JPH09208944A

JPH09208944A - 蛍光変換膜

Info

Publication number: JPH09208944A
Application number: JP8020001A
Authority: JP
Inventors: Noboru Sakaeda; 暢栄田
Original assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Current assignee: Idemitsu Kosan Co Ltd
Priority date: 1996-02-06
Filing date: 1996-02-06
Publication date: 1997-08-12
Anticipated expiration: 2016-02-06
Also published as: JP3858075B2

Abstract

(57)【要約】【課題】発光体から発する近紫外領域ないし可視領域
の光を効率よく異なる可視光に変換することができ、か
つ高精細なパターニングが可能な蛍光変換膜を提供する
こと。【解決手段】（Ａ）有機エレクトロルミネッセンス素
子などの発光体から発する近紫外領域ないし可視領域の
光を吸収して異なる可視光を発光する蛍光色素や蛍光顔
料と、（Ｂ）酸性水溶液に可溶な塩基性のバインダー樹
脂からなる蛍光変換膜である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は蛍光変換膜に関し、
さらに詳しくは、発光体から発する近紫外領域ないし可
視領域の光を効率よく異なる可視光に蛍光変換すること
ができ、かつ高精細なパターニングが可能で、発光型の
マルチカラー又はフルカラーディスプレイ，表示パネ
ル，バックライトなど、民生用や工業用の表示機器に好
適に用いられる蛍光変換膜に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】電子ディスプレイデバイスは、一般にｍ
ａｎ−ｍａｃｈｉｎｅ−ｉｎｔｅｒｆａｃｅといわれる
ように、各種装置（ｍａｃｈｉｎｅ）からの各種情報を
視覚を通して人間（ｍａｎ）に伝達する電子デバイスで
あって、人間と装置とを結ぶ重要な橋渡し的役割（ｉｎ
ｔｅｒｆａｃｅ）を担っている。この電子デバイスに
は、発光形と受光形とがあり、発光形としては、例えば
ＣＲＴ（陰極線管），ＰＤＰ（プラズマディスプレ
イ），ＥＬＤ（エレクトロルミネッセンスディスプレ
イ），ＶＦＤ（蛍光表示管），ＬＥＤ（発光ダイオー
ド）などが挙げられる。一方、受光形としては、例えば
ＬＣＤ（液晶ディスプレイ），ＥＣＤ（エレクトロケミ
カルディスプレイ），ＥＰＩＤ（電気泳動ディスプレ
イ），ＳＰＤ（分散粒子配向形ディスプレイ），ＴＢＤ
（着色粒子回転形ディスプレイ），ＰＬＺＴ（透明強誘
電性ＰＬＺＴ〔（Ｐｂ，Ｌａ）（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ ₃〕セ
ラミックスディスプレイ）などが挙げられる。

【０００３】ここで電子ディスプレイデバイスのフルカ
ラー化の方法としては、多色（例えば赤，青，緑の三原
色）の発光部分を平面的に分離配置して、それぞれ発光
させる方法や、バックライトの白色光をカラーフィルタ
で多色に分解させる方法が知られている。また、発光体
の発光を平面的に分離配置した蛍光体に吸収させ、それ
ぞれの蛍光体から多色の蛍光を発光させる方法も知られ
ている。ここで、蛍光体を用いて、ある発光体から多色
の蛍光を発光させる方法については、ＣＲＴ，ＰＤＰ，
ＶＦＤに応用されている。しかしながら、この場合、発
光体の発光が電子線や遠紫外線であるなど、エネルギー
的に高いことが必要である。したがって、ＬＥＤやＥＬ
Ｄのように、発光体からの発光が近紫外線ないし可視光
のようにエネルギー的に低い場合には、ＣＲＴ，ＰＤ
Ｐ，ＶＦＤで用いられる無機の蛍光体〔通常、希土類オ
キシハライドなどを母体とし、この母体を不活性化剤で
不活性化したものが用いられる（例えばＹ₂Ｏ₃：Ｅｕ
など）〕は励起されず、蛍光は発しない。

【０００４】したがって、このような近紫外線ないし可
視光のような低いエネルギー線に対して蛍光を発するも
のとしては、レーザー色素のような有機系の蛍光色素が
用いられる。例えば、有機エレクトロルミネッセンス素
子（以下、有機ＥＬ素子と略記する）を用いた多色発光
素子として、有機ＥＬ素子に対し、蛍光色素を含む蛍光
体（以下、蛍光変換膜という）を積層又は並列に配置し
たものが提案されている（特開平３−１５２８９７号公
報）。このような蛍光色素を含む蛍光変換膜を高精細に
パターニングすれば、発光体の近紫外線ないし可視光の
ような低いエネルギー線を用いてもフルカラーの発光形
ディスプレイが構築できる。そこで、蛍光変換膜のパタ
ーニングの方法としては、無機蛍光体の場合と同様に、
蛍光色素を液状のレジスト（感光性ポリマー）中に分散
させ、これをスピンコート法などで製膜したのち、フォ
トリソグラフィー法でパターニングする方法（特開平５
−１９８９２１号公報，特開平５−２５８８６０号公
報）が容易に類推される。

【０００５】しかしながら、蛍光色素は、周囲の環境に
影響を受けやすく、例えば溶媒や樹脂などの媒体の種類
などによっては、その蛍光波長が変化したり、消光を起
こすことがよく知られている。特に、液状のレジスト中
に蛍光色素を分散させた場合、レジスト中に光開始剤
（重合開始剤）や反応性多官能モノマーが存在するた
め、フォトリソグラフィープロセスにおける露光工程や
熱処理（ポストベーク）工程において、該光開始剤や反
応性多官能モノマーから発生するラジカル種やイオン種
によって、蛍光色素が脱色したり、消光することがしば
しば起こるという問題が生じる。また、液状のレジスト
中に蛍光色素を溶解させると、露光工程において、紫外
線が蛍光色素に吸収され、レジストが感光せず、蛍光変
換膜がパターニングできないことがある。したがって、
近紫外線ないし可視光を発する発光体からの発光を効率
よく多色化することができ、かつ高精細なパターニング
が可能な蛍光変換膜の開発が望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
要望にこたえ、発光体から発する近紫外領域ないし可視
領域の光を効率よく異なる可視光に蛍光変換することが
でき、かつ高精細なパターニングが可能な蛍光変換膜を
提供することを目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者は、前記の好ま
しい機能を有する蛍光変換膜を開発すべく鋭意研究を重
ねた結果、近紫外領域ないし可視領域の光を吸収して異
なる可視光を発する蛍光色素や蛍光顔料と、特定の塩基
性のバインダー樹脂とからなる蛍光変換膜により、その
目的を達成しうることを見出した。本発明は、かかる知
見に基づいて完成したものである。すなわち、本発明
は、（Ａ）発光体から発する近紫外領域ないし可視領域
の光を吸収して異なる可視光を発光する蛍光色素及び蛍
光顔料の中から選ばれた少なくとも一種と、（Ｂ）酸性
水溶液に可溶な塩基性のバインダー樹脂からなる蛍光変
換膜を提供するものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の蛍光変換膜は、（Ａ）蛍
光色素や蛍光顔料と（Ｂ）塩基性のバインダー樹脂から
なるものであって、該（Ａ）成分の蛍光色素や蛍光顔料
としては、発光体が発する近紫外領域ないし可視領域の
光を吸収して、異なる可視光を発するものが用いられ
る。このような機能を有する蛍光色素は、近紫外領域な
いし可視領域の光を吸収して励起されやすい化学構造及
び電子状態を有している。一般に、π電子を有する不飽
和化合物に蛍光性を有するものが集中しており、また、
鎖状化合物よりも環状化合物の方が蛍光性が高いことが
知られている。特に、芳香族炭化水素は蛍光性が高く、
芳香環の数が多くなるほど蛍光性が高くなる。さらに、
色素分子が捻じれた場合には、π電子の共役が途切れる
ため蛍光性が弱く、一方、平面構造をとって共役系を伸
ばした場合の方が蛍光性は高く、蛍光変換効率が高くな
る。このように、蛍光色素は、π電子リッチな構造に加
えて、アミノ基などの置換基を有するものが多く、一般
に電子供与性で、かつ塩基性である。

【０００９】このような蛍光色素の具体例としては、発
光体が発する紫外光ないし紫色光を吸収して、青色発光
に変換するものとして、例えば１，４−ビス（２−メチ
ルスチリル）ベンゼン（Ｂｉｓ−ＭＳＢ）；トランス−
４，４’−ジフェニルスチルベン（ＤＰＳ）などのスチ
ルベン系色素、７−ヒドロキシ−４−メチルクマリン
（クマリン４）などのクマリン系色素などが、また青色
又は青緑色光を緑色光に変換するものとして、例えば
２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−トリ
フルオロメチルキノリジン（９，９ａ，１−ｇｈ）クマ
リン（クマリン１５３）；３−（２’−ベンゾチアゾリ
ル）−７−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）；３
−（２’−ベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチ
ルアミノクマリン（クマリン７）；３−（２’−Ｎ−メ
チルベンゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミ
ノクマリン（クマリン３０）などのクマリン系色素、あ
るいはクマリン色素系染料であるベーシックイエロー５
１、さらにはソルベントイエロー１１，ソルベントイエ
ロー１１６などのナフタルイミド系色素などが、青色な
いし緑色光を橙色ないし赤色光に変換するものとして、
例えば４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−（ｐ−
ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣＭ）な
どのシアニン系色素、１−エチル−２−〔４−（ｐ−ジ
メチルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル）−ピ
リジウム−パークロレート（ピリジン１）などのピリジ
ン系色素、ローダミンＢ，ローダミン６Ｇ，ローダミン
３Ｂ，ローダミン１０１，ローダミン１１０，ベーシッ
クバイオレット１１，ベーシックレッド２などのローダ
ミン系色素、あるいはオキサジン系色素などが挙げられ
る。さらに、各種染料（直接染料，酸性染料，塩基性染
料，分散染料など）も蛍光性があれば使用することがで
きる。

【００１０】なお、これらの蛍光色素は、ポリメタクリ
ル酸エステル，ポリ塩化ビニル，塩化ビニル−酢酸ビニ
ル共重合樹脂，アルキッド樹脂，芳香族スルホンアミド
樹脂，ユリア樹脂，メラミン樹脂，ベンゾグアナミン樹
脂及びこれらの樹脂混合物などに予め練り込んで顔料化
して蛍光顔料としたものであってもよい。また、これら
の蛍光色素や蛍光顔料は単独で用いてもよく、必要に応
じ二種以上を組み合わせて用いてもよい。一方、上記蛍
光色素や蛍光顔料と共存する（Ｂ）成分のバインダー樹
脂としては、該蛍光色素や蛍光顔料の蛍光性を低下させ
ない、すなわち消光や脱色させないものが好ましい。塩
基性樹脂は、一般にπ電子リッチで電子供与性であり、
塩基性である蛍光色素に対して、相互作用を及ぼしにく
い。したがって、蛍光色素の蛍光性を低下させないので
蛍光変換効率は高い。

【００１１】一方、遊離のカルボキシル基やスルホン酸
基などの酸基を有する酸性樹脂は、蛍光色素に酸塩基相
互作用を及ぼし、蛍光性を低下させ（つまり消光さ
せ）、蛍光変換効率を低下させる。また、フォトレジス
トなどの感光性樹脂や熱硬化性樹脂のような反応性を有
する樹脂は、感光（露光）時又は熱硬化時にラジカル種
やイオン種を発生させ、蛍光色素に対して相互作用を及
ぼし、蛍光性を失なわせ、消光又は脱色させるので、蛍
光変換効率を低下させる（特開平７−２６８０１０号公
報）。さらに、電子吸引性基を有する電子受容性の樹脂
も、蛍光色素の電子状態を歪め、蛍光性を低下させるの
で、蛍光変換効率を低下させる。

【００１２】このように、塩基性樹脂は、蛍光色素や蛍
光顔料のバインダー樹脂として、高い変換効率を達成す
るが、本発明においては、さらに、酸性水溶液に可溶な
ものとした塩基性樹脂が用いられる。酸性水溶液に可溶
であれば、蛍光色素や蛍光顔料を適量分散させた蛍光変
換膜は、酸性水溶液によるエッチング処理が可能とな
り、蛍光変換膜を高精細にパターニングすることが可能
となる。このような塩基性樹脂としては、特に制限はな
く、様々なものが挙げられるが、例えば樹脂中の炭素原
子に結合した１級から３級のアミノ基を有する樹脂（含
窒素複素環式樹脂も含む）を好ましく挙げることができ
る。このような樹脂は、酸性水溶液処理により、酸性水
溶液の水素イオンがアミノ基に配位して、４級アンモニ
ウムイオンを形成して水溶性となり、その結果、酸性水
溶液に可溶な樹脂となる。このような酸性水溶液に可溶
な塩基性樹脂としては、例えば、一般式（Ｉ）

【００１３】

【化５】（式中、Ｘ¹は

【００１４】

【化６】で表される基を示し、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、ｍ
は０〜４の整数を示す。）で表される単量体及び一般式
（II）

【００１５】

【化７】（式中、Ｘ²は

【００１６】

【化８】

【００１７】で表される基を示し、Ｒ²及びＲ³は、そ
れぞれ水素原子，メチル基，エチル基又はイソプロピル
基を示し、それらはたがいに同一でも異なっていてもよ
く、Ｒ ⁴は水素原子又はメチル基、ｎ及びｋは、それぞ
れ０〜４の整数を示す。）で表される単量体の中から選
ばれた少なくとも一種の単量体の重合体、又はこの単量
体と共重合可能な他のエチレン性不飽和単量体との共重
合体を挙げることができる。上記一般式（Ｉ），（II）
で表される単量体の例としては、主に

【００１８】

【化９】

【００１９】

【化１０】

【００２０】

【化１１】

【００２１】で表される化合物などが挙げられる。これ
らの単量体は単独で用いてもよく、二種以上を組み合わ
せて用いてもよいが、これらの中で、重合体の化学的安
定性及び重合体の製造しやすさなどの点から、特に
（１），（２）及び（１３）で示される化合物が好適で
ある。一方、これらの単量体と共重合させる他のエチレ
ン性不飽和単量体としては特に制限はなく、様々なもの
が挙げられるが、例えばスチレン，α−メチルスチレ
ン，酢酸ビニル，ビニルクロリド，メチルビニルエーテ
ル，Ｎ−ビニル−２−ピロリドン，アクリルアミド，メ
タクリルアミド，アクリロニトリル，メタクリロニトリ
ル、さらには、一般式（III)

【００２２】

【化１２】

【００２３】（式中、Ｒ⁵は水素原子又はメチル基、Ｒ
⁶は炭素数１〜６のアルキル基，シクロヘキシルエチル
基，シクロヘキシル基，ベンジル基，Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエチル基，２−ヒドロキシエチル基又は３−ヒド
ロキシプロピル基を示す。）で表される化合物などの中
性又は塩基性の単量体を好ましく挙げることができる。
これらのエチレン性不飽和単量体は一種用いてもよく、
二種以上を組み合わせて用いてもよいが、これらの中
で、共重合体の化学的安定性及び共重合体の製造の容易
さなどの点から、スチレン，アクリル酸及びメタクリル
酸の炭素数１〜６のアルキルエステルが特に好適であ
る。バインダーの塩基性樹脂として、共重合体を用いる
場合は、一般式（Ｉ）及び／又は一般式（II）で表され
る単量体由来の単位の含有量は、得られる蛍光変換膜の
酸性水溶液によるエッチング処理が容易である点から、
２０モル％以上が好ましく、特に４０モル％以上が好適
である。

【００２４】この塩基性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）
は、各種状況に応じて選定すればよいが、通常１０００
〜１００００００の範囲で選ばれる。このＭｗが１００
０未満では蛍光変換膜の結晶性が高まり、膜の強度が充
分でない（脆くなる）おそれがあり、また１０００００
０を超えると溶剤に溶けにくくなり、蛍光変換膜を作製
する際の溶剤の選択が困難となる上、蛍光変換膜の酸性
水溶液に対する溶解性が低下して、酸性水溶液によるエ
ッチング性が低下する傾向がみられる。蛍光変換膜の強
度，酸性水溶液によるエッチング性及び溶剤への溶解性
などの面から、該塩基性樹脂の重量平均分子量は、特に
１００００〜１０００００の範囲が好適である。

【００２５】本発明においては、該塩基性樹脂として、
酸性水溶液に可溶なものが用いられるが、このような樹
脂としては、室温ないし８０℃程度の温度において、酸
性水溶液に溶解（溶解度0.１重量％以上）するものであ
ればよい。ここで、酸性水溶液としては、例えば塩酸，
臭化水素酸，硝酸，硫酸，炭酸などの無機酸（鉱酸）の
水溶液、ギ酸，酢酸，プロピオン酸，シュウ酸などの有
機酸の水溶液、あるいはこれらの酸を二種以上含む混合
酸の水溶液が挙げられるが、通常は塩酸水溶液及び酢酸
水溶液が用いられる。また、濃度としては、水素イオン
濃度（ｐＨ）として7.０未満か、あるいは0.０１〜５０
重量％程度の濃度のものが用いられる。さらに、この酸
性水溶液には、蛍光変換膜への濡れ性を向上させるため
に、所望により界面活性剤を加えてもよい。

【００２６】本発明の蛍光変換膜の作製方法については
特に制限はなく、例えば適当な溶剤中に、（Ａ）成分の
蛍光色素や蛍光顔料と（Ｂ）成分のバインダー樹脂とを
溶解又は分散して溶液を調製し、スピンコート，ロール
コート，バーコート，キャスティング，ディッピングな
どの方法で製膜したのち、オーブンなどで乾燥すること
により、蛍光変換膜を作製することができる。この際、
蛍光色素は、バインダー樹脂１ｋｇ当たり、0.０００１
〜１モルの割合で用いるのが好ましい。この量が0.００
０１モル未満では発光体から発光する光を充分に吸収さ
せるために蛍光変換膜の厚さを１００μｍ以上にする必
要があり、高精細なパターニング（エッチング）が困難
となる。一方、１モルを超えると蛍光色素の濃度が高す
ぎて、色素間の会合が著しくなり、濃度消光が生じるお
それがある。発光体から発光する光の吸収性及び色素間
の会合防止性などの面から、この蛍光色素は、バインダ
ー樹脂１ｋｇ当たり、0.００１〜0.１モルの割合で用い
るのが特に好ましい。また、蛍光色素を樹脂中に含有さ
せた蛍光顔料においては、蛍光色素の量が、蛍光顔料中
の樹脂１ｋｇ当たり、上記の割合になるようにした蛍光
顔料、あるいは蛍光色素の量が、蛍光顔料中の樹脂に対
して、好ましくは0.１〜１０重量％、より好ましくは0.
５〜７重量％になるようにした蛍光顔料を用いるのがよ
い。蛍光色素の量が、モル比率の場合と同じ理由で、0.
１重量％未満では高精細なパターニングが困難となる場
合があり、また１０重量％を超えると濃度消光が生じる
おそれがある。このような蛍光顔料を用いた場合には、
蛍光顔料とバインダー樹脂の重量割合を１：２０〜４：
１とすることが好ましく、また、１：１０〜３：７とす
ることがより好ましい。１：２０より蛍光顔料の割合が
少なくなると、発光体から発光する光を充分に吸収させ
るために、蛍光変換膜の厚さを１００μｍ以上にする必
要があり、４：１より蛍光顔料の割合が多くなると、酸
性水溶液に可溶なバインダー樹脂成分が少なくなるの
で、結果的には、いずれの場合も、蛍光変換膜を高精細
にパターニング（エッチング）することが困難となる。

【００２７】さらに、蛍光変換膜の作製の際に用いられ
る溶剤としては、蛍光色素及びバインダー樹脂、さらに
は蛍光顔料中の樹脂を溶解又は分散しうるものであれば
よく、特に制限はない。このような溶剤としては、例え
ばジクロロメタン；１，２−ジクロロエタン；クロロホ
ルム；アセトン；シクロヘキサノン；トルエン；ベンゼ
ン；キシレン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；Ｎ−メ
チルピロリドン；１，２−ジメトキシエタン；１，２−
ジエトキシエタン；エチレングリコールモノメチルエー
テル（メチルセロソルブ）；エチレングリコールモノエ
チルエーテル（エチルセロソルブ）；エチレングリコー
ルモノエチルエーテルアセテート（エチルセロソルブア
セテート）などを用いることができる。これらの溶剤
は、それぞれ単独で用いてもよく、二種以上を混合して
用いてもよい。なお、溶剤の量は、蛍光変換膜の作製方
法に応じて、適宜加え、適度な粘度又は固形分濃度調整
を行う。また、蛍光顔料を分散させる場合には、適当な
分散剤，界面活性剤を加えればよい。

【００２８】この蛍光変換膜をパターニングするには、
該蛍光変換膜の上に、通常のフォトレジストを積層し、
フォトレジストのパターニング後に、下層の蛍光変換膜
が酸性水溶液に可溶であるので、該酸性水溶液でエッチ
ング処理し、次いでレジストを剥離することによって、
高精細に蛍光変換膜をパターニングすることができる。
エッチング処理において用いられる酸性水溶液として
は、前述の酸性水溶液の説明において例示したものと同
じものを挙げることができる。このような酸性水溶液
は、発火性がなく、取扱いが簡易で、かつエッチング処
理後、水でリンスすることによって、適度なエッチング
ができるようにコントロールすることができる。このよ
うなパターニング法においては、フォトレジスト層と蛍
光変換膜とが層分離しているため、フォトレジスト層か
ら発生するラジカル種又はイオン種によって、蛍光変換
膜中の蛍光色素が脱色したり消光したりすることはな
い。

【００２９】本発明における発光体としては、近紫外領
域ないし可視領域の光を発するものであればよく、特に
制限されず、例えばＥＬ，ＬＥＤ，ＶＦＤ，ＰＤＰなど
の各素子を挙げることができるが、これらの素子の中で
効率よく近紫外領域から青色又は青緑色、さらには緑色
の発光が可能な有機ＥＬ素子が好適である。発光体の種
類が異なっても、平面的に分離配置をしたある一色の発
光体と位置合わせをして所望の色の蛍光を発光できる蛍
光変換膜を配置すれば、有機ＥＬ素子と同様に多色発光
は可能である。この有機ＥＬ素子は、基本的には一対の
電極の間に発光層を挾持し、必要に応じ正孔注入層や電
子注入層を介在させた構造を有している。具体的には、（１）陽極／発光層／陰極（２）陽極／正孔注入層／発光層／陰極（３）陽極／発光層／電子注入層／陰極（４）陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰極などの構造がある。

【００３０】上記発光層は（１）電界印加時に、陽極又
は正孔注入層により正孔を注入することができ、かつ陰
極又は電子注入層より電子を注入することができる注入
機能、（２）注入した電荷（電子と正孔）を電界の力で
移動させる輸送機能、（３）電子と正孔の再結合の場を
発光層内部に提供し、これを発光につなげる発光機能な
どを有している。ただし、正孔の注入されやすさと電子
の注入されやすさに違いがあってもよく、また、正孔と
電子の移動度で表される輸送機能に大小があってもよい
が、どちらか一方の電荷を移動させる機能を有するもの
が好ましい。この発光層に用いられる発光材料の種類に
ついては特に制限はなく、従来有機ＥＬ素子における発
光材料として公知のものを用いることができる。このよ
うな発光材料は主に有機化合物であり、具体的には所望
の色調により、次の化合物が挙げられる。

【００３１】まず、紫外領域ないし紫色領域の発光を得
る場合には、パラ−ポリフェニレン系のものが好まし
い。このパラ−ポリフェニレン系化合物のフェニル基又
はフェニレン基には、アルコキシ基，水酸基，スルホニ
ル基，カルボキシル基，アルコキシカルボニル基，アミ
ノ基，ジメチルアミノ基，ジフェニルアミノ基などの置
換基が１個又は２個以上導入されていてもよい。このよ
うなパラ−ポリフェニレン系化合物の例としては、ｐ−
クォーターフェニル（ＰＱＰ）；３，５，３''''，
５''''−テトラ−ｔ−ブチル−ｐ−クインクフェニル
（ＴＢＱ）；３，５，３''''' ，５''''' −テトラ−ｔ
−ブチル−ｐ−セキシフェニル（ＴＢＳ）などが挙げら
れる。

【００３２】次に、青色ないし緑色の発光を得るには、
例えばベンゾチアゾール系，ベンゾイミダゾール系，ベ
ンゾオキサゾール系などの蛍光増白剤、金属キレート化
オキシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物を挙げ
ることができる。また、芳香族ジメチリディン系化合物
（欧州特許第３８８７６８号明細書，特開平３−２３１
９７０号公報に開示のもの）も好ましく用いることがで
きる。この芳香族ジメチリディン系化合物の例として
は、１，４−フェニレンジメチリディン；４，４’−ビ
フェニレンジメチリディン；２，５−キシリレンジメチ
リディン；２，６−ナフチレンジメチリディン；１，４
−ｐ−テレフェニレンジメチリディン；４，４’−ビス
（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニル
（ＤＴＢＰＶＢｉ）；４，４’−ビス（２，２−ジフェ
ニルビニル）ビフェニル（ＤＰＶＢｉ）など及びこれら
の誘導体が挙げられる。

【００３３】さらに、特開平５−２５８８６２号公報な
どに記載されている一般式（IV）（Ｒ−Ｑ)₂−Ａｌ−Ｏ−Ｌ・・・（IV）（式中、Ｌはベンゼン環を含む炭素数６〜２４の炭化水
素基、Ｏ−Ｌはフェノラート配位子、Ｑは置換８−キノ
リノラート配位子を示し、Ｒはアルミニウム原子に置換
８−キノリノラート配位子が２個を上回り結合するのを
立体的に妨害するように選ばれた８−キノリノラート環
置換基を示す。）で表される化合物も挙げることができ
る。この化合物の例としては、ビス（２−メチル−８−
キノリノラート）（ｐ−フェニルフェノラート）アルミ
ニウム（III)（以下、ＰＣ−７），ビス（２−メチル−
８−キノリノラート）（１−ナフトラート）アルミニウ
ム（III)（以下、ＰＣ−１７）などが挙げられる。

【００３４】その他、高効率の青色と緑色の混合発光を
得るために、ホストである上記発光材料にドーパントを
加えたもの（特開平６−９９５３号公報など）を挙げる
ことができる。該ドーパントとしては、例えば青色領域
ないし緑色領域の蛍光色素、具体的にはクマリン系ある
いは上記のホストとして用いられるものと同様な蛍光色
素などが挙げられる。特に、ホストとして芳香族ジメチ
リディン化合物の発光材料、好ましくはＤＰＶＢｉと、
ドーパントとしてジフェニルアミノスチリルアリーレン
骨格を有するもの、好ましくは１，４−ビス〔４−
〔Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ）スチリル〕ベンゼン（Ｄ
ＰＡＶＢ）との組合せを好ましく挙げることができる。
上記材料を用いて発光層を形成する方法としては、例え
ば蒸着法，スピンコート法，キャスト法，ＬＢ法などの
公知の方法により薄膜化することにより形成することが
できるが、特に分子堆積膜であることが好ましい。ここ
で、分子堆積膜とは、該化合物の気相状態から沈着され
形成された薄膜や、該化合物の溶融状態又は液相状態か
ら固体化され形成された膜のことである。通常、この分
子堆積膜はＬＢ法により形成された薄膜（分子累積膜）
と凝集構造，高次構造の相違や、それに起因する機能的
な相違により区別することができる。

【００３５】また、この発光層は、特開昭５７−５１７
８１号公報に記載されているように、樹脂などの結着材
と共に上記発光材料を溶剤に溶かして溶液としたのち、
これをスピンコート法などにより薄膜化して形成するこ
とができる。このようにして形成された発光層の膜厚に
ついては特に制限はなく、状況に応じて適宜選択するこ
とができるが、通常は５ｎｍ〜５μｍの範囲である。こ
のＥＬ素子における陽極としては、仕事関数の大きい
（４ｅＶ以上）金属，合金，電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものが好ましく用いられ
る。このような電極物質の具体例としてはＡｕなどの金
属，ＣｕＩ，インジウムチンオキシド（ＩＴＯ），Ｓｎ
Ｏ₂，ＺｎＯなどの導電性透明材料が挙げられる。該陽
極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの
方法により、薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法
で所望の形状のパターンを形成してもよく、あるいはパ
ターン精度をあまり必要としない場合は（１００μｍ以
上程度）、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所
望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。
この陽極より発光を取り出す場合には、透過率を１０％
より大きくすることが望ましく、また、陽極としてのシ
ート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。さらに膜厚は材
料にもよるが、通常１０ｎｍ〜１μｍ，好ましくは１０
〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。

【００３６】一方、陰極としては、仕事関数の小さい
（４ｅＶ以下）金属（電子注入性金属と称する），合
金，電気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質と
するものが用いられる。このような電極物質の具体例と
しては、ナトリウム，ナトリウム−カリウム合金，マグ
ネシウム，リチウム，マグネシウム／銅混合物，マグネ
シウム／銀混合物，マグネシウム／アルミニウム混合
物，マグネシウム／インジウム混合物，アルミニウム／
酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合物，インジウム，
リチウム／アルミニウム混合物，希土類金属などが挙げ
られる。これらの中で、電子注入性及び酸化などに対す
る耐久性の点から、電子注入性金属とこれより仕事関数
の値が大きく安定な金属である第二金属との混合物、例
えばマグネシウム／銀混合物，マグネシウム／アルミニ
ウム混合物，マグネシウム／インジウム混合物，アルミ
ニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合物，リチ
ウム／アルミニウム混合物などが好適である。該陰極
は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリングなどの方
法により、薄膜を形成させることにより、作製すること
ができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□
以下が好ましく、膜厚は通常１０ｎｍ〜１μｍ，好まし
くは５０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。なお、発光を
透過させるため、有機ＥＬ素子の陽極又は陰極のいずれ
か一方が、透明又は半透明であれば発光効率が向上し好
都合である。

【００３７】次に、必要に応じて設けられる正孔注入層
は、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する機能を
有し、この正孔注入層を陽極と発光層の間に介在させる
ことにより、より低い電界で多くの正孔が発光層に注入
され、そのうえ、発光層に陰極又は電子注入層より注入
された電子は、発光層と正孔注入層の界面に存在する電
子の障壁により、発光層内の界面に累積され発光効率が
向上するなど発光性能の優れた素子となる。この正孔注
入層の材料（以下、正孔注入材料という）については、
前記の好ましい性質を有するものであれば特に制限はな
く、従来、光導伝材料において、正孔の電荷注入輸送材
料として慣用されているものやＥＬ素子の正孔注入層に
使用される公知のものの中から任意のものを選択して用
いることができる。

【００３８】上記正孔注入材料は、正孔の注入、電子の
障壁性のいずれかを有するものであり、有機物，無機物
のいずれであってもよい。この正孔注入材料としては、
例えばトリアゾール誘導体，オキサジアゾール誘導体，
イミダゾール誘導体，ポリアリールアルカン誘導体，ピ
ラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体，フェニレンジア
ミン誘導体，アリールアミン誘導体，アミノ置換カルコ
ン誘導体，オキサゾール誘導体，スチリルアントラセン
誘導体，フルオレノン誘導体，ヒドラゾン誘導体，スチ
ルベン誘導体，シラザン誘導体，アニリン系共重合体、
また、導電性高分子オリゴマー、特にチオフェンオリゴ
マーなどが挙げられる。正孔注入材料としては、上記の
ものを使用することができるが、ポルフィリン化合物，
芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、
特に芳香族第三級アミン化合物を用いることが好まし
い。

【００３９】上記芳香族第三級アミン化合物及びスチリ
ルアミン化合物の代表例としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’
−テトラフェニル−４，４’−ジアミノフェニル；Ｎ，
Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニ
ル）−〔１，１’−ビフェニル〕−４，４’−ジアミン
（ＴＰＤ）；２，２−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノ
フェニル）プロパン；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリ
ルアミノフェニル）シクロヘキサン；Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラ−ｐ−トリル−４，４’−ジアミノビフェ
ニル；１，１−ビス（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニ
ル）−４−フェニルシクロヘキサン；ビス（４−ジメチ
ルアミノ−２−メチルフェニル）フェニルメタン；ビス
（４−ジ−ｐ−トリルアミノフェニル）フェニルメタ
ン；Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ジ（４−メトキ
シフェニル）−４，４’−ジアミノビフェニル；Ｎ，
Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−４，４’−ジアミノ
ジフェニルエーテル；４，４’−ビス（ジフェニルアミ
ノ）クオードリフェニル；Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリ（ｐ−トリ
ル）アミン；４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）−４’−
〔４−（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリル〕スチルベ
ン；４−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ−（２−ジフェニル
ビニル）ベンゼン；３−メトキシ−４’−Ｎ，Ｎ−ジフ
ェニルアミノスチルベンゼン；Ｎ−フェニルカルバゾー
ル、さらには、米国特許第５０６１５６９号明細書に記
載されている２個の縮合芳香族環を分子内に有するも
の、例えば４，４’−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ
−フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、特開平４−
３０８６８８号公報に記載されているトリフェニルアミ
ンユニットが３つスターバースト型に連結された４，
４’，４''−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ
−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴ
Ａ）などが挙げられる。

【００４０】また、発光層の材料として示した前述の芳
香族ジメチリディン系化合物、ｐ型−Ｓｉ，ｐ型−Ｓｉ
Ｃなどの無機化合物も正孔注入材料として使用すること
ができる。この正孔注入層は、上記正孔注入材料を、例
えば真空蒸着法，スピンコート法，キャスト法，ＬＢ法
などの公知の方法により、薄膜化することにより形成す
ることができる。正孔注入層の膜厚については特に制限
はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度である。この正孔
注入層は、上記材料の一種又は二種以上からなる一層構
造であってもよく、同一組成又は異種組成の複数層から
なる積層構造であってもよい。さらに、必要に応じて用
いられる電子注入層は、陰極より注入された電子を発光
層に伝達する機能を有していればよく、その材料として
は従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用い
ることができる。

【００４１】この電子注入層に用いられる材料（以下、
電子注入材料という）の例としては、ニトロ置換フルオ
レン誘導体，ジフェニルキノン誘導体，チオピランジオ
キシド誘導体，ナフタレンペリレンなどの複素環テトラ
カルボン酸無水物，カルボジイミド，フレオレニリデン
メタン誘導体，アントラキノジメタン及びアントロン誘
導体，オキサジアゾール誘導体などが挙げられる。ま
た、特開昭５９−１９４３９３号公報に記載されている
一連の電子伝達性化合物は、該公報では発光層を形成す
る材料として開示されているが、本発明者らが検討の結
果、電子注入材料として用いうることが分かった。さら
に、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジア
ゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾー
ル誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン
環を有するキノキサリン誘導体も、電子注入材料として
用いることができる。

【００４２】また、８−キノリノール誘導体の金属錯
体、例えばトリス（８−キノリノール）アルミニウム
（Ａｌｑ），トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノ
ール）アルミニウム，トリス（５，７−ジブロモ−８−
キノリノール）アルミニウム，トリス（２−メチル−８
−キノリノール）アルミニウム，トリス（５−メチル−
８−キノリノール）アルミニウム，ビス（８−キノリノ
ール）亜鉛（Ｚｎｑ）など、及びこれらの金属錯体の中
心金属がＩｎ，Ｍｇ，Ｃｕ，Ｃａ，Ｓｎ，Ｇａ又はＰｂ
に置き替わった金属錯体も、電子注入材料として用いる
ことができる。その他、メタルフリー若しくはメタルフ
タロシアニン、又はそれらの末端がアルキル基やスルホ
ン酸基などで置換されているものも、電子注入材料とし
て好ましく用いることができる。また、発光層の材料と
して例示したジスチリルピラジン誘導体も、電子注入材
料として用いることができるし、正孔注入層と同様に、
ｎ型−Ｓｉ，ｎ型−ＳｉＣなどの無機半導体も電子注入
材料として用いることができる。

【００４３】この電子注入層は、上記化合物を、例えば
真空蒸着法，スピンコート法，キャスト法，ＬＢ法など
の公知の薄膜化法により製膜して形成することができ
る。電子注入層としての膜厚は、特に制限はないが、通
常は５ｎｍ〜５μｍの範囲で選ばれる。この電子注入層
は、これらの電子注入材料一種又は二種以上からなる一
層構造であってもよいし、あるいは、同一組成又は異種
組成の複数層からなる積層構造であってもよい。次に、
該有機ＥＬ素子を作製する好適な例を説明する。例とし
て、前記の陽極／正孔注入層／発光層／電子注入層／陰
極からなるＥＬ素子の作製法について説明すると、まず
適当な基板上に、所望の電極物質、例えば陽極用物質か
らなる薄膜を、１μｍ以下、好ましくは１０〜２００ｎ
ｍの範囲の膜厚になるように、蒸着やスパッタリングな
どの方法により形成させ、陽極を作製する。次に、この
上に素子材料である正孔注入層，発光層，電子注入層の
材料からなる薄膜を形成させる。

【００４４】この薄膜化の方法としては、前記の如くス
ピンコート法，キャスト法，蒸着法などがあるが、均質
な膜が得られやすく、かつピンホールが生成しにくいな
どの点から、真空蒸着法が好ましい。この薄膜化に、こ
の蒸着法を採用する場合、その蒸着条件は、使用する化
合物の種類，分子堆積膜の目的とする結晶構造，会合構
造などにより異なるが、一般にボート加熱温度５０〜４
５０℃，真空度１０^-6〜１０^-3Ｐａ，蒸着速度0.０１〜
５０ｎｍ／秒，基板温度−５０〜３００℃，膜厚５ｎｍ
〜５μｍの範囲で適宜選ぶことが望ましい。

【００４５】これらの層の形成後、その上に陰極用物質
からなる薄膜を、１μｍ以下好ましくは５０〜２００ｎ
ｍの範囲の膜厚になるように、例えば蒸着やスパッタリ
ングなどの方法により形成させ、陰極を設けることによ
り、所望のＥＬ素子が得られる。この有機ＥＬ素子の作
製は、一回の真空引きで一貫して正孔注入層から陰極ま
で作製するのが好ましいが、作製順序を逆にして、陰
極，電子注入層，発光層，正孔注入層，陽極の順に作製
することも可能である。このようにして得られたＥＬ素
子に、直流電圧を印加する場合には、陽極を＋，陰極を
−の極性として電圧５〜４０Ｖ程度を印加すると、発光
が観測できる。また、逆の極性で電圧を印加しても電流
は流れずに発光は全く生じない。さらに、交流電圧を印
加する場合には、陽極が＋，陰極が−の状態になったと
きのみ発光する。なお、印加する交流の波形は任意でよ
い。

【００４６】

【実施例】次に、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定さ
れるものではない。製造例１発光体としての有機ＥＬ素子の作製２５ｍｍ×７５ｍｍ×1.１ｍｍのガラス基板（コーニン
グ７０５９）上全面に、スパッタリングにより、厚さ１
２０ｎｍのＩＴＯ膜を形成したのち、ノボラック樹脂／
キノンジアジド系のポジ型レジスト（富士ハントエレク
トロニクステクノロジー社製、ＨＰＲ２０４）をスピン
コートして積層し、８０℃で乾燥後、ガラス基板内１５
ｍｍ×５０ｍｍ面積の領域にＩＴＯベタパターンが得ら
れるマスクを介して、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯
を光源としたコンタクト露光を行った。次いで、2.３８
重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で
現像処理したのち、１３０℃でベーク後、臭化水素酸水
溶液で露出したＩＴＯ膜をエッチング処理し、最後にポ
ジ型レジストを剥離して、ＥＬ素子の陽極となるＩＴＯ
パターンを得た。

【００４７】次に、この基板をイソプロピルアルコール
洗浄、次いでＵＶ洗浄後、蒸着装置（日本真空技術社
製）の基板ホルダーに固定した。それぞれのモリブデン
製の抵抗加熱ボートに、正孔注入材料として、４，
４’，４''−トリス〔Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ
−フェニルアミノ〕トリフェニルアミン（ＭＴＤＡＴ
Ａ）及び４，４’−ビス〔Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−
フェニルアミノ〕ビフェニル（ＮＰＤ）、発光材料とし
て４，４’−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェ
ニル（ＤＰＶＢｉ）、電子注入材料としてトリス（８ー
キノリノール）アルミニウム（Ａｌｑ）をそれぞれ仕込
み、さらに陰極の第二金属として銀ワイヤーをタングス
テン製フィラメントに、陰極の電子注入性金属としてマ
グネシウムリボンをモリブデン製ボートに装着した。

【００４８】その後、真空槽を５×１０^-7ｔｏｒｒまで
減圧にしたのち、以下の順序で正孔注入層から陰極まで
途中で真空を破らず一回の真空引きで、順次積層してい
った。まず、正孔注入層としては、ＭＴＤＡＴＡを蒸着
速度0.１〜0.３ｎｍ／秒，膜厚６０ｎｍ及びＮＰＤを蒸
着速度0.１〜0.３ｎｍ／秒，膜厚２０ｎｍ、発光層とし
ては、ＤＰＶＢｉを蒸着速度0.１〜0.３ｎｍ／秒，膜厚
５０ｎｍ、電子注入層としては、Ａｌｑを蒸着速度0.１
〜0.３ｎｍ／秒，膜厚２０ｎｍで蒸着し、さらに陰極と
しては、ＩＴＯ陽極パターンと交差するようにガラス基
板内１５ｍｍ×５０ｍｍ面積領域にマスクを介して、マ
グネシウムと銀を、それぞれ蒸着速度1.３〜1.４ｎｍ／
秒及び0.１ｎｍ／秒で同時蒸着し、膜厚を２００ｎｍと
した。このようにして、有機ＥＬ素子を作製し、その陽
極と陰極に直流１２Ｖの電圧を印加したところ、陽極と
陰極の交差部分が発光した。発光輝度は、色彩色差計
（ミノルタ製ＣＳ１００）にて２００ｃｄ／ｍ²、ＣＩ
Ｅ色度座標はｘ＝0.１４，ｙ＝0.２０であり、青色の発
光であることを確認した。

【００４９】実施例１塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）４0,０００のポリ（２−ビニルピリジン）を、蛍光
色素として、３−（２’−ベンゾチアゾリル）−７−
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン（クマリン６）を用い
た。上記バインダー樹脂３ｇ及びこのバインダー樹脂１
ｋｇ当たり0.０３モルになるような量のクマリン６をエ
チルセロソルブアセテート１０ｇに溶解して溶液を調製
した。この溶液を、２５ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍｍの青
板ガラス基板（ジオマテック社製）上にスピンコートし
て、８０℃オーブンで乾燥することにより、膜厚１8.０
μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００５０】次に、この膜上にポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、２重量％
酢酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理し、
水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残ったポジ
レジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜
パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光
体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねる
と、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２０
０ｃｄ／ｍ²（変換効率１００％）が得られ、ＣＩＥ色
度座標は、ｘ＝0.２６，ｙ＝0.６８であり、黄味がかっ
た緑色（イエロイシュグリーン）の発光が出ていること
を観測した。すなわち、本発明の蛍光変換膜により、高
効率で発光体の青色から黄味がかった緑色に変換可能で
あった。また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精細
にパターニングできた。

【００５１】実施例２塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）４0,０００のポリ（２−ビニルピリジン）を、蛍光
顔料として、ベンゾグアナミン樹脂に対して２重量％の
ソルベントイエロー１１６及び６重量％のソルベントイ
エロー４４を予め練り込んで顔料化したナフタルイミド
系蛍光顔料を用いた。上記バインダー樹脂1.５ｇ及び蛍
光顔料1.５ｇをエチルセロソルブアセテート１０ｇに溶
解して溶液を調製した。この溶液を、２５ｍｍ×５０ｍ
ｍ×1.１ｍｍの青板ガラス基板（ジオマテック社製）上
にスピンコートして、８０℃オーブンで乾燥することに
より、膜厚２0.７μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００５２】次に、この膜上にポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、２０重量
％酢酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理
し、水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残った
ポジレジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変
換膜パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した
発光体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ね
ると、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２０
５ｃｄ／ｍ²（変換効率１０３％）が得られ、ＣＩＥ色
度座標は、ｘ＝0.１９，ｙ＝0.５８であり、緑色の発光
が出ていることを観測した。すなわち、本発明の蛍光変
換膜により、高効率で発光体の青色から緑色に変換可能
であった。また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精
細にパターニングできた。

【００５３】実施例３塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）５0,０００のポリ（４−ビニルピリジン）を、蛍光
色素として、クマリン６を用いた。上記バインダー樹脂
３ｇ及びこのバインダー樹脂１ｋｇ当たり0.０３モルに
なるような量のクマリン６をエチルセロソルブアセテー
ト１０ｇに溶解して溶液を調製した。この溶液を、２５
ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍｍの青板ガラス基板（ジオマテ
ック社製）上にスピンコートして、８０℃オーブンで乾
燥することにより、膜厚１7.５μｍの蛍光変換膜が得ら
れた。

【００５４】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、２重量％
酢酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理し、
水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残ったポジ
レジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜
パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光
体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねる
と、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２０
０ｃｄ／ｍ²（変換効率１００％）が得られ、ＣＩＥ色
度座標は、ｘ＝0.２６，ｙ＝0.６８であり、黄味がかっ
た緑色（イエロイシュグリーン）の発光が出ていること
を観測した。すなわち、本発明の蛍光変換膜により、高
効率で発光体の青色から黄味がかった緑色に変換可能で
あった。また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精細
にパターニングできた。

【００５５】実施例４塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）６0,０００のポリ（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメ
チルスチレン）を、蛍光色素として、３−（２’−ベン
ゾイミダゾリル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリ
ン（クマリン７）を用いた。上記バインダー樹脂３ｇ及
びこのバインダー樹脂１ｋｇ当たり0.０３モルになるよ
うな量のクマリン７をエチルセロソルブアセテート１０
ｇに溶解して溶液を調製した。この溶液を、２５ｍｍ×
５０ｍｍ×1.１ｍｍの青板ガラス基板（ジオマテック社
製）上にスピンコートして、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚１8.５μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００５６】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、１重量％
塩酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理し、
水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残ったポジ
レジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜
パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光
体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねる
と、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して１９
４ｃｄ／ｍ²（変換効率９７％）が得られ、ＣＩＥ色度
座標は、ｘ＝0.２５，ｙ＝0.５８であり、緑色の発光が
出ていることを観測した。すなわち、本発明の蛍光変換
膜により、発光体の青色から緑色に変換可能であった。
また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精細にパター
ニングできた。

【００５７】実施例５塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）１１0,０００の２−ビニルピリジン−スチレン共重
合体（２−ビニルピリジン単位：スチレン単位モル比＝
７０：３０）を、蛍光色素としてクマリン６を用いた。
上記バインダー樹脂３ｇ及びこのバインダー樹脂１ｋｇ
当たり0.０３モルになるような量のクマリン６をエチル
セロソルブアセテート１０ｇに溶解して溶液を調製し
た。この溶液を、２５ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍｍの青板
ガラス基板（ジオマテック社製）上にスピンコートし
て、８０℃オーブンで乾燥することにより、膜厚１7.０
μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００５８】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、１５重量
％酢酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理
し、水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残った
ポジレジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変
換膜パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した
発光体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ね
ると、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２０
５ｃｄ／ｍ²（変換効率１０３％）が得られ、ＣＩＥ色
度座標は、ｘ＝0.２６，ｙ＝0.６８であり、黄味がかっ
た緑色（イエロイシュグリーン）の発光が出ていること
を観測した。すなわち、本発明の蛍光変換膜により、高
効率で発光体の青色から黄味がかった緑色に変換可能で
あった。また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精細
にパターニングできた。

【００５９】実施例６塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）８0,０００の４−ビニルピリジン−ブチルメタクリ
レート共重合体（４−ビニルピリジン単位：ブチルメタ
クリレート単位モル比＝５０：５０）を、蛍光色素とし
てクマリン６を用いた。上記バインダー樹脂３ｇ及びこ
のバインダー樹脂１ｋｇ当たり0.０３モルになるような
量のクマリン６をエチルセロソルブアセテート１０ｇに
溶解して溶液を調製した。この溶液を、２５ｍｍ×５０
ｍｍ×1.１ｍｍの青板ガラス基板（ジオマテック社製）
上にスピンコートして、８０℃オーブンで乾燥すること
により、膜厚１6.５μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００６０】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、２０重量
％酢酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理
し、水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残った
ポジレジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変
換膜パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した
発光体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ね
ると、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２０
４ｃｄ／ｍ²（変換効率１０２％）が得られ、ＣＩＥ色
度座標は、ｘ＝0.２６，ｙ＝0.６８であり、黄味がかっ
た緑色（イエロイシュグリーン）の発光が出ていること
を観測した。すなわち、本発明の蛍光変換膜により、高
効率で発光体の青色から黄味がかった緑色に変換可能で
あった。また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精細
にパターニングできた。

【００６１】実施例７塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）６0,０００のｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチルス
チレン−スチレン共重合体（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノメチルスチレン単位：スチレン単位モル比＝７０：３
０）を、蛍光色素としてクマリン６を用いた。上記バイ
ンダー樹脂３ｇ及びこのバインダー樹脂１ｋｇ当たり0.
０３モルになるような量のクマリン６をエチルセロソル
ブアセテート１０ｇに溶解して溶液を調製した。この溶
液を、２５ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍｍの青板ガラス基板
（ジオマテック社製）上にスピンコートして、８０℃オ
ーブンで乾燥することにより、膜厚１8.０μｍの蛍光変
換膜が得られた。

【００６２】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、２重量％
塩酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理し、
水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残ったポジ
レジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜
パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光
体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねる
と、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２０
０ｃｄ／ｍ²（変換効率１００％）が得られ、ＣＩＥ色
度座標は、ｘ＝0.２６，ｙ＝0.６８であり、黄味がかっ
た緑色（イエロイシュグリーン）の発光が出ていること
を観測した。すなわち、本発明の蛍光変換膜により、高
効率で発光体の青色から黄味がかった緑色に変換可能で
あった。また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精細
にパターニングできた。

【００６３】実施例８塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）４0,０００のポリ（２−ビニルピリジン）を、蛍光
色素として４−ジシアノメチレン−２−メチル−６−
（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン（ＤＣ
Ｍ）を用いた。上記バインダー樹脂３ｇ及びこのバイン
ダー樹脂１ｋｇ当たり0.０３モルになるような量のＤＣ
Ｍをエチルセロソルブアセテート１０ｇに溶解して溶液
を調製した。この溶液を、２５ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍ
ｍの青板ガラス基板（ジオマテック社製）上にスピンコ
ートして、８０℃オーブンで乾燥することにより、膜厚
１8.５μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００６４】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、２重量％
酢酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理し、
水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残ったポジ
レジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜
パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光
体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねる
と、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して４０
ｃｄ／ｍ²（変換効率２０％）が得られ、ＣＩＥ色度座
標は、ｘ＝0.５５，ｙ＝0.４０であり、オレンジ色の発
光が出ていることを観測した。すなわち、本発明の蛍光
変換膜により、発光体の青色からオレンジ色に変換可能
であった。また、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精
細にパターニングできた。

【００６５】実施例９塩基性のバインダー樹脂として、重量平均分子量（Ｍ
ｗ）６0,０００のポリ（ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメ
チルスチレン）を、蛍光色素としてローダミン６Ｇとロ
ーダミンＢ及びＤＣＭを用いた。ローダミン６Ｇとロー
ダミンＢの量が、バインダー樹脂１ｋｇ当たり、それぞ
れ0.００５モルになるように、またＤＣＭの量がバイン
ダー樹脂１ｋｇ当たり、0.０３モルになるように、ロー
ダミン６Ｇ，ローダミンＢ，ＤＣＭ及び上記バインダー
樹脂３ｇをエチルセロソルブ１０ｇに溶解して溶液を調
製した。この溶液を、２５ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍｍの
青板ガラス基板（ジオマテック社製）上にスピンコート
して、８０℃オーブンで乾燥することにより、膜厚２3.
２μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００６６】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされた。次に、１重量％
塩酸水溶液で露出した蛍光変換膜をエッチング処理し、
水洗後、１重量％水酸化ナトリウム水溶液で残ったポジ
レジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜
パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光
体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねる
と、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２０
ｃｄ／ｍ²（変換効率１０％）が得られ、ＣＩＥ色度座
標は、ｘ＝0.５８，ｙ＝0.３２であり、赤色の発光が出
ていることを観測した。すなわち、本発明の蛍光変換膜
により、発光体の青色から赤色に変換可能であった。ま
た、蛍光変換膜を３００μｍピッチの高精細にパターニ
ングできた。

【００６７】実施例１０〜２２第１表に示す種類の塩基性バインダー樹脂及び蛍光色素
又は蛍光顔料を用い、実施例１〜９と同様にして実施し
た。結果を第１表に示す。なお、実施例１〜９の条件及
び結果も第１表に併記した。比較例１（フォトレジストをバインダーとした場合）蛍光色素のクマリン６を、光硬化型フォトレジスト（日
本合成ゴム社製ＪＮＰＣ０６，固形分３８重量％）中
に、フォトレジスト固形分１ｋｇ当たり0.０３モルにな
るように溶解させた。この溶液を、２５ｍｍ×５０ｍｍ
×1.１ｍｍの青板ガラス基板（ジオマテック社製）上に
スピンコートして、８０℃オーブンで乾燥することによ
り、膜厚１5.０μｍの蛍光変換膜（レジスト膜）が得ら
れた。次いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，
５０μｍギャップのストライプパターンが得られるマス
クを介して、３００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源と
してコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラメ
チルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理したと
ころ、パターニングができず、すべての膜が溶解してし
まった。

【００６８】そこで、露光エネルギーを１０倍、すなわ
ち３０００ｍＪ／ｃｍ²で露光を試みたが、やはりパタ
ーニング不能であった。これは、紫外光が蛍光色素に吸
収されるので、フォトレジストが感光しなかったためで
ある。なお、参考として現像処理せずに１８０℃オーブ
ンでポストベークしたところ、消光した蛍光変換膜が得
られた。ここで、製造例１で作製した発光体の有機ＥＬ
素子とこの蛍光変換膜を重ねてみると、蛍光変換膜から
発光する輝度は、色彩色差計により、有機ＥＬ素子の輝
度２００ｃｄ／ｍ²に対して１２０ｃｄ／ｍ²（変換効
率６０％）が得られ、ＣＩＥ色度座標は、ｘ＝0.３２，
ｙ＝0.６６であり、黄味がかった緑色（イエロイシュグ
リーン）の発光が出ていることを観測した。すなわち、
フォトレジスト中に蛍光色素を溶解させた蛍光変換膜
は、発光体の青色を黄味がかった緑色に変換したが、実
施例１に比べて変換効率は低く、また蛍光変換膜のパタ
ーニングは不可能であった。なお、変換効率が低いの
は、ポストベーク処理により、フォトレジスト膜中から
熱ラジカルが発生し、有機蛍光色素に作用して消光をも
たらしたと考えられる。

【００６９】比較例２（酸性樹脂をバインダーとした場
合−１）バインダー樹脂として、酸性樹脂のポリアクリル酸（Ｍ
ｗ３0,０００）を、蛍光色素としてクマリン６を用い
た。ポリアクリル酸３ｇ及びこのポリアクリル酸１ｋｇ
当たり0.０３モルになるような量のクマリン６をエチル
セロソルブ１０ｇに溶解して溶液を調製した。この溶液
を、２５ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍｍの青板ガラス基板
（ジオマテック社製）上にスピンコートして、８０℃オ
ーブンで乾燥することにより、膜厚１7.０μｍの蛍光変
換膜が得られた。

【００７０】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされるのと同時に蛍光変
換膜もエッチングされた。さらに、アセトンにてポジレ
ジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜パ
ターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光体
の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねると、
蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計により、有
機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して１０６ｃｄ
／ｍ²（変換効率５３％）が得られ、ＣＩＥ色度座標
は、ｘ＝0.３８，ｙ＝0.５８であり、黄緑色（イエロー
グリーン）の発光が出ていることを観測した。すなわ
ち、この蛍光変換膜は、発光体の青色を黄緑色に変換
し、またパターニングも可能であったが、変換効率は実
施例１よりも低かった。なお、変換効率が低いのは、ポ
リアクリル酸中に多量に存在する遊離のカルボン酸基が
蛍光色素に作用して消光をもたらしたと考えられる。

【００７１】比較例３（酸性樹脂をバインダーとした場
合−２）バインダー樹脂として、酸性樹脂のポリアクリル酸（Ｍ
ｗ３0,０００）を、蛍光色素としてローダミン６Ｇ，ロ
ーダミンＢ及びＤＣＭを用いた。ローダミン６Ｇとロー
ダミンＢの量が、ポリアクリル酸１ｋｇ当たり、それぞ
れ0.００５モルになるように、またＤＣＭの量がポリア
クリル酸１ｋｇ当たり、0.０３モルになるように、ロー
ダミン６Ｇ，ローダミンＢ，ＤＣＭ及びポリアクリル酸
３ｇをエチルセロソルブ１０ｇに溶解して溶液を調製し
た。この溶液を、２５ｍｍ×５０ｍｍ×1.１ｍｍの青板
ガラス基板（ジオマテック社製）上にスピンコートし
て、８０℃オーブンで乾燥することにより、膜厚２1.５
μｍの蛍光変換膜が得られた。

【００７２】次に、この膜上に、ポジ型フォトレジスト
（富士ハントエレクトロニクステクノロジー社製ＨＰＲ
２０４）をスピンコートし、８０℃オーブンで乾燥する
ことにより、膜厚2.０μｍのレジスト膜が得られた。次
いで、このレジスト膜を、２５０μｍライン，５０μｍ
ギャップのストライプパターンが得られるマスクを介し
て、１００ｍＪ／ｃｍ²で高圧水銀灯を光源とする露光
機にてコンタクト露光し、さらに2.３８重量％のテトラ
メチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で現像処理する
と、レジスト膜がパターニングされるのと同時に、蛍光
変換膜もエッチングされた。さらに、アセトンにてポジ
レジスト膜を剥離することにより、高精細の蛍光変換膜
パターンが得られた。ここで、製造例１で作製した発光
体の有機ＥＬ素子とこの蛍光変換膜パターンを重ねる
と、蛍光変換膜から発光する輝度は、色彩色差計によ
り、有機ＥＬ素子の輝度２００ｃｄ／ｍ²に対して２ｃ
ｄ／ｍ²（変換効率１％）が得られ、ＣＩＥ色度座標
は、ｘ＝0.５５，ｙ＝0.３２であり、赤色の発光がわず
かに出ていることを観測した。

【００７３】すなわち、この蛍光変換膜は、発光体の青
色を赤色に変換し、またパターニングも可能であった
が、変換効率は実施例９に比べてかなり低かった。な
お、変換効率が低いのは、酸性樹脂のポリアクリル酸中
に多量に存在する遊離のカルボン酸基が蛍光色素に作用
して消光をもたらしたと考えられる。なお、上記比較例
１〜３についても、その条件及び結果を第１表に併記し
た。

【００７４】

【表１】

【００７５】

【表２】

【００７６】

【表３】

【００７７】

【表４】

【００７８】

【表５】

【００７９】

【表６】

【００８０】〔注〕（１）蛍光色素又は蛍光顔料の項目における（）内の
モル／ｋｇは、バインダー樹脂１ｋｇ当たりの蛍光色素
のモル数である。（２）実施例２，実施例１８における蛍光顔料は、ベン
ゾグアナミン樹脂に対し、ソルベントイエロー１１６を
２重量％及びソルベントイエロー４４を６重量％の割合
で練り込んだものである。

【００８１】

【表７】

【００８２】

【表８】

【００８３】

【発明の効果】本発明の蛍光変換膜は、発光体から発す
る近紫外領域ないし可視領域の光を、効率よく異なる可
視光に変換することができ、かつ高精細なパターニング
が可能であって、例えば発光型のマルチカラー又はフル
カラーディスプレイ，表示パネル，バックライトなど、
民生用や工業用の表示機器に好適に用いられる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】（Ａ）発光体から発する近紫外領域ない
し可視領域の光を吸収して異なる可視光を発光する蛍光
色素及び蛍光顔料の中から選ばれた少なくとも一種と、
（Ｂ）酸性水溶液に可溶な塩基性のバインダー樹脂から
なる蛍光変換膜。
【請求項２】（Ｂ）成分のバインダー樹脂が、一般式
（Ｉ）【化１】（式中、Ｘ¹は【化２】で表される基を示し、Ｒ¹は水素原子又はメチル基、ｍ
は０〜４の整数を示す。）で表される単量体及び一般式
（II）【化３】（式中、Ｘ²は【化４】で表される基を示し、Ｒ²及びＲ³は、それぞれ水素原
子，メチル基，エチル基又はイソプロピル基を示し、そ
れらはたがいに同一でも異なっていてもよく、Ｒ ⁴は水
素原子又はメチル基、ｎ及びｋは、それぞれ０〜４の整
数を示す。）で表される単量体の中から選ばれた少なく
とも一種の単量体の重合体、又はこの単量体と共重合可
能な他のエチレン性不飽和単量体との共重合体である請
求項１記載の蛍光変換膜。
【請求項３】一般式（Ｉ）で表される単量体が、ビニ
ルピリジンである請求項２記載の蛍光変換膜。
【請求項４】一般式（II）で表される単量体が、Ｎ，
Ｎ−ジメチルアミノメチルスチレンである請求項２記載
の蛍光変換膜。
【請求項５】蛍光変換膜のパターニングに際し、酸性
水溶液でエッチング処理が可能である請求項１記載の蛍
光変換膜。
【請求項６】発光体が、有機エレクトロルミネッセン
ス素子である請求項１記載の蛍光変換膜。