JPH09211345A - レーザビームのビーム方向転換シャッター - Google Patents

レーザビームのビーム方向転換シャッター

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JPH09211345A JP8229016A JP22901696A JPH09211345A JP H09211345 A JPH09211345 A JP H09211345A JP 8229016 A JP8229016 A JP 8229016A JP 22901696 A JP22901696 A JP 22901696A JP H09211345 A JPH09211345 A JP H09211345A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 箔は弱く、高パワーレーザからの吸収から生
ずる熱を伝え去るのに熱的に適当でない。箔の構造はレ
ーザ光の後方散乱を見込む。 【解決手段】 案内ロッドの対の間に軸支された複数の
ころ軸受によって支持ベースに連結されたスライド要素
を有するシャッター機構を開示する。スライド要素及び
支持ベースはシャッターがその開放位置にあるときに整
列するビーム孔を有する。紫外線反射ミラーがスライド
のビーム孔に隣接してスライドに角度をなして取付けら
れる。シャッターを閉じるように指令したとき、アクチ
ュエータがスライド及び支持ベースを整列から外し、同
時に紫外線反射ミラーを以前にスライドの孔が占めてい
た位置に位置決めする。レーザビームはミラーによって
支持ベースに取付けられた診断器具のビーム止めの方へ
反射する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はレーザ装置のシャッ
ター機構に関し、特に機械シャッターの改良設計に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】シャッター装置の必須要件は光のような
エネルギー源の完全な機械的遮断を行うということであ
る。シャッター装置を他の電磁変調装置と区別するもの
は電磁波面を変更する光学面を持たない直通の隙間孔の
使用である。典型的には、シャッター装置は安全連動装
置又はモジュレーターのいずれかとして、或いは、意図
する適用に応じて両方の能力で機能するように設計され
る。レーザ装置のような適用で安全連動装置として用い
られるとき、シャッターはレーザ制御装置が安全な状態
を達成する要求を受け入れるたびに、レーザビームをさ
えぎりかつ吸収するのに用いられる。代表的な制御装置
は直流電源と、シャッター機構を駆動するアクチュエー
タを切り換えるリレー又は固体素子装置と、関連したマ
イクロプロセッサーを基礎とする論理構成部品とからな
る。このような制御装置の例はここに援用される米国特
許第４，５１３，３４５号に説明されている。一般的に
は、シャッター装置はレーザヘッドの出力ポートに直接
取付けられ、或いは、或る場合には、別個のハウジング
がレーザ出力装置及びシャッター機構を包囲するように
構成され、それによって、レーザビームへの接近を阻止
するのに役立つ。シャッター装置、特にレーザ装置に関
連して用いられるシャッター装置の特性は、それらがほ
とんど後方散乱無しで入射ビームのエネルギーのすべて
を吸収することを必要とする。ほとんどの従来技術の設
計は後方散乱エネルギーのレーザヘッド、及び、閉鎖体
内に収容された関連したレーザ構成部品への吸収を可能
にする簡単な閉鎖体を利用することによって、生じた後
方散乱を収容しようと探究してきた。このタイプの設計
と関連した２つの課題は、散乱したエネルギーの光学装
置へのフィードバック、及び、閉鎖体からの漏れの危険
が増すことであり、それによって安全性の危険を引き起
こす。光パワーのレベルが上昇するにつれて、これらの
問題は設計の展望からますます重要になる。
【０００３】良く知られた磁気曲げタイプのシャッター
の例を図１に示し、このシャッターは電磁石６によって
ビーム路４の中へ偏向される非常に薄い可撓性箔２を有
する。箔２は一端が保持ねじ１０によってカラー８に取
付けられているものとして見られ、電磁石が作動しない
ときはビーム路４と平行にビーム路４より下に位置す
る。平形ボビン上の磁気巻線１４によって取り囲まれた
フェライト鉄心１２を有する電磁石は在来の設計のもの
である。作動中、巻線１４は賦勢され、それによって磁
石６を作動させ、箔２の自由端２′を磁石６にひきつ
け、ビーム路４を横切って移動させる。箔２がビーム路
をさえぎるとき、ビームは箔端２′が磁石６に隣接した
付勢位置に移動するので、大きくなった反射角で反射す
る。図１に示すような完全な閉鎖位置では、箔はそれが
磁石に対して押しつけられるので平らな形になり、箔が
保持ねじ１０に近づくにつれて「Ｓ」形に曲がり、約５
０°と６０°との間の入射角を形成してビームを遮断す
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】箔２は箔を「Ｓ」形態
にゆがめることを可能にするのに必要とされる可撓性を
見込むために極端に薄い。しかしながら、この必要とさ
れる薄さは、本質的に特に「Ｓ」形の曲げ部の応力個所
で弱く、かつまた高パワーレーザからの吸収から生ずる
熱を伝えるのに熱的に適していない。箔の構造の他の観
点は箔が光ビームを不変のビーム通路の角度に近い角度
で反射し、その結果、箔端２′がビームをさえぎり始め
るときに望まれない散らばった反射線が目標面に現れ、
箔端が磁石に対して平に押しつけられるまで続くという
ことである。反射は不変のビーム路４に対して非常に狭
い角度であるから、反射を装置内で除去することができ
ず、完全に閉じた「Ｓ」形状は安全の見地からかつまた
構成部品の見地から、作用が以前に説明したように望ま
しくないレーザ光の後方散乱を考慮する。これは第一に
吸収された後方散乱エネルギー、及び、このガス発生の
結果としてのシャッター自身の反射ミラーを含む露出し
た光学素子の汚染の結果として当然である。本発明の目
的は、レーザビームの出力をさえぎりかつ方向転換させ
ることのできる、エキシマーレーザのようなレーザ装置
用の改良自動シャッターを提供することにある。
【０００５】本発明の更なる目的は、反射エネルギーを
多様に散乱させる内部形態を有し、それによって、後方
散乱エネルギーの漏れを阻止するシャッター機構を提供
することにある。本発明の特徴は、シャッターが閉鎖位
置にあるときにレーザビームを診断装置のような第２の
装置の方へ方向転換させる反射面を用いることにある。
本発明の他の特徴は、ビーム止めを診断器具の取付けの
ための診断器具マウントとして機能させ、レーザの出力
発射装置を妨げることなしにこのような器具の連結を可
能にすることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の目的及び特徴
は、スライドを単一の自由度に制限するロッド・ころ軸
受支持体に取付けられたスライド機構を有するシャッタ
ー装置の使用によって実現される。ロッド・ころ軸受支
持体はスライドとシャッターの支持ベースとの間に転が
り接触界面を形成する。ころ軸受は焼入れ精密研削鋼で
構成され、独特のロッド・ローラ構造により軽い力の負
荷だけを受け、それによって、スライドを潤滑無しで機
能させる。シャッターの支持ベースはレーザ装置の出力
ビームと整列して位置決めされたビーム孔を有する。ス
ライドはスライドが開放位置に完全に引っ込められたと
きに、支持ベースの孔と整列する等しい寸法形状の支持
ベースの孔に対応する孔を有し、それによって、レーザ
の出力ビームを妨げるものなしにシャッターから出てい
かせる。ビーム路に対して角度位置に位置決めされた誘
電体ミラーがスライド孔に隣接してスライドに取付けら
れる。本発明のシャッター機構が開放位置から閉鎖位置
まで移動するように指令されるとき、スライドに連結さ
れたアクチュエータによりスライドを単一自由度に沿っ
てころ軸受に載らせ、ミラーをビーム路に位置決めす
る。ビームはミラーの角度面で反射し、シャッターハウ
ジング孔の方へ方向転換する。ミラーはスライドに固定
して取付けられているので、スライドが閉鎖位置にあっ
て出力ビームを方向転換させるとき、スライド孔は同様
にハウジング孔との整列から外れ、直角の方向に位置を
変える。スライド孔の位置変更と組み合わせたスライド
と支持ベースとの間の厳密な公差により多数の反射面を
作り、いかなる後方散乱エネルギーも、スライド構成部
品及びミラー構成部品を包囲するハウジングから漏れる
ためにはこの多数の反射面を通り抜けることを要するで
あろう。その結果、後方散乱漏れの課題は効果的に除去
される。シャッターハウジング孔は二次装置をシャッタ
ー支持ベースに取付けさせかつ反射ビーム通路と真っ直
ぐに整列して位置決めさせるようになっている。連動安
全スイッチがシャッターハウジング孔に隣接してシャッ
ター支持ベースに取付けられ、レーザ装置が作動する前
に二次装置即ち診断装置かビーム止めのどちらかが確実
に在るようにする。
【０００７】
【発明の実施の形態】今、図２を参照すると、１００と
して図に指示した本発明のシャッター装置の好ましい実
施の形態を示す。シャッター１００は剛体のシャッター
支持ベース１１０を備え、図３にも示すように、ベース
ビーム孔１２０がシャッター支持ベース１１０の中央に
位置決めされる。支持ベースはコーティングの施してい
ないアルミニウムのような紫外線エネルギーに反応しな
い材料で構成されるのが好ましい。シャッター１００を
その水平の長手方向軸線に沿って示す図３及び図４を参
照すると、ロッド案内支持体１３０をビーム孔１２０の
両側で支持ベース１１０の周縁に取付けられるものとし
ていっそう明瞭に示す。孔の側に、ロッド案内支持体１
３０は各々、取付用スロット１４０を有し、該取付用ス
ロット１４０は、その下端、その上端にそれぞれ位置決
めされた案内ロッド１５０、１５５を収容する。ロッド
１５０及び１５５は同じ高さの内面をロッド案内支持体
１３０の孔面に作るためにスロット１４０の深さに等し
い直径を有するのが好ましい。ロッド１５０を幾つかの
良く知られた手段のうちの任意の手段によって適所に固
着させることができる。即ち、図２に示すように、簡単
なねじ１６０がロッドを適所に押しつけて固着するのに
用いられる。ロッド１５０及び１５５は、以下に説明す
るころ軸受と適合性があり、かつ、ころ軸受との嵌合公
差の組立作業を受ける間に変形しない焼入れ材料で構成
されるのが好ましい。エキシマーレーザの適用について
は、運転で清潔であるという材料の要件により、ステン
レス鋼を用いるのが好ましい。
【０００８】再び図３及び図４を参照すると、スライド
ロッド１９０、１９５を下位置、上位置にそれぞれ収容
したスライド取付用スロット１８０を有するスライドシ
ャッター要素１７０をその長手方向軸線に沿って示し、
このスライドシャッター要素１７０はロッド案内支持体
１３０の構造の鏡面対称であり、ねじ１６０と機能上同
等な固着手段（図示せず）を有する。支持ベース１１０
と同様に、スライドシャッター１７０は紫外線に反応し
ない材料、好ましくはコーティングを施していないアル
ミニウムで製造され、ロッド１９０及び１９５は同様に
ステンレス鋼タイプの材料で製造される。スライドシャ
ッター要素１７０をその長手方向軸線に沿って単一の自
由度でロッド１５０、１５５、１９０及び１９５に沿っ
て転がり接触で移動させるために、複数の焼入れころ軸
受２００がロッド１５０、１５５、１９０、１９５の間
に支承される。用いられる軸受の数は当業者が認めるよ
うに、寸法要件及び作動要件にもとづいた設計上の選択
であろう。図３及び図４に示す設計では、６つのころ軸
受がここで説明するようにスライドシャッター１７０の
各側に位置決めされた。ころ軸受２００は在来の設計の
ものであり、ステンレス鋼のような焼入れ材料で精密研
削される。ころ軸受２００は合成のバッファストリップ
２１０を利用することによって互いに隔離され、このス
トリップ２１０は紫外線に耐性があるテフロン（登録商
標）のようなポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
のような材料で作られかつ前記ころ軸受の各々を収容す
る一連の個々の内穴（図示せず）を有する。スライドシ
ャッター１７０の移動を横方向の遊び無しでその長手方
向軸線に束縛するように、ころ軸受２００と合成の案内
ロッド対との間の嵌合公差を最小にする。説明したよう
に側取付けされ嵌合公差関係の多数のころ軸受の使用に
より、スライドシャッター１７０の重さをころ軸受２０
０の各々に分配させ、その結果、前記ころ軸受の各々に
は軽く負荷がかけられる。この軽い負荷により、スライ
ド要素を潤滑の必要無しに機能させ、かつ、約２００ｍ
ｓ乃至約３００ｍｓの必要とされる信号に応じた閉／開
作動時間内で作動させる。スライドビーム孔２１５が中
央に位置決めされ、シャッター機構が開放位置にあると
きにベースビーム孔１２０と整列する。ベースビーム孔
１２０とスライドビーム孔２１５との間の整列は０．１
２７ミリメートル（０．００５インチ）内にあり、スラ
イドシャッター１７０と支持ベース１１０との間の嵌合
公差は０．５０８ミリメートル（０．０２０インチ）以
内にあるのが好ましい。
【０００９】今、図２を参照すると、レーザビーム２５
０の出力経路に面するように向けられた傾斜支持面２３
０を有するミラーベース２２０がスライドシャッター１
７０の上部に取付けられる（図４にも示す）。支持面２
３０の特定の角度は、当業者がたやすく認識するよう
に、レーザ装置の出力ビームの向き及び所望のビーム偏
向角度にもとづいて作動的に決定される。図２に示す実
施の形態では、支持面は支持面２３０に取付けられた誘
電体ミラー２４０と出力ビーム２５０との間に４５度の
入射角度を設けるように角度をつけられる。ミラー２４
０は、以下に説明する出力ビームの係合を容易にするた
めに前面の底縁２４５が支持面２３０の底縁２３５に対
してほぼ整列するか、或いは、わずかに張り出すように
支持面２３０に位置決めされる。同様に、ミラー２４０
の材料の選択は原則として用いられるレーザ装置のタイ
プにもとづいて作動的に決定される。例えば、エキシマ
ーレーザ装置では、ミラー２４０は前面を好ましくは溶
融シリカ材料で作られた紫外光反射面とする必要があ
る。ミラーの設計に組み込まれる追加の特徴は、以下に
説明するように、レーザの光学構成部品の整列を容易に
するために背面を可視光反射面とすることである。アク
チュエータ手段２７０が（図５に示すように）スライド
シャッター１７０の長手方向の後面２６０に取付けられ
る。説明した実施の形態では、アクチュエータ手段２７
０はＢＩＭＢＡによって製造されたアクチュエータのよ
うな空気アクチュエータであり、作動ロッド２８０によ
って長手方向の面２６０に作動可能に連結される。図示
した実施の形態は空気アクチュエータを説明するけれど
も、電磁アクチュエータ等のような作動に必要とされる
信号に応じた閉／開時間の制限を満たす他のアクチュエ
ータ手段を代わりに用いてもよい。エキシマーレーザ装
置の使用については、ＢＩＭＢＡによって製造された空
気装置はその信号に応じた閉／開作動時間が約３００ｍ
ｓであることにより選択された。
【００１０】再び図２及び図３を参照すると、コーティ
ングの施していないアルミニウムのような材料で製造さ
れたハウジング２９０がシャッタースライドとミラーベ
ースの組合せを包囲し、ビーム２５０の入射光だけを透
過させるように設計された入射ビームポート３００を備
える。図示するようにシャッター機構を開放位置にする
と、スライドシャッター１７０は引っ込められ、それに
よって、ミラーベース２２０及びそれに取付けられたミ
ラー２４０をビーム２５０から離して位置決めし、同時
にスライド孔２１５をベース孔１２０と整列させ、作動
上の使用を可能にするためにビーム２５０を妨げるもの
なく射出させる。今、図５を参照すると、シャッターが
図示しないが、当業者に良く知られているレーザ制御手
段により閉鎖位置に移動するように指令されるとき、ア
クチュエータ２７０はスライドシャッター１７０を押し
て、以前に説明したころ軸受・案内ロッド構造に沿って
前方に移動させる。スライドシャッター１７０が前方に
移動すると、ミラー２４０はビーム２５０に反射的に当
たるように位置決めされ、スライド孔２１５はベース孔
１２０との整列から外れ、スライドの底面３１０はベー
ス孔１２０を閉鎖しかつ効果的に光線漏れしないように
する。本発明のこの光線漏れしない観点は、スライドシ
ャッター１７０と支持ベース１１０との間の約０．５０
８ミリメートル（０．０２０インチ）の厳密な公差、並
びに、ベース孔１２０との整列から外れるスライド孔２
１５の再位置決めの結果、達成される。ハウジング２９
０から漏らすために、後方散乱エネルギーを、図５に示
すように、スライド孔２１５により反射させ、シャッタ
ーと支持体の公差隙間２１７により再反射させ、再び支
持体孔１２０により反射させなければならない。その結
果、後方散乱エネルギーの漏れと関連した課題が大部分
除去される。
【００１１】支持面２３０、ミラー２４０のそれぞれの
底縁２３５、２４５の整列の結果、ミラーはビーム２５
０の経路に侵入する縁構成部品２３５より先にビーム２
５０をさえぎり、いかなる不用意な反射もなしにビーム
２５０を直ちに方向転換させるということに注目すべき
である。開放から閉鎖までの作動時間は約２００ｍｓの
間に起こるのが好ましい。図４及び図５の好ましい実施
の形態に示すように、ビーム２５０は９０°方向転換さ
れ、方向転換したビーム３２０は方向転換ポート３３０
に差し向けられる。診断器具手段３４０が方向転換ポー
ト３３０に連結され、かつ、シャッター支持ベース１１
０の周縁に固定して取付けられる。診断器具を連結する
ための手段は光学的分析又は光学的診断用の種々の器具
に順応する万能設計のものであるのが好ましい。診断器
具手段３４０を取り外し、連動装置を開放スイッチによ
って作動させるとき、視準望遠鏡のような装置を方向転
換ポート３３０に取付け、以前に説明したようにミラー
２４０の背面を外れた可視光の反射を利用することによ
ってレーザ光学素子の整列を容易にするのに用いること
ができる。器具手段が方向転換したビーム３２０をさえ
ぎるように存在しないかぎり、確実に、使われるレーザ
装置が作動できないようにするため、安全連動スイッチ
３５０が孔に取付けられる。この構造により遠隔操作の
アクセスによって光学素子の整列を可能にし、それによ
って、レーザ発射装置の分解の要求を除去する。
【００１２】本発明を現在好ましい実施の形態であると
考えているものに関して説明したけれども、本発明は開
示した実施の形態に限定されないどころか、特許請求の
範囲の請求項に記載した精神及び範囲内に包含される種
々の変形及び均等の範囲に及ぶということを理解すべき
である。従って、当業者はすべてのこのような均等の範
囲は特許請求の範囲の請求項の範囲内に包含されるとい
うことを理解すべきである。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来技術の設計の電磁シャッター機構を示す。
【図２】本発明のシャッター機構の開放位置における側
面図である。
【図３】本発明の断面線Ｂ−Ｂに沿う端面図を示す。
【図４】本発明の断面線Ｅ−Ｅに沿う端面図を示す。
【図５】シャッターハウジングを明瞭のために省略し
た、本発明の閉鎖位置における側面図である。
【符号の説明】
１００ シャッター １１０ シャッター支持ベース １２０ ベースビーム孔 １３０ ロッド案内支持体 １４０ スロット １５０、１５５ 案内ロッド １６０ ねじ １７０ スライドシャッター １８０ スライド取付用スロット １９０、１９５ スライドロッド ２００ ころ軸受 ２１０ 合成バッファストリップ ２１５ スライドビーム孔 ２１７ シャッターと支持体の公差隙間 ２２０ ミラーベース ２３０ 支持面 ２３５ 底縁 ２４０ ミラー ２４５ 前面 ２５０ レーザビーム ２６０ 長手方向の背面 ２７０ アクチュエータ手段 ２８０ 作動ロッド ２９０ ハウジング ３１０ スライドの底面 ３２０ 方向転換したビーム ３３０ 方向転換ポート ３４０ 診断器具手段 ３５０ 安全連動スイッチ

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 診断器具マウント及び第１ビーム孔を
    有するシャッター支持ベースと、 ロッド・ころ軸受支持体によって前記シャッター支持ベ
    ースに作動可能に連結されたシャッタースライドとを備
    え、前記ロッド・ころ軸受支持体により、前記シャッタ
    ースライドを、前記シャッター支持ベースの水平軸線と
    平行な方向に動かし、前記シャッタースライドは第２ビ
    ーム孔を有し、 前記第２ビーム孔の縁に沿って前記シャッタースライド
    に角度的に取付けられた光反射手段と、 前記シャッタースライドに連結されたアクチュエータ手
    段と、 前記シャッタースライド及び光反射手段を光線漏れしな
    いようにする、前記シャッター支持ベースに取付けられ
    たハウジングとを備え、前記ハウジングはビームポート
    を有し、前記ビームポートは入射ビームの光の透過に限
    るように構成され、前記シャッター装置が開放モードに
    あるとき、前記第１孔及び前記第２孔は前記ビームを妨
    げるものなしに前記第１孔及び前記第２孔の中を通過さ
    せるように整列し、前記シャッター装置が閉鎖モードで
    作動するとき、前記アクチュエータ手段が前記シャッタ
    ースライドを前記ロッド・ころ軸受支持体に沿って摺動
    させ、前記第１孔を前記第２孔との整列から外れて移動
    させ、同時に前記光反射手段を移動させて前記透過した
    ビームと係合させ、前記ビームを前記診断器具マウント
    に連結された診断器具の方へ方向転換させることを特徴
    とする、レーザ装置用シャッター装置。
  2. 【請求項２】 前記ロッド・ころ軸受支持体は、案内
    ロッドの対の間に軸支された複数のころ軸受を更に備え
    ることを特徴とする、請求項１に記載のシャッター装
    置。
  3. 【請求項３】 前記光反射手段がミラーであることを
    特徴とする、請求項２に記載のシャッター装置。
  4. 【請求項４】 前記シャッタースライドの重量を前記
    軸受のすべてに分配し、前記複数のころ軸受により前記
    各軸受について軽い支持負荷を生じさせることを特徴と
    する、請求項２に記載のシャッター装置。
  5. 【請求項５】 前記軽い負荷により前記軸受の潤滑の
    要求を除去することを特徴とする、請求項４に記載のシ
    ャッター装置。
  6. 【請求項６】 前記ころ軸受及び前記案内ロッドが焼
    入れステンレス鋼で製造されることを特徴とする、請求
    項５に記載のシャッター装置。
  7. 【請求項７】 前記ミラーは前面に設けられた紫外線
    反射面と、背面に設けられた可視光反射面とを更に備え
    ることを特徴とする、請求項３に記載のシャッター装
    置。
  8. 【請求項８】 前記アクチュエータ手段が空気式であ
    り、かつ、約２００ｍｓの作動時間、或いは約２００ｍ
    ｓと約３００ｍｓとの間の作動時間が可能であることを
    特徴とする、請求項１に記載のシャッター装置。
  9. 【請求項９】 前記アクチュエータ手段が電磁式であ
    り、かつ、約２００ｍｓの作動時間、或いは約２００ｍ
    ｓと約３００ｍｓとの間の作動時間が可能であることを
    特徴とする、請求項１に記載のシャッター装置。
  10. 【請求項１０】 スライドスロットを有するシャッタ
    ー支持ベースを備え、該支持ベースの一端に器具マウン
    トが位置決めされ、中央位置に第１ビーム孔を設け、 シャッタースライドを備え、該シャッタースライドは、
    前記スライドスロット内で前記シャッタースライド及び
    前記支持ベースの界面縁に固着された対の案内ロッド間
    に支承された複数のころ軸受によって、前記スライドス
    ロットと界面をなすように作動的に連結され、前記シャ
    ッタースライドには、中央位置に第２ビーム孔が配置さ
    れ、 前記第２ビーム孔の基部に、前記シャッタースライドに
    角度的に取付けられた紫外線反射ミラーと、 前記シャッタースライドに連結されたアクチュエータ手
    段とを備え、指令に基づいて、前記アクチュエータ手段
    は、前記シャッタースライドを、前記シャッタースライ
    ドを前記第１ビーム孔及び前記第２のビーム孔を整列さ
    せかつレーザビームをそれらの孔から透過させることが
    できる開放位置から、前記第２孔を前記第１孔との整列
    から外して摺動移動させ、同時に前記ビームを前記器具
    マウントに連結された器具の方へ方向転換させるために
    前記紫外線反射ミラーを前記レーザビームと係合するよ
    うに位置決めすることによって、閉鎖位置に移動させ、 ビームポートを有しかつ前記シャッタースライド及び前
    記ミラーを光線漏れしないようにする、前記シャッター
    支持ベースに取付けられたハウジングを備え、前記閉鎖
    位置で前記方向転換したレーザビームからの後方散乱エ
    ネルギーを前記ハウジング内で多様に反射させ、前記第
    １孔及び前記第２孔を前記移動及び前記シャッタースラ
    イドと前記支持ベースとの間の厳密な公差の結果、光線
    漏れしないようにすることを特徴とする、エキシマーレ
    ーザ装置用シャッター装置。
  11. 【請求項１１】 前記シャッタースライドの重量を軽
    い支持負荷構造で等しく分配する前記ころ軸受の結果、
    前記ころ軸受及び前記案内ロッドが潤滑を必要としない
    ことを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
  12. 【請求項１２】 前記紫外線ミラーが紫外光を反射さ
    せるための前面と、可視光を反射させるための背面とを
    有し、前記背面が遠隔操作のアクセスによって前記光学
    モジュールの整列を可能にするように、前記レーザ装置
    に連結された前記光学モジュールと作動可能に整列する
    ことを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
  13. 【請求項１３】 前記アクチュエータシャッターが空
    気式であり、前記シャッタースライドを、約２００ｍｓ
    乃至約３００ｍｓの時間で、開放位置から閉鎖位置ま
    で、及び、閉鎖位置から開放位置まで動かすことができ
    ることを特徴とする、請求項１０に記載の装置。
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