JPH0927540A

JPH0927540A - 基板の保持装置

Info

Publication number: JPH0927540A
Application number: JP17307395A
Authority: JP
Inventors: Toshihiro Katsume; 智弘勝目; Norihiko Hara; 典彦原
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1995-07-10
Filing date: 1995-07-10
Publication date: 1997-01-28

Abstract

(57)【要約】【目的】基板保持装置周辺の空間が狭く、除電装置を
設置することができない場合でも、効率的に基板の除電
を行うことのできる基板保持装置を提供する。【構成】基板１を載置して保持するホルダ２の載置面
と電磁弁７とを連通する配管３に、配管に供給される気
体をイオン化するイオン化装置６を設ける。基板のホル
ダに対する吸着を解除する際、電磁弁をフロー系に切り
換えるとともにホルダの載置面に供給する気体をイオン
化し、イオン化した気体で基板の吸着を解除する。これ
により、基板がホルダから除去される際の帯電が防止さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は基板の保持装置に関
し、例えば半導体素子や液晶表示基板等の製造用の露光
装置の基板ステージや基板搬送装置に適用できるもので
ある。

【０００２】

【従来の技術】従来のこの種の保持装置は、以下のよう
な構成であった。即ち、基板を載置するホルダと、この
ホルダに対して上下動して基板を設置するとともにホル
ダ上から基板を除去する上下動ピンと、ホルダ上に開口
した配管を介して気体を真空吸引、及び大気開放する電
磁弁とを備えていた。また、この保持装置上に基板を搬
入し、保持装置から基板を搬出する搬送装置として、基
板を載置して移動する搬送アームと、搬送アーム上に開
口した配管を介して気体を真空吸引、及び大気開放する
電磁弁とを備えたものもある。

【０００３】そして、搬送装置の搬送アーム上に基板を
載置して吸着し、基板を露光する位置である保持装置上
方に搬送する。基板が保持装置上方まで搬送されると、
搬送アームの吸着を解除するとともに、保持装置側の上
下動ピンによってホルダ上に基板を受け渡す。ホルダ上
に載置された基板はホルダ上に吸着され、露光処理が施
される。

【０００４】一方、露光処理の終了した基板は、ホルダ
に対する吸着が解除されて上下動ピンによってホルダ上
から除去され、搬送アームに受け渡される。基板を受け
取った搬送アームは、基板を吸着して保持装置上方から
基板を搬出する。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の技術
においては、基板の吸着を解除して搬送アームまたはホ
ルダから基板を除去する際に、基板が帯電していた。こ
のため従来では、イオン化した気体を吹き出す装置（イ
オナイザ）を設け、このイオン化した気体を帯電した基
板に吹きつけることにより基板を除電していた。

【０００６】しかしながら、ホルダの周辺は空間が狭
く、イオナイザを設置するだけの余裕がない。また、搬
送アームによる搬送経路中に設けたとしても、除電する
ための時間が必要となり、装置のスループットが低下す
る。本発明は上記問題点に鑑み、除電のための装置を設
ける空間がない場合でも、効率的に基板の帯電を防ぐ、
あるいは除電することが可能な基板保持装置を提供する
ことを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明では、基板（１）を載置する載置手段（２）
と、載置手段の表面に開口した孔と連通した通気手段
（３）と、通気手段を介して基板と載置手段との間の気
体を吸引することにより、基板を載置手段上に吸着する
吸引手段（７）と、通気手段を介して基板と載置手段と
の間に気体を供給する気体供給手段（７）と、通気手段
に設けられ、気体供給手段から供給される気体をイオン
化するイオン化手段（６）とを備えることとした。

【０００８】また、通気手段（３）は絶縁体で構成され
ていることとする。さらに、上記基板の保持装置は、基
板を載置手段（２）から分離する基板分離手段（４）
と、基板分離手段によって基板を載置手段から分離する
際に、気体供給手段（７）とイオン化手段（６）とによ
って、イオン化された気体を供給する制御手段（９）と
をさらに備えることとした。

【０００９】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施例による基
板保持装置の概略的な構成を示す図である。ガラス基板
等の感光基板１を載置するためのホルダ２には空圧系の
配管３（ホルダ２内はホルダに設けられた穴を配管とす
る）が設けられ、この配管３を介して電磁弁７とホルダ
２の載置面とが連通している。また、配管３はポリウレ
タン、ナイロン等の絶縁体で構成され、配管３と接続し
たホルダ２内の穴の部分も絶縁体となっている。さら
に、配管３にはイオナイザ６が設けられ、配管３を通過
する気体をイオン化する。このイオナイザ６は主制御装
置９からの制御信号によって動作するものである。

【００１０】電磁弁７は、バキューム系とフロー系とを
切り換えて用いる構成であり、主制御装置９からの制御
信号に基づいてバキューム系とフロー系とを切り換え
る。ホルダ２には載置面２ａに開口を有する穿孔が設け
られ、この穿孔内を移動可能に、また載置面２ａに対し
て上下動可能な支持部４ａを有する３点支持用の支持ピ
ン４が挿入されている。この支持ピン４は、駆動装置５
によってホルダ２の載置面２ａに対して上下動する。駆
動装置５は、主制御装置９からの制御信号に基づいて支
持ピン４を駆動する。

【００１１】一方、基板保持装置の外部には、感光基板
をホルダ２上に搬送するため、またホルダ２から感光基
板を搬出するための、搬送アーム８を含む搬送装置が設
けられ、ホルダ２の載置面２ａから上昇した支持ピン４
（支持部４ａ）との間で感光基板１の受け渡しを行う。
上記の構成の装置において感光基板１をホルダ２上に載
置する際には、先ず不図示の搬送アーム８によって感光
基板１をホルダ２の上方に搬送する。そして、駆動装置
５によって支持ピン４を上昇する。これによって、支持
ピン４の支持部４ａが載置面２ａから突出して感光基板
１の裏面に当接し、搬送アーム８から感光基板１を受け
取る。

【００１２】その後、駆動装置５によって感光基板１を
載置した支持ピン４が降下してホルダ２の載置面２ａ上
に感光基板１を載置する。感光基板１が載置面２ａ上に
載置される（支持部４ａが載置面２ａの面と同じ位置又
は載置面の下方に位置する）のと同時に主制御装置９に
よって電磁弁７をバキューム系に切り換える。一方、露
光等の処理が終了して感光基板１を交換する際には、主
制御装置９からの信号に基づいて、電磁弁７がフロー系
に切り換えられるとともにイオナイザ６が動作し、イオ
ン化した気体を配管３内に送風する。これにより、ホル
ダ２内の配管３を介して感光基板１と載置面２ａの間に
イオン化された圧空が入り込み、感光基板１と載置面２
ａとの間を真空状態から大気開放にする。そして、主制
御装置９からの信号に基づいて駆動装置５によって支持
ピン４が上昇する。

【００１３】以上のように、感光基板１をホルダ２から
分離する（即ち、感光基板が帯電する）際にイオン化し
た気体を送風して基板の吸着を解除するため、感光基板
が帯電することなく載置面２ａから持ち上がる。また、
イオン化した気体を送風する配管３を絶縁体としたた
め、効率的に基板の除電を行うことができる。

【００１４】上記実施例では、本発明を感光基板を載置
して移動するステージ装置の基板ホルダに適用した例を
示したが、これに限らず、例えば、感光基板を吸着して
搬送する搬送アームにも適用できることは言うまでもな
い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例による基板保持装置の概略的な
構成を示す図。

【符号の説明】

２ホルダ３配管４支持ピン６イオナイザ７電磁弁８搬送アーム９主制御装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を載置する載置手段と、前記載置手段の表面に開口した孔と連通した通気手段
と、前記通気手段を介して前記基板と前記載置手段との間の
気体を吸引することにより、前記基板を前記載置手段上
に吸着する吸引手段と、前記通気手段を介して前記基板と前記載置手段との間に
気体を供給する気体供給手段と、前記通気手段に設けられ、前記気体供給手段から供給さ
れる気体をイオン化するイオン化手段とを備えることを
特徴とする基板の保持装置。
【請求項２】前記通気手段は絶縁体で構成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の基板の保持装置。
【請求項３】前記基板の保持装置は、前記基板を前記
載置手段から分離する基板分離手段と、前記基板分離手段によって前記基板を前記載置手段から
分離する際に、前記気体供給手段と前記イオン化手段と
によって、イオン化された気体を供給する制御手段とを
さらに備えることを特徴とする基板の保持装置。