充分
な高清浄雰囲気空間とすることができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかし、気流搬送装置
においては、搬送路内のパーティクルが半導体ウェハに
付着するという問題がある。そして、半導体ウェハに形
成される半導体集積回路などの微細化、高性能化に伴っ
て汚染や付着異物に対する許容限度が低下しつつあるこ
とを考慮すれば、半導体製造装置の信頼度や半導体ウェ
ハの生産性（歩留まり）向上などの点から上記問題は重
要な問題となるのである。
においては、搬送路内のパーティクルが半導体ウェハに
付着するという問題がある。そして、半導体ウェハに形
成される半導体集積回路などの微細化、高性能化に伴っ
て汚染や付着異物に対する許容限度が低下しつつあるこ
とを考慮すれば、半導体製造装置の信頼度や半導体ウェ
ハの生産性（歩留まり）向上などの点から上記問題は重
要な問題となるのである。
【０００５】本発明は上述の課題を解決するためになさ
れたもので、搬送路内のパーティクルが被処理物に付着
することがない気流搬送装置を提供することを目的とす
る。
れたもので、搬送路内のパーティクルが被処理物に付着
することがない気流搬送装置を提供することを目的とす
る。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明においては、被処理物を気流によって搬送路
内を搬送する気流搬送装置において、搬送路の内表面に
静電吸着体を設け、上記静電吸着体に電源を接続する。
め、本発明においては、被処理物を気流によって搬送路
内を搬送する気流搬送装置において、搬送路の内表面に
静電吸着体を設け、上記静電吸着体に電源を接続する。
【０００７】この場合、上記静電吸着体を上記搬送路に
着脱可能に取り付ける。
着脱可能に取り付ける。
【０００８】また、上記静電吸着体を正分割静電吸着体
と負分割静電吸着体とから構成する。
と負分割静電吸着体とから構成する。
【０００９】また、上記電源として電圧を制御できるも
のを用いる。
のを用いる。
【００１０】また、上記搬送路の高さを調節可能にす
る。
る。
【００１１】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る気流搬送装置
の一部を示す概略斜視図、図２は図１に示した気流搬送
装置の一部を示す概略断面図である。図に示すように、
搬送路下部１ａと搬送路上部１ｂとからなる搬送路１が
設けられ、搬送路１は大気と遮断された密閉空間となっ
ており、搬送路下部１ａにガス噴射ノズル４が設けら
れ、ガス噴射ノズル４はＮ2ガス等の噴射ガス供給装置
（図示せず）と接続されており、搬送路上部１ｂの内表
面には静電吸着体３が着脱可能に取り付けられ、静電吸
着体３は交互に並べられた板状の正分割静電吸着体３ａ
と板状の負分割静電吸着体３ｂとからなり、正分割静電
吸着体３ａ、負分割静電吸着体３ｂに電圧を制御できる
直流電源２が接続されている。
の一部を示す概略斜視図、図２は図１に示した気流搬送
装置の一部を示す概略断面図である。図に示すように、
搬送路下部１ａと搬送路上部１ｂとからなる搬送路１が
設けられ、搬送路１は大気と遮断された密閉空間となっ
ており、搬送路下部１ａにガス噴射ノズル４が設けら
れ、ガス噴射ノズル４はＮ2ガス等の噴射ガス供給装置
（図示せず）と接続されており、搬送路上部１ｂの内表
面には静電吸着体３が着脱可能に取り付けられ、静電吸
着体３は交互に並べられた板状の正分割静電吸着体３ａ
と板状の負分割静電吸着体３ｂとからなり、正分割静電
吸着体３ａ、負分割静電吸着体３ｂに電圧を制御できる
直流電源２が接続されている。
【００１２】この気流搬送装置においては、ガス噴射ノ
ズル４から噴射ガスを噴射すれば、噴射ガスの気流によ
り半導体ウェハ（図示せず）を搬送することができる。
そして、直流電源２により正分割静電吸着体３ａに正の
電荷を帯電させ、負分割静電吸着体３ｂに負の電荷を帯
電させれば、搬送路１内に浮遊しているパーティクルお
よび搬送路１の内表面に付着しているパーティクルが正
あるいは負に帯電しているから、静電気（クーロン力）
によりパーティクルを静電吸着体３に吸着することがで
きるので、搬送路１内のパーティクルが半導体ウェハに
付着することがない。このため、半導体ウェハに形成さ
れる半導体集積回路などの微細化、高性能化等に与える
影響を低減することができ、半導体製造装置の信頼度、
半導体ウェハの生産性を向上することができる。また、
静電吸着体３が搬送路上部１ｂに着脱可能に取り付けら
れているから、静電吸着体３を搬送路上部１ｂから取り
外した状態で静電吸着体３に付着したパーティクルを除
去することができるので、容易に静電吸着体３からパー
ティクルを除去することができる。また、静電吸着体３
は正分割静電吸着体３ａと負分割静電吸着体３ｂとから
なるから、負に帯電したパーティクルおよび正に帯電し
たパーティクルを吸着することができるので、確実にパ
ーティクルを静電吸着体３に吸着させることができる。
また、静電吸着体３に電圧を制御できる直流電源２が接
続されているから、静電吸着体３の電荷量を制御するこ
とができるので、半導体ウェハを吸着しない範囲でパー
ティクルの吸着力を調整することができる。
ズル４から噴射ガスを噴射すれば、噴射ガスの気流によ
り半導体ウェハ（図示せず）を搬送することができる。
そして、直流電源２により正分割静電吸着体３ａに正の
電荷を帯電させ、負分割静電吸着体３ｂに負の電荷を帯
電させれば、搬送路１内に浮遊しているパーティクルお
よび搬送路１の内表面に付着しているパーティクルが正
あるいは負に帯電しているから、静電気（クーロン力）
によりパーティクルを静電吸着体３に吸着することがで
きるので、搬送路１内のパーティクルが半導体ウェハに
付着することがない。このため、半導体ウェハに形成さ
れる半導体集積回路などの微細化、高性能化等に与える
影響を低減することができ、半導体製造装置の信頼度、
半導体ウェハの生産性を向上することができる。また、
静電吸着体３が搬送路上部１ｂに着脱可能に取り付けら
れているから、静電吸着体３を搬送路上部１ｂから取り
外した状態で静電吸着体３に付着したパーティクルを除
去することができるので、容易に静電吸着体３からパー
ティクルを除去することができる。また、静電吸着体３
は正分割静電吸着体３ａと負分割静電吸着体３ｂとから
なるから、負に帯電したパーティクルおよび正に帯電し
たパーティクルを吸着することができるので、確実にパ
ーティクルを静電吸着体３に吸着させることができる。
また、静電吸着体３に電圧を制御できる直流電源２が接
続されているから、静電吸着体３の電荷量を制御するこ
とができるので、半導体ウェハを吸着しない範囲でパー
ティクルの吸着力を調整することができる。
【００１３】図３は本発明に係る他の気流搬送装置の一
部を示す概略断面図である。図に示すように、搬送路上
部１ｂは搬送路下部１ａに対して上下動可能に支持さ
れ、搬送路下部１ａと搬送路上部１ｂとの間にベローズ
等の収縮可能な構造体５が設けられ、モータにより駆動
されるボールスクリュー等のねじ機構、エアシリンダに
より駆動されるリンク機構などからなる昇降装置（図示
せず）によって搬送路上部１ｂが上下動され、搬送路１
の高さを調整することができる。
部を示す概略断面図である。図に示すように、搬送路上
部１ｂは搬送路下部１ａに対して上下動可能に支持さ
れ、搬送路下部１ａと搬送路上部１ｂとの間にベローズ
等の収縮可能な構造体５が設けられ、モータにより駆動
されるボールスクリュー等のねじ機構、エアシリンダに
より駆動されるリンク機構などからなる昇降装置（図示
せず）によって搬送路上部１ｂが上下動され、搬送路１
の高さを調整することができる。
【００１４】この気流搬送装置においては、搬送路１の
高さを低くすれば、静電吸着体３とパーティクルとの距
離を小さくすることができるから、静電吸着体３の吸着
力が大きくなるので、効率の良い集塵を行なうことがで
きる。また、直流電源２により静電吸着体３の電荷量を
制御するとともに、搬送路１の高さを調整すれば、より
効率の良い集塵を行なうことができる。
高さを低くすれば、静電吸着体３とパーティクルとの距
離を小さくすることができるから、静電吸着体３の吸着
力が大きくなるので、効率の良い集塵を行なうことがで
きる。また、直流電源２により静電吸着体３の電荷量を
制御するとともに、搬送路１の高さを調整すれば、より
効率の良い集塵を行なうことができる。
【００１５】なお、上述実施の形態においては、被処理
物が半導体ウェハの場合について説明したが、ガラス基
板等の他の被処理物を搬送する気流搬送装置にも本発明
を適用することができる。
物が半導体ウェハの場合について説明したが、ガラス基
板等の他の被処理物を搬送する気流搬送装置にも本発明
を適用することができる。
【００１６】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る気流
搬送装置においては、パーティクルを静電吸着体に吸着
することができるから、搬送路内のパーティクルが被処
理物に付着することがない。
搬送装置においては、パーティクルを静電吸着体に吸着
することができるから、搬送路内のパーティクルが被処
理物に付着することがない。
【００１７】また、静電吸着体を搬送路に着脱可能に取
り付けたときには、静電吸着体を搬送路から取り外した
状態で静電吸着体に付着したパーティクルを除去するこ
とができるから、容易に静電吸着体からパーティクルを
除去することができる。
り付けたときには、静電吸着体を搬送路から取り外した
状態で静電吸着体に付着したパーティクルを除去するこ
とができるから、容易に静電吸着体からパーティクルを
除去することができる。
【００１８】また、静電吸着体を正分割静電吸着体と負
分割静電吸着体とから構成したときには、負に帯電した
パーティクルおよび正に帯電したパーティクルを吸着す
ることができるから、確実にパーティクルを静電吸着体
に吸着させることができる。
分割静電吸着体とから構成したときには、負に帯電した
パーティクルおよび正に帯電したパーティクルを吸着す
ることができるから、確実にパーティクルを静電吸着体
に吸着させることができる。
【００１９】また、電源として電圧を制御できるものを
用いたときには、静電吸着体の電荷量を制御することが
できるから、被処理物を吸着しない範囲でパーティクル
の吸着力を調整することができる。
用いたときには、静電吸着体の電荷量を制御することが
できるから、被処理物を吸着しない範囲でパーティクル
の吸着力を調整することができる。
【００２０】また、搬送路の高さを調節可能にしたとき
には、搬送路の高さを低くすれば、静電吸着体とパーテ
ィクルとの距離を小さくすることができるから、静電吸
着体の吸着力が大きくなるので、効率の良い集塵を行な
うことができる。
には、搬送路の高さを低くすれば、静電吸着体とパーテ
ィクルとの距離を小さくすることができるから、静電吸
着体の吸着力が大きくなるので、効率の良い集塵を行な
うことができる。
【図１】本発明に係る気流搬送装置の一部を示す概略斜
視図である。
視図である。
【図２】図１に示した気流搬送装置の一部を示す概略断
面図である。
面図である。
【図３】本発明に係る他の気流搬送装置の一部を示す概
略断面図である。
略断面図である。
１…搬送路 ２…直流電源 ３…静電吸着体 ３ａ…正分割静電吸着体 ３ｂ…負分割静電吸着体
Claims (5)
- 【請求項１】被処理物を気流によって搬送路内を搬送す
る気流搬送装置において、上記搬送路の内表面に静電吸
着体を設け、上記静電吸着体に電源を接続したことを特
徴とする気流搬送装置。 - 【請求項２】上記静電吸着体を上記搬送路に着脱可能に
取り付けたことを特徴とする請求項１に記載の気流搬送
装置。 - 【請求項３】上記静電吸着体を正分割静電吸着体と負分
割静電吸着体とから構成したことを特徴とする請求項１
に記載の気流搬送装置。 - 【請求項４】上記電源として電圧を制御できるものを用
いたことを特徴とする請求項１に記載の気流搬送装置。 - 【請求項５】上記搬送路の高さを調節可能にしたことを
特徴とする請求項１または４に記載の気流搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2642096A JPH09219432A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | 気流搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2642096A JPH09219432A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | 気流搬送装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09219432A true JPH09219432A (ja) | 1997-08-19 |
Family
ID=12193046
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2642096A Pending JPH09219432A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | 気流搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09219432A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998047798A1 (fr) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko | Machine-transfert a flux d'air |
| US6398464B1 (en) | 1999-12-27 | 2002-06-04 | Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko | Air stream transfer apparatus |
| WO2017145924A1 (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置およびその動作方法ならびに物品製造方法 |
| JP2018088511A (ja) * | 2016-02-26 | 2018-06-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置およびその動作方法ならびに物品製造方法 |
-
1996
- 1996-02-14 JP JP2642096A patent/JPH09219432A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998047798A1 (fr) * | 1997-04-24 | 1998-10-29 | Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko | Machine-transfert a flux d'air |
| US6315501B1 (en) | 1997-04-24 | 2001-11-13 | Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko | Air stream particulate collecting transfer apparatus |
| US6398464B1 (en) | 1999-12-27 | 2002-06-04 | Kabushiki Kaisha Watanabe Shoko | Air stream transfer apparatus |
| WO2017145924A1 (ja) * | 2016-02-26 | 2017-08-31 | キヤノン株式会社 | インプリント装置およびその動作方法ならびに物品製造方法 |
| JP2018088511A (ja) * | 2016-02-26 | 2018-06-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置およびその動作方法ならびに物品製造方法 |
| KR20180115286A (ko) * | 2016-02-26 | 2018-10-22 | 캐논 가부시끼가이샤 | 임프린트 장치, 그 동작 방법 및 물품 제조 방법 |
| US11036149B2 (en) | 2016-02-26 | 2021-06-15 | Canon Kabushiki Kaisha | Imprint apparatus, method of operating the same, and method of manufacturing article |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20040316 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
| A521 | Written amendment |
Effective date: 20040514 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20041124 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |