JPH09219361A

JPH09219361A - 露光装置

Info

Publication number: JPH09219361A
Application number: JP8048115A
Authority: JP
Inventors: Tsuneo Miyai; 恒夫宮井; Nobutaka Umagome; 伸貴馬込
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1996-02-09
Filing date: 1996-02-09
Publication date: 1997-08-19

Abstract

(57)【要約】【課題】スループットを低下させることなく、且つ基
板ステージの振動を十分に抑制する。【解決手段】例えば基板ステージ２０Ｘが露光位置に
位置決めされる際に、その位置決めが整定するまでの間
のステージ２０Ｘの２次元方向の振動が干渉計３０によ
って計測され、制御手段（図１では図示せず）により干
渉計３０の計測値とマスクステージ２２Ｂ及びステージ
２０Ｘ相互間の所定の伝達関数とに基づいてステージ２
０Ｘの振動を打ち消すように振動励起手段３２が制御さ
れる。これにより励起手段３２によってステージ２０Ｘ
の振動を打ち消すようなステージ２２Ｂの２次元方向の
振動が励起され、この振動が架台１６を介してステージ
２０Ｘに伝達され、ステージ２０Ｘの２次元方向の振動
が直ちに除去される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は露光装置に係り、更
に詳しくは、半導体素子等の製造のためのフォトリソグ
ラフィ工程で使用される、マスクのパターンを感光基板
上に転写する露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体素子等の製造のためのフォ
トリソグラフィ工程では、表面にフォトレジストが塗布
されたウエハ等の基板（感光基板）を投影光学系の露光
フィールド内に順次位置決めし、マスク又はレチクル
（以下、レチクルの総称する）に形成されたパターンを
投影光学系を介して順次感光基板上に転写する、逐次移
動型の縮小投影露光装置（いわゆるステッパー）が主と
して用いられている。この縮小投影露光装置では、ウエ
ハの重ね合わせ用アライメントマーク測定時のウエハス
テージの振動対策として、ウエハステージにダンパーを
取り付けて振動を制御したり、ある閾値以下に振動が減
衰するまで待ってアライメントマークの測定を開始した
りしていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来技術のダンパーを取り付けて振動を制御する手
法、すなわちダンパーにより振動を減衰させるというよ
うな消極的な振動制御方法では、益々微細化、高精度化
が進んでいく半導体製造工程の中で、もはや十分な程度
にまで振動を抑制することが困難となってきた。すなわ
ち、アライメントマーク測定時におけるウエハステージ
からの振動の影響が測定結果の誤差成分の中に占める割
合が無視できなくなってきた。特に、スループットの向
上に伴い、ウエハステージのステッピングの際の加減速
が急激となり、この急激な加減速が位置決め位置でのウ
エハステージの振動を惹起し、結果的にアライメント精
度を低下させるおそれが生じて来た。

【０００４】また、上記のような事情の下では、ある閾
値以下に振動が減衰するまで待って測定を開始するとい
う手法では、その閾値をますます低く設定する必要があ
るため、待ち時間が長くなり、これが却ってスループッ
トを低下させる要因になるという不都合があった。

【０００５】本発明は、かかる従来技術の有する不都合
に鑑みてなされたもので、その目的は、スループットを
低下させることなく、且つ基板ステージの振動を十分に
抑制することができる露光装置を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、感光基板を露光位置に順次位置決めしつつ、マスク
に形成されたパターンを投影光学系を介して感光基板上
に順次転写する露光装置であって、前記感光基板を載置
して２次元方向に移動可能な基板ステージと；前記マス
クを保持して前記２次元方向に微小移動可能なマスクス
テージと；前記基板ステージ及びマスクステージが上下
方向に所定間隔を隔てて搭載された架台と；前記基板ス
テージの前記２次元方向の振動を計測する第１の振動計
測手段と；前記マスクステージの前記２次元方向の振動
を励起する振動励起手段と；前記第１の振動計測手段の
計測値と前記マスクステージ及び前記基板ステージ相互
間の所定の伝達関数とに基づいて前記基板ステージの振
動を打ち消すように前記振動励起手段を制御する制御手
段とを有する。

【０００７】これによれば、例えば基板ステージが露光
位置に位置決めされる際に、その位置決めが整定するま
での間の基板ステージの２次元方向の振動が第１の振動
計測手段によって計測され、制御手段により第１の振動
計測手段の計測値とマスクステージ及び基板ステージ相
互間の所定の伝達関数とに基づいて基板ステージの振動
を打ち消すように振動励起手段が制御される。これによ
り励起手段によって基板ステージの振動を打ち消すよう
なマスクステージの２次元方向の振動が励起され、この
振動が架台を介して基板ステージに伝達され、基板ステ
ージの２次元方向の振動が直ちに除去される。このた
め、基板ステージの位置決め整定時間が短縮される。

【０００８】ここで、基板ステージに振動が生じた場合
には、上記の位置決め位置での整定時に限らず、いつで
もこれを相殺するようなマスクステージの振動を励起す
るように制御手段によって振動励起手段が制御される。

【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の露光装置において、前記マスクステージの振動を計測
する第２の振動計測手段と、前記第１の振動計測手段の
計測結果と前記第２の振動計測手段の計測結果とを用い
て前記伝達関数を演算する演算手段を更に有する。

【００１０】これによれば、演算手段によりマスクステ
ージ及び基板ステージ相互間の所定の伝達関数の演算
が、第１の振動計測手段の計測結果と第２の振動計測手
段の計測結果とを用いて行なわれるので、別の計測装
置、演算装置等を用いて伝達関数を求める必要がなくな
ると共に、演算手段により非常に高速な演算処理が可能
な場合には、基板ステージ、マスクステージの振動をそ
れぞれ第１、第２の振動計測手段で計測しつつ、その場
で伝達関数を演算することも可能になる。

【００１１】上記請求項１又は２に記載の露光装置にお
いて、第１及び第２の振動計測手段の一方又は両方を、
請求項３に記載の発明のように、各ステージの位置を計
測するレーザ干渉計により構成しても良く、あるいは、
請求項４に記載の発明のように加速度センサにより構成
しても良い。振動計測手段をレーザ干渉計により構成す
る場合には、例えば各ステージの位置、従ってこれを２
階微分した加速度を高精度に検出することができる。ま
た、振動計測手段を加速度センサにより構成する場合に
は、取り扱いが容易で、取り付け場所に殆ど制約を受け
ないという利点がある。

【００１２】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１ないし図２に
基づいて説明する。

【００１３】図１には、一実施例に係る露光装置１０の
概略構成が示されている。この露光装置１０は、感光基
板としてのウエハＷを露光位置に順次位置決めしつつ、
マスクとしてのレチクルＲに形成されたパターンを投影
光学系ＰＬを介してウエハＷ上に順次転写する、ステッ
プ・アンド・リピート方式の露光装置（いわゆるステッ
パー）である。

【００１４】この露光装置１０は、床面に置かれた防振
台１２と、この防振台１２上に水平に載置された定盤１
４と、この定盤１４上に載置された第１架台１６及び第
２架台１８と、第１架台１６上に搭載されたウエハステ
ージ２０及びレチクルステージ２２と、第２架台１８に
保持された投影光学系ＰＬ及び照明光学系２４と、ＴＴ
Ｌ（スルーザレンズ）方式のアライメントセンサ２６と
を備えている。

【００１５】ウエハステージ２０は、第１架台１６の底
板部から構成されるベース１６ａ上に搭載され、レチク
ルステージ２２は、第１架台１６の天板部１６ｂ上に搭
載されている。ウエハステージ２０は、ベース１６ａ上
を図１における紙面直交方向（Ｙ軸方向）に往復移動可
能なＹステージ２０Ｙと、このＹステージ２０Ｙ上を図
１における紙面方向（Ｘ軸方向）に往復移動可能なＸス
テージ２０Ｘとを有している。これらＹステージ２０
Ｙ、Ｘステージ２０Ｘは、駆動系４０（図１では図示せ
ず、図２参照）により駆動されるようになっている。

【００１６】従って、Ｘステージ２０Ｘはベース１６ａ
上でＸ軸方向、Ｙ軸方向に２次元移動できるようになっ
ており、このＸステージ２０Ｘ上に不図示のウエハホル
ダを介して感光基板としてのウエハＷが載置されてい
る。すなわち、Ｘステージ２０ＸによりウエハＷを載置
して２次元移動可能な基板ステージが構成されている。
また、このＸステージ２０Ｘの２次元方向の位置座標
は、レーザ干渉計３０Ｘ、３０Ｙ（但し、図１ではこれ
らを代表的にレーザ干渉計３０として図示）によって常
時計測されるようになっている。

【００１７】レチクルステージ２２は、天板１６ｂ上を
Ｙ軸方向に微小移動可能な第１ステージ２２Ａと、この
第１ステージ２２Ａ上をＸ軸方向に微小移動可能な第２
ステージ２２Ｂとを有している。これらの第１ステージ
２２Ａ、第２ステージ２２Ｂは、それぞれの方向の駆動
機構３２Ｘ、３２Ｙ（但し、図１ではこれらを代表的に
駆動機構３２として図示）によって、Ｙ軸方向、Ｘ軸方
向にそれぞれ微小駆動される。ここで、この駆動機構３
２を構成するアクチュエータとしては、ピエゾ素子等の
高精度で、周波数特性の高いアクチュエータが用いられ
ている。

【００１８】従って、ウエハステージ２０側と同様第２
ステージ２２Ｂは天板部１６ｂ上でＸ軸方向、Ｙ軸方向
に２次元方向に微小移動できるようになっており、この
第２ステージ２２Ｂ上にマスクとしてのレチクルＲが保
持されている。すなわち、第２ステージ２２Ｂによって
レチクルＲを保持して２次元移動可能なマスクステージ
が構成されている。また、この第２ステージ２２Ｂの２
次元方向の位置座標は、レーザ干渉計３４Ｘ、３４Ｙ
（但し、図１ではこれらを代表的にレーザ干渉計３４と
して図示）によって常時計測されるようになっている。

【００１９】前記投影光学系ＰＬは、その光軸方向をＸ
Ｙ平面に直交する鉛直軸（Ｚ軸）方向として第２架台１
８に保持されており、この投影光学系ＰＬとしては、両
側テレセントリックで所定の縮小倍率（例えば１／５）
のものが使用されている。また、前記ウエハステージ２
０上のウエハＷの表面とレチクルステージ２２に保持さ
れたレチクルＲのパターン面とが、この投影光学系ＰＬ
に関して共役になるように設定されている。従って、レ
チクルＲとウエハＷのアライメントが行なわれた状態
で、照明光学系２４からの照明光によってレチクルＲが
照明されると、レチクルＲのパターンが投影光学系ＰＬ
を介して所定の縮小倍率で投影され、ウエハＷ上の所定
領域にパターンの縮小像が結像するようになっている。

【００２０】図２には、この露光装置１０のレチクルＲ
とウエハＷのアライメントに関連する制御系の構成が概
略的に示されている。この制御系は、ＣＰＵ、ＲＯＭ、
ＲＡＭ等を含んで構成されるマイクロコンピュータ（又
はミニコンピュータ）から成る主制御装置５０を中心に
構成されている。この主制御装置５０の入力側には、４
つのレーザ干渉計３０Ｘ，３０Ｙ，３４Ｘ，３４Ｙとア
ライメントセンサ２６とが接続され、この制御装置５０
の出力側には、ウエハステージ２０の駆動系４０と、レ
チクルステージ２２の駆動機構３２Ｘ、３２Ｙとが接続
されている。

【００２１】ここで、主制御装置５０内の不図示のメモ
リには、レチクルステージ２２（第２ステージ２２Ｂ）
からウエハステージ２０（Ｘステージ２０Ｘ）への振動
の伝達関数Ｇ（ｓ）（より正確には、Ｘ軸方向の伝達関
数Ｇ_X（ｓ）とＹ軸方向の伝達Ｇ_Y（ｓ））が予め格納
されている。

【００２２】この伝達関数Ｇ（ｓ）は、次のようにして
求められる。すなわち、主制御装置５０では駆動系４０
を介してＸステージ２０Ｘ、Ｙステージ２０Ｙを駆動し
て、Ｘステージ２０Ｘを任意の位置へ２次元移動させ
る。このＸステージ２０Ｘの移動が完了すると（この時
点では、未だ位置決め位置での整定は完了しておらず、
Ｘステージ２０Ｘは２次元方向に振動している）、主制
御装置５０では干渉計３０Ｘ、３０Ｙの出力と干渉計３
４Ｘ、３４Ｙとの出力（の時間変動）をＸステージ２０
Ｘの振動が停止するまでの間取り込む。

【００２３】そして、主制御装置５０では、干渉計３０
の出力より得られるウエハステージ２０（Ｘステージ２
０Ｘ）の振動ｗ（ｔ）と、そのときの干渉計３４の出力
より得られるレチクルステージ２２（第２ステージ２２
Ｂ）の振動ｒ（ｔ）と、第１架台１６の材質、形状等の
データをもとに、有限要素法等の方法で構造解析を行な
い、その結果より、次のようなレチクルステージ２２か
らウエハステージ２０への振動の伝達関数Ｇ（ｓ）を求
める。

【００２４】

【数１】Ｇ（ｓ）＝Ｗ（ｓ）／Ｒ（ｓ） ………（１）ここで、Ｗ（ｓ）は振動ｗ（ｔ）のラプラス変換であ
り、Ｒ（ｓ）は振動ｒ（ｔ）のラプラス変換であり、ｓ
は複素周波数である上記のような伝達関数の演算をＸ軸
方向、Ｙ軸方向のそれぞれの方向について別々に行なっ
て得られた伝達関数Ｇ_X（ｓ）及び伝達関数Ｇ_Y（ｓ）
が、メモリ内に格納されている。なお、これらの伝達関
数は、実験的にインパルス応答より求めても良い。

【００２５】次に、上述のようにして構成された露光装
置１０のレチクルＲとウエハＷのアライメント時の動作
について説明する。

【００２６】前提として、ウエハＷ上には、前回までの
露光により既に複数のショット領域が形成されており、
また、各ショット領域の設計上の位置データは不図示の
メモリ内に格納されているものとする。

【００２７】まず、主制御装置５０では、干渉計３０
Ｘ、３０Ｙの出力をモニタしつつ設計上の位置データに
基づいてウエハＷ上の所定のショット領域が露光位置
（投影光学系ＰＬのイメージフィールド内）に位置決め
されるように、駆動系４０を制御してＸステージ２０
Ｘ、Ｙステージ２０Ｙを駆動する。Ｘステージ２０Ｘ、
Ｙステージ２０Ｙの移動が完了すると、主制御装置５０
では干渉計３０Ｘ、３０Ｙの出力を取り込みながら、こ
の出力より得られるウエハステージ２０の振動ｆ（ｔ）
を相殺するための、レチクルステージ２２の振動ｉ
（ｔ）を後述するようにして演算し、この演算結果に基
づいて、レチクルステージ２２に振動ｉ（ｔ）が励起さ
れるように、レーザ干渉計３４Ｘ、３４Ｙの出力をモニ
タしつつ駆動機構３２Ｘ、３２Ｙをフィードバック制御
する。これにより、レチクルステージ２２を構成する第
１ステージ２２Ａ、第２ステージ２２Ｂの振動が励起さ
れ、この振動が第１架台１６を介してウエハステージ２
０に伝達され、これによりＸステージ２０Ｘの２次元方
向の振動が直ちに除去（相殺）される。

【００２８】ここで、上記のウエハステージ２０の振動
ｆ（ｔ）を相殺するための、レチクルステージ２２の振
動ｉ（ｔ）の演算方法について詳述する。ここでは、レ
チクルステージ２２の振動によりウエハステージ２０の
振動を相殺するのであるから、レチクルステージ２２の
振動ｉ（ｔ）を入力信号、そのラプラス変換をＩ（ｓ）
とすると、このレチクルステージ２２の振動ｉ（ｔ）は
第１架台１６を介してウエハステージ２０には、次式
（２）のように伝達される。

【００２９】

【数２】Ｏ（ｓ）＝Ｇ（ｓ）・Ｉ（ｓ） ………（２）ここで、Ｇ（ｓ）は、先に述べた伝達関数であり、Ｏ
（ｓ）は出力である振動のラプラス変換である。以下、
Ｏ（ｓ）を単に出力という。

【００３０】この出力Ｏ（ｓ）がウエハステージ２０の
振動Ｆ（ｓ）（Ｆ（ｓ）はｆ（ｔ）のラプラス変換であ
る）を相殺すればよいので、次のような関係が成立すれ
ばよい。

【００３１】

【数３】Ｆ（ｓ）＝−Ｏ（ｓ） ………（３）式（２）を変形すると、

【数４】Ｉ（ｓ）＝Ｏ（ｓ）／Ｇ（ｓ） ………（２）’ 式（２）’に式（３）を代入すると、

【数５】Ｉ（ｓ）＝−Ｆ（ｓ）／Ｇ（ｓ） ………（４）

【００３２】従って、主制御装置５０では、式（４）の
演算を行なって、レチクルステージ２２に振動ｉ（ｔ）
（ｉ（ｔ）はＩ（ｓ）の逆ラプラス変換）が励起される
ようにレーザ干渉計３４Ｘ、３４Ｙの出力をモニタしつ
つ駆動機構３２Ｘ、３２Ｙをフィードバック制御するの
である。なお、式（４）の演算は、実際には、Ｘ軸方
向、Ｙ軸方向のそれぞれについて行なわれる。

【００３３】上述のようにして、レチクルステージ２２
の振動によりウエハステージ２０（より正確には、Ｘス
テージ２０Ｘ）の２次元方向の振動を除去した状態でア
ライメントセンサ２６によりウエハＷ上の当該所定のシ
ョット領域に付設されたアライメントマークを検出し、
この検出結果に基づいて駆動系４０を介して不図示のθ
ステージ、Ｘステージ２０Ｘ、Ｙステージ２０Ｙを微小
駆動してレチクルＲとウエハＷのアライメント（位置合
わせ）を行なう。

【００３４】この露光装置１０では、ウエハＷ上のショ
ット領域が順次露光位置に位置決めされるようにＸステ
ージ２０Ｘのステップ移動を繰り返し、各ショット領域
の位置決め位置毎に上述したアライメント及びそのアラ
イメント後の照明光学系２４からの露光光（照明光）に
よるレチクルパターンの各ショット領域への露光を繰り
返し、このようにしてステップ・アンド・リピート方式
の露光を実行する。

【００３５】これまでの説明から明らかなように、本実
施例では、レーザ干渉計３０Ｘ、３０Ｙによって第１の
振動計測手段が構成され、レーザ干渉計３４Ｘ、３４Ｙ
によって第２の振動計測手段が構成されている。また、
駆動機構３２Ｘ、３２Ｙによって振動励起手段が構成さ
れ、主制御装置５０によって制御手段及び演算手段が構
成されている。

【００３６】以上説明したように、本実施例では、ステ
ップ・アンド・リピート方式の露光中の基板ステージと
してのＸステージ２０Ｘのステップ移動の際に位置決め
位置で生じる当該Ｘステージ２０Ｘの２次元方向の振動
（及びＸステージ２０Ｘ、Ｙステージ２０Ｙの移動に起
因するボディの振動の影響も含む）をレチクルステージ
２２の２次元方向の振動（より正確には、第１ステージ
２２ＡのＹ軸方向の振動及び第２ステージ２２ＢのＸ軸
方向の振動）により速やかに除去することができるの
で、スループットの低下を防止しつつアライメント精度
悪化の要因の一つを取り除くことができ、アライメント
精度の向上、ひいては重ね合わせ露光精度の向上を図る
ことができる。

【００３７】なお、上記実施例中の説明では、基板ステ
ージのステッピングの際の位置決め位置での振動を抑制
する場合について説明したが、基板ステージに振動が生
じた場合には、上記の位置決め位置での整定時に限ら
ず、いつでもこれを相殺するようなマスクステージの振
動を励起するように主制御装置５０によって駆動機構３
２Ｘ、３２Ｙが制御され、基板ステージの振動が除去さ
れる。

【００３８】また、上記実施例では、レチクルステージ
２２からウエハステージ２０への振動の伝達関数Ｇ
（ｓ）を予め求めてメモリに記憶しておき、ショット領
域のアライメントの際には、干渉計３０の出力から得ら
れるウエハステージ２０の振動のみを計測し、この計測
値と伝達関数Ｇ（ｓ）とに基づいて、ウエハステージ２
０の振動を除去するためのレチクルステージ２２の振動
量を演算しつつ、レチクルステージ２２に振動を励起す
る場合について例示したが、例えば、主制御装置５０が
非常に高速な演算処理能力を有するコンピュータにより
構成される場合には、前述した有限要素法等による構造
計算に基づく伝達関数の演算をも、ショット領域のアラ
イメントの際に行なうことは、理論上は可能である。し
かしながら、いくら高速な演算処理能力を有するコンピ
ュータと言えども、演算時間の分の遅れがでるので、上
記実施例で例示したように予め伝達関数を求めておく方
が現実的には好ましい。

【００３９】なお、式（４）から明らかなように、伝達
関数としては、レチクルステージ２２からウエハステー
ジ２０への振動の伝達関数Ｇ（ｓ）でなく、ウエハステ
ージ２０からレチクルステージ２２への振動の伝達関数
＝１／Ｇ（ｓ）を求めても良いことは勿論である。

【００４０】また、上記実施例では、ＴＴＬアライメン
トセンサを用いてウエハＷ上の各ショット領域のアライ
メント（ファインアライメント）を行なう露光装置に本
発明が適用された場合を例示したが、本発明の適用範囲
がこれに限定されるものではない。すなわち、ウエハ上
の任意の複数ショットのアライメントマークを例えばオ
フアクシスアライメントセンサ等により検出し、このア
ライメントマークの位置と、設計上のアライメントマー
クの位置座標データ、ショット領域の配列の設計データ
等を用いていわゆる最小二乗法を用いた統計的手法によ
りウエハ上の全てのショット領域の配列座標を決定する
いわゆるエンハンスト・グローバル・アライメント（Ｅ
ＧＡ）計測を行なう露光装置にも本発明は、好適に適用
できるものである。このような露光装置の場合にも、Ｅ
ＧＡ計測の際に、各ＥＧＡショットのアライメントマー
クの計測の際に、ウエハステージの振動が除去されれ
ば、スループットの低下を防止しつつ、アライメント精
度悪化の要因の一つを取り除くことができ、アライメン
ト精度の向上が期待できる。

【００４１】さらに、上記実施例では、ウエハステー
ジ、レチクルステージの振動を計測する第１、第２の振
動計測手段がレーザ干渉計により構成される場合を例示
したが、これに代えて加速度センサによりこれらの振動
計測手段を構成しても良く、あるいは、一方の計測手段
をレーザ干渉計により構成し、他方を加速度センサによ
り構成しても良い。このように振動計測手段として、加
速度センサを用いる場合には、複数の地点に加速度セン
サを設置して、より細かいステージの振舞いを観測する
ようにしても良い。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
スループットを低下させることなく、且つ基板ステージ
の振動を十分に抑制することができるという従来にない
優れた効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施例に係る露光装置の構成を概略的に示す
図である。

【図２】図１の装置のレチクルとウエハのアライメント
に関連する制御系の概略構成を示すブロック図である。

【符号の説明】

１０露光装置１６第１架台（架台）２０ＸＸステージ（基板ステージ）２２Ｂ第２ステージ（マスクステージ）３０Ｘレーザ干渉計（第１の振動計測手段）３０Ｙレーザ干渉計（第１の振動計測手段）３２Ｘ駆動機構（振動励起手段）３２Ｙ駆動機構（振動励起手段）３４Ｘレーザ干渉計（第２の振動計測手段）３４Ｙレーザ干渉計（第２の振動計測手段）５０主制御装置（制御手段、演算手段）Ｗウエハ（感光基板）Ｒレチクル（マスク）ＰＬ投影光学系

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】感光基板を露光位置に順次位置決めしつ
つ、マスクに形成されたパターンを投影光学系を介して
感光基板上に順次転写する露光装置であって、前記感光基板を載置して２次元方向に移動可能な基板ス
テージと；前記マスクを保持して前記２次元方向に微小
移動可能なマスクステージと；前記基板ステージ及びマ
スクステージが上下方向に所定間隔を隔てて搭載された
架台と；前記基板ステージの前記２次元方向の振動を計
測する第１の振動計測手段と；前記マスクステージの前
記２次元方向の振動を励起する振動励起手段と；前記第
１の振動計測手段の計測値と前記マスクステージ及び前
記基板ステージ相互間の所定の伝達関数とに基づいて前
記基板ステージの振動を打ち消すように前記振動励起手
段を制御する制御手段とを有する露光装置。
【請求項２】前記マスクステージの振動を計測する第
２の振動計測手段と、前記第１の振動計測手段の計測結
果と前記第２の振動計測手段の計測結果とを用いて前記
伝達関数を演算する演算手段を更に有する請求項１に記
載の露光装置。
【請求項３】前記第１及び第２の振動計測手段の内の
少なくとも一方が、前記各ステージの位置を計測するレ
ーザ干渉計であることを特徴とする請求項１又は２に記
載の露光装置。
【請求項４】前記第１及び第２の振動計測手段の内の
少なくとも一方が、加速度センサであることを特徴とす
る請求項１又は２に記載の露光装置。