JP2002164497A - Semiconductor device and method for manufacturing the same - Google Patents

Semiconductor device and method for manufacturing the same

Info

Publication number
JP2002164497A
JP2002164497A JP2000362550A JP2000362550A JP2002164497A JP 2002164497 A JP2002164497 A JP 2002164497A JP 2000362550 A JP2000362550 A JP 2000362550A JP 2000362550 A JP2000362550 A JP 2000362550A JP 2002164497 A JP2002164497 A JP 2002164497A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
die pad
semiconductor chip
semiconductor device
electrode
sealing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000362550A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeki Tanaka
茂樹 田中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Renesas Semiconductor Package and Test Solutions Co Ltd
Original Assignee
Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd, Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Hokkai Semiconductor Ltd
Priority to JP2000362550A priority Critical patent/JP2002164497A/en
Publication of JP2002164497A publication Critical patent/JP2002164497A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/44Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
    • H01L2224/45Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/45001Core members of the connector
    • H01L2224/45099Material
    • H01L2224/451Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof
    • H01L2224/45138Material with a principal constituent of the material being a metal or a metalloid, e.g. boron (B), silicon (Si), germanium (Ge), arsenic (As), antimony (Sb), tellurium (Te) and polonium (Po), and alloys thereof the principal constituent melting at a temperature of greater than or equal to 950°C and less than 1550°C
    • H01L2224/45144Gold (Au) as principal constituent
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48095Kinked
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/481Disposition
    • H01L2224/48151Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/48221Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/48245Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/48247Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/15Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/181Encapsulation

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve reliability by preventing a package crack even if a encap sulation resin and a die pad are delaminated. SOLUTION: A die pad 2 formed in a P-VQFN semiconductor device has a surface area of an opposite surface to a chip mounting surface, that is an encapsulation resin adherence surface, smaller than a surface area of a mounting surface where a semiconductor chip 4 is mounted and the side surfaces of four sides in the die pad have inclinations respectively. It is possible to disperse the stress and prevent generation of cracks reaching to the surface of the package 7 by the inclinations of the side surface even if the die pad 2 expands or shrinks.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体装置におけ
る接続信頼性の向上技術に関し、特に、P−VQFN
(Plastic Very fine Quad F
lat Non−leaded package)形半
導体装置における充分なスタンドオフの確保に適用して
有効な技術に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a technique for improving connection reliability in a semiconductor device, and more particularly, to P-VQFN.
(Plastic Very Fine Fine Quad F
The present invention relates to a technique which is effective when applied to secure a sufficient stand-off in a semiconductor device (lat Non-leaded package).

【0002】[0002]

【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、表
面実装形パッケージの1つとして、P−VQFNの半導
体装置がある。P−VQFN形の半導体装置は、パッケ
ージの4つの側面に複数の電極パッドをそれぞれ備えた
構成となっている。
2. Description of the Related Art According to studies made by the present inventor, there is a P-VQFN semiconductor device as one of surface mounting packages. The P-VQFN type semiconductor device has a configuration in which a plurality of electrode pads are provided on four side surfaces of a package.

【0003】この半導体装置においては、半導体チップ
を搭載するダイパッドが該半導体チップよりも小さく、
これらダイパッドと半導体チップとがモールド樹脂によ
って封止されているものがある。
In this semiconductor device, a die pad on which a semiconductor chip is mounted is smaller than the semiconductor chip.
Some die pads and semiconductor chips are sealed with a mold resin.

【0004】なお、この種の半導体装置について詳しく
述べてある例としては、特開平10−189830号公
報があり、この文献には、QFN形半導体装置について
記載されている。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 10-189830 discloses an example of this type of semiconductor device in detail, which describes a QFN type semiconductor device.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
な半導体装置では、次のような問題点があることが本発
明者により見い出された。
However, the present inventor has found that the above-described semiconductor device has the following problems.

【0006】すなわち、ダイパッドが半導体チップより
も小さいために、該ダイパッドからはみ出した半導体チ
ップの一部分はモールド樹脂によって直接封止されるこ
とになるが、モールド樹脂とダイパッドとの熱膨張係数
の違いなどから、モールド樹脂とダイパッドとが剥離し
てしまうことがある。
That is, since the die pad is smaller than the semiconductor chip, a part of the semiconductor chip protruding from the die pad is directly sealed with the mold resin. As a result, the mold resin and the die pad may peel off.

【0007】そして、モールド樹脂とダイパッドとの剥
離が進行すると、その剥離はダイパッドの側面を伝わ
り、やがてパッケージクラックへと発展してしまい、半
導体装置の信頼性を損なう恐れがある。
[0007] When the peeling of the mold resin and the die pad progresses, the peeling propagates on the side surface of the die pad and eventually develops into a package crack, which may impair the reliability of the semiconductor device.

【0008】本発明の目的は、モールド樹脂とダイパッ
ドとが剥離してもパッケージクラックを防止し、信頼性
を大幅に向上することのできる半導体装置を提供するこ
とにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor device capable of preventing a package crack even if a mold resin and a die pad are peeled off and greatly improving reliability.

【0009】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
SUMMARY OF THE INVENTION Among the inventions disclosed in the present application, the outline of a representative one will be briefly described.
It is as follows.

【0011】すなわち、本発明の半導体装置は、表面に
表面電極が形成された半導体チップと、該半導体チップ
を搭載する四角形状のダイパッドと、該ダイパッドの周
縁を囲むように配置され、半導体チップの表面電極と接
続部材を介して接続される複数の電極部と、複数の電極
部、半導体チップ、ダイパッド、ならびに接続部材を封
止する封止部とからなり、半導体チップを搭載するダイ
パッドの搭載面の表面積が、反対側の他の主面の表面積
よりも大きいものである。
That is, a semiconductor device according to the present invention is arranged such that a semiconductor chip having a surface electrode formed on a surface thereof, a square die pad on which the semiconductor chip is mounted, and a periphery of the die pad. A mounting surface for a die pad on which a semiconductor chip is mounted, comprising a plurality of electrode portions connected to the surface electrode via a connection member, and a plurality of electrode portions, a semiconductor chip, a die pad, and a sealing portion for sealing the connection member. Is larger than the surface area of the other main surface on the opposite side.

【0012】また、本発明の半導体装置は、表面に表面
電極が形成された半導体チップと、該半導体チップを搭
載する四角形状のダイパッドと、該ダイパッドの周縁を
囲むように配置され、半導体チップの表面電極と接続部
材を介して接続される複数の電極部と、複数の電極部、
半導体チップ、ダイパッド、ならびに接続部材を封止す
る封止部とからなり、半導体チップを搭載するダイパッ
ドの搭載面の表面積が、反対側の他の主面の表面積より
も大きく、該ダイパッドの4つの側面に傾斜がそれぞれ
形成されたものである。
Further, the semiconductor device of the present invention is arranged such that a semiconductor chip having a surface electrode formed on a surface thereof, a square die pad on which the semiconductor chip is mounted, and a periphery of the die pad. A plurality of electrode portions connected via the surface electrode and the connection member, a plurality of electrode portions,
A semiconductor chip, a die pad, and a sealing portion for sealing a connection member, wherein the surface area of the mounting surface of the die pad on which the semiconductor chip is mounted is larger than the surface area of the other main surface on the opposite side. The slope is formed on each side.

【0013】さらに、本発明の半導体装置は、表面に表
面電極が形成された半導体チップと、該半導体チップを
搭載する四角形状のダイパッドと、該ダイパッドの周縁
を囲むように配置され、半導体チップの表面電極と接続
部材を介して接続される複数の電極部と、複数の電極
部、半導体チップ、ダイパッド、ならびに接続部材を封
止する封止部とからなり、半導体チップを搭載するダイ
パッドの搭載面の表面積が、反対側の他の主面の表面積
よりも大きく、該ダイパッドの4つの側面に傾斜がそれ
ぞれ形成され、かつダイパッドの他の主面に、封止部を
密着させる少なくとも1つの密着穴を設けたものであ
る。
Further, the semiconductor device of the present invention is arranged so that a semiconductor chip having a surface electrode formed on a surface thereof, a square die pad on which the semiconductor chip is mounted, and a periphery of the die pad. A mounting surface for a die pad on which a semiconductor chip is mounted, comprising a plurality of electrode portions connected to the surface electrode via a connection member, and a plurality of electrode portions, a semiconductor chip, a die pad, and a sealing portion for sealing the connection member. Is larger than the surface area of the other main surface on the opposite side, the slope is formed on each of the four side surfaces of the die pad, and at least one contact hole for bringing the sealing portion into close contact with the other main surface of the die pad. Is provided.

【0014】また、本発明の半導体装置の製造方法は、
搭載面の表面積が、反対側の他の主面の表面積よりも大
きく、4つの側面に傾斜がそれぞれ形成された半導体チ
ップを搭載するダイパッドと、該ダイパッドの周辺部に
配置され、半導体チップの表面電極に対応する複数の電
極部とが形成されたリードフレームを準備する工程と、
半導体チップとダイパッドとを接合する工程と、半導体
チップの表面電極とこれに対応する電極部とを接続部材
により接続する工程と、半導体チップ、ダイパッド、お
よび接続部材を封止樹脂によって覆うとともに、半導体
装置の実装面側に電極部を露出して樹脂モールドし、封
止部を形成する工程と、電極部をリードフレームの枠部
から分離し、外部電極部を形成する工程とを有するもの
である。
Further, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present invention
A die pad for mounting a semiconductor chip having a surface area of a mounting surface larger than the surface area of the other main surface on the opposite side and having a slope formed on each of four side surfaces; A step of preparing a lead frame on which a plurality of electrode portions corresponding to the electrodes are formed,
Joining the semiconductor chip and the die pad, connecting the surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding electrode portion with a connection member, covering the semiconductor chip, the die pad, and the connection member with a sealing resin, The method includes a step of exposing the electrode portion to the mounting surface side of the device and performing resin molding to form a sealing portion, and a process of separating the electrode portion from the frame portion of the lead frame and forming an external electrode portion. .

【0015】さらに、本発明の半導体装置の製造方法
は、半導体チップが搭載される搭載面の表面積が反対側
の他の主面の表面積よりも大きく、4つの側面に傾斜が
それぞれ形成され、かつ搭載面と反対面の他の主面に、
封止部を密着させる少なくとも1つの密着穴が設けられ
たダイパッドと、該ダイパッドの周辺部に配置され、半
導体チップの表面電極に対応する複数の電極部とが形成
されたリードフレームを準備する工程と、半導体チップ
とダイパッドとを接合する工程と、半導体チップの表面
電極とこれに対応する電極部とを接続部材により接続す
る工程と、半導体チップ、ダイパッド、ならびに接続部
材を封止樹脂によって覆うとともに、半導体装置の実装
面側に電極部を露出して樹脂モールドし、封止部を形成
する工程と、電極部をリードフレームの枠部から分離
し、外部電極部を形成する工程とを有するものである。
Further, according to the method of manufacturing a semiconductor device of the present invention, the surface area of the mounting surface on which the semiconductor chip is mounted is larger than the surface area of the other main surface on the opposite side, and the inclination is formed on each of the four side surfaces. On the other main surface opposite to the mounting surface,
A step of preparing a lead frame in which a die pad provided with at least one contact hole for making the sealing portion adhere, and a plurality of electrode portions arranged around the die pad and corresponding to surface electrodes of the semiconductor chip are formed. Bonding the semiconductor chip and the die pad, connecting the surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding electrode portion with a connecting member, covering the semiconductor chip, the die pad, and the connecting member with a sealing resin. Having a step of exposing the electrode portion to the mounting surface side of the semiconductor device and performing resin molding to form a sealing portion, and a process of separating the electrode portion from the frame portion of the lead frame and forming an external electrode portion It is.

【0016】以上のことにより、半導体装置の封止部表
面にいたるクラックを防止することができ、該半導体装
置の信頼性を向上させることができる。
As described above, cracks reaching the surface of the sealing portion of the semiconductor device can be prevented, and the reliability of the semiconductor device can be improved.

【0017】[0017]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて詳細に説明する。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings.

【0018】図1は、本発明の実施の形態1による半導
体装置の斜視図、図2は、図1の半導体装置における底
面図、図3は、図1の半導体装置における断面図、図4
〜図8は、図1の半導体装置における製造工程の説明
図、図9は、図1の半導体装置における製造工程のフロ
ーチャート、図10は、本発明者が検討した半導体装置
の断面図である。
FIG. 1 is a perspective view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, FIG. 2 is a bottom view of the semiconductor device of FIG. 1, FIG. 3 is a cross-sectional view of the semiconductor device of FIG.
8 are explanatory diagrams of the manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1, FIG. 9 is a flowchart of the manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1, and FIG. 10 is a sectional view of the semiconductor device studied by the present inventors.

【0019】本実施の形態において、半導体装置1は、
ノンリード表面実装形パッケージの1つであるP−VQ
FNからなる。半導体装置1は、図1〜図3に示すよう
に、中央部にダイパッド2が位置しており、このダイパ
ッド2上に、銀ペースト接着材などの接着材3を介して
半導体チップ4が接着固定されている。
In the present embodiment, the semiconductor device 1
P-VQ, one of the non-lead surface mount type packages
Consists of FN. As shown in FIGS. 1 to 3, the semiconductor device 1 has a die pad 2 located at the center, and a semiconductor chip 4 is bonded and fixed on the die pad 2 via an adhesive 3 such as a silver paste adhesive. Have been.

【0020】ダイパッド2は、半導体チップ4が搭載さ
れる搭載面よりも、該搭載面の反対面、すなわち封止樹
脂が密着する密着面が小さくなっており、該ダイパッド
における4辺の側面にそれぞれ傾斜がつくように形成さ
れている。また、半導体チップ4における4辺の周辺部
近傍には、複数のインナリード5が位置している。
The die pad 2 has a surface opposite to the mounting surface on which the semiconductor chip 4 is mounted, that is, a contact surface on which the sealing resin adheres, is smaller than a mounting surface on which the semiconductor chip 4 is mounted. It is formed so as to be inclined. In addition, a plurality of inner leads 5 are located near the periphery of the four sides of the semiconductor chip 4.

【0021】これらインナリード5の先端部と半導体チ
ップ4に形成された電極(表面電極)とが、金線などか
らなるボンディングワイヤ(接続部材)6によって電気
的にそれぞれ接続されている。
The tips of the inner leads 5 and the electrodes (surface electrodes) formed on the semiconductor chip 4 are electrically connected by bonding wires (connection members) 6 made of gold wire or the like.

【0022】さらに、半導体チップ4、インナリード
5、ならびにボンディングワイヤ6は、熱硬化性の封止
樹脂によって封止され、矩形状のパッケージ(封止部)
7が形成されている。
Further, the semiconductor chip 4, the inner leads 5, and the bonding wires 6 are sealed with a thermosetting sealing resin to form a rectangular package (sealing portion).
7 are formed.

【0023】このパッケージ7における4辺には、複数
の外部電極8が形成されている。外部電極8は、パッケ
ージ7における実装面から側面にかけて露出して形成さ
れている。外部電極8の表面には、たとえば、電解めっ
きなどによるはんだめっきが施されている。
A plurality of external electrodes 8 are formed on four sides of the package 7. The external electrode 8 is formed so as to be exposed from the mounting surface to the side surface of the package 7. The surface of the external electrode 8 is, for example, plated with solder by electrolytic plating or the like.

【0024】これら外部電極8は、半導体装置1の実装
時に電子部品などを実装するプリント配線基板に形成さ
れた接続電極となるランドと重合し、それぞれ電気的に
接続される。
These external electrodes 8 are overlapped with lands serving as connection electrodes formed on a printed wiring board on which electronic components and the like are mounted when the semiconductor device 1 is mounted, and are electrically connected to each other.

【0025】次に、本実施の形態における半導体装置の
製造方法について、図1〜図3、図4〜図8の製造工程
の説明図、ならびに図9のフローチャートを用いて説明
する。
Next, a method of manufacturing a semiconductor device according to the present embodiment will be described with reference to FIGS. 1 to 3 and FIGS.

【0026】まず、リードフレームを準備する(ステッ
プS101)。このリードフレームは、たとえば、鉄
系、あるいは銅系などからなる金属板をエッチング、あ
るいはプレス加工してパターンニングすることによって
形成される。
First, a lead frame is prepared (step S101). The lead frame is formed, for example, by etching or pressing a metal plate made of iron or copper and patterning the plate.

【0027】リードフレームには、前述したダイパッド
2、インナリード5、ならびに外部電極部となるアウタ
リード9が成形され、それらのパターンが数個以上連結
された金属製のリボン構造よりなるものである。
The lead frame has a metal ribbon structure in which the above-described die pad 2, inner lead 5, and outer lead 9 serving as an external electrode portion are formed, and several or more of these patterns are connected.

【0028】また、ダイパッド2の側面には、前述した
ように半導体チップ4が搭載される搭載面から封止樹脂
の密着面(搭載面の反対面)にかけて傾斜がつくよう
に、搭載面の表面積よりもその反対面の表面積が小さく
形成されている。このダイパッド2における側面の傾斜
は、たとえば、エッチング処理などによって形成されて
いる。
As described above, the side surface of the die pad 2 has a surface area of the mounting surface so as to be inclined from the mounting surface on which the semiconductor chip 4 is mounted to the sealing resin adhesion surface (opposite to the mounting surface). The surface area on the opposite surface is smaller than that on the opposite side. The inclination of the side surface of the die pad 2 is formed by, for example, an etching process.

【0029】そして、図4に示すように、ダイパッド2
の搭載面に銀ペースト接着材などの接着材3を塗布し、
図5に示すように、半導体チップ4を搭載して接着固定
する(ステップS102)。
Then, as shown in FIG.
Apply adhesive 3 such as silver paste adhesive to the mounting surface of
As shown in FIG. 5, the semiconductor chip 4 is mounted and adhered and fixed (Step S102).

【0030】その後、図6に示すように、半導体チップ
4の電極4aとリードフレームのインナリード5とをボ
ンディングワイヤ6によって接合し、電気的に接続する
(ステップS103)。
After that, as shown in FIG. 6, the electrodes 4a of the semiconductor chip 4 and the inner leads 5 of the lead frame are joined by bonding wires 6 and electrically connected (step S103).

【0031】ワイヤボンディングされたリードフレーム
は、図7に示すように、モールド装置による半導体モー
ルド形成によって樹脂封止され、図8に示すように、パ
ッケージ7が形成される(ステップS104)。
As shown in FIG. 7, the lead frame to which the wire bonding has been performed is resin-sealed by forming a semiconductor mold using a molding apparatus, and a package 7 is formed as shown in FIG. 8 (step S104).

【0032】モールド装置は、リードフレームのアウタ
リード9を該リードフレームの厚さ方向に挟み込み、ダ
イパッド3を支持するリード近傍に設けられたモールド
金型K1,K2のゲートからキャビティに封止樹脂Jを
注入してパッケージ7を形成する。よって、パッケージ
7の実装面にはアウタリード9が露出することになる。
The molding device sandwiches the outer leads 9 of the lead frame in the thickness direction of the lead frame, and transfers the sealing resin J from the gates of the molds K1 and K2 provided near the leads supporting the die pad 3 to the cavities. The package 7 is formed by injection. Therefore, the outer leads 9 are exposed on the mounting surface of the package 7.

【0033】その後、パッケージ7が形成されたリード
フレームのアウタリード9に、たとえば、電解めっき法
などによってはんだめっきを施し(ステップS10
5)、これらめっき処理が施されたアウタリード9は、
パッケージ7の側面から段差なく平面状態になるように
切断されて(ステップS106)、外部引き出し線とな
る外部電極8が形成され、図1〜図3に示す半導体装置
1が完成する(ステップS108)。
Thereafter, the outer leads 9 of the lead frame on which the package 7 is formed are plated with solder, for example, by electrolytic plating or the like (step S10).
5), these plated outer leads 9
The package 7 is cut from the side surface so as to be flat without any step (Step S106), and the external electrodes 8 serving as external lead lines are formed, and the semiconductor device 1 shown in FIGS. 1 to 3 is completed (Step S108). .

【0034】製品となった半導体装置1は、図8に示す
ように、実装基板であるプリント配線基板Pに形成され
たランドと重合し、リフローはんだ付けなどによってそ
れぞれ電気的に接続され、プリント配線基板に実装され
る。
As shown in FIG. 8, the semiconductor device 1 as a product overlaps with the lands formed on the printed wiring board P, which is a mounting board, and is electrically connected by reflow soldering or the like. Mounted on a board.

【0035】ここで、側面に傾斜が形成されたダイパッ
ド2が用いられた半導体装置1におけるパッケージクラ
ックの防止技術ついて説明する。
Here, a technique for preventing a package crack in the semiconductor device 1 using the die pad 2 having a slope formed on the side surface will be described.

【0036】たとえば、半導体装置1が加熱(または冷
却)された際には、熱膨張係数の違いなどからダイパッ
ド2が、該ダイパッド2の平面方向に膨張(あるいは収
縮)する。
For example, when the semiconductor device 1 is heated (or cooled), the die pad 2 expands (or contracts) in the plane direction of the die pad 2 due to a difference in thermal expansion coefficient or the like.

【0037】また、パッケージ7は、熱膨張係数の違い
などからダイパッド2よりも膨張量(または収縮量)が
少なく、そのために、ダイパッド2とパッケージ7との
界面に応力が集中することになる。
The package 7 has a smaller amount of expansion (or shrinkage) than the die pad 2 due to a difference in thermal expansion coefficient and the like. Therefore, stress is concentrated on the interface between the die pad 2 and the package 7.

【0038】このとき、ダイパッド2の側面には傾斜が
形成されているので、この応力がダイパッド2の側面に
形成された傾斜に沿って分散されることになり、パッケ
ージ7の表面にいたるクラックが防止されることにな
る。
At this time, since the slope is formed on the side surface of the die pad 2, the stress is dispersed along the slope formed on the side surface of the die pad 2, and cracks reaching the surface of the package 7 are formed. Will be prevented.

【0039】さらに、応力が傾斜に沿って分散されるこ
とによって、強い応力がかかった際でも、ダイパッド2
の封止樹脂密着面に沿ってパッケージ2が剥離するだけ
であり、ダイパッド2からパッケージ7表面にいたるパ
ッケージクラックを防止することができる。
Further, since the stress is distributed along the slope, even when a strong stress is applied, the die pad 2
Only the package 2 is peeled off along the sealing resin contact surface, and the package crack from the die pad 2 to the surface of the package 7 can be prevented.

【0040】一方、本発明者が検討した半導体装置30
を図10に示す。この半導体装置30において、ダイパ
ッド31、接着材32、半導体チップ33、インナリー
ド34、ボンディングワイヤ35、パッケージ36、な
らびに外部電極37などの構成は半導体装置1と同様で
あるが、ダイパッド31の側面に傾斜が形成されていな
い点が異なっている。すなわち、半導体チップ4の搭載
面とその反対面との表面積が同じであり、側面が該ダイ
パッド31の平面方向に対して直角に形成されている。
On the other hand, the semiconductor device 30 examined by the present inventor
Is shown in FIG. In this semiconductor device 30, the configuration of a die pad 31, an adhesive 32, a semiconductor chip 33, an inner lead 34, a bonding wire 35, a package 36, and an external electrode 37 is the same as that of the semiconductor device 1. The difference is that no slope is formed. That is, the surface area of the mounting surface of the semiconductor chip 4 is the same as that of the opposite surface, and the side surface is formed perpendicular to the plane direction of the die pad 31.

【0041】この場合、ダイパッド31が、該ダイパッ
ド31の平面方向に膨張(あるいは収縮)すると、ダイ
パッド31とパッケージ36の界面に応力が集中するの
で、ダイパッド31の側面からパッケージ36の実装面
に向けてクラックが発生し、やがてはパッケージ36の
表面までクラックCKが進行することになる。
In this case, when the die pad 31 expands (or contracts) in the plane direction of the die pad 31, stress concentrates on the interface between the die pad 31 and the package 36, so that the side of the die pad 31 faces the mounting surface of the package 36. Then, a crack is generated, and the crack CK eventually progresses to the surface of the package 36.

【0042】それにより、本実施の形態によれば、4辺
の側面にそれぞれ傾斜が形成されたダイパッド2によっ
てパッケージ7のクラックを防止することができるの
で、半導体装置1の信頼性を向上することができる。
Thus, according to the present embodiment, cracks in the package 7 can be prevented by the die pad 2 having slopes formed on the four side surfaces, so that the reliability of the semiconductor device 1 is improved. Can be.

【0043】また、本実施の形態では、ダイパッド2に
おける4辺の側面にそれぞれ傾斜を形成した形状とした
が、たとえば、半導体装置1aのダイパッド2aは、図
11に示すように、4辺の側面にそれぞれ傾斜が形成さ
れたダイパッド2(図3)の封止樹脂密着面にディンプ
ル加工などによって穴HPを設けるようにしてもよい。
In the present embodiment, the die pad 2 has a shape in which the four side surfaces are inclined. For example, the die pad 2a of the semiconductor device 1a has four side surfaces as shown in FIG. Alternatively, holes HP may be provided by dimple processing or the like on the sealing resin contact surface of the die pad 2 (FIG. 3) having the respective inclinations.

【0044】それにより、ダイパッド2aにの封止樹脂
密着面の表面積が増えるので、該ダイパッド2aとパッ
ケージ7とをより強く密着させることができ、ダイパッ
ド2の樹脂密着面とパッケージ7との剥離を防止するこ
とができる。
As a result, the surface area of the sealing resin contact surface with the die pad 2a is increased, so that the die pad 2a and the package 7 can be more strongly adhered to each other. Can be prevented.

【0045】さらに、本実施の形態では、半導体チップ
の搭載面よりも封止樹脂密着面の表面積を小さくし、ダ
イパッドにおける4辺に側面に傾斜を形成した場合につ
いて記載したが、図12に示すように、半導体装置1b
のダイパッド2bにおける4辺の側面にRをつけて円弧
状にそれぞれ形成するようにしてもよい。
Further, in this embodiment, the case where the surface area of the sealing resin contact surface is made smaller than that of the mounting surface of the semiconductor chip and the four sides of the die pad are inclined on the side surface is shown in FIG. As described above, the semiconductor device 1b
The side surfaces of the four sides of the die pad 2b may be rounded with an R.

【0046】それによっても、パッケージ7のクラック
を防止することができるので、半導体装置1の信頼性を
向上することができる。
This also prevents the package 7 from cracking, so that the reliability of the semiconductor device 1 can be improved.

【0047】以上、本発明者によってなされた発明を発
明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は
前記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を
逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでも
ない。
Although the invention made by the inventor has been specifically described based on the embodiments of the present invention, the present invention is not limited to the above embodiments, and various modifications may be made without departing from the gist of the invention. Needless to say, it can be changed.

【0048】たとえば、前記実施の形態では、P−VQ
FN形の半導体装置について記載したが、QFP(Qu
ad Flat Package)形の半導体装置に設
けられたダイパッドの側面に傾斜を形成し、パッケージ
クラックを防止する構成としてもよい。
For example, in the above embodiment, P-VQ
Although the FN type semiconductor device has been described, the QFP (Quu
A configuration may be adopted in which a side surface of a die pad provided in a semiconductor device of the “ad flat package” type is formed with a slope to prevent a package crack.

【0049】この場合、QFP形の半導体装置1cは、
図13に示すように、中央部に位置したダイパッド2c
上に、銀ペースト接着材などの接着材3を介して半導体
チップ4が接着固定されており、該ダイパッド2cは、
半導体チップ4よりも表面積が小さい、いわゆる小タブ
タイプとなっている。
In this case, the semiconductor device 1c of the QFP type
As shown in FIG. 13, the die pad 2c located at the center
A semiconductor chip 4 is bonded and fixed thereon via an adhesive 3 such as a silver paste adhesive, and the die pad 2c is
It is a so-called small tab type having a smaller surface area than the semiconductor chip 4.

【0050】半導体チップ4における4辺の周辺部近傍
には、複数のインナリード5が位置し、これらインナリ
ード5の先端部と半導体チップ4に形成された電極と
が、金線などからなるボンディングワイヤ6によって電
気的にそれぞれ接続されている。
A plurality of inner leads 5 are located near the four sides of the semiconductor chip 4, and the tips of the inner leads 5 and the electrodes formed on the semiconductor chip 4 are bonded by gold wires or the like. They are electrically connected by wires 6 respectively.

【0051】さらに、半導体チップ4、インナリード
5、ならびにボンディングワイヤ6は、熱硬化性の封止
樹脂によって封止され、矩形状のパッケージ7が形成さ
れており、パッケージ7の4つの側面からガルウィング
状の外部接続端子10が突出している。
Further, the semiconductor chip 4, the inner leads 5, and the bonding wires 6 are sealed with a thermosetting sealing resin to form a rectangular package 7, and gull wings are formed from four sides of the package 7. The external connection terminal 10 has a protruding shape.

【0052】この半導体装置1cにおいても、ダイパッ
ド2cは、半導体チップ4が搭載される搭載面よりも該
搭載面の反対面、すなわち封止樹脂密着面が小さく、該
ダイパッドにおける4辺の側面にそれぞれ傾斜がつくよ
うに形成されている。
Also in this semiconductor device 1c, the die pad 2c has a surface opposite to the mounting surface on which the semiconductor chip 4 is mounted, that is, a sealing resin contact surface is smaller than the mounting surface. It is formed so as to be inclined.

【0053】これによって、ダイパッド2cとパッケー
ジ7との間に応力がかかっても該ダイパッド2cの側面
に形成された傾斜に沿って応力が分散されることにな
り、パッケージ7の表面にいたるクラックを防止するこ
とができる。
As a result, even if stress is applied between the die pad 2c and the package 7, the stress is dispersed along the slope formed on the side surface of the die pad 2c, and cracks reaching the surface of the package 7 are prevented. Can be prevented.

【0054】[0054]

【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
Advantageous effects obtained by typical ones of the inventions disclosed by the present application will be briefly described as follows.
It is as follows.

【0055】(1)本発明によれば、ダイパッドの側面
に傾斜をそれぞれ形成することにより、応力の集中によ
る封止部のパッケージクラックを防止することができ
る。
(1) According to the present invention, by forming a slope on each side surface of the die pad, it is possible to prevent package cracks in the sealing portion due to concentration of stress.

【0056】(2)また、本発明では、上記(1)によ
り、半導体装置の信頼性を向上するとともに、製造歩留
まりを向上することができる。
(2) In the present invention, according to the above (1), the reliability of the semiconductor device can be improved and the production yield can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施の形態による半導体装置の斜視
図である。
FIG. 1 is a perspective view of a semiconductor device according to an embodiment of the present invention.

【図2】図1の半導体装置における底面図である。FIG. 2 is a bottom view of the semiconductor device of FIG. 1;

【図3】図1の半導体装置における断面図である。FIG. 3 is a sectional view of the semiconductor device of FIG. 1;

【図4】図1の半導体装置における製造工程の説明図で
ある。
FIG. 4 is an explanatory view of a manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1;

【図5】図4に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 5 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 4;

【図6】図5に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 6 is an explanatory view of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 5;

【図7】図6に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 7 is an explanatory view of the semiconductor device manufacturing process following FIG. 6;

【図8】図7に続く半導体装置の製造工程の説明図であ
る。
FIG. 8 is an explanatory view of the manufacturing process of the semiconductor device, following FIG. 7;

【図9】図1の半導体装置における製造工程のフローチ
ャートである。
FIG. 9 is a flowchart of a manufacturing process in the semiconductor device of FIG. 1;

【図10】本発明者が検討した半導体装置の断面図であ
る。
FIG. 10 is a sectional view of a semiconductor device studied by the present inventors.

【図11】本発明の他の実施の形態による半導体装置の
一例を示す断面図である。
FIG. 11 is a sectional view showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【図12】本発明の他の実施の形態による半導体装置の
他の例を示す断面図である。
FIG. 12 is a sectional view showing another example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【図13】本発明の他の実施の形態による半導体装置の
一例を示す断面図である。
FIG. 13 is a sectional view showing an example of a semiconductor device according to another embodiment of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 半導体装置 1a〜1c 半導体装置 2 ダイパッド 2a〜2c ダイパッド 3 接着材 4 半導体チップ 5 インナリード 6 ボンディングワイヤ(接続部材) 7 パッケージ(封止部) 8 外部電極 9 アウタリード 10 外部接続端子 HP 穴 J 封止樹脂 K1,K2 モールド金型 30 半導体装置 31 ダイパッド 32 接着材 33 半導体チップ 34 インナリード 35 ボンディングワイヤ 36 パッケージ 37 外部電極 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Semiconductor device 1a-1c Semiconductor device 2 Die pad 2a-2c Die pad 3 Adhesive material 4 Semiconductor chip 5 Inner lead 6 Bonding wire (connection member) 7 Package (sealing part) 8 External electrode 9 Outer lead 10 External connection terminal HP hole J sealing Stopping resin K1, K2 Mold die 30 Semiconductor device 31 Die pad 32 Adhesive material 33 Semiconductor chip 34 Inner lead 35 Bonding wire 36 Package 37 External electrode

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 表面に表面電極が形成された半導体チッ
プと、前記半導体チップを搭載する四角形状のダイパッ
ドと、前記ダイパッドの周縁を囲むように配置され、前
記半導体チップの表面電極と接続部材を介して接続され
る複数の電極部と、前記複数の電極部、前記半導体チッ
プ、前記ダイパッド、ならびに前記接続部材を封止する
封止部とからなる半導体装置であって、 前記半導体チップを搭載する前記ダイパッドの搭載面の
表面積が、反対側の他の主面の表面積よりも大きいこと
を特徴とする半導体装置。
1. A semiconductor chip having a surface electrode formed on a surface thereof, a square die pad on which the semiconductor chip is mounted, and a semiconductor chip arranged to surround a periphery of the die pad. A semiconductor device comprising: a plurality of electrode units connected via a wire; and a plurality of the electrode units, the semiconductor chip, the die pad, and a sealing unit for sealing the connection member, wherein the semiconductor chip is mounted. A semiconductor device, wherein the surface area of the mounting surface of the die pad is larger than the surface area of the other main surface on the opposite side.
【請求項2】 表面に表面電極が形成された半導体チッ
プと、前記半導体チップを搭載する四角形状のダイパッ
ドと、前記ダイパッドの周縁を囲むように配置され、前
記半導体チップの表面電極と接続部材を介して接続され
る複数の電極部と、前記複数の電極部、前記半導体チッ
プ、前記ダイパッド、ならびに前記接続部材を封止する
封止部とからなる半導体装置であって、 前記半導体チップを搭載する前記ダイパッドの搭載面の
表面積が、反対側の他の主面の表面積よりも大きく、前
記ダイパッドの4つの側面に傾斜がそれぞれ形成された
ことを特徴とする半導体装置。
2. A semiconductor chip having a surface electrode formed on a surface thereof, a square die pad on which the semiconductor chip is mounted, and a semiconductor chip arranged so as to surround a periphery of the die pad. A semiconductor device comprising: a plurality of electrode units connected via a wire; and a plurality of the electrode units, the semiconductor chip, the die pad, and a sealing unit for sealing the connection member, wherein the semiconductor chip is mounted. A semiconductor device, wherein a surface area of a mounting surface of the die pad is larger than a surface area of another main surface on an opposite side, and inclinations are formed on four side surfaces of the die pad, respectively.
【請求項3】 表面に表面電極が形成された半導体チッ
プと、前記半導体チップを搭載する四角形状のダイパッ
ドと、前記ダイパッドの周縁を囲むように配置され、前
記半導体チップの表面電極と接続部材を介して接続され
る複数の電極部と、前記複数の電極部、前記半導体チッ
プ、前記ダイパッド、ならびに前記接続部材を封止する
封止部とからなる半導体装置であって、 前記半導体チップを搭載する前記ダイパッドの搭載面の
表面積が、反対側の他の主面の表面積よりも大きく、前
記ダイパッドの4つの側面に傾斜がそれぞれ形成され、
かつ前記ダイパッドの他の主面に、前記封止部を密着さ
せる少なくとも1つの密着穴が設けられたことを特徴と
する半導体装置。
3. A semiconductor chip having a surface electrode formed on a surface thereof, a square die pad on which the semiconductor chip is mounted, and a semiconductor chip arranged so as to surround a periphery of the die pad. A semiconductor device comprising: a plurality of electrode units connected via a wire; and a plurality of the electrode units, the semiconductor chip, the die pad, and a sealing unit for sealing the connection member, wherein the semiconductor chip is mounted. The surface area of the mounting surface of the die pad is larger than the surface area of the other main surface on the opposite side, and slopes are formed on four side surfaces of the die pad, respectively.
A semiconductor device, wherein at least one contact hole for contacting the sealing portion is provided on another main surface of the die pad.
【請求項4】 搭載面の表面積が、反対側の他の主面の
表面積よりも大きく、4つの側面に傾斜がそれぞれ形成
された半導体チップを搭載するダイパッドと、前記ダイ
パッドの周辺部に配置され、前記半導体チップの表面電
極に対応する複数の電極部とが形成されたリードフレー
ムを準備する工程と、 前記半導体チップと前記ダイパッドとを接合する工程
と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記電極
部とを接続部材により接続する工程と、 前記半導体チップ、前記ダイパッド、および前記接続部
材を封止樹脂によって覆うとともに、半導体装置の実装
面側に前記電極部を露出して樹脂モールドし、封止部を
形成する工程と、 前記電極部を前記リードフレームの枠部から分離し、外
部電極部を形成する工程とを有することを特徴とする半
導体装置の製造方法。
4. A die pad for mounting a semiconductor chip having a surface area of a mounting surface larger than a surface area of the other main surface on the opposite side and having a slope formed on each of four side surfaces, and a die pad disposed on a periphery of the die pad. Preparing a lead frame on which a plurality of electrode portions corresponding to surface electrodes of the semiconductor chip are formed; bonding the semiconductor chip and the die pad; and corresponding to the surface electrodes of the semiconductor chip. Connecting the electrode portion with a connection member, covering the semiconductor chip, the die pad, and the connection member with a sealing resin, and exposing the electrode portion to the mounting surface side of the semiconductor device, and performing resin molding. Forming a sealing portion; and separating the electrode portion from a frame portion of the lead frame to form an external electrode portion. The method of manufacturing a semiconductor device according to.
【請求項5】 半導体チップが搭載される搭載面の表面
積が反対側の他の主面の表面積よりも大きく、4つの側
面に傾斜がそれぞれ形成され、かつ前記搭載面と反対面
の他の主面に、前記封止部を密着させる少なくとも1つ
の密着穴が設けられたダイパッドと、前記ダイパッドの
周辺部に配置され、前記半導体チップの表面電極に対応
する複数の電極部とが形成されたリードフレームを準備
する工程と、 前記半導体チップと前記ダイパッドとを接合する工程
と、 前記半導体チップの表面電極とこれに対応する前記電極
部とを接続部材により接続する工程と、 前記半導体チップ、前記ダイパッド、ならびに前記接続
部材を封止樹脂によって覆うとともに、半導体装置の実
装面側に前記電極部を露出して樹脂モールドし、封止部
を形成する工程と、 前記電極部を前記リードフレームの枠部から分離し、外
部電極部を形成する工程とを有することを特徴とする半
導体装置の製造方法。
5. A mounting surface on which the semiconductor chip is mounted is larger than a surface area of the other main surface on the opposite side, and slopes are formed on four side surfaces, respectively, and the other main surface on the opposite surface is opposite to the mounting surface. A lead having a surface provided with at least one contact hole for bringing the sealing portion into close contact with each other, and a plurality of electrode portions disposed around the die pad and corresponding to surface electrodes of the semiconductor chip; A step of preparing a frame; a step of joining the semiconductor chip and the die pad; a step of connecting a surface electrode of the semiconductor chip and the corresponding electrode portion with a connection member; the semiconductor chip and the die pad And a step of covering the connection member with a sealing resin and exposing the electrode portion to the mounting surface side of the semiconductor device and performing resin molding to form a sealing portion. Separating the electrode portion from the frame portion of the lead frame to form an external electrode portion.
JP2000362550A 2000-11-29 2000-11-29 Semiconductor device and method for manufacturing the same Pending JP2002164497A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000362550A JP2002164497A (en) 2000-11-29 2000-11-29 Semiconductor device and method for manufacturing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000362550A JP2002164497A (en) 2000-11-29 2000-11-29 Semiconductor device and method for manufacturing the same

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002164497A true JP2002164497A (en) 2002-06-07

Family

ID=18833808

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000362550A Pending JP2002164497A (en) 2000-11-29 2000-11-29 Semiconductor device and method for manufacturing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002164497A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7195953B2 (en) 2003-04-02 2007-03-27 Yamaha Corporation Method of manufacturing a semiconductor package using a lead frame having through holes or hollows therein
US7397112B2 (en) 2004-12-24 2008-07-08 Yamaha Corporation Semiconductor package and lead frame therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7195953B2 (en) 2003-04-02 2007-03-27 Yamaha Corporation Method of manufacturing a semiconductor package using a lead frame having through holes or hollows therein
US7397112B2 (en) 2004-12-24 2008-07-08 Yamaha Corporation Semiconductor package and lead frame therefor

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2891607B2 (en) Method for manufacturing semiconductor integrated circuit device
US5652461A (en) Semiconductor device with a convex heat sink
US5869905A (en) Molded packaging for semiconductor device and method of manufacturing the same
US5874784A (en) Semiconductor device having external connection terminals provided on an interconnection plate and fabrication process therefor
JP3436159B2 (en) Method for manufacturing resin-encapsulated semiconductor device
US20050189627A1 (en) Method of surface mounting a semiconductor device
JPH11340409A (en) Lead frame and its manufacture and resin encapsulated semiconductor device and its manufacture
JPH04277636A (en) Preparation of semiconductor device
US20020017706A1 (en) Lead frame, semiconductor device and manufacturing method therefor, circuit board and electronic equipment
JP2000243875A (en) Semiconductor device
JP2000114295A (en) Manufacture of semiconductor device
JP2002164497A (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
JPH0936155A (en) Manufacture of semiconductor device
JP2622862B2 (en) Substrate for mounting electronic components with leads
JP2002164496A (en) Semiconductor device and method for manufacturing the same
JP2001077285A (en) Lead frame and manufacture of resin-sealed semiconductor device using the same
JPH0870082A (en) Semiconductor integrated circuit device and its manufacture, and lead frame
JP3503502B2 (en) Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same
JPH03105961A (en) Resin-sealed semiconductor device
JP2001077275A (en) Lead frame and manufacture of resin-sealed semiconductor device using the same
JP2784209B2 (en) Semiconductor device
JP2002124596A (en) Semiconductor device and production method therefor
JPH0992767A (en) Compound lead frame and semiconductor device
JP2001077136A (en) Manufacture of plastic molded semiconductor device
JPH1092967A (en) Integrated circuit device with bottom bump terminal and manufacture thereof