JPH09208994A - 抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組成物 - Google Patents
抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組成物Info
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- JPH09208994A JPH09208994A JP1772196A JP1772196A JPH09208994A JP H09208994 A JPH09208994 A JP H09208994A JP 1772196 A JP1772196 A JP 1772196A JP 1772196 A JP1772196 A JP 1772196A JP H09208994 A JPH09208994 A JP H09208994A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 新規な抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄
剤、およびドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供す
る。 【構成】本発明に係る新規ドライクリーニング用洗浄剤
は、特定の置換基を有する第4級アンモニウム塩と、特
定の置換基を有するサルフェートまたはスルホネートよ
りなる。さらに、ドライクリーニング用洗浄剤組成物
は、上記ドライクリーニング用洗浄剤をドライクリーニ
ング用溶剤(石油系、塩素系、フッ素系)に含有させて
なるものである。
剤、およびドライクリーニング用洗浄剤組成物を提供す
る。 【構成】本発明に係る新規ドライクリーニング用洗浄剤
は、特定の置換基を有する第4級アンモニウム塩と、特
定の置換基を有するサルフェートまたはスルホネートよ
りなる。さらに、ドライクリーニング用洗浄剤組成物
は、上記ドライクリーニング用洗浄剤をドライクリーニ
ング用溶剤(石油系、塩素系、フッ素系)に含有させて
なるものである。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、洗浄、再汚染防
止、帯電防止等の性能に加え、抗菌、防臭等の衛生加工
性を有するドライクリーニング用洗浄剤組成物に関する
ものである。
止、帯電防止等の性能に加え、抗菌、防臭等の衛生加工
性を有するドライクリーニング用洗浄剤組成物に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】ドライクリーニングは、非水溶剤である
石油あるいはハロゲン化炭化水素溶剤を溶媒に用いて被
洗浄物を洗濯する方法であって、従来は、洗浄、再汚染
防止、帯電防止等の性能を付与するため、種々のドライ
クリーニング用界面活性剤が用いられてきた。
石油あるいはハロゲン化炭化水素溶剤を溶媒に用いて被
洗浄物を洗濯する方法であって、従来は、洗浄、再汚染
防止、帯電防止等の性能を付与するため、種々のドライ
クリーニング用界面活性剤が用いられてきた。
【0003】更に近年では、ドライクリーニングの品質
向上のため上記性能に加えて抗菌消臭等の衛生加工が考
えだされ、ベンザルコニウム塩を使用した(特公昭54-7
805)ものが知られている。 しかしベンザルコニウム
塩を用いたものは、コスト問題の他に皮膚障害や、使用
時の変色が生じるという問題点、さらにはドライクリー
ニング工程でのドライクリーニング溶剤の蒸留過程の時
に加熱等の理由から上記界面活性剤が分解するという問
題点、またドライクリーニング機の金属腐食を生じると
いう問題点、臭気発生の問題点等の多くの問題が未解決
であった。
向上のため上記性能に加えて抗菌消臭等の衛生加工が考
えだされ、ベンザルコニウム塩を使用した(特公昭54-7
805)ものが知られている。 しかしベンザルコニウム
塩を用いたものは、コスト問題の他に皮膚障害や、使用
時の変色が生じるという問題点、さらにはドライクリー
ニング工程でのドライクリーニング溶剤の蒸留過程の時
に加熱等の理由から上記界面活性剤が分解するという問
題点、またドライクリーニング機の金属腐食を生じると
いう問題点、臭気発生の問題点等の多くの問題が未解決
であった。
【0004】上記のいくつかの問題点を解決する技術と
して、第4級アンモニウムのホスフェートを使用したも
のが開発されている(例えば、特開平2-182792)。この
第4級アンモニウムのホスフェートを含有するドライク
リーニング用洗浄剤を使用するドライクリーニングの通
常の操作条件においては、上記問題はほとんど解決して
いる。しかしながら、主にいわゆる耐熱性が十分でな
く、例えば、溶剤の使用サイクル数の増加や、高温での
溶剤蒸留時にその一部分が分解し、その結果異臭等が発
生するという問題が未解決となっている。また、別の問
題としては、ドライクリーニング溶剤への溶解性があ
る。すなわち、第4級アンモニウムホスフェートを使用
したものは、石油系溶剤や、テトラクロロエチレン、1,
1,1−トリクロロエタン等の塩素系溶剤および、1,1,2−
トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下R11
3と略す)、トリクロロモノフルオロメタン(以下R1
1と略す)等の水素を含まないフッ素系溶剤には十分溶
解性を示し望ましい性能を有するが、1,1−ジクロロ−
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(以下R−225
caと略す)、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
ロプロパン(以下Rー225cbと略す)、1,1−ジクロ
ロ−1−フルオロエタン(以下R−141bと略す)、2,
2−ジクロロ−1,1,1−トリクロロエタン(以下R−12
3と略す)等の水素を含むフッ素系溶剤には溶解性不十
分のため、望ましい必要な性能例えば再汚染防止性、帯
電防止性、柔軟性および抗菌性等の性能が十分に付与で
きないという問題点が未解決となっている。
して、第4級アンモニウムのホスフェートを使用したも
のが開発されている(例えば、特開平2-182792)。この
第4級アンモニウムのホスフェートを含有するドライク
リーニング用洗浄剤を使用するドライクリーニングの通
常の操作条件においては、上記問題はほとんど解決して
いる。しかしながら、主にいわゆる耐熱性が十分でな
く、例えば、溶剤の使用サイクル数の増加や、高温での
溶剤蒸留時にその一部分が分解し、その結果異臭等が発
生するという問題が未解決となっている。また、別の問
題としては、ドライクリーニング溶剤への溶解性があ
る。すなわち、第4級アンモニウムホスフェートを使用
したものは、石油系溶剤や、テトラクロロエチレン、1,
1,1−トリクロロエタン等の塩素系溶剤および、1,1,2−
トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(以下R11
3と略す)、トリクロロモノフルオロメタン(以下R1
1と略す)等の水素を含まないフッ素系溶剤には十分溶
解性を示し望ましい性能を有するが、1,1−ジクロロ−
2,2,3,3,3−ペンタフルオロプロパン(以下R−225
caと略す)、1,3−ジクロロ−1,1,2,2,3−ペンタフルオ
ロプロパン(以下Rー225cbと略す)、1,1−ジクロ
ロ−1−フルオロエタン(以下R−141bと略す)、2,
2−ジクロロ−1,1,1−トリクロロエタン(以下R−12
3と略す)等の水素を含むフッ素系溶剤には溶解性不十
分のため、望ましい必要な性能例えば再汚染防止性、帯
電防止性、柔軟性および抗菌性等の性能が十分に付与で
きないという問題点が未解決となっている。
【0005】以上のような性能を付与させる組成物を提
供する場合に容易に考えられることは、必要な性能例え
ば、抗菌、消臭等を有する成分からなる加工剤を実績の
ある製品に配合することも考えられる。しかし、この場
合、その加工剤等が必ずしも安価とはいえずコストアッ
プとなる場合もある。また加工剤を配合してもドライ洗
浄剤としての総合的な基本性能を全く低下させないこと
が可能であるとは限らない。例えば、フェノール化合物
を用いた場合には、製品のpHが低下する、着色が増す
等の傾向があり、さらに上記のベンザルコニウム塩で
は、被洗物を変色させる、機械の腐食が激しい等の問題
がある。またクリーニングのような複雑な作業工程の中
では他の薬剤の混入、濾過による吸着等の複雑な作用も
考慮せざるを得ず、一般的に微量の薬剤の添加で安定し
た性能を付与させるには困難が伴う。
供する場合に容易に考えられることは、必要な性能例え
ば、抗菌、消臭等を有する成分からなる加工剤を実績の
ある製品に配合することも考えられる。しかし、この場
合、その加工剤等が必ずしも安価とはいえずコストアッ
プとなる場合もある。また加工剤を配合してもドライ洗
浄剤としての総合的な基本性能を全く低下させないこと
が可能であるとは限らない。例えば、フェノール化合物
を用いた場合には、製品のpHが低下する、着色が増す
等の傾向があり、さらに上記のベンザルコニウム塩で
は、被洗物を変色させる、機械の腐食が激しい等の問題
がある。またクリーニングのような複雑な作業工程の中
では他の薬剤の混入、濾過による吸着等の複雑な作用も
考慮せざるを得ず、一般的に微量の薬剤の添加で安定し
た性能を付与させるには困難が伴う。
【0006】
【課題を解決するための手段】従って本発明は、上記の
従来技術の問題点に鑑み、鋭意研究し、抗菌衛生ドライ
クリーニング用洗浄剤として、良好な通常の基礎的性能
すなわち、洗浄性、再汚染防止性、帯電防止性、柔軟
性、抗菌性、防臭性等の衛生加工性を有し、さらに、従
来の第4級アンモニウムホスフェートが有する耐熱性の
問題を解決し、さらには溶剤への溶解性の問題点をも改
善する新規な抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤の開
発に成功し、本発明を完成するに至ったものである。
従来技術の問題点に鑑み、鋭意研究し、抗菌衛生ドライ
クリーニング用洗浄剤として、良好な通常の基礎的性能
すなわち、洗浄性、再汚染防止性、帯電防止性、柔軟
性、抗菌性、防臭性等の衛生加工性を有し、さらに、従
来の第4級アンモニウムホスフェートが有する耐熱性の
問題を解決し、さらには溶剤への溶解性の問題点をも改
善する新規な抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤の開
発に成功し、本発明を完成するに至ったものである。
【0007】すなわち、本発明は、下記一般式(1)を
有する耐熱性抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤を提
供するものである。
有する耐熱性抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤を提
供するものである。
【0008】
【化3】 (式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基またはアル
ケニル基を表し、R2およびR3は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表し、R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表
し、R2およびR3はそれぞれに同一でも異なっていても
よく、nは1〜5の整数を表し、Rは、フェニル基、ト
リル基、キシリル基または一般式(2)を表す。)
ケニル基を表し、R2およびR3は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表し、R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表
し、R2およびR3はそれぞれに同一でも異なっていても
よく、nは1〜5の整数を表し、Rは、フェニル基、ト
リル基、キシリル基または一般式(2)を表す。)
【0009】
【化4】 (式中、R5は炭素数8〜18のアルキル基またはアル
ケニル基を表し、R6は炭素数2〜4のアルキレン基を
表し、mは0〜15の整数を表す。)) さらに本発明は、ドライクリーニング用溶剤に、上記記
載の洗浄剤を含有する耐熱性抗菌衛生ドライクリーニン
グ用洗浄剤組成物を提供するものである。
ケニル基を表し、R6は炭素数2〜4のアルキレン基を
表し、mは0〜15の整数を表す。)) さらに本発明は、ドライクリーニング用溶剤に、上記記
載の洗浄剤を含有する耐熱性抗菌衛生ドライクリーニン
グ用洗浄剤組成物を提供するものである。
【0010】また、本発明はドライクリーニング用溶剤
に、上記記載の洗浄剤と、非イオン性界面活性剤を含有
する耐熱性抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組成物
に関するものである。
に、上記記載の洗浄剤と、非イオン性界面活性剤を含有
する耐熱性抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組成物
に関するものである。
【0011】さらには、本発明は上記記載の洗浄剤を用
いた耐熱性抗菌衛生ドライクリーニング方法を提供する
ものである。さらには、ドライクリーニングの溶剤の蒸
留の時に分解することがなく、石油系溶剤、テトラクロ
ロエチレン、1,1,1−トリクロロエタン等の塩素系溶
剤、およびR−113、R−11等の水素を含まないフ
ッ素系溶剤を用いた洗浄の時はいうに及ばず、R−22
5ca、R−225cb、R−141b、R−123等の水
素を含むフッ素系溶剤を用いた洗浄の時にも十分な性能
を付与できる、ドライクリーニング用洗浄剤を提供する
ことを目的としたものである。
いた耐熱性抗菌衛生ドライクリーニング方法を提供する
ものである。さらには、ドライクリーニングの溶剤の蒸
留の時に分解することがなく、石油系溶剤、テトラクロ
ロエチレン、1,1,1−トリクロロエタン等の塩素系溶
剤、およびR−113、R−11等の水素を含まないフ
ッ素系溶剤を用いた洗浄の時はいうに及ばず、R−22
5ca、R−225cb、R−141b、R−123等の水
素を含むフッ素系溶剤を用いた洗浄の時にも十分な性能
を付与できる、ドライクリーニング用洗浄剤を提供する
ことを目的としたものである。
【0012】
(第4級アンモニウム塩)本発明で使用される洗浄剤の
成分は下記の一般式(1)で示される第4級アンモニウ
ムと、硫酸エステルまたはスルホン酸からなる塩であ
る。
成分は下記の一般式(1)で示される第4級アンモニウ
ムと、硫酸エステルまたはスルホン酸からなる塩であ
る。
【0013】
【化5】 ここで、R1、R2、R3はアルキル基等を表し、R4はア
ルキレン基を表し、Rは、芳香族基または一般式(2)
を表し、
ルキレン基を表し、Rは、芳香族基または一般式(2)
を表し、
【0014】
【化6】 ここでR5はアルキル基またはアルケニル基を表し、R6
はアルキレン基を表すものである。
はアルキレン基を表すものである。
【0015】本発明の1つの特徴は、該洗浄剤成分が、
第4級アンモニウム陽イオンと、陰イオン基たる硫酸エ
ステルイオンまたはスルホン酸イオンからなることであ
る。これらの構成に基づいて、本発明のドライクリーニ
ング用の洗浄剤の基本的性能を、本質的に付与される。
例えば、洗浄性、再汚染防止性、帯電防止性等である。
第4級アンモニウム陽イオンと、陰イオン基たる硫酸エ
ステルイオンまたはスルホン酸イオンからなることであ
る。これらの構成に基づいて、本発明のドライクリーニ
ング用の洗浄剤の基本的性能を、本質的に付与される。
例えば、洗浄性、再汚染防止性、帯電防止性等である。
【0016】特に本発明の発明者は、陰イオン基として
の硫酸エステルイオンまたはスルホン酸イオンが、本発
明に係る洗浄剤を極めて良好な耐熱性とすることを見出
した。これは、従来のホスフェイトを陰イオンとして使
用した洗浄剤の有する耐熱性または熱的な不安定性を大
きく改良するものである。
の硫酸エステルイオンまたはスルホン酸イオンが、本発
明に係る洗浄剤を極めて良好な耐熱性とすることを見出
した。これは、従来のホスフェイトを陰イオンとして使
用した洗浄剤の有する耐熱性または熱的な不安定性を大
きく改良するものである。
【0017】さらに、第4級アンモニウム陽イオンは、
本発明に係る他の基礎的性能を付与する。例えば、抗菌
性防臭性等である。
本発明に係る他の基礎的性能を付与する。例えば、抗菌
性防臭性等である。
【0018】従って、本発明に係る上記洗浄剤成分は、
これら説明したドライクリーニング用洗浄剤の基礎的な
特性を十分発揮するべく、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、nおよびmをそれぞれ適時選択される。その結果
得られた本発明に係る洗浄剤は、通常のドライクリーニ
ング用溶剤に十分溶解し、しかも洗浄剤としての上記の
基本特性を保持し、かつドライクリーニングの通常の加
熱条件(使用される溶剤の沸点付近、またはそれより高
い温度)での操作に十分安定であり総合的にみて満足な
ものとなる。
これら説明したドライクリーニング用洗浄剤の基礎的な
特性を十分発揮するべく、R1、R2、R3、R4、R5、
R6、nおよびmをそれぞれ適時選択される。その結果
得られた本発明に係る洗浄剤は、通常のドライクリーニ
ング用溶剤に十分溶解し、しかも洗浄剤としての上記の
基本特性を保持し、かつドライクリーニングの通常の加
熱条件(使用される溶剤の沸点付近、またはそれより高
い温度)での操作に十分安定であり総合的にみて満足な
ものとなる。
【0019】従って、本発明において上記目的を達成す
るべく、種々の望ましいドライクリーニング用洗浄剤の
有する特性をそれぞれ満足し、且つ通常の溶剤への十分
な溶解性および耐熱性を兼備えるべく上記R1等を選択
することが可能である。この選択する方法においては特
に制限はなく、種々の実験等に基づいて、使用可能なも
のを適時選択することが当業者にとっては容易である。
るべく、種々の望ましいドライクリーニング用洗浄剤の
有する特性をそれぞれ満足し、且つ通常の溶剤への十分
な溶解性および耐熱性を兼備えるべく上記R1等を選択
することが可能である。この選択する方法においては特
に制限はなく、種々の実験等に基づいて、使用可能なも
のを適時選択することが当業者にとっては容易である。
【0020】特に本発明においては、R1としては炭素
数8〜18(より好ましくは10〜16、特に好ましく
は12〜14)のアルキル基またはアルケニル基(好ま
しくは、直鎖または分岐あるアルキル基であり、特に直
鎖のものが好ましい)が好ましく、例えばR1としては
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデ
シル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、オクテニル基、ノネニル基、
デセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサ
デセニル基、オクタデセニル基などを挙げることができ
る。
数8〜18(より好ましくは10〜16、特に好ましく
は12〜14)のアルキル基またはアルケニル基(好ま
しくは、直鎖または分岐あるアルキル基であり、特に直
鎖のものが好ましい)が好ましく、例えばR1としては
オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデ
シル基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデ
シル基、オクタデシル基、オクテニル基、ノネニル基、
デセニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサ
デセニル基、オクタデセニル基などを挙げることができ
る。
【0021】R2およびR3はそれぞれに同一でも異なっ
ていてもよく、炭素数1〜5(より好ましくは1〜2)
のアルキル基またはアルケニル基(より好ましくはメチ
ル基、またはエチル基)を表し、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などを挙げる
ことができる。
ていてもよく、炭素数1〜5(より好ましくは1〜2)
のアルキル基またはアルケニル基(より好ましくはメチ
ル基、またはエチル基)を表し、例えばメチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基などを挙げる
ことができる。
【0022】R4は炭素数2〜4(より好ましくは2〜
3)のアルキレン基、例えばエチレン基、プロピレン
基、ブチレン基(これらは直鎖状であっても、分岐状で
あってもよく、より好ましくはエチレン基、プロピレン
基である)を表し、nは1〜5(より好ましくは1〜
2)の整数を表すものである。
3)のアルキレン基、例えばエチレン基、プロピレン
基、ブチレン基(これらは直鎖状であっても、分岐状で
あってもよく、より好ましくはエチレン基、プロピレン
基である)を表し、nは1〜5(より好ましくは1〜
2)の整数を表すものである。
【0023】さらにRは、芳香族性基、例えばフェニル
基、トリル基、キシリル基であり、または一般式(2)
で表されるものである。
基、トリル基、キシリル基であり、または一般式(2)
で表されるものである。
【0024】
【化7】 ここで、R5は炭素数8〜18(より好ましくは10〜
18、特に好ましくは12〜16)のアルキル基または
アルケニル基(好ましくは直鎖もしくは分岐アルキル
基、特に直鎖のものが好ましい)を表し、例えばオクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、オクテニル基、ノネニル基、デセ
ニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセ
ニル基、オクタデセニル基などを挙げることができる。
18、特に好ましくは12〜16)のアルキル基または
アルケニル基(好ましくは直鎖もしくは分岐アルキル
基、特に直鎖のものが好ましい)を表し、例えばオクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、トリデシル
基、イソトリデシル基、テトラデシル基、ヘキサデシル
基、オクタデシル基、オクテニル基、ノネニル基、デセ
ニル基、ドデセニル基、テトラデセニル基、ヘキサデセ
ニル基、オクタデセニル基などを挙げることができる。
【0025】また、R6は炭素数2〜4(好ましくは2
〜3、特に好ましくは2)のアルキレン基(エチレンま
たはプロピレン、ブチレン基が好ましくこれらは分岐し
ていてもよいが特にエチレン基が好ましい)を表し、m
は0〜15の整数(0〜5が好ましく、特に4〜5が好
ましい)を表すものである。ここでmはいわゆる平均付
加モル数を表すものであり、本発明に係る調整方法にお
いてはmモル有するものを最大量含む混合物としての意
味である。この際、mは、調整方法により制御すること
が可能であり、その定量は、例えば高速液体クロマトグ
ラフ法、またはゲルパーミエイションクロマトグラフ
(GPC)法等の通常の分析方法に基づき行う事が可能
である。
〜3、特に好ましくは2)のアルキレン基(エチレンま
たはプロピレン、ブチレン基が好ましくこれらは分岐し
ていてもよいが特にエチレン基が好ましい)を表し、m
は0〜15の整数(0〜5が好ましく、特に4〜5が好
ましい)を表すものである。ここでmはいわゆる平均付
加モル数を表すものであり、本発明に係る調整方法にお
いてはmモル有するものを最大量含む混合物としての意
味である。この際、mは、調整方法により制御すること
が可能であり、その定量は、例えば高速液体クロマトグ
ラフ法、またはゲルパーミエイションクロマトグラフ
(GPC)法等の通常の分析方法に基づき行う事が可能
である。
【0026】上記R1、Rは主に、ドライクリーニング
用溶剤との溶解性の点から決める事が可能である。例え
ば、すべての種類(下記参照)の溶剤において、R1が
ある程度の疎水性を有する事が必要であり、この制限が
考慮される。また、Rについては、一般的には塩素系溶
剤の場合は芳香族性基が好ましく、その他の溶剤(石油
系、またはフッ素系)においては、一般式(2)で表現
される基が好ましく選択されうる。
用溶剤との溶解性の点から決める事が可能である。例え
ば、すべての種類(下記参照)の溶剤において、R1が
ある程度の疎水性を有する事が必要であり、この制限が
考慮される。また、Rについては、一般的には塩素系溶
剤の場合は芳香族性基が好ましく、その他の溶剤(石油
系、またはフッ素系)においては、一般式(2)で表現
される基が好ましく選択されうる。
【0027】(調整方法)以上の本発明に係るドライク
リーニング用洗浄剤の調整方法についても特に制限され
ず、種々の公知の方法が使用され得る。この際好ましい
洗浄剤成分を調整するべく使用され得る原料物もまた、
種々の公知の方法で調整されるか、または市販品を特に
さらなる処理を施すことなく使用可能である。しかしな
がら本発明では、特に以下の調整方法が好ましく使用で
きる。
リーニング用洗浄剤の調整方法についても特に制限され
ず、種々の公知の方法が使用され得る。この際好ましい
洗浄剤成分を調整するべく使用され得る原料物もまた、
種々の公知の方法で調整されるか、または市販品を特に
さらなる処理を施すことなく使用可能である。しかしな
がら本発明では、特に以下の調整方法が好ましく使用で
きる。
【0028】(1)陰イオン基となる硫酸エステルまたは
スルホン酸成分を用意し、(2)それを第3級アミンによ
り中和し、(3)アルキレンオキサイドを反応させて、最
終的にヒドロキシアルキレン基を有する第4級アンモニ
ウムを調整する。この一連の反応は、特にオートクレー
ブ中においてはワンポットで実施しうるものである。出
発物質たるスルホン酸については、市販品をそのまま使
用することも可能であるが、通常の合成方法に基づいて
調整することも可能である。
スルホン酸成分を用意し、(2)それを第3級アミンによ
り中和し、(3)アルキレンオキサイドを反応させて、最
終的にヒドロキシアルキレン基を有する第4級アンモニ
ウムを調整する。この一連の反応は、特にオートクレー
ブ中においてはワンポットで実施しうるものである。出
発物質たるスルホン酸については、市販品をそのまま使
用することも可能であるが、通常の合成方法に基づいて
調整することも可能である。
【0029】一方、出発原料たる硫酸エステルは一般に
不安定であり、上記(2)の調整(中和)の前に合成する
ことが好ましい。例えば、高級アルコールと使用する原
料体(オキシラン化合物)のモル数を調整することで、
種々のmを有するものを得ることが可能となり、このも
のを通常の硫酸化の合成方法で調整することができる。
(3)の反応の進行は、例えば、反応中のサンプリングし
た試料の、例えば3級アミンの消失をモニターすること
によりできる。また、使用する原料体(オキシラン化合
物)のモル数を調整することで、種々のnを有するもの
を得ることが可能となる。これらの反応に必要な時間、
および温度についても通常の選択方法(例えば実験計画
法等)により、最適化することは当業者にとり容易であ
る。
不安定であり、上記(2)の調整(中和)の前に合成する
ことが好ましい。例えば、高級アルコールと使用する原
料体(オキシラン化合物)のモル数を調整することで、
種々のmを有するものを得ることが可能となり、このも
のを通常の硫酸化の合成方法で調整することができる。
(3)の反応の進行は、例えば、反応中のサンプリングし
た試料の、例えば3級アミンの消失をモニターすること
によりできる。また、使用する原料体(オキシラン化合
物)のモル数を調整することで、種々のnを有するもの
を得ることが可能となる。これらの反応に必要な時間、
および温度についても通常の選択方法(例えば実験計画
法等)により、最適化することは当業者にとり容易であ
る。
【0030】より具体的には、前記一般式(1)の化合
物は、一般に下記一般式(3)で表される3級アミンと
下記一般式(4)で表される硫酸エステルまたはスルホ
ン酸との中和による塩を、オキシラン化合物で4級化す
ることにより得られる。
物は、一般に下記一般式(3)で表される3級アミンと
下記一般式(4)で表される硫酸エステルまたはスルホ
ン酸との中和による塩を、オキシラン化合物で4級化す
ることにより得られる。
【0031】
【化8】 (式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基またはアル
ケニル基を表し、R2およびR3は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表し、R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表
し、R2およびR3はそれぞれに同一でも異なっていても
よく、nは1〜5の整数を表し、Rは、フェニル基、ト
リル基、キシリル基または一般式(2)を表す。)
ケニル基を表し、R2およびR3は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表し、R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表
し、R2およびR3はそれぞれに同一でも異なっていても
よく、nは1〜5の整数を表し、Rは、フェニル基、ト
リル基、キシリル基または一般式(2)を表す。)
【0032】
【化9】 (式中のRは前記規定と同じ) ここで、一般式(3)において好ましい化合物として
は、例えば、ジメチルオクチルアミン、ジメチルデシル
アミン、ジメチルラウリルアミン、ジメチルミリスチル
アミン、ジメチルパルミチルアミン、ジメチルステアリ
ルアミン、ジメチルオレイルアミン、ジエチルラウリル
アミン、ジエチルトリデシルアミン、ジエチルパルミチ
ルアミンなどをあげることができる。これらの中でジメ
チルデシルアミン、ジメチルラウリルアミン、ジメチル
ミリスチルアミン、ジメチルパルミチルアミン等が特に
好ましい。
は、例えば、ジメチルオクチルアミン、ジメチルデシル
アミン、ジメチルラウリルアミン、ジメチルミリスチル
アミン、ジメチルパルミチルアミン、ジメチルステアリ
ルアミン、ジメチルオレイルアミン、ジエチルラウリル
アミン、ジエチルトリデシルアミン、ジエチルパルミチ
ルアミンなどをあげることができる。これらの中でジメ
チルデシルアミン、ジメチルラウリルアミン、ジメチル
ミリスチルアミン、ジメチルパルミチルアミン等が特に
好ましい。
【0033】さらに、一般式(4)の化合物として好ま
しいものは、例えば、フェニルスルホン酸、パラトルエ
ンスルホン酸、キシレンスルホン酸などのスルホン酸類
や、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルア
ルコール、イソデシルアルコール、ラウリルアルコー
ル、トリデシルアルコール、テトラデシルアルコール、
ヘキサデシルアルコール、ステアリルアルコール、アレ
イルアルコールなどのアルコールの硫酸エステルや、前
記アルコールのアルキレンオキサイド(エチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド)付
加物の硫酸エステルなどを挙げることができる。これら
の中で、パラトルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸
や、炭素数10〜18のアルコールのアルキレンオキサ
イド(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド)0
〜5モル付加物の硫酸エステル等が特に好ましい。
しいものは、例えば、フェニルスルホン酸、パラトルエ
ンスルホン酸、キシレンスルホン酸などのスルホン酸類
や、オクチルアルコール、ノニルアルコール、デシルア
ルコール、イソデシルアルコール、ラウリルアルコー
ル、トリデシルアルコール、テトラデシルアルコール、
ヘキサデシルアルコール、ステアリルアルコール、アレ
イルアルコールなどのアルコールの硫酸エステルや、前
記アルコールのアルキレンオキサイド(エチレンオキサ
イド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド)付
加物の硫酸エステルなどを挙げることができる。これら
の中で、パラトルエンスルホン酸、キシレンスルホン酸
や、炭素数10〜18のアルコールのアルキレンオキサ
イド(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド)0
〜5モル付加物の硫酸エステル等が特に好ましい。
【0034】この際、4級化に用いるオキシラン化合物
としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイドが好ましく使用可能であり、こ
れらの中では特に、エチレンオキサイドが好ましく、一
般式(1)中のnとして1〜2が好ましく調整可能であ
る。
としては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイ
ド、ブチレンオキサイドが好ましく使用可能であり、こ
れらの中では特に、エチレンオキサイドが好ましく、一
般式(1)中のnとして1〜2が好ましく調整可能であ
る。
【0035】本発明に係る上記調整方法で得られる洗浄
剤の純度は特に限定されず、特に80%以上あれば十分
であり、さらに90%以上であることが好ましい。上記
の調整方法においては含まれ得る不純物としては、ポリ
アルキレングリコール等がその主たるものである。
剤の純度は特に限定されず、特に80%以上あれば十分
であり、さらに90%以上であることが好ましい。上記
の調整方法においては含まれ得る不純物としては、ポリ
アルキレングリコール等がその主たるものである。
【0036】(ドライクリーニング用溶剤)この発明の
ドライクリーニング用洗浄剤は上記の必須成分に加え
て、ドライクリーニング用溶剤が使用される。
ドライクリーニング用洗浄剤は上記の必須成分に加え
て、ドライクリーニング用溶剤が使用される。
【0037】本発明に係るドライクリーニング用洗浄剤
が好適に使用可能であるドライクリーニング用溶剤は、
種々のタイプのものが可能であり、例えば、パラフィ
ン、ナフテン、芳香族炭化水素等の石油系溶剤、テトラ
クロロエチレン、1,1,1−トリクロロエタン等の塩素系
溶剤、R−113、R−11等の水素を含まないフッ素
系溶剤、さらにはR−225ca、R−225cb、R−1
41b、R−123等の水素を含むフッ素系溶剤を含む
ことができる。さらには、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール、エチルセルソル
ブ、ブチルセルソルブ等の多価アルコールエーテル類を
含み、さらにこれらの混合物をも含むものである。
が好適に使用可能であるドライクリーニング用溶剤は、
種々のタイプのものが可能であり、例えば、パラフィ
ン、ナフテン、芳香族炭化水素等の石油系溶剤、テトラ
クロロエチレン、1,1,1−トリクロロエタン等の塩素系
溶剤、R−113、R−11等の水素を含まないフッ素
系溶剤、さらにはR−225ca、R−225cb、R−1
41b、R−123等の水素を含むフッ素系溶剤を含む
ことができる。さらには、メタノール、エタノール、イ
ソプロパノール等の低級アルコール、エチルセルソル
ブ、ブチルセルソルブ等の多価アルコールエーテル類を
含み、さらにこれらの混合物をも含むものである。
【0038】(ドライクリーニング方法)本発明に係る
洗浄剤および洗浄剤組成物が使用可能なドライクリーニ
ング方法は特に制限されず、蒸留方式、ノン蒸留方式等
の従来使用されている通常の装置を用いて、通常の温
度、溶剤、さらに通常同時に使用される種々の添加剤等
を用いてドライクリーニング可能なものである。
洗浄剤および洗浄剤組成物が使用可能なドライクリーニ
ング方法は特に制限されず、蒸留方式、ノン蒸留方式等
の従来使用されている通常の装置を用いて、通常の温
度、溶剤、さらに通常同時に使用される種々の添加剤等
を用いてドライクリーニング可能なものである。
【0039】(ドライクリーニング用洗浄剤組成物)さ
らに本発明に係るドライクリーニング用洗浄剤組成物に
は、ベンゾトリアゾール等の金属腐食防止剤、アニオン
活性剤などの抱水能向上剤、非イオン活性剤、カチオン
活性剤、シリコーン等の風合改質剤等を適時含有させる
ことも可能であって、含有量はその性質に応じて適時加
減され得るものである。さらに本発明のドライクリーニ
ング用洗浄剤組成物は、固形状、ペースト状や上記溶剤
との混合液状などいずれかの形態で使用できる。溶剤中
での濃度についても、特に制限はされないが、通常は、
一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩は、この
発明の洗浄剤組成物中に5〜50重量%配合され得る。
ドライクリーニングの際においては、目的に応じて適当
な溶剤にさらに溶解して使用することも可能である。
らに本発明に係るドライクリーニング用洗浄剤組成物に
は、ベンゾトリアゾール等の金属腐食防止剤、アニオン
活性剤などの抱水能向上剤、非イオン活性剤、カチオン
活性剤、シリコーン等の風合改質剤等を適時含有させる
ことも可能であって、含有量はその性質に応じて適時加
減され得るものである。さらに本発明のドライクリーニ
ング用洗浄剤組成物は、固形状、ペースト状や上記溶剤
との混合液状などいずれかの形態で使用できる。溶剤中
での濃度についても、特に制限はされないが、通常は、
一般式(1)で表される第4級アンモニウム塩は、この
発明の洗浄剤組成物中に5〜50重量%配合され得る。
ドライクリーニングの際においては、目的に応じて適当
な溶剤にさらに溶解して使用することも可能である。
【0040】
【実施例】以下に、本発明を実施例に従って、詳細に説
明するが、この発明はこれらの実施例によりなんら限定
されるものではない。なお、実施例中の部は重量部を表
す。
明するが、この発明はこれらの実施例によりなんら限定
されるものではない。なお、実施例中の部は重量部を表
す。
【0041】(実施例1)反応容器にエチレンキサイド
を4モル付加したラウリルアルコール362部を仕込
み、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で滴下しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンオキシド
を4モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル442部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルラウリルアミン213部を加えて中和する。この中
和物に、エチレンオキサイド48部を仕込み、100℃
で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシエ
チルラウリルアンモニウムのラウリルエーテル硫酸エス
テル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エステル
塩を得た(本発明品A)。
を4モル付加したラウリルアルコール362部を仕込
み、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で滴下しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンオキシド
を4モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル442部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルラウリルアミン213部を加えて中和する。この中
和物に、エチレンオキサイド48部を仕込み、100℃
で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシエ
チルラウリルアンモニウムのラウリルエーテル硫酸エス
テル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エステル
塩を得た(本発明品A)。
【0042】(実施例2)パラトルエンスルホン酸27
9部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルラウリンアミン345
部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイ
ド78部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−ジ
メチル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウムの
パラトルエンスルホン酸塩を主成分とする第4級アンモ
ニウムスルホン酸塩を得た(本発明品B)。
9部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルラウリンアミン345
部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイ
ド78部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−ジ
メチル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウムの
パラトルエンスルホン酸塩を主成分とする第4級アンモ
ニウムスルホン酸塩を得た(本発明品B)。
【0043】(実施例3)本発明品Aの第4級アンモニ
ウム硫酸エステル塩20部にテトラクロロエチレン80
部を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品
C)を調整する。
ウム硫酸エステル塩20部にテトラクロロエチレン80
部を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品
C)を調整する。
【0044】(実施例4)反応容器にエチレンオキサイ
ド4モルを付加したラウリルアルコール362部を仕
込、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で添加しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンキサイド
を4モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル394部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルラウリルアミン190部を加えて中和する。この中
和物に、エチレンオキサイド118部を仕込み、100
℃で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシ
エチルラウリルアンモニウムのラウリルエーテル硫酸エ
ステル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エステ
ル塩を得る。この第4級アンモニウム硫酸エステル塩2
0部にテトラクロロエチレン80部を混合し、ドライク
リーニング用洗浄剤(本発明品D)を調整する。
ド4モルを付加したラウリルアルコール362部を仕
込、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で添加しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンキサイド
を4モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル394部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルラウリルアミン190部を加えて中和する。この中
和物に、エチレンオキサイド118部を仕込み、100
℃で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシ
エチルラウリルアンモニウムのラウリルエーテル硫酸エ
ステル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エステ
ル塩を得る。この第4級アンモニウム硫酸エステル塩2
0部にテトラクロロエチレン80部を混合し、ドライク
リーニング用洗浄剤(本発明品D)を調整する。
【0045】(実施例5)パラトルエンスルホン酸26
1部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルミリスチルアミン36
6部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサ
イド73部を仕込み、100℃で3時間反応し、N,N
−ジメチル−N−ヒドロキシエチルミリスチルアンモニ
ウムのパタトルエンスルホン酸塩を主成分とする第4級
アンモニウム硫酸エステル塩を得る。この第4級アンモ
ニウム硫酸エステル塩20部にテトラクロロエチレン8
0部混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品
E)を調整する。
1部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルミリスチルアミン36
6部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサ
イド73部を仕込み、100℃で3時間反応し、N,N
−ジメチル−N−ヒドロキシエチルミリスチルアンモニ
ウムのパタトルエンスルホン酸塩を主成分とする第4級
アンモニウム硫酸エステル塩を得る。この第4級アンモ
ニウム硫酸エステル塩20部にテトラクロロエチレン8
0部混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品
E)を調整する。
【0046】(実施例6)メタキシレンスルホン酸24
1部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルステアリルアミン39
2部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサ
イド63部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−
ジメチル−N−ヒドロキシエチルステアリルアンモニウ
ムのメタキシレンスルホン酸塩を主成分とする第4級ア
ンモニウムスルホン酸塩を得る。この第4級アンモニウ
ムスルホン酸塩20部にテトラクロロエチレン80部を
混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品F)を
調整する。
1部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルステアリルアミン39
2部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサ
イド63部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−
ジメチル−N−ヒドロキシエチルステアリルアンモニウ
ムのメタキシレンスルホン酸塩を主成分とする第4級ア
ンモニウムスルホン酸塩を得る。この第4級アンモニウ
ムスルホン酸塩20部にテトラクロロエチレン80部を
混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品F)を
調整する。
【0047】(実施例7)反応容器にエチレンオキサイ
ド5モルを付加したラウリルアルコール406部を仕
込、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で添加しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンキサイド
を5モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル409部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルステアリルアミン250部を加えて中和する。この
中和物に、エチレンオキサイド41部を仕込み、100
℃で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシ
エチルステアリルアンモニウムのラウリルエーテル硫酸
エステル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エス
テル塩を得る。この第4級アンモニウム硫酸エステル塩
20部にR−113を80部混合し、ドライクリーニン
グ用洗浄剤(本発明品G)を調整する。
ド5モルを付加したラウリルアルコール406部を仕
込、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で添加しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンキサイド
を5モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル409部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルステアリルアミン250部を加えて中和する。この
中和物に、エチレンオキサイド41部を仕込み、100
℃で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシ
エチルステアリルアンモニウムのラウリルエーテル硫酸
エステル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エス
テル塩を得る。この第4級アンモニウム硫酸エステル塩
20部にR−113を80部混合し、ドライクリーニン
グ用洗浄剤(本発明品G)を調整する。
【0048】(実施例8)反応容器にエチレンオキサイ
ド5モルを付加したパルミチルアルコール462部を仕
込、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で添加しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンキサイド
を5モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル454部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルミリスチルアミン208部を加えて中和する。この
中和物に、エチレンオキサイド38部を仕込み、100
℃で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシ
エチルミリスチルアンモニウムのパルミチルエーテル硫
酸エステル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エ
ステル塩を得る。この第4級アンモニウム硫酸エステル
塩25部にR−225ca、R−225cbの混合物75部
を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品H)
を調整する。
ド5モルを付加したパルミチルアルコール462部を仕
込、この中にクロロスルホン酸116.5部を約35℃
で添加しながら、脱塩酸反応を行い、エチレンキサイド
を5モル付加したラウリルアルコールの硫酸エステルを
得る。この硫酸エステル454部、水50部、イソプロ
ピルアルコール250部をオートクレーブに仕込、ジメ
チルミリスチルアミン208部を加えて中和する。この
中和物に、エチレンオキサイド38部を仕込み、100
℃で3時間反応し、N,N−ジメチル−N−ヒドロキシ
エチルミリスチルアンモニウムのパルミチルエーテル硫
酸エステル塩を主成分とする第4級アンモニウム硫酸エ
ステル塩を得る。この第4級アンモニウム硫酸エステル
塩25部にR−225ca、R−225cbの混合物75部
を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(本発明品H)
を調整する。
【0049】(実施例9)パラトルエンスルホン酸24
1部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジエチルラウリルアミン337
部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイ
ド123部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−
ジエチル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウム
のパラトルエンスルホン酸塩を主成分とする第4級アン
モニウムスルホン酸塩を得る。この第4級アンモニウム
スルホン酸塩25部にR−141bを75部混合し、ド
ライクリーニング用洗浄剤(本発明品I)を調整する。
1部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジエチルラウリルアミン337
部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイ
ド123部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−
ジエチル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウム
のパラトルエンスルホン酸塩を主成分とする第4級アン
モニウムスルホン酸塩を得る。この第4級アンモニウム
スルホン酸塩25部にR−141bを75部混合し、ド
ライクリーニング用洗浄剤(本発明品I)を調整する。
【0050】(比較例1)トリメチルステアリルアンモ
ニウムのメチル硫酸塩700部、水50部、イソプロピ
ルアルコール250部の混合物(比較品A)を得た。
ニウムのメチル硫酸塩700部、水50部、イソプロピ
ルアルコール250部の混合物(比較品A)を得た。
【0051】(比較例2)モノブチルリン酸エステルと
ジブチルリン酸エステルとの混合物(1:1)221
部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオー
トクレーブに仕込み、ジメチルラウリルアミン390部
を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイド
88部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−ジメ
チル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウムのモ
ノ(ジ)ブチルリン酸エステル塩を主成分とする第4級
アンモニウムリン酸エステル塩(比較品B)を得た。
ジブチルリン酸エステルとの混合物(1:1)221
部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオー
トクレーブに仕込み、ジメチルラウリルアミン390部
を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイド
88部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−ジメ
チル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウムのモ
ノ(ジ)ブチルリン酸エステル塩を主成分とする第4級
アンモニウムリン酸エステル塩(比較品B)を得た。
【0052】(比較例3)モノオクチルリン酸エステル
とジオクチルリン酸エステルとの混合物(1:1)28
3部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルラウリルアミン341
部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイ
ド77部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−ジ
メチル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウムの
モノ(ジ)オクチルリン酸エステル塩を主成分とする第
4級アンモニウムリン酸エステル塩(比較品C)を得
た。
とジオクチルリン酸エステルとの混合物(1:1)28
3部、水50部、イソプロピルアルコール250部をオ
ートクレーブに仕込み、ジメチルラウリルアミン341
部を加えて中和する。この中和物に、エチレンオキサイ
ド77部を仕込、100℃で3時間反応し、N,N−ジ
メチル−N−ヒドロキシエチルラウリルアンモニウムの
モノ(ジ)オクチルリン酸エステル塩を主成分とする第
4級アンモニウムリン酸エステル塩(比較品C)を得
た。
【0053】(比較例4)トリメチルステアリルアンモ
ニウムのメチル硫酸塩20部とテトラクロロエチレン8
0部を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(比較品
D)を調整する。
ニウムのメチル硫酸塩20部とテトラクロロエチレン8
0部を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(比較品
D)を調整する。
【0054】(比較例5)トリメチルオレイルアンモニ
ウムのメチル硫酸塩25部とR−113を75部混合
し、ドライクリーニング用洗浄剤(比較品E)を調整す
る。
ウムのメチル硫酸塩25部とR−113を75部混合
し、ドライクリーニング用洗浄剤(比較品E)を調整す
る。
【0055】(比較例6)比較品Bの第4級アンモニウ
ムリン酸エステル塩20部にテトラクロロエチレン80
部を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(比較品F)
を調整する。
ムリン酸エステル塩20部にテトラクロロエチレン80
部を混合し、ドライクリーニング用洗浄剤(比較品F)
を調整する。
【0056】(比較例7)比較品Cの第4級アンモニウ
ムリン酸エステル塩25部とR−225ca、R−225
cbの混合物75部混合し、ドライクリーニング用洗浄剤
(比較品G)を調整する。
ムリン酸エステル塩25部とR−225ca、R−225
cbの混合物75部混合し、ドライクリーニング用洗浄剤
(比較品G)を調整する。
【0057】(熱安定性試験)上記の本発明品A、Bお
よび比較品A,B,Cを105℃または170℃で30
0時間保持し、初期および保持後の全アミン価、酸価を
測定し、熱安定性を評価した。その結果を表1に示す。
よび比較品A,B,Cを105℃または170℃で30
0時間保持し、初期および保持後の全アミン価、酸価を
測定し、熱安定性を評価した。その結果を表1に示す。
【0058】ここで、 全アミン価上昇度=300時間保持後の全アミン価−初
期の全アミン価 酸価上昇度=300時間保持後の酸価−初期の酸価
期の全アミン価 酸価上昇度=300時間保持後の酸価−初期の酸価
【0059】
【表1】 この結果、本発明品は、従来のクリーニング業界で使用
されており、熱安定性を満足させるものである比較品A
に比べても極めて熱安定性に優れていることが明らかで
ある。
されており、熱安定性を満足させるものである比較品A
に比べても極めて熱安定性に優れていることが明らかで
ある。
【0060】(性能試験例1)洗浄剤として本発明品C
〜I及び比較品D〜Gを用い、洗浄力、再汚染防止力、
帯電防止性、柔軟性、抗菌性の有無の基礎性能に関して
評価した。その結果を表2に示す。
〜I及び比較品D〜Gを用い、洗浄力、再汚染防止力、
帯電防止性、柔軟性、抗菌性の有無の基礎性能に関して
評価した。その結果を表2に示す。
【0061】(1)試験方法 (a)処理条件 洗浄剤使用量 0.3容量% (洗浄剤を使用しないで洗浄溶剤のみでの洗浄の場合をブラン ク(洗浄剤無)として比較する) 洗浄溶剤 本発明C,D,E,F比較品D,Fの場合はテトラクロロエ チレン 本発明G、比較品Eの場合は、R−113 本発明H、比較品Gの場合は、R−225ca、R−225cb混 合液 本発明Iの場合は、R−141b 処理機械 ラウンド・オ・メーター 浴比 1:5 温度×時間 20℃×10分 (b)評価方法 (I)洗浄率および再汚染率 油化学協会法に準じたカーボン汚染布を使用し、上記処
理条件で試験した試験布より、下記のように洗浄率およ
び再汚染率を測定し評価する。
理条件で試験した試験布より、下記のように洗浄率およ
び再汚染率を測定し評価する。
【0062】測定機 COLORIMETER CM
−530D((株)村上色彩技術研究所) 測定波長 550nm 洗浄率(%)={(洗浄後汚染布反射率−汚染布反射
率)/(白布反射率−汚染布反射率)}×100 再汚染率(%)={(白布反射率−汚染布反射率)/
(白布反射率)}×100 判定 ○:ブランクと比較して良好 △:ブランクと比較し同等 ×:ブランクと比較し悪い (II)帯電防止性 20cm×20cmの試験布を使用し、前記処理条件で
試験した試験布により、下記のように帯電防止性を測定
し評価する。
−530D((株)村上色彩技術研究所) 測定波長 550nm 洗浄率(%)={(洗浄後汚染布反射率−汚染布反射
率)/(白布反射率−汚染布反射率)}×100 再汚染率(%)={(白布反射率−汚染布反射率)/
(白布反射率)}×100 判定 ○:ブランクと比較して良好 △:ブランクと比較し同等 ×:ブランクと比較し悪い (II)帯電防止性 20cm×20cmの試験布を使用し、前記処理条件で
試験した試験布により、下記のように帯電防止性を測定
し評価する。
【0063】 乾燥条件 80℃×30分 測定器 SUPER MEGOHMMETER MODEL SM-5E(東亜電波工業(株)製) 測定湿度 40%RH 試験布水分 0% 判定 ○:109Ω以下 △:1010 ×:1011以上 (III)柔軟性 20cm×20cmの試験布を使用し、前記処理条件で
試験した試験布を100℃×30分乾燥後、放冷し官能
評価する。
試験した試験布を100℃×30分乾燥後、放冷し官能
評価する。
【0064】判定 ○:ブランクと比較して良好 △:ブランクと比較し同等 ×:ブランクと比較し悪い (IV)抗菌性 黄色ブドウ球菌を植種した寒天培地上に、前記の処理方
法で処理した試料(2.5cm×2.5cm)を置き、
37℃で24時間培養を行った後の試料周辺の菌の成育
の有無により効果を判定する。
法で処理した試料(2.5cm×2.5cm)を置き、
37℃で24時間培養を行った後の試料周辺の菌の成育
の有無により効果を判定する。
【0065】判定 ○:試料周辺で菌の成育を認め
られず、ハロー阻止帯が発生する。 △:試料周辺にハロー阻止帯は認められないが、試料表
面および裏面に菌の成育を認めない。 ×:試料周辺および表裏面に菌の成育を認める。
られず、ハロー阻止帯が発生する。 △:試料周辺にハロー阻止帯は認められないが、試料表
面および裏面に菌の成育を認めない。 ×:試料周辺および表裏面に菌の成育を認める。
【0066】(b)結果 表2に示されるように、本発明品C〜Iは比較品D〜G
に対し、抗菌性を示し、洗浄剤の基礎性能を十分に満た
すという良好な結果を与えた。
に対し、抗菌性を示し、洗浄剤の基礎性能を十分に満た
すという良好な結果を与えた。
【0067】
【表2】
【0068】(性能試験例2)実機でドライクリーニン
グを行い、抗菌性、防臭効果、基礎性能などについて評
価試験を行った。その結果を表3に示す。
グを行い、抗菌性、防臭効果、基礎性能などについて評
価試験を行った。その結果を表3に示す。
【0069】(1)試験方法 (a)処理条件 パークドライの場合 洗浄機 トーセンスペンサー TPU−25((株)東京洗染機械製作 所製) 洗浄方法 2浴洗浄 (1浴目は溜め洗いし全蒸留を行う) (2浴目は新液とベース液と洗浄剤にてフィルタ循環 洗浄) 洗浄剤 150cc(2浴目新液に投入) 毎回蒸留量 50リットル フロンドライの場合 イ)R−113洗浄 洗浄機械 VIC 536機(ジャパンビック(株)製) 洗浄方法 2浴洗浄 (1浴目は溜め洗いし全蒸留を行う) (2浴目は新液とベース液と洗浄剤にてフィルタ循環 洗浄) 洗浄剤 270cc(2浴目新液に投入) 毎回蒸留量 90リットル ロ)R−225ca、R−225cb混合洗浄液洗浄の場合 洗浄機械 三菱トリオ MR20F(三菱重工(株)社製) 洗浄方法 2浴洗浄 (1浴目は溜め洗いし全蒸留を行う) (2浴目は新液とウオッシュ液にてフィルタ循環 洗浄) 洗浄剤 150cc(2浴目新液に投入) 毎回蒸留量 50リットル (b)評価方法 (I)洗浄率および再汚染率 性能試験例1の評価方法と同様に行う。 (II)帯電防止性 乾燥直後の衣類の静電気発生がないかの確認を行う。 判定 ○:人体に感じる静電気の発生を認めない ×:人体に感じる静電気の発生を認める (III)柔軟性 性能試験例1の評価方法と同様に行う。 (IV)抗菌性 性能試験例1の評価方法と同様に行う。 (V)耐熱性 蒸留残渣及び洗浄後の衣類に異臭がないか確認を行っ
た。 判定 ○:何等問題点なし ×:臭気を認める (VI)その他基礎性能 蒸留速度、臭気の有無、水分離性などの基礎性能に問題
点がないか確認を行った。 判定 ○:何等問題点なし ×:最低1つは問題点がある (c)結果 表3のごとく本発明品C〜Iは、比較品D〜Gに比較し
て、良好な抗菌性を示し、洗浄剤の基礎性能を十分に満
たすという良好な結果を示した。
た。 判定 ○:何等問題点なし ×:臭気を認める (VI)その他基礎性能 蒸留速度、臭気の有無、水分離性などの基礎性能に問題
点がないか確認を行った。 判定 ○:何等問題点なし ×:最低1つは問題点がある (c)結果 表3のごとく本発明品C〜Iは、比較品D〜Gに比較し
て、良好な抗菌性を示し、洗浄剤の基礎性能を十分に満
たすという良好な結果を示した。
【0070】以上本発明の実施例の結果に基づき、ドラ
イクリーニング用薬剤としての基本性能である洗浄性、
再汚染防止性、帯電防止性、柔軟性の付与に加え、抗
菌、防臭などの衛生加工性を付与できるドライクリーニ
ング用洗浄剤組成物が得られる。
イクリーニング用薬剤としての基本性能である洗浄性、
再汚染防止性、帯電防止性、柔軟性の付与に加え、抗
菌、防臭などの衛生加工性を付与できるドライクリーニ
ング用洗浄剤組成物が得られる。
【0071】
【表3】
【手続補正書】
【提出日】平成8年2月13日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】
【化8】 (式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基またはアル
ケニル基を表し、R2およびR3は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表す。)
ケニル基を表し、R2およびR3は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表す。)
Claims (4)
- 【請求項1】 下記一般式(1)を有する第4級アンモ
ニウム塩を含有することを特徴とする抗菌衛生ドライク
リーニング用洗浄剤組成物。 【化1】 (式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基またはアル
ケニル基を表し、R2およびR3は炭素数1〜5のアルキ
ル基を表し、R4は炭素数2〜4のアルキレン基を表
し、R2およびR3はそれぞれに同一でも異なっていても
よく、nは1〜5の整数を表し、Rは、フェニル基、ト
リル基、キシリル基または一般式(2)を表す。 【化2】 (式中、R5は炭素数8〜18のアルキル基またはアル
ケニル基を表し、R6は炭素数2〜4のアルキレン基を
表し、mは0〜15の整数を表す。) - 【請求項2】 ドライクリーニング用溶剤に、請求項1
に記載の洗浄剤を含有せしめたことを特徴とする抗菌衛
生ドライクリーニング用洗浄剤組成物。 - 【請求項3】 ドライクリーニング用溶剤に、請求項1
に記載の洗浄剤と、非イオン性界面活性剤を含有するこ
とを特徴とする抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組
成物。 - 【請求項4】 請求項1に記載の洗浄剤を用いた耐熱性
抗菌衛生ドライクリーニング方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1772196A JPH09208994A (ja) | 1996-02-02 | 1996-02-02 | 抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1772196A JPH09208994A (ja) | 1996-02-02 | 1996-02-02 | 抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組成物 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09208994A true JPH09208994A (ja) | 1997-08-12 |
Family
ID=11951622
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1772196A Pending JPH09208994A (ja) | 1996-02-02 | 1996-02-02 | 抗菌衛生ドライクリーニング用洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09208994A (ja) |
-
1996
- 1996-02-02 JP JP1772196A patent/JPH09208994A/ja active Pending
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040908 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20041012 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050726 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |