JPH09218482A - 光像形成材料 - Google Patents
光像形成材料Info
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- JPH09218482A JPH09218482A JP8026482A JP2648296A JPH09218482A JP H09218482 A JPH09218482 A JP H09218482A JP 8026482 A JP8026482 A JP 8026482A JP 2648296 A JP2648296 A JP 2648296A JP H09218482 A JPH09218482 A JP H09218482A
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
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- G03C1/72—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705
- G03C1/73—Photosensitive compositions not covered by the groups G03C1/005 - G03C1/705 containing organic compounds
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
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- G—PHYSICS
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- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Heat Sensitive Colour Forming Recording (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光酸化剤を使って各種ロイコ染料をその対応
する染料にラジカル酸化発色する方法を用いた、熱定着
可能な光像形成材料において、定着後、明所、又は暗所
保存時に地肌部が発色しない（かぶらない）、かつ熱定
着時に装置内に汚れが発生しない光像形成材料を提供す
る。 【解決手段】 支持体上に、酸化発色可能なロイコ染料
並びに光酸化剤を内包するマイクロカプセル、及び該マ
イクロカプセルの外側に還元剤を含有する塗布層を形成
した光像形成材料において、該マイクロカプセル中に有
機イオウ系酸化防止剤を内包し、かつ該還元剤が２，
２’ーメチレンビス（４ーメチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）又は２，２’ーメチレンビス（４ーエチルー６
ーｔーブチルフェノール）である光像形成材料。
する染料にラジカル酸化発色する方法を用いた、熱定着
可能な光像形成材料において、定着後、明所、又は暗所
保存時に地肌部が発色しない（かぶらない）、かつ熱定
着時に装置内に汚れが発生しない光像形成材料を提供す
る。 【解決手段】 支持体上に、酸化発色可能なロイコ染料
並びに光酸化剤を内包するマイクロカプセル、及び該マ
イクロカプセルの外側に還元剤を含有する塗布層を形成
した光像形成材料において、該マイクロカプセル中に有
機イオウ系酸化防止剤を内包し、かつ該還元剤が２，
２’ーメチレンビス（４ーメチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）又は２，２’ーメチレンビス（４ーエチルー６
ーｔーブチルフェノール）である光像形成材料。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱定着可能な、ロ
イコ染料系光像形成材料に関するものであり、更に詳し
くは、熱定着後、明所、あるいは暗所保存時に地肌部が
発色しない（かぶらない）光像形成材料に関する。本発
明になる光像形成材料は、プルーフ紙、プリントアウト
紙、オーバーレイフィルム等に用いることができる。
イコ染料系光像形成材料に関するものであり、更に詳し
くは、熱定着後、明所、あるいは暗所保存時に地肌部が
発色しない（かぶらない）光像形成材料に関する。本発
明になる光像形成材料は、プルーフ紙、プリントアウト
紙、オーバーレイフィルム等に用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】従来、プルーフ紙、プリントアウト紙、
オーバーレイフィルム等の用途に用いることのできる光
像形成材料は、画像露光することで感光部分が可視化さ
れるいわゆるフリーラジカル写真として、多くの写真的
応用がなされてきている。これに関して特に有用なもの
は、光酸化剤を使って各種のロイコ染料をその対応する
染料にラジカル酸化発色する方法である。
オーバーレイフィルム等の用途に用いることのできる光
像形成材料は、画像露光することで感光部分が可視化さ
れるいわゆるフリーラジカル写真として、多くの写真的
応用がなされてきている。これに関して特に有用なもの
は、光酸化剤を使って各種のロイコ染料をその対応する
染料にラジカル酸化発色する方法である。
【０００３】しかし、これらは光に対して感受性である
が故に露光により染料画像を形成させた後においても、
通常の室内光線、太陽光又は白色光に曝された場合に、
あるいは暗所に保存中においても色形成が起こる。そこ
で画像露光後定着を行うという方法がいくつか提案され
ている。その中で、ロイコ染料と光酸化剤とが一緒にマ
イクロカプセル中に内包されており、かつ該マイクロカ
プセルの外側に還元剤を存在させて露光後に加熱処理を
行う事により定着を行う光像形成材料が見出されている
（特開平２ー４４号）。
が故に露光により染料画像を形成させた後においても、
通常の室内光線、太陽光又は白色光に曝された場合に、
あるいは暗所に保存中においても色形成が起こる。そこ
で画像露光後定着を行うという方法がいくつか提案され
ている。その中で、ロイコ染料と光酸化剤とが一緒にマ
イクロカプセル中に内包されており、かつ該マイクロカ
プセルの外側に還元剤を存在させて露光後に加熱処理を
行う事により定着を行う光像形成材料が見出されている
（特開平２ー４４号）。
【０００４】この光像形成材料の定着後の記録材料の保
存安定性を向上させるために、ハイドロキノン系の還元
剤（特開平３ー１９１３４１）を用いる事が知られてい
る。しかしながら、これらのハイドキノン系の還元剤は
定着後、明所、又は暗所保存時に地肌部が発色し易い
（かぶり易い）といる問題があり画像部と地肌（白色
部）のコントラストが低下するための品質劣化により十
分に満足のいく性能のものは得られていなかった。
存安定性を向上させるために、ハイドロキノン系の還元
剤（特開平３ー１９１３４１）を用いる事が知られてい
る。しかしながら、これらのハイドキノン系の還元剤は
定着後、明所、又は暗所保存時に地肌部が発色し易い
（かぶり易い）といる問題があり画像部と地肌（白色
部）のコントラストが低下するための品質劣化により十
分に満足のいく性能のものは得られていなかった。
【０００５】また上記ハイドロキノン系の還元剤、及び
特公昭６２ー３９７２８号に記載された環式フェニルヒ
ドラジド化合物、グアニジン誘導体、アルキレンジアミ
ン誘導体、ヒドロキシアミン誘導体、フェニルヒドラジ
ン化合物等の還元剤は、熱定着時に溶融した還元剤が蒸
散しやすい、あるいは一度溶融した還元剤がオイル状と
なり熱定着装置内に汚れがたまるという問題点を合わせ
て有していた。
特公昭６２ー３９７２８号に記載された環式フェニルヒ
ドラジド化合物、グアニジン誘導体、アルキレンジアミ
ン誘導体、ヒドロキシアミン誘導体、フェニルヒドラジ
ン化合物等の還元剤は、熱定着時に溶融した還元剤が蒸
散しやすい、あるいは一度溶融した還元剤がオイル状と
なり熱定着装置内に汚れがたまるという問題点を合わせ
て有していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、光酸化剤を使って各種ロイコ染料をその対応する染
料にラジカル酸化発色する方法を用いた、熱定着可能な
光像形成材料において、定着後、明所、又は暗所保存時
に地肌部が発色しない（かぶらない）、かつ熱定着時に
装置内に汚れが発生しない光像形成材料を提供すること
にある。
は、光酸化剤を使って各種ロイコ染料をその対応する染
料にラジカル酸化発色する方法を用いた、熱定着可能な
光像形成材料において、定着後、明所、又は暗所保存時
に地肌部が発色しない（かぶらない）、かつ熱定着時に
装置内に汚れが発生しない光像形成材料を提供すること
にある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の課題は、支持体
上に、酸化発色可能なロイコ染料並びに光酸化剤を内包
するマイクロカプセル、及び該マイクロカプセルの外側
に還元剤を含有する塗布層を形成した光像形成材料にお
いて、該マイクロカプセル中に有機イオウ系酸化防止剤
を内包し、かつ該還元剤が２，２’ーメチレンビス（４
ーメチルー６ーｔーブチルフェノール）又は２，２’ー
メチレンビス（４ーエチルー６ーｔーブチルフェノー
ル）である事を特徴とする光像形成材料により解決され
た。以下本発明について詳細に説明する。
上に、酸化発色可能なロイコ染料並びに光酸化剤を内包
するマイクロカプセル、及び該マイクロカプセルの外側
に還元剤を含有する塗布層を形成した光像形成材料にお
いて、該マイクロカプセル中に有機イオウ系酸化防止剤
を内包し、かつ該還元剤が２，２’ーメチレンビス（４
ーメチルー６ーｔーブチルフェノール）又は２，２’ー
メチレンビス（４ーエチルー６ーｔーブチルフェノー
ル）である事を特徴とする光像形成材料により解決され
た。以下本発明について詳細に説明する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明で使用する還元剤、２，
２’ーメチレンビス（４ーメチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）又は２，２’ーメチレンビス（４ーエチルー６
ーｔーブチルフェノール）は、他の公知還元剤に比べフ
リーラジカル捕捉能力が低く、ロイコ染料と光酸化剤か
らなる像形成材料の定着剤として使用しても、明所、又
は暗所保存時に地肌部が発色（かぶり）しやすいため、
従来は定着剤としての使用は試みられていなかった。一
方、加熱時の蒸散性が低く、かつ一度溶融しても再結晶
化して、オイル状のネバネバした形態にはならないため
熱定着時の装置内汚れは極めて少なかった。
２’ーメチレンビス（４ーメチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）又は２，２’ーメチレンビス（４ーエチルー６
ーｔーブチルフェノール）は、他の公知還元剤に比べフ
リーラジカル捕捉能力が低く、ロイコ染料と光酸化剤か
らなる像形成材料の定着剤として使用しても、明所、又
は暗所保存時に地肌部が発色（かぶり）しやすいため、
従来は定着剤としての使用は試みられていなかった。一
方、加熱時の蒸散性が低く、かつ一度溶融しても再結晶
化して、オイル状のネバネバした形態にはならないため
熱定着時の装置内汚れは極めて少なかった。
【０００９】そこで、装置の汚れが少ないという特徴を
維持したまま、定着性を向上させる方法を検討した結
果、マイクロカプセル中に有機イオウ系酸化防止剤を内
包する事により、還元剤として２，２’ーメチレンビス
（４ーメチルー６ーｔーブチルフェノール）、又は２，
２’ーメチレンビス（４ーエチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）を用いても、定着後、明所、又は暗所保存時の
地肌部の発色（かぶり）を防止できる事を見いだし、本
発明に至ったものである。
維持したまま、定着性を向上させる方法を検討した結
果、マイクロカプセル中に有機イオウ系酸化防止剤を内
包する事により、還元剤として２，２’ーメチレンビス
（４ーメチルー６ーｔーブチルフェノール）、又は２，
２’ーメチレンビス（４ーエチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）を用いても、定着後、明所、又は暗所保存時の
地肌部の発色（かぶり）を防止できる事を見いだし、本
発明に至ったものである。
【００１０】本発明に係わる有機イオウ系酸化防止剤と
しては、ポリオレフィン、スチレン系樹脂等の分野で二
次酸化防止剤としての使用が知られている化合物を用い
ることができる。
しては、ポリオレフィン、スチレン系樹脂等の分野で二
次酸化防止剤としての使用が知られている化合物を用い
ることができる。
【００１１】具体例としては、ジラウリルー３，３’ー
チオジプロピオネート、ジミリスチルー３，３’ーチオ
ジプロピオネート、ジステアリルー３，３’ーチオジプ
ロピオネート、ジトリデシルー３，３’ーチオジプロピ
オネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３ーラウリ
ルチオプロピオネート）等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。好ましい使用量は、還元剤に対
して、モル比で０．０１〜２、更に好ましくは０．０５
〜１の範囲である。
チオジプロピオネート、ジミリスチルー３，３’ーチオ
ジプロピオネート、ジステアリルー３，３’ーチオジプ
ロピオネート、ジトリデシルー３，３’ーチオジプロピ
オネート、ペンタエリスリチルテトラキス（３ーラウリ
ルチオプロピオネート）等が挙げられるが、これらに限
定されるものではない。好ましい使用量は、還元剤に対
して、モル比で０．０１〜２、更に好ましくは０．０５
〜１の範囲である。
【００１２】本発明に使用するロイコ染料としては、例
えば米国特許３４４５２３４号明細書に記載されている
ものが好ましく、ここに参照として記載する。 （Ａ） アミノトリアリールメタン、アミノキサンテ
ン、アミノオキサンテン、アミノー９、１０ージヒドロ
アクリジン、アミノフェノキサジン、アミノフェノチア
ジン、アミノジヒドロフェナジン、アミノジフェニルメ
タン、ロイコインダミン、（Ｂ）アミノヒドロ桂皮酸
（シアノエタン）、ヒドラジン、ロイコインジゴイド染
料、アミノー２、３ージドロアントラキノン、テトラハ
ローｐ，ｐービフェノール、２ー（ｐーヒドロキシフェ
ニル）ー４、５ージフェニルイミダゾール、フェネチル
アニリン。
えば米国特許３４４５２３４号明細書に記載されている
ものが好ましく、ここに参照として記載する。 （Ａ） アミノトリアリールメタン、アミノキサンテ
ン、アミノオキサンテン、アミノー９、１０ージヒドロ
アクリジン、アミノフェノキサジン、アミノフェノチア
ジン、アミノジヒドロフェナジン、アミノジフェニルメ
タン、ロイコインダミン、（Ｂ）アミノヒドロ桂皮酸
（シアノエタン）、ヒドラジン、ロイコインジゴイド染
料、アミノー２、３ージドロアントラキノン、テトラハ
ローｐ，ｐービフェノール、２ー（ｐーヒドロキシフェ
ニル）ー４、５ージフェニルイミダゾール、フェネチル
アニリン。
【００１３】これらのロイコ型の中で（Ａ）は一個の水
素原子を失うことにより、（Ｂ）は二個の水素原子を失
うことにより母体染料を生成する。
素原子を失うことにより、（Ｂ）は二個の水素原子を失
うことにより母体染料を生成する。
【００１４】具体的には、トリス（４ージメチアミノフ
ェニル）メタン、トリス（４ージエチルアミノフェニ
ル）メタン、トリス（４ージエチルアミノー２ーメチル
フェニル）メタン、ビス（４ージエチルアミノフェニ
ル）ー（４ージエチルアミノー２ーメチルフェニル）メ
タン、ビス（４ージエチルアミノー２ーメチルフェニ
ル）ー（４ージエチルアミノフェニル）メタン、ビス
（１ーエチルー２ーメチルインドールー３ーイル）ーフ
ェニルメタン、２ーＮー（３ートリフルオロメチルフェ
ニル）ーＮーエチルアミノー６ージエチルアミノー９ー
（２ーメトキシカルボニルフェニル）キサンテン、２ー
（２ークロロフェニル）アミノー６ージブチルアミノー
９ー（２ーメトキシカルボニルフェニル）キサンテン、
２ージベンジルアミノー６ージエチルアミノー９ー（２
ーメトキシカルボニルフェニル）キサンテン、ベンゾ
［ａ］ー６ーＮ，Ｎージエチルアミノー９ー（２ーメト
キシカルボニルフェニル）キサンテン、２ー（２ークロ
ロフェニル）ーアミノー６ージブチルアミノー９ー（２
ーメチルフェニルカルボキサミドフェニル）キサンテ
ン、３、６ージメトキシー９ー（２ーメトキシカルボニ
ル）ーフェニルキサンテン、ベンゾイルロイコメチレン
ブルー、３，７ービスージエチルアミノフェノキサジン
等を挙げることができる。
ェニル）メタン、トリス（４ージエチルアミノフェニ
ル）メタン、トリス（４ージエチルアミノー２ーメチル
フェニル）メタン、ビス（４ージエチルアミノフェニ
ル）ー（４ージエチルアミノー２ーメチルフェニル）メ
タン、ビス（４ージエチルアミノー２ーメチルフェニ
ル）ー（４ージエチルアミノフェニル）メタン、ビス
（１ーエチルー２ーメチルインドールー３ーイル）ーフ
ェニルメタン、２ーＮー（３ートリフルオロメチルフェ
ニル）ーＮーエチルアミノー６ージエチルアミノー９ー
（２ーメトキシカルボニルフェニル）キサンテン、２ー
（２ークロロフェニル）アミノー６ージブチルアミノー
９ー（２ーメトキシカルボニルフェニル）キサンテン、
２ージベンジルアミノー６ージエチルアミノー９ー（２
ーメトキシカルボニルフェニル）キサンテン、ベンゾ
［ａ］ー６ーＮ，Ｎージエチルアミノー９ー（２ーメト
キシカルボニルフェニル）キサンテン、２ー（２ークロ
ロフェニル）ーアミノー６ージブチルアミノー９ー（２
ーメチルフェニルカルボキサミドフェニル）キサンテ
ン、３、６ージメトキシー９ー（２ーメトキシカルボニ
ル）ーフェニルキサンテン、ベンゾイルロイコメチレン
ブルー、３，７ービスージエチルアミノフェノキサジン
等を挙げることができる。
【００１５】本発明の光像形成材料に使用できる好まし
い光酸化剤は通常不活性であるが、可視光線、紫外線、
赤外線、Ｘ線のような活性輻射線に露光されると、ロイ
コ染料をその発色型に酸化する化学種を生じるものであ
る。
い光酸化剤は通常不活性であるが、可視光線、紫外線、
赤外線、Ｘ線のような活性輻射線に露光されると、ロイ
コ染料をその発色型に酸化する化学種を生じるものであ
る。
【００１６】代表的な光酸化剤としては特公昭６２−３
９７２８号、特公昭６３−２０９９号記載の２、２’ー
ビス（ｏークロロフェニル）ー４，４’，５，５’ーテ
トラフェニルビイミダゾール、２，２’ービス（ｏート
リフルオロメチルフェニル）ー４，４’５，５’ーテト
ラフェニルビイミダゾール、２，２’ービス（ｏートリ
フルオロメチルフェニル）ー４，４’５，５’ーテトラ
キス（４ーメトキシフェニル）イミダゾール、２，２’
ービス（ｏートリフルオロメチルフェニル）ー４，４’
５，５’ーテトラキス（３，４ーメチレンジオキシフェ
ニル）イミダゾール、２、２’ービス（ｏーニトロフェ
ニル）ー４，４’，５，５’ーテトラフェニルビイミダ
ゾール、２、２’ービス（２，３ージクロロフェニル）
ー４，４’，５，５’ーテトラフェニルビイミダゾー
ル、２、２’ービス（２，３ージクロロフェニル）ー
４，４’，５，５’ーテトラキス（３ーメトキシフェニ
ル）イミダゾール、２，２’，５ートリス（ｏークロロ
フェニル）ー４ー（３，４ージメトキシフェニル）ー
４’，５’ージフェニルビイミダゾールの如きロフィン
ダイマー化合物、米国特許３２８２６９３号記載の２ー
アジドベンゾオキサゾール、ベンゾイルアジド、２ーア
ジドベンズイミダゾールの如きアジド化合物、米国特許
３６１５５６８号記載の３’ーエチルー１ーメトキシー
２ーピリドチアシアニンパクロレート、１ーメトキシー
２ーメチルピリジニウムーｐートルエンスホネート等の
ピリジニウム化合物、Ｎーブロモサクシンイミド、トリ
ブロモメチルフェニルスルホン、２ートリクロロメチル
ー５ー（ｐーブトキシスチリル）ー１，３，４ーオキサ
ジアゾール、２，６ージトリクロロメチルー４ー（ｐー
メトキシフェニル）ートリアジン等の有機ハロゲン化合
物、日本写真学会１９６８年春期研究発表会講演要旨５
５ページ記載のアジドポリマー等を挙げることができ
る。これらのうちロフィンダイマー化合物及び有機ハロ
ゲン化合物が好ましく、更に両者の併用が高感度化を実
現できるので最適である。
９７２８号、特公昭６３−２０９９号記載の２、２’ー
ビス（ｏークロロフェニル）ー４，４’，５，５’ーテ
トラフェニルビイミダゾール、２，２’ービス（ｏート
リフルオロメチルフェニル）ー４，４’５，５’ーテト
ラフェニルビイミダゾール、２，２’ービス（ｏートリ
フルオロメチルフェニル）ー４，４’５，５’ーテトラ
キス（４ーメトキシフェニル）イミダゾール、２，２’
ービス（ｏートリフルオロメチルフェニル）ー４，４’
５，５’ーテトラキス（３，４ーメチレンジオキシフェ
ニル）イミダゾール、２、２’ービス（ｏーニトロフェ
ニル）ー４，４’，５，５’ーテトラフェニルビイミダ
ゾール、２、２’ービス（２，３ージクロロフェニル）
ー４，４’，５，５’ーテトラフェニルビイミダゾー
ル、２、２’ービス（２，３ージクロロフェニル）ー
４，４’，５，５’ーテトラキス（３ーメトキシフェニ
ル）イミダゾール、２，２’，５ートリス（ｏークロロ
フェニル）ー４ー（３，４ージメトキシフェニル）ー
４’，５’ージフェニルビイミダゾールの如きロフィン
ダイマー化合物、米国特許３２８２６９３号記載の２ー
アジドベンゾオキサゾール、ベンゾイルアジド、２ーア
ジドベンズイミダゾールの如きアジド化合物、米国特許
３６１５５６８号記載の３’ーエチルー１ーメトキシー
２ーピリドチアシアニンパクロレート、１ーメトキシー
２ーメチルピリジニウムーｐートルエンスホネート等の
ピリジニウム化合物、Ｎーブロモサクシンイミド、トリ
ブロモメチルフェニルスルホン、２ートリクロロメチル
ー５ー（ｐーブトキシスチリル）ー１，３，４ーオキサ
ジアゾール、２，６ージトリクロロメチルー４ー（ｐー
メトキシフェニル）ートリアジン等の有機ハロゲン化合
物、日本写真学会１９６８年春期研究発表会講演要旨５
５ページ記載のアジドポリマー等を挙げることができ
る。これらのうちロフィンダイマー化合物及び有機ハロ
ゲン化合物が好ましく、更に両者の併用が高感度化を実
現できるので最適である。
【００１７】本発明の光像形成材料の製造にあたって
は、ロイコ染料と光酸化剤とをモル比で１０：１〜１：
１０の割合で混合するとよく、更に好ましい混合比は
２：１〜１：２である。
は、ロイコ染料と光酸化剤とをモル比で１０：１〜１：
１０の割合で混合するとよく、更に好ましい混合比は
２：１〜１：２である。
【００１８】本発明において好ましいカプセルは、常温
ではマイクロカプセル壁の物質隔離作用によりカプセル
内外の物質の接触を妨げ、ある温度以上に加熱された時
のみ物質の透過性が上がるものであり、その透過開始温
度は、カプセル壁材、カプセル芯物質、添加剤を適宜選
ぶことによって、自由にコントロールすることができ
る。この場合の透過開始温度は、カプセル壁のガラス転
移温度に相当するものである。
ではマイクロカプセル壁の物質隔離作用によりカプセル
内外の物質の接触を妨げ、ある温度以上に加熱された時
のみ物質の透過性が上がるものであり、その透過開始温
度は、カプセル壁材、カプセル芯物質、添加剤を適宜選
ぶことによって、自由にコントロールすることができ
る。この場合の透過開始温度は、カプセル壁のガラス転
移温度に相当するものである。
【００１９】カプセル壁固有のガラス転移温度を制御す
るには、カプセル壁形成剤の種類を変える事が必要であ
る。本発明において使用し得る壁材料としては、ポリウ
レタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエステル、ポリ
カーボネート等が挙げられる。この中で特にポリウレタ
ン及びポリウレアが好ましい。
るには、カプセル壁形成剤の種類を変える事が必要であ
る。本発明において使用し得る壁材料としては、ポリウ
レタン、ポリウレア、ポリアミド、ポリエステル、ポリ
カーボネート等が挙げられる。この中で特にポリウレタ
ン及びポリウレアが好ましい。
【００２０】本発明で使用するマイクロカプセルは、ロ
イコ染料及び光酸化剤等の光像形成物質を含有した芯物
質を乳化した後、その乳化油滴の周囲に高分子物質の壁
を形成して作られる。この場合壁を形成するリアクタン
トを油滴の内部及び／又は油滴の外部に添加する。
イコ染料及び光酸化剤等の光像形成物質を含有した芯物
質を乳化した後、その乳化油滴の周囲に高分子物質の壁
を形成して作られる。この場合壁を形成するリアクタン
トを油滴の内部及び／又は油滴の外部に添加する。
【００２１】上記の光像形成物質を溶解する有機溶剤と
しては高沸点オイルが用いられ、具体的にはリン酸エス
テル、フタル酸エステル、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、その他のカルボン酸エステル、脂肪酸
アミド、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニ
ル、アルキル化ナフタレン、ジアリールエタン、塩化化
パラフィン等が挙げられる。本発明においては、上記の
有機溶剤に低沸点の補助溶剤を加えることもできる。補
助溶剤の具体例としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、シクロヘキサノ
ン等が挙げられる。
しては高沸点オイルが用いられ、具体的にはリン酸エス
テル、フタル酸エステル、アクリル酸エステル、メタク
リル酸エステル、その他のカルボン酸エステル、脂肪酸
アミド、アルキル化ビフェニル、アルキル化ターフェニ
ル、アルキル化ナフタレン、ジアリールエタン、塩化化
パラフィン等が挙げられる。本発明においては、上記の
有機溶剤に低沸点の補助溶剤を加えることもできる。補
助溶剤の具体例としては、酢酸エチル、酢酸イソプロピ
ル、酢酸ブチル、メチレンクロライド、シクロヘキサノ
ン等が挙げられる。
【００２２】乳化油滴を安定に作るために、水相に保護
コロイドや界面活性剤を添加することができる。保護コ
ロイドとしては、一般的にポリビニルアルコールやゼラ
チン等の水溶性高分子が使用可能である。
コロイドや界面活性剤を添加することができる。保護コ
ロイドとしては、一般的にポリビニルアルコールやゼラ
チン等の水溶性高分子が使用可能である。
【００２３】本発明においては、マイクロカプセルのサ
イズは、特に画像の解像度向上及び取扱い性の点から体
積平均で１０μｍ以下が好ましく、更に好ましくは４μ
ｍ以下である。下限は約０．２μｍである。
イズは、特に画像の解像度向上及び取扱い性の点から体
積平均で１０μｍ以下が好ましく、更に好ましくは４μ
ｍ以下である。下限は約０．２μｍである。
【００２４】本発明の光像形成材料において、使用前の
安定性を更に付与するために、有機イオウ系酸化防止剤
以外の酸化防止剤をマイクロカプセル中に含有させるこ
とができる。このような酸化防止剤としては、フェノー
ル系化合物、ハイドロキノン系化合物、カテコール系化
合物、アニリン系化合物などが好ましい。具体的には、
２，６ージーｔーブチルー４ーメチルフェノール、２，
４，６ートリーｔーブチルフェノール、２，５ージーｔ
ーブチルハイドロキノン、２，３ージーｔーブチルハイ
ドロキノン、２，５ージーｔーオクチルハイドロキノ
ン、２，３ージーｔーブチルハイドロキノン、２，５ー
ジーｔーオクチルハイドロキノン、２，５−ジーｔーア
ミルハイドロキノン、３，６−ジーｔーブチルカテコー
ル、Ｎ，Ｎージオクチルアニリン、Ｎ，Ｎージメチルー
ｐートルイジン、Ｎ，Ｎージブチルーｍートルイジン、
Ｎ，Ｎージエチルーｍーフェネチジン、Ｎ，Ｎージエチ
ルアミノーｍーオクチルオキシベンゼン、６ーエトキシ
ー１，２，３，４ーテトラヒドロー２，２，４ートリメ
チルキノリン、１，２ービス（ｍージメチルアミノフェ
ノキシ）エタン、１，２ービス（ｍージエチルアミノフ
ェノキシ）エタン、１，３ービス（ｍージエチルアミノ
フェノキシ）プロパンなどが挙げられる。
安定性を更に付与するために、有機イオウ系酸化防止剤
以外の酸化防止剤をマイクロカプセル中に含有させるこ
とができる。このような酸化防止剤としては、フェノー
ル系化合物、ハイドロキノン系化合物、カテコール系化
合物、アニリン系化合物などが好ましい。具体的には、
２，６ージーｔーブチルー４ーメチルフェノール、２，
４，６ートリーｔーブチルフェノール、２，５ージーｔ
ーブチルハイドロキノン、２，３ージーｔーブチルハイ
ドロキノン、２，５ージーｔーオクチルハイドロキノ
ン、２，３ージーｔーブチルハイドロキノン、２，５ー
ジーｔーオクチルハイドロキノン、２，５−ジーｔーア
ミルハイドロキノン、３，６−ジーｔーブチルカテコー
ル、Ｎ，Ｎージオクチルアニリン、Ｎ，Ｎージメチルー
ｐートルイジン、Ｎ，Ｎージブチルーｍートルイジン、
Ｎ，Ｎージエチルーｍーフェネチジン、Ｎ，Ｎージエチ
ルアミノーｍーオクチルオキシベンゼン、６ーエトキシ
ー１，２，３，４ーテトラヒドロー２，２，４ートリメ
チルキノリン、１，２ービス（ｍージメチルアミノフェ
ノキシ）エタン、１，２ービス（ｍージエチルアミノフ
ェノキシ）エタン、１，３ービス（ｍージエチルアミノ
フェノキシ）プロパンなどが挙げられる。
【００２５】本発明の光像形成材料の製造にあたり、光
酸化剤と有機イオウ系酸化防止剤以外の酸化防止剤とを
モル比で１０：０．００１〜１０：２の割合で混合する
とよく、更に好ましい混合比は１０：０．０１〜１０：
１である。
酸化剤と有機イオウ系酸化防止剤以外の酸化防止剤とを
モル比で１０：０．００１〜１０：２の割合で混合する
とよく、更に好ましい混合比は１０：０．０１〜１０：
１である。
【００２６】本発明において、熱定着時の定着促進剤と
してカプセル壁材（ポリマー）に対して可塑性を持つ化
合物の中から、常温で固体であるものを選択して用いる
事ができる。例えば、フェノール系化合物、ビスフェノ
ール系化合物、没食子酸系化合物、有機スルホンアミド
化合物、アリールアミド化合物等が適宜用いられる。具
体例としては、２，２ービス（４ーヒドロキシフェニ
ル）プロパン、４，４’ー［１，４ーフェニレンビス
（１ーメチルエチリデン）］ビスフェノール、ｐ−トル
エンスルホンアミド、没食子酸ラウリル等が挙げられ
る。
してカプセル壁材（ポリマー）に対して可塑性を持つ化
合物の中から、常温で固体であるものを選択して用いる
事ができる。例えば、フェノール系化合物、ビスフェノ
ール系化合物、没食子酸系化合物、有機スルホンアミド
化合物、アリールアミド化合物等が適宜用いられる。具
体例としては、２，２ービス（４ーヒドロキシフェニ
ル）プロパン、４，４’ー［１，４ーフェニレンビス
（１ーメチルエチリデン）］ビスフェノール、ｐ−トル
エンスルホンアミド、没食子酸ラウリル等が挙げられ
る。
【００２７】本発明において、還元剤あるいは定着促進
剤は、水溶性高分子を保護コロイドとしてサンドミル等
により固体分散するか、もしくは水に難溶性又は不溶性
の有機溶剤に溶解せしめた後、これを界面活性剤を含有
した水溶性高分子を保護コロイドとして有する水相と混
合し、乳化分散した分散物の形で使用することが好まし
い。
剤は、水溶性高分子を保護コロイドとしてサンドミル等
により固体分散するか、もしくは水に難溶性又は不溶性
の有機溶剤に溶解せしめた後、これを界面活性剤を含有
した水溶性高分子を保護コロイドとして有する水相と混
合し、乳化分散した分散物の形で使用することが好まし
い。
【００２８】本発明において、還元剤の使用量は光酸化
剤成分のモル基準で１〜１００倍モルであり、更に好ま
しくは１〜１０倍モル量である。
剤成分のモル基準で１〜１００倍モルであり、更に好ま
しくは１〜１０倍モル量である。
【００２９】本発明において、定着促進剤の使用量は還
元剤の重量基準で０．０５〜１０倍量であり、更に好ま
しくは０．１〜５倍量である。
元剤の重量基準で０．０５〜１０倍量であり、更に好ま
しくは０．１〜５倍量である。
【００３０】本発明による光像形成材料は、このような
ロイコ染料、光酸化剤及び有機イオウ系酸化防止剤を内
包したマイクロカプセルと還元剤を含む分散物として支
持体上に塗布して作ることができる。上記の分散物にバ
インダー、顔料、ワックス類、金属石けん、定着促進剤
の分散物、あるいは界面活性剤を加えてもよい。
ロイコ染料、光酸化剤及び有機イオウ系酸化防止剤を内
包したマイクロカプセルと還元剤を含む分散物として支
持体上に塗布して作ることができる。上記の分散物にバ
インダー、顔料、ワックス類、金属石けん、定着促進剤
の分散物、あるいは界面活性剤を加えてもよい。
【００３１】本発明における光像形成層の塗布量として
は固形分換算で１〜３０ｇ／ｍ2、特に２〜１０ｇ／ｍ2
が好ましい。
は固形分換算で１〜３０ｇ／ｍ2、特に２〜１０ｇ／ｍ2
が好ましい。
【００３２】支持体に適する材料は、上質紙を始めとす
る紙類、合成紙、ポリエチレン等をラミネートした紙
類、再生セルロース、酢酸セルロース、硝酸セルロー
ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
ビニルアセテート、ポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルクロライド、ポリカーボネート等が挙げられる。
る紙類、合成紙、ポリエチレン等をラミネートした紙
類、再生セルロース、酢酸セルロース、硝酸セルロー
ス、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリ
ビニルアセテート、ポリメチルメタクリレート、ポリビ
ニルクロライド、ポリカーボネート等が挙げられる。
【００３３】支持体に塗布する方法としては、エアーナ
イフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、
ローラーコート法、ディップコート法、ワイヤーバーコ
ート法、ブレードコート法、グラビアコート法、スピン
コート法あるいはエクストルージョイントコート法が挙
げられるが、これらに限定されるものではない。
イフコート法、カーテンコート法、スライドコート法、
ローラーコート法、ディップコート法、ワイヤーバーコ
ート法、ブレードコート法、グラビアコート法、スピン
コート法あるいはエクストルージョイントコート法が挙
げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３４】必要により支持体上に下塗り層を設けた
り、あるいは光像形成層上に被膜層を設けたりしてもよ
い。下塗り層や被膜層は主成分としてバインダー及び／
又は顔料を含んでいる。
り、あるいは光像形成層上に被膜層を設けたりしてもよ
い。下塗り層や被膜層は主成分としてバインダー及び／
又は顔料を含んでいる。
【００３５】本発明においてはいかなる便利な光源も光
酸化剤の活性化及びロイコ染料の像形成のために使用す
る事ができる。慣用の光源は蛍光ランプ、水銀ランプ、
メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステン
ランプ等を包含する。
酸化剤の活性化及びロイコ染料の像形成のために使用す
る事ができる。慣用の光源は蛍光ランプ、水銀ランプ、
メタルハライドランプ、キセノンランプ、タングステン
ランプ等を包含する。
【００３６】以下に実施例を示すが、本発明はこれに限
定されるものではない。尚添加量を示す「部」は「重量
部」である。
定されるものではない。尚添加量を示す「部」は「重量
部」である。
【００３７】
実施例１ トリス（４ージメチルアミノフェニル）メタン１部、ト
リス（４ージエチルアミノー２ーメチルフェニル）メタ
ン２．３部、２，２’ービスー（ｏークロロフェニル）
ー４，４’，５，５’ーテトラフェニルビイミダゾール
６．７部、トリブロモメチルフェニルスルホン１．３
部、２，５ージーｔーオクチルハイドロキノン０．６
部、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート１
６．１部及びキシリレンジイソシアネート／トリメチロ
ールプロパン付加物の７５重量％酢酸エチル溶液３３部
を、酢酸エチル５４部とトリキシレニルホスフェート３
４部の混合溶媒に溶解した。この溶液を、カルボキシ変
性ポリビニルアルコール４重量％水溶液２７０部の中に
添加し、２０℃で乳化分散し、体積平均粒径１．３μｍ
の乳化液を得た。得られた乳化液に水８８部を加え、５
０℃にて３時間撹拌しつづけた。その後室温にもどし、
濾過してカプセル液を得た。このカプセル液の固形分濃
度を測定したところ２５重量％であった。
リス（４ージエチルアミノー２ーメチルフェニル）メタ
ン２．３部、２，２’ービスー（ｏークロロフェニル）
ー４，４’，５，５’ーテトラフェニルビイミダゾール
６．７部、トリブロモメチルフェニルスルホン１．３
部、２，５ージーｔーオクチルハイドロキノン０．６
部、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート１
６．１部及びキシリレンジイソシアネート／トリメチロ
ールプロパン付加物の７５重量％酢酸エチル溶液３３部
を、酢酸エチル５４部とトリキシレニルホスフェート３
４部の混合溶媒に溶解した。この溶液を、カルボキシ変
性ポリビニルアルコール４重量％水溶液２７０部の中に
添加し、２０℃で乳化分散し、体積平均粒径１．３μｍ
の乳化液を得た。得られた乳化液に水８８部を加え、５
０℃にて３時間撹拌しつづけた。その後室温にもどし、
濾過してカプセル液を得た。このカプセル液の固形分濃
度を測定したところ２５重量％であった。
【００３８】次に、２，２’−メチレンビス（４−エチ
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）１０部、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２１部を、ジ−
（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウムの２
重量％水溶液１７部、カルボキシ変性ポリビニルアルコ
ール１０重量％水溶液４７部、及び水４９部の混合水溶
液に添加し撹拌後、横型サンドミル（Ｗｅｂ社ダイノミ
ル）にて分散して、体積平均粒径１．３μｍの還元剤含
有分散液を得た。分散液の固形分濃度を測定したところ
２５重量％であった。
ル−６−ｔ−ブチルフェノール）１０部、２，２−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）プロパン２１部を、ジ−
（２−エチルヘキシル）スルホコハク酸ナトリウムの２
重量％水溶液１７部、カルボキシ変性ポリビニルアルコ
ール１０重量％水溶液４７部、及び水４９部の混合水溶
液に添加し撹拌後、横型サンドミル（Ｗｅｂ社ダイノミ
ル）にて分散して、体積平均粒径１．３μｍの還元剤含
有分散液を得た。分散液の固形分濃度を測定したところ
２５重量％であった。
【００３９】次に下記の組成の塗布液を調整した。 ◆上記カプセル分散液（２５重量％） １００部 ◆上記還元剤含有分散液（２５重量％） ８９部 ◆２０％シリカ（サイロイド４０４、富士デビソン化学製分散液） ６部 ◆１０％ポリビニルアルコール水溶液（ＰＶＡ−１１７、クラレ製） ２０部 ◆１０％スルホコハク酸４−メチルペンチルエステル水溶液 ２部
【００４０】この塗布液を上質紙（坪量７６ｇ／ｍ2）
に自由落下カーテン塗布方式を用い固形分塗布量が６ｇ
／ｍ2になるように塗布し、乾燥中の表面温度が６０℃
以上にならないように乾燥温度を調節して乾燥し、光像
形成材料を得た。
に自由落下カーテン塗布方式を用い固形分塗布量が６ｇ
／ｍ2になるように塗布し、乾燥中の表面温度が６０℃
以上にならないように乾燥温度を調節して乾燥し、光像
形成材料を得た。
【００４１】実施例２ 実施例１における２，２’−メチレンビス（４−エチル
−６−ｔ−ブチルフェノール）１０部の代わりに、２，
２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）を用いた以外は実施例１と同様の方法により、
光像形成材料を得た。
−６−ｔ−ブチルフェノール）１０部の代わりに、２，
２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェ
ノール）を用いた以外は実施例１と同様の方法により、
光像形成材料を得た。
【００４２】実施例３ 実施例１におけるジトリデシル−３，３’−チオジプロ
ピオネート１６．１部の代わりに、ジラウリル−３，
３’−チオジプロピオネート１５．３部を用いた以外は
実施例１と同様の方法により、光像形成材料を得た。
ピオネート１６．１部の代わりに、ジラウリル−３，
３’−チオジプロピオネート１５．３部を用いた以外は
実施例１と同様の方法により、光像形成材料を得た。
【００４３】比較例１ 実施例１におけるジトリデシル−３，３’−チオジプロ
ピオネート１６．１部を使用しない以外は実施例１と同
様の方法により、光像形成材料を得た。
ピオネート１６．１部を使用しない以外は実施例１と同
様の方法により、光像形成材料を得た。
【００４４】比較例２ ２，５−ジ−ｔ−オクチルハイドロキノン１０部及び
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１６
部をカルボキシ編成ポリビニルアルコール６重量％水溶
液６５部に加えて横型サンドミルにて分散して、体積平
均粒径１．０μｍの還元剤含有分散液を得た。
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン１６
部をカルボキシ編成ポリビニルアルコール６重量％水溶
液６５部に加えて横型サンドミルにて分散して、体積平
均粒径１．０μｍの還元剤含有分散液を得た。
【００４５】次に下記の組成の塗布液を調整した。 ◆実施例１で作成したカプセル分散液（２５重量％） １００部 ◆上記還元剤含有分散液 ７５部 ◆２０％シリカ（サイロイド４０４、富士デビソン化学製分散液） ６部 ◆１０％ポリビニルアルコール水溶液（ＰＶＡ−１１７、クラレ製） ２０部 ◆１０％スルホコハク酸４−メチルペンチルエステル水溶液 ２部
【００４６】この塗布液を上質紙（坪量７６ｇ／ｍ2）
に自由落下カーテン塗布方式を用い固形分塗布量が６ｇ
／ｍ2になるように塗布し、乾燥中の表面温度が６０℃
以上にならないように乾燥温度を調節して乾燥し、光像
形成材料を得た。
に自由落下カーテン塗布方式を用い固形分塗布量が６ｇ
／ｍ2になるように塗布し、乾燥中の表面温度が６０℃
以上にならないように乾燥温度を調節して乾燥し、光像
形成材料を得た。
【００４７】比較例３ １−フェニルピラゾリン−３−オン（フェニドンＡ）
９．４部及びｐ−トルエンスルホンアミド０．９部をカ
ルボキシ編成ポリビニルアルコール６重量％水溶液２３
部に加えて横型サンドミルにて分散して、体積平均粒径
１．０μｍの還元剤含有分散液を得た。
９．４部及びｐ−トルエンスルホンアミド０．９部をカ
ルボキシ編成ポリビニルアルコール６重量％水溶液２３
部に加えて横型サンドミルにて分散して、体積平均粒径
１．０μｍの還元剤含有分散液を得た。
【００４８】次に下記の組成の塗布液を調整した。 ◆比較例１で作成したカプセル分散液（２５重量％） １００部 ◆上記還元剤含有分散液 ７５部 ◆２０％シリカ（サイロイド４０４、富士デビソン化学製分散液） ６部 ◆１０％ポリビニルアルコール水溶液（ＰＶＡ−１１７、クラレ製） ２０部 ◆１０％スルホコハク酸４−メチルペンチルエステル水溶液 ２部
【００４９】この塗布液を上質紙（坪量７６ｇ／ｍ2）
に自由落下カーテン塗布方式を用い固形分塗布量が６ｇ
／ｍ2になるように塗布し、乾燥中の表面温度が６０℃
以上にならないように乾燥温度を調節して乾燥し、光像
形成材料を得た。
に自由落下カーテン塗布方式を用い固形分塗布量が６ｇ
／ｍ2になるように塗布し、乾燥中の表面温度が６０℃
以上にならないように乾燥温度を調節して乾燥し、光像
形成材料を得た。
【００５０】実施例１〜３及び比較例１〜３で得た光像
形成材料の試験を以下の様に行った。結果を表−１に示
す。
形成材料の試験を以下の様に行った。結果を表−１に示
す。
【００５１】（１）画像濃度、定着直後の地肌濃度 塗布直後のサンプルに対して、線画の原稿を介してジェ
ットライト（超高圧水銀灯、オーク製）により光照射
し、青色の画像を得た。ついで１３０℃の加熱ローラー
に４５０ｍｍ／分の速度で通し未露光部を定着した（富
士写真フイルム社製ＣＡ−１２００を使用）。定着後の
露光部と未露光部の濃度をマクベス反射濃度計で測定し
た。 （２）定着性 上記（１）の方法で作成したサンプルを通常の蛍光灯下
（室内の明るさ８００ルックス）に画像部に光が当たる
ようにして８時間放置後、未露光部の地肌濃度をマクベ
ス反射濃度計で測定した。未露光部（白地部）の濃度
は、商品価値を損ねないために０．１２以下である事が
望ましい。 （３）保存性 上記（１）の方法で作成したサンプルを３０℃の暗所に
一ケ月、及び三ケ月保存後、未露光部（白地部）の濃度を
マクベス反射濃度計で測定し、保存前の定着直後の地肌
濃度と比較した。定着直後の未露光部の濃度に比べ、暗
所保存後の地肌濃度が大きい場合は未露光部の暗所保存
性が不良である事を示す。 （４）装置汚れ Ａ０の大きさのサンプルを３，０００枚、１３０℃の加
熱ローラーに４５０ｍｍ／分の速度で通し未露光部を定
着した（富士写真フイルム社製ＣＡ−１２００を使
用）。実験終了後、加熱ローラー近傍、及び安全上必須
の加熱ローラーカバー部付近の汚れを目視にて観察し
た。
ットライト（超高圧水銀灯、オーク製）により光照射
し、青色の画像を得た。ついで１３０℃の加熱ローラー
に４５０ｍｍ／分の速度で通し未露光部を定着した（富
士写真フイルム社製ＣＡ−１２００を使用）。定着後の
露光部と未露光部の濃度をマクベス反射濃度計で測定し
た。 （２）定着性 上記（１）の方法で作成したサンプルを通常の蛍光灯下
（室内の明るさ８００ルックス）に画像部に光が当たる
ようにして８時間放置後、未露光部の地肌濃度をマクベ
ス反射濃度計で測定した。未露光部（白地部）の濃度
は、商品価値を損ねないために０．１２以下である事が
望ましい。 （３）保存性 上記（１）の方法で作成したサンプルを３０℃の暗所に
一ケ月、及び三ケ月保存後、未露光部（白地部）の濃度を
マクベス反射濃度計で測定し、保存前の定着直後の地肌
濃度と比較した。定着直後の未露光部の濃度に比べ、暗
所保存後の地肌濃度が大きい場合は未露光部の暗所保存
性が不良である事を示す。 （４）装置汚れ Ａ０の大きさのサンプルを３，０００枚、１３０℃の加
熱ローラーに４５０ｍｍ／分の速度で通し未露光部を定
着した（富士写真フイルム社製ＣＡ−１２００を使
用）。実験終了後、加熱ローラー近傍、及び安全上必須
の加熱ローラーカバー部付近の汚れを目視にて観察し
た。
【００５２】
【表１】
【００５３】
【発明の効果】還元剤として２，２’ーメチレンビス
（４ーメチルー６ーｔーブチルフェノール）、又は２，
２’ーメチレンビス（４ーエチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）を使用し、かつ、マイクロカプセル内に有機イ
オウ系酸化防止剤を内包する事により、上記（１）〜
（３）のような光像形成材料が本来有すべき性能を満足
しつつ、（４）の実使用上重要な品質である熱定着装置
汚れの非常に少ない光像形成材料を得ることができる。
（４ーメチルー６ーｔーブチルフェノール）、又は２，
２’ーメチレンビス（４ーエチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）を使用し、かつ、マイクロカプセル内に有機イ
オウ系酸化防止剤を内包する事により、上記（１）〜
（３）のような光像形成材料が本来有すべき性能を満足
しつつ、（４）の実使用上重要な品質である熱定着装置
汚れの非常に少ない光像形成材料を得ることができる。
Claims (1)
- 【請求項１】 支持体上に、酸化発色可能なロイコ染料
並びに光酸化剤を内包するマイクロカプセル、及び該マ
イクロカプセルの外側に還元剤を含有する塗布層を形成
した光像形成材料において、該マイクロカプセル中に有
機イオウ系酸化防止剤を内包し、かつ該還元剤が２，
２’ーメチレンビス（４ーメチルー６ーｔーブチルフェ
ノール）又は２，２’ーメチレンビス（４ーエチルー６
ーｔーブチルフェノール）である事を特徴とする光像形
成材料。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8026482A JPH09218482A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | 光像形成材料 |
| US08/764,397 US6387584B1 (en) | 1996-02-14 | 1996-12-11 | Photoimaging material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8026482A JPH09218482A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | 光像形成材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09218482A true JPH09218482A (ja) | 1997-08-19 |
Family
ID=12194724
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8026482A Pending JPH09218482A (ja) | 1996-02-14 | 1996-02-14 | 光像形成材料 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6387584B1 (ja) |
| JP (1) | JPH09218482A (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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