JPH09219418A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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JPH09219418A
JPH09219418A JP2357496A JP2357496A JPH09219418A JP H09219418 A JPH09219418 A JP H09219418A JP 2357496 A JP2357496 A JP 2357496A JP 2357496 A JP2357496 A JP 2357496A JP H09219418 A JPH09219418 A JP H09219418A
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Japan
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inner lead
tape carrier
semiconductor chip
lead portion
base film
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JP2357496A
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Izumi Okamoto
泉 岡本
Hideji Ida
秀二 井田
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor device which solves problems such as crack, bending and disconnection of a lead caused by reduction of lead width and thickness when an inner lead pitch is fined and has a narrow pitch inner lead pattern corresponding to narrow pitch multi-electrode of a semiconductor chip in a semiconductor device of a TAB mounting method. SOLUTION: A projection electrode 2 and an inner lead part 3 are connected by applying insulation resin 7 holding adhesion force and contraction stress after setting between a semiconductor chip 1 and a tape carrier of the inner lead part 3 without opening a part of a base film 4 of the inner lead part 3 of a tape carrier connected to the projection electrode 2 of the semiconductor chip 1. Thereby, a conductor wiring material which is thinner than a conventional one can be used for a tape carrier and the inner lead part 3 can be fined for a narrow pitch corresponding to its thickness.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、CPU、ゲートア
レイ、各種コントローラ、ドライバ等に使用される半導
体装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device used for a CPU, a gate array, various controllers, drivers and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、CPU、ゲートアレイ、各種コン
トローラ、ドライバ等に使用される半導体装置用の半導
体チップの電極は狭ピッチ多電極化の要求が強く、従来
の半導体パッケージングの主流であるワイヤボンディン
グ方式の限界を越えるものは、テープキャリアによるT
AB実装方式が用いられている。
2. Description of the Related Art In recent years, electrodes of semiconductor chips for semiconductor devices used for CPUs, gate arrays, various controllers, drivers, etc. are strongly required to have a narrow pitch and have a large number of electrodes, and wires are the mainstream of conventional semiconductor packaging. The one that exceeds the limit of the bonding method is T by the tape carrier.
The AB mounting method is used.

【0003】以下に図面を用いて従来のTAB実装方式
による半導体装置について説明する。
A semiconductor device according to a conventional TAB mounting method will be described below with reference to the drawings.

【0004】図3は従来のTAB実装方式による半導体
装置の構成を示した断面図であり、図3において11は
半導体チップであり、12はこの半導体チップ11に配
設されたAu、半田等よりなる突起電極である。14は
ポリイミド樹脂やガラスエポキシ樹脂等からなるテープ
キャリアのベースフィルムであり、18はこのベースフ
ィルム14に設けられた開口部である。13はCuやC
u合金の表面にSn、Au、半田等で表面処理された導
体配線のインナーリード部であり、16は前記導体配線
と同一配線上に形成されたアウターリード部である。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a structure of a semiconductor device according to a conventional TAB mounting method. In FIG. 3, 11 is a semiconductor chip, and 12 is Au, solder or the like arranged on the semiconductor chip 11. Is a protruding electrode. Reference numeral 14 is a base film of a tape carrier made of polyimide resin, glass epoxy resin, or the like, and 18 is an opening provided in the base film 14. 13 is Cu or C
An inner lead portion of the conductor wiring whose surface is treated with Sn, Au, solder or the like on the surface of the u alloy, and 16 is an outer lead portion formed on the same wiring as the conductor wiring.

【0005】インナーリード部13とアウターリード部
16以外の導体配線はベースフィルム14にエポキシ系
の接着剤15で接着されており、インナーリード部13
はベースフィルム14の開口部18に突出した構成とな
っており、これらのベースフィルム14と接着剤15と
インナーリード部13とアウターリード部16を総称し
てテープキャリアと呼ぶ。
The conductor wirings other than the inner lead portion 13 and the outer lead portion 16 are adhered to the base film 14 with an epoxy adhesive agent 15.
Has a structure projecting into the opening 18 of the base film 14, and the base film 14, the adhesive 15, the inner lead portion 13, and the outer lead portion 16 are collectively referred to as a tape carrier.

【0006】インナーリード部13と突起電極12は熱
圧着により接合され、その後接合部はエポキシ樹脂19
により封止され、さらに電気的試験の後金型等により切
断され、アウターリード部16で外部回路に接続される
ように構成されたものであった。
The inner lead portion 13 and the protruding electrode 12 are joined by thermocompression bonding, and then the joined portion is made of epoxy resin 19
The outer lead portion 16 is connected to an external circuit by being sealed by the above, further cut by a mold or the like after an electrical test.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の半導体装置の構成では、半導体チップ11の電極の狭
ピッチ化に対応するためには、インナーリード部13を
細くする必要があり、そのために厚みの薄い導体配線材
を使用する必要があり、これを行うとインナーリード部
13やアウターリード部16のリード強度の低下は避け
られず、半導体チップ11の突起電極12とインナーリ
ード部13を熱圧着により接合する際に、インナーリー
ド部13にクラックが入りやすく信頼性の低下を招いた
り断線するという課題と、外部回路と接続されるアウタ
ーリード部16を金型で切断する時に、リードが変形し
たり切れるという課題を有していた。
However, in the structure of the above-mentioned conventional semiconductor device, in order to cope with the narrowing of the pitch of the electrodes of the semiconductor chip 11, it is necessary to make the inner lead portions 13 thin, and therefore the thickness of the inner lead portions 13 is reduced. It is necessary to use a thin conductor wiring material. If this is done, the lead strength of the inner lead portion 13 and the outer lead portion 16 is unavoidably reduced, and the protruding electrode 12 of the semiconductor chip 11 and the inner lead portion 13 are thermocompression bonded. At the time of joining, the inner lead portion 13 is apt to be cracked, leading to a decrease in reliability and disconnection, and when the outer lead portion 16 connected to an external circuit is cut by a mold, the lead is deformed. It had the problem of breaking.

【0008】本発明はこのような従来の課題を解決し、
半導体チップの狭ピッチ多電極化に対応することができ
るテープキャリアを用いた半導体装置を提供することを
目的とするものである。
The present invention solves such conventional problems,
It is an object of the present invention to provide a semiconductor device using a tape carrier which can cope with a narrow pitch multi-electrode of a semiconductor chip.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に本発明による半導体装置は、半導体チップの突起電極
と接続されるテープキャリアのインナーリード部のベー
スフィルムに開口部を設けない構成にしたものであり、
かつ半導体チップの突起電極とテープキャリアのインナ
ーリード部との接続を、半導体チップの突起電極とイン
ナーリード部のテープキャリアとの間に硬化時に樹脂収
縮応力のある光硬化性絶縁樹脂または熱硬化性樹脂を塗
布するか、接着力のある導電性樹脂を塗布するか、半導
体チップの突起電極とインナーリード部との接合部分を
熱で共晶化する半田やインジウム合金で処理後加熱する
構成にしたものである。
In order to solve this problem, a semiconductor device according to the present invention has a structure in which an opening is not provided in a base film of an inner lead portion of a tape carrier connected to a protruding electrode of a semiconductor chip. Is something
In addition, the connection between the protruding electrode of the semiconductor chip and the inner lead portion of the tape carrier is made by a photo-curable insulating resin or thermosetting resin that has resin contraction stress during curing between the protruding electrode of the semiconductor chip and the tape carrier of the inner lead portion. Applying resin, applying conductive resin with adhesive force, or heating after processing with solder or indium alloy that eutecticizes the joint between the protruding electrode of the semiconductor chip and the inner lead part with heat It is a thing.

【0010】この本発明によれば、半導体チップの突起
電極と接続されるテープキャリアのインナーリード部の
ベースフィルム部分に開口部がないので、テープキャリ
アのインナーリード部およびアウターリード部を含む導
体配線部に従来よりも厚みの薄い導体配線材を使用する
ことが可能となり、ベースフィルムに密着したインナー
リード部は厚みに対応した狭ピッチに微細化することが
できるので、半導体チップの狭ピッチ多電極化に容易に
対応することができる半導体装置が得られる。
According to the present invention, since there is no opening in the base film portion of the inner lead portion of the tape carrier connected to the protruding electrode of the semiconductor chip, the conductor wiring including the inner lead portion and the outer lead portion of the tape carrier. Since it is possible to use a conductor wiring material that is thinner than before, and the inner lead part that is in close contact with the base film can be miniaturized to a narrow pitch corresponding to the thickness, the narrow pitch multi-electrode of the semiconductor chip can be used. It is possible to obtain a semiconductor device which can easily cope with the trend.

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】本発明の請求項1に記載の発明
は、導体配線部を形成したシート状のベースフィルムか
らなるテープキャリアと、光硬化性絶縁樹脂または熱硬
化性樹脂または導電性樹脂または半田またはインジウム
合金のいずれかを介して上記テープキャリア上に搭載さ
れると共に、このテープキャリアに形成された導体配線
部に突起電極が接続された半導体チップからなる構成と
したものであり、テープキャリアに開口部がないので従
来よりも厚みの薄い導体配線材を使用することが可能と
なり、半導体チップの電極の狭ピッチ多電極化に対応し
て半導体チップの電極と接続されるテープキャリアの導
体配線部であるインナーリード部は微細化してもインナ
ーリード部にはベースフィルムがあるため、リードのク
ラックや断線といった問題が発生しないという作用を有
する。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The invention according to claim 1 of the present invention is a tape carrier comprising a sheet-shaped base film having a conductor wiring portion formed thereon, and a photocurable insulating resin, a thermosetting resin, or a conductive resin. Alternatively, the tape may be mounted on the tape carrier via either solder or indium alloy, and may be composed of a semiconductor chip in which a protruding electrode is connected to a conductor wiring portion formed on the tape carrier. Since there is no opening in the carrier, it is possible to use a conductor wiring material that is thinner than before, and the conductor of the tape carrier that is connected to the electrodes of the semiconductor chip corresponding to the narrow pitch multi-electrodes of the electrodes of the semiconductor chip. Even if the inner lead portion, which is the wiring portion, is miniaturized, there is a base film in the inner lead portion, so it is not likely to cause lead cracking or wire breakage. Problem has the effect that does not occur.

【0012】請求項2に記載の発明は、請求項1記載の
発明において、半導体チップの突起電極が接続される部
分の導体配線部の厚さを、テープキャリアに形成される
他の導体配線部の厚さより薄く構成したものであり、半
導体チップの電極と接続されるテープキャリアのインナ
ーリード部を部分的に薄くすることで、外部と接続され
るテープキャリアのアウターリード部のリード強度を低
下させずに半導体チップの電極の狭ピッチ多電極化に対
応した微細なインナーリード部パターンの形成ができる
という作用を有する。
According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the invention, the thickness of the conductor wiring portion of the semiconductor chip to which the protruding electrode is connected is set to another conductor wiring portion formed on the tape carrier. The thickness of the inner lead part of the tape carrier connected to the electrodes of the semiconductor chip is partially thinned to reduce the lead strength of the outer lead part of the tape carrier connected to the outside. It is possible to form a fine inner lead portion pattern corresponding to the narrow pitch multi-electrode configuration of the electrodes of the semiconductor chip.

【0013】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2記載の発明において、テープキャリアのベースフィル
ムか透明樹脂よりなる構成としたものであり、半導体チ
ップとテープキャリアの固着を光硬化性絶縁樹脂により
行う場合は、テープキャリアのベースフィルム越しに光
を照射することにより樹脂の硬化を短時間で確実に行え
るという作用を有する。
According to a third aspect of the invention, in the first or second aspect of the invention, the base film of the tape carrier is composed of a transparent resin, and the semiconductor chip and the tape carrier are fixed to each other by photo-curing. When the insulating resin is used, the resin can be reliably cured in a short time by irradiating light through the base film of the tape carrier.

【0014】以下、本発明の実施の形態について、図
1,図2を用いて説明する。 (実施の形態1)図1は本発明の第1の実施の形態にお
ける半導体装置の構成を示した断面図であり、図1にお
いて、1は半導体チップであり、2はこの半導体チップ
1の表面に配設されたAu、半田、導電性樹脂、インジ
ウム合金等よりなる突起電極である。4はポリイミド樹
脂やガラスエポキシ樹脂やポリエステル樹脂等からなる
テープキャリアのベースフィルムであり、3および6は
このテープキャリアのベースフィルム4のCuやCu合
金等よりなり、表面にAu、Sn、半田等で表面処理さ
れて形成された導体配線を示し、さらに3は半導体チッ
プ1の突起電極2と接続されるインナーリード部、6は
外部回路と接続されるアウターリード部である。
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. (Embodiment 1) FIG. 1 is a sectional view showing a structure of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention. In FIG. 1, 1 is a semiconductor chip and 2 is a surface of the semiconductor chip 1. Is a protruding electrode made of Au, solder, conductive resin, indium alloy, or the like. Reference numeral 4 is a base film of a tape carrier made of a polyimide resin, glass epoxy resin, polyester resin or the like, 3 and 6 are made of Cu or Cu alloy of the base film 4 of the tape carrier, and Au, Sn, solder, etc. on the surface. Shows a conductor wiring formed by surface treatment, and 3 is an inner lead portion connected to the protruding electrode 2 of the semiconductor chip 1, and 6 is an outer lead portion connected to an external circuit.

【0015】5はベースフィルム4と上記導体配線のイ
ンナーリード部3、アウターリード部6を接着する接着
剤であり、7は半導体チップ1のテープキャリアへの固
着と突起電極2とインナーリード部3の接続および封止
を行うための光硬化性もしくは熱硬化性のエポキシ系ま
たはアクリル系の絶縁樹脂である。
Reference numeral 5 is an adhesive for bonding the base film 4, the inner lead portion 3 and the outer lead portion 6 of the conductor wiring, and 7 is the fixing of the semiconductor chip 1 to the tape carrier and the protruding electrode 2 and the inner lead portion 3. It is a photo-curable or thermosetting epoxy-based or acrylic-based insulating resin for connecting and sealing.

【0016】以下、このように構成された本実施の形態
における半導体装置を製造する製造工程について説明す
る。
The manufacturing process for manufacturing the semiconductor device having the above-described structure according to the present embodiment will be described below.

【0017】まず、テープキャリアのアウターリード部
6の部分のベースフィルム4を金型により開口し、次に
導体配線材となる(厚み18〜35ミクロン程度の)銅
箔等の導体を接着剤5により接着する。接着剤5の硬化
後、上記導体をフォトエッチングによりインナーリード
部3は半導体チップ1の突起電極2の配置に位置対応さ
せ、かつアウターリード部6は外部回路の接合部分と位
置対応させる等の必要なパターン形状に加工する。銅箔
等の導体パターンピッチの加工限界は、材質にもよるが
一般的に厚みの2.3倍から2.8倍であり、インナー
リード部3に必要な導体パターンピッチから銅箔等の導
体の厚みを選定またはフォトエッチング等により加工す
る。
First, the base film 4 in the outer lead portion 6 of the tape carrier is opened by a mold, and then a conductor such as a copper foil (having a thickness of about 18 to 35 μm) to be a conductor wiring material is attached with the adhesive 5. To adhere. After the adhesive 5 is cured, it is necessary to photo-etch the conductor to align the inner lead portion 3 with the position of the protruding electrode 2 of the semiconductor chip 1 and the outer lead portion 6 with the joint portion of the external circuit. Process into a different pattern shape. The processing limit of the conductor pattern pitch of copper foil or the like is generally 2.3 to 2.8 times the thickness, depending on the material, and the conductor pattern pitch of the copper foil or the like is required from the conductor pattern pitch required for the inner lead portion 3. The thickness is selected or processed by photo etching or the like.

【0018】次に、インナーリード部3の上に絶縁樹脂
7を塗布し、半導体チップ1をその上に突起電極2とイ
ンナーリード部3の位置を合わせて加圧しながら搭載
し、同時に光照射もしくは加熱を行って絶縁樹脂7を硬
化させる。この際、絶縁樹脂7は突起電極2とインナー
リード部3との間で加圧により排除され、突起電極2と
インナーリード部3とは電気的接続がなされ、かつ絶縁
樹脂7が硬化後に持つ接着力と収縮応力によって突起電
極2とインナーリード部3との電気的接続の保持と半導
体チップ1とテープキャリアとの固着を保つという作用
を有する。さらに絶縁樹脂7は半導体チップ1の全面を
覆うために半導体チップ1の封止も兼ねており、新たな
封止用の樹脂等が不要となる。絶縁樹脂7の硬化後、電
気的試験を経て、金型等により切断したアウターリード
部6の部分で外部回路と半田付け等により接続を行うも
のである。
Next, the insulating resin 7 is applied on the inner lead portion 3, and the semiconductor chip 1 is mounted thereon while aligning the positions of the projecting electrodes 2 and the inner lead portion 3 while pressurizing, and simultaneously irradiating light or The insulating resin 7 is cured by heating. At this time, the insulating resin 7 is removed by pressure between the protruding electrode 2 and the inner lead portion 3, the protruding electrode 2 and the inner lead portion 3 are electrically connected, and the insulating resin 7 has an adhesive after curing. The force and the contracting stress have the effects of maintaining the electrical connection between the protruding electrode 2 and the inner lead portion 3 and maintaining the fixation between the semiconductor chip 1 and the tape carrier. Further, since the insulating resin 7 also covers the entire surface of the semiconductor chip 1, the insulating resin 7 also serves as a sealant for the semiconductor chip 1, and a new sealing resin or the like is unnecessary. After the insulating resin 7 is cured, an electrical test is performed, and the outer lead portion 6 cut by a mold or the like is connected to an external circuit by soldering or the like.

【0019】この本発明によれば、半導体チップ1の突
起電極2と接続されるテープキャリアのインナーリード
部3のベースフィルム4部分に開口部がないので、テー
プキャリアのインナーリード部3およびアウターリード
部6を含む導体配線部に従来よりも厚みの薄い導体配線
材を使用することが可能となり、ベースフィルム4に密
着したインナーリード部3は厚みに対応した狭ピッチに
微細化することができ、かつ硬化後に接着力と収縮応力
を保有する絶縁樹脂7を接合部に塗布することによっ
て、半導体チップ1の狭ピッチ多電極化に容易に対応す
ることができる半導体装置が得られる。
According to the present invention, since there is no opening in the base film 4 portion of the inner lead portion 3 of the tape carrier connected to the protruding electrode 2 of the semiconductor chip 1, the inner lead portion 3 and the outer lead of the tape carrier are formed. It is possible to use a conductor wiring material having a smaller thickness than before in the conductor wiring portion including the portion 6, and the inner lead portion 3 adhered to the base film 4 can be miniaturized to a narrow pitch corresponding to the thickness. Moreover, by applying the insulating resin 7 having the adhesive force and the contracting stress to the joint portion after curing, it is possible to obtain the semiconductor device which can easily cope with the narrow pitch multi-electrode of the semiconductor chip 1.

【0020】なお、本実施の形態ではベースフィルム4
と導体配線のインナーリード部3、アウターリード部6
を接着する接着剤5を有するテープキャリアを用いた
が、ベースフィルム4上にメッキにより導体配線のイン
ナーリード部3、アウターリード部6を形成し、接着剤
5を有しない2層構造のテープキャリアを用いた構成で
も同様の効果を得ることができる。
In the present embodiment, the base film 4
Inner lead part 3 and outer lead part 6 of conductor wiring
Although the tape carrier having the adhesive 5 for adhering is used, the inner lead portion 3 and the outer lead portion 6 of the conductor wiring are formed on the base film 4 by plating, and the tape carrier has a two-layer structure without the adhesive 5. The same effect can be obtained with a configuration using.

【0021】さらに、本実施の形態ではアウターリード
部6の部分のベースフィルム4は開口させているが、ア
ウターリード部6の代わりに半田ボール等をグリッド状
に配列したテープキャリアを用いたBGAパッケージに
おいても実施可能であり、同様の効果を得ることができ
る。
Further, although the base film 4 in the outer lead portion 6 is opened in this embodiment, a BGA package using a tape carrier in which solder balls or the like are arranged in a grid shape instead of the outer lead portion 6 is used. The same effect can be obtained.

【0022】(実施の形態2)図2は本発明の第2の実
施の形態による半導体装置の構成を示した断面図であ
り、図2における符号の説明は上記実施の形態1で用い
た図1と同じであるために省略する。
(Embodiment 2) FIG. 2 is a sectional view showing the structure of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, and the reference numerals in FIG. 2 are the same as those used in Embodiment 1 above. Since it is the same as 1, the description thereof will be omitted.

【0023】図2においては、半導体チップ1の突起電
極2と接続されるインナーリード部3Aの厚みを第1の
実施の形態と比べて、テープキャリアの他の導体配線部
よりも薄い構成としたものである。
In FIG. 2, the inner lead portion 3A connected to the protruding electrode 2 of the semiconductor chip 1 is thinner than the other conductor wiring portions of the tape carrier as compared with the first embodiment. It is a thing.

【0024】テープキャリアの他の導体配線部よりも薄
い厚みに形成されたインナーリード部3Aは、第1の実
施の形態の形成工程の内、接着剤5の硬化後導体を必要
なパターン形状に加工するためのフォトエッチングの前
に、インナーリード部3A以外の部分をマスクしてイン
ナーリード部3Aの導体のみをエッチングすることによ
り得ることができ、他の製造工程は第1の実施の形態の
製造工程と同様なので省略する。
The inner lead portion 3A formed to have a smaller thickness than the other conductor wiring portions of the tape carrier has the conductor 5 formed into a required pattern after the adhesive 5 is cured in the forming process of the first embodiment. This can be obtained by masking the portion other than the inner lead portion 3A and etching only the conductor of the inner lead portion 3A before photoetching for processing. Other manufacturing steps are the same as those of the first embodiment. Since it is the same as the manufacturing process, it is omitted.

【0025】この本発明によれば、ベースフィルム4の
開口部に位置するアウターリード部6の導体厚みを薄く
することが無いので、アウターリード部6のリード強度
を低下させること無く、ベースフィルム4に密着したイ
ンナーリード部3Aは厚みに対応した狭ピッチに微細化
することができ、かつ硬化後に接着力と収縮応力を保有
する絶縁樹脂7を接合部に塗布することによって半導体
チップの狭ピッチ多電極化に容易に対応することができ
る半導体装置が得られる。
According to the present invention, since the conductor thickness of the outer lead portion 6 located in the opening of the base film 4 is not reduced, the lead strength of the outer lead portion 6 is not reduced and the base film 4 is not reduced. The inner lead portion 3A in close contact with the semiconductor chip can be miniaturized into a narrow pitch corresponding to the thickness, and by applying an insulating resin 7 having adhesive force and shrinkage stress after curing to the joint portion, a narrow pitch of the semiconductor chip can be increased. It is possible to obtain a semiconductor device that can easily be adapted to electrodes.

【0026】(実施の形態3)本発明の第3の実施の形
態による半導体装置の構成を図1,図2(材質の違いの
みなので図面は兼用する)を用いて説明する。
(Third Embodiment) The structure of a semiconductor device according to a third embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 1 and 2 (the drawings are also used because only the material is different).

【0027】第3の実施の形態はテープキャリアのベー
スフィルム4に透明なポリエステル樹脂を用いた構成と
したものである。
In the third embodiment, a transparent polyester resin is used for the base film 4 of the tape carrier.

【0028】この構成によれば、半導体チップ1の突起
電極2と接続されるテープキャリアのインナーリード部
3のベースフィルム部分が透明であるために、半導体チ
ップ1の突起電極2とテープキャリアのインナーリード
部3の接着保持用に塗布する絶縁樹脂7に光硬化性樹脂
を用いる場合は、ベースフィルム越しに光を照射するこ
とができ、絶縁樹脂7の硬化を短時間にかつ確実に行え
るという効果が得られる。
According to this structure, since the base film portion of the inner lead portion 3 of the tape carrier connected to the protruding electrode 2 of the semiconductor chip 1 is transparent, the protruding electrode 2 of the semiconductor chip 1 and the inner portion of the tape carrier are formed. When a photo-curable resin is used as the insulating resin 7 applied to hold the lead portion 3 adhered, it is possible to irradiate light through the base film, and the insulating resin 7 can be cured in a short time and reliably. Is obtained.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上のように本発明による半導体装置
は、半導体チップの突起電極と接合するテープキャリア
のインナーリード部分のベースフィルムに開口部を設け
ず、かつ硬化後に接着力と収縮応力を保有する絶縁樹脂
を接合部に塗布する構成とすることにより、テープキャ
リアのインナーリード部を微細化してもリードのクラッ
クや断線が発生せず、さらにインナーリード部の厚みを
部分的に薄くすることで外部回路と接続されるテープキ
ャリアのアウターリード部のリード強度を低下させずに
半導体チップの狭ピッチ多電極化に対応したインナーリ
ード部の微細なパターン形成が可能であるという効果が
得られる。
As described above, the semiconductor device according to the present invention does not have an opening in the base film of the inner lead portion of the tape carrier that is bonded to the protruding electrode of the semiconductor chip, and retains adhesive force and shrinkage stress after curing. By applying the insulating resin that is applied to the joint portion, even if the inner lead portion of the tape carrier is miniaturized, lead cracks and disconnections do not occur, and the inner lead portion can be partially thinned. It is possible to obtain an effect that it is possible to form a fine pattern of the inner lead portion corresponding to the narrow pitch multiple electrodes of the semiconductor chip without lowering the lead strength of the outer lead portion of the tape carrier connected to the external circuit.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の実施の形態1における半導体装置の構
成を示した断面図
FIG. 1 is a sectional view showing a configuration of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.

【図2】同実施の形態2における半導体装置の構成を示
した断面図
FIG. 2 is a sectional view showing a configuration of a semiconductor device according to the second embodiment.

【図3】従来のTAB実装方式による半導体装置の構成
を示した断面図
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a configuration of a semiconductor device according to a conventional TAB mounting method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体チップ 2 突起電極 3,3A インナーリード部 4 ベースフィルム 5 接着剤 6 アウターリード部 7 絶縁樹脂 1 Semiconductor Chip 2 Projection Electrode 3,3A Inner Lead Part 4 Base Film 5 Adhesive 6 Outer Lead Part 7 Insulating Resin

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導体配線部を形成したシート状のベース
フィルムからなるテープキャリアと、光硬化性絶縁樹脂
または熱硬化性樹脂または導電性樹脂または半田または
インジウム合金のいずれかを介して上記テープキャリア
上に搭載されると共に、このテープキャリアに形成され
た導体配線部に突起電極が接続された半導体チップから
なる半導体装置。
1. A tape carrier comprising a sheet-shaped base film having a conductor wiring portion formed thereon, and the tape carrier via a photocurable insulating resin, a thermosetting resin, a conductive resin, solder or an indium alloy. A semiconductor device comprising a semiconductor chip mounted on the tape carrier and having a protruding electrode connected to a conductor wiring portion formed on the tape carrier.
【請求項2】 半導体チップの突起電極が接続される部
分の導体配線部の厚さを、テープキャリアに形成される
他の導体配線部の厚さより薄くした請求項1記載の半導
体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the thickness of the conductor wiring portion of the portion to which the protruding electrode of the semiconductor chip is connected is smaller than the thickness of the other conductor wiring portion formed on the tape carrier.
【請求項3】 テープキャリアのベースフィルムが透明
樹脂よりなる請求項1または2記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, wherein the base film of the tape carrier is made of transparent resin.
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