JPH09208673A - エポキシ樹脂硬化剤、低誘電率樹脂組成物、及び低誘電率樹脂硬化物 - Google Patents
エポキシ樹脂硬化剤、低誘電率樹脂組成物、及び低誘電率樹脂硬化物Info
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Abstract
ポキシ樹脂組成物が高誘電率かつ高誘電正接であるとい
う欠点を克服しつつ、耐熱性、作業性、耐溶剤性、低吸
水性等に優れた低誘電率樹脂組成物を提供する。 【解決手段】フェノール化合物100重量部に対し、イ
ンデン、又はインデンオリゴマーを10〜500重量部
反応させてなるエポキシ樹脂硬化剤をエポキシ樹脂に含
有せしめ、更に、必要に応じて改質剤としてのインデン
オリゴマーを、その含有量がエポキシ樹脂、エポキシ樹
脂硬化剤、及びインデンオリゴマーの総量に対して10
〜80重量%となるように添加する。
Description
剤、低誘電率樹脂組成物、低誘電率樹脂硬化物に関し、
これらはプリント基板等の積層板や、電子部品の封止材
料等に利用し得るものである。
より高性能な樹脂の開発が求められており、たとえば、
移動体通信、自動車電話等の普及による情報通信量の増
大に伴う高周波化、コンピュータ分野における演算速度
の向上等の動向により、低誘電率、低誘電正接に優れ、
かつ耐湿性、密着性にも優れた材料の開発が望まれてい
る。
エーテル樹脂、ポリスチレン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリプロピレン等の熱可塑性低誘電率樹脂が提案
されてはいるが、これらのものは、従来より電子部品の
封止剤等として広く用いられているエポキシ樹脂等の熱
硬化性樹脂に比べ、作業性、信頼性、耐熱性、コストあ
るいは耐溶剤性の点において劣っていた(「プリント配
線板材料の新展開」、MRCテクノリサーチ、1994
参照)。
質剤としてポリスチレン等の低誘電性の熱可塑性樹脂を
添加する手法も知られているが、かかる熱可塑性樹脂は
熱硬化性樹脂との相溶性が低いため、その添加量を多く
することができず、誘電率を充分に低下させることがで
きなかったり、熱可塑性樹脂を添加することで熱硬化性
樹脂が本来有している耐溶剤性、耐熱性(ガラス転移温
度)等の他の物性を犠牲にしなければならない等の問題
があり実用的ではなかった。
より電子材料分野に広く用いられているエポキシ樹脂組
成物が高誘電率かつ高誘電正接であるという欠点を克服
しつつ、耐熱性、作業性、耐溶剤性、低吸水性等に優れ
た低誘電率樹脂組成物を提供することにある。
うな課題を解決するため鋭意研究を重ねた結果、インデ
ン、又はインデンオリゴマーをフェノール性化合物に反
応させて得られる樹脂をエポキシ樹脂の硬化剤として添
加することにより低誘電率、低誘電正接、耐熱性、作業
性、耐溶剤性、低吸水性、接着性に優れた熱硬化性樹脂
が得られ、また、これにより得られた樹脂組成物は、熱
可塑性樹脂対して相溶性を示すことから、更にインデン
オリゴマーを改質剤として添加することができ、一層の
低誘電率化、低誘電正接化が可能となることを見いだ
し、本発明を完成するに至った。
に説明する。
使用するフェノール性化合物は、ベンゼン環にフェノー
ル性水酸基を有する化合物であれば良く、単官能フェノ
ール類でも多官能フェノール類でも良いが、インデン、
又はインデンオリゴマーとカチオン重合することが可能
な部位を1カ所以上有している必要がある。具体的に
は、ノボラック型フェノール樹脂、ノボラック型クレゾ
ール樹脂等が挙げられる。
ーは、インデンを50重量%以上、好ましくは60%以
上含有する芳香族オレフィンをカチオン重合することに
より得られるものであり、その軟化点は80℃以上であ
るのが好ましい。また、構成モノマー単位としてのイン
デン/スチレン類の重量比が1.5以上、10重量%以
下のフェノール類を構成モノマー単位として含有するも
のであり、構成モノマー中にクマロンやアルキルインデ
ン等を50重量%以下含有していても良い。尚、インデ
ンオリゴマー中に含有されるフェノール類は、本発明に
おいてインデン、又はインデンオリゴマーと反応させる
フェノール性化合物として計算しない。このようなイン
デンオリゴマーは、クマロン樹脂、インデン−クマロン
樹脂、インデン樹脂等と呼ばれることもある。
熱硬化性樹脂がもつような極性基をもたないため、吸水
率や誘電率の低減に効果があり、更に主構成モノマーで
あるインデンが環状芳香族オレフィンであって、構造が
剛直であるため、ガラス転移温度低下による耐熱性の劣
化等物性の低下が小さいものと考えられる。
部に対して10〜500重量部のインデン、又はインデ
ンオリゴマーを、当該フェノール性化合物に反応させて
硬化剤とするが、かかる反応に用いられるインデン、又
はインデンオリゴマーの量が10重量部よりも少ない
と、後述する本発明樹脂組成物の誘電率を低下させるこ
とができず、また、インデン、又はインデンオリゴマー
を多く用いるほど誘電率を低くすることができるが、そ
の量が500重量部を越えると本発明の硬化剤がエポキ
シ樹脂と反応して得られる硬化物の機械特性に支障を及
ぼす。この反応はAlCl3 、BF3 、スルホン酸等の
カチオン触媒の存在下に行なうことができる。そして、
この反応生成物から触媒等を除去することにより、本発
明のエポキシ樹脂硬化剤を得ることができる。
ポキシ樹脂と上記したような本発明エポキシ樹脂硬化剤
とを必須の構成成分として含有するものであり、この場
合、本発明のエポキシ樹脂硬化剤は、硬化剤として従来
より用いられているジシアンジアミド類、ポリアミン
類、ポリフェノール類、ポリメルカプタン類、又は酸無
水物類等と併用することができ、これらの硬化剤との配
合率を変更することにより、誘電率、誘電正接、耐熱
性、及び吸水性を調整することが可能である。但し、充
分な低誘電効果を得るためには、本発明のエポキシ樹脂
硬化剤は全硬化剤の総量に対し5重量%以上、好ましく
は10重量%以上配合されるようにする必要がある。
ポキシ樹脂としては、特に制限はなく、従来より広く用
いられているビスフェノールA 型エポキシ樹脂類、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂類、フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂類、又はクレゾールノボラック型エポ
キシ樹脂類等が挙げられ、これらは単独で用いても、二
種以上混合して用いても良く、また、難燃化手法とし
て、これらのエポキシ樹脂類の臭素化物を加えることも
可能である。
前述したようなインデンオリゴマーを改質剤として添加
することもでき、これによって本発明樹脂組成物の誘電
率をより一層低減させることができるが、インデンオリ
ゴマーの添加量が少ないと誘電率の低減効果が小さく、
逆に、添加量が多過ぎてしまうと誘電率が小さくなる反
面、硬化物の機械特性に支障を及ぼしてしまい、インデ
ンオリゴマーの添加量の好ましい範囲は、エポキシ樹
脂、エポキシ樹脂硬化剤、及びインデンオリゴマーの総
量に対し10〜80重量%であり、より好ましくは20
〜70重量%である。
化促進剤としてイミダゾール類、三級アミン類、リン系
化合物等、難燃剤として酸化アンチモン類、水酸化アル
ミニウム、リン系化合物等、表面処理剤としてシランカ
ップリング等を添加することができ、各種フィラーを添
加することもできる。更に、本発明ではその他の添加剤
として、シリカ等の充填剤、粘着付与剤、シリコーンオ
イル等の可撓剤、ワックス等の離型剤等を添加すること
もできる。そして、所望の物性を得るために、ビスマレ
イミド等のエポキシ樹脂以外の熱硬化性樹脂やフッ素樹
脂やポリスチレン樹脂等の熱可塑性樹脂を併用すること
も可能である。
ワニスとして用いることも可能であり、この場合に使用
される有機溶媒は、アセトン、メチルエチルケトン、メ
チルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、N,N−ジメチルホルムアミ
ド、N,N−ジメチルアセトアミド等のアミド類、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等のエーテル類等のなかから適宜選択され、これら
の有機溶剤は単独で、又は二種以上混合して用いること
ができる。
た流動性を持つため100℃〜200℃において、トラ
ンスファ成形や圧縮成形等が可能であり、その成形時間
は硬化促進剤の種類や量により調整が可能であるので、
電子部品封止や積層板等に適した硬化物を得ることがで
きる。
実施例1、2は本発明エポキシ樹脂硬化剤の合成例であ
る。また、実施例2〜6、比較例1で調製した試料につ
いて誘電率、誘電正接、吸水率、ガラス転移温度を調
べ、これらの結果を表1に記した。
ック型フェノール樹脂(荒川化学(株)製、タマノル7
58、OH当量107)100重量部、カチオン重合触
媒としてp−トルエンスルホン酸を3重量部、及び溶媒
としてトルエン200重量部を、温度計、撹拌器、冷却
管付きフラスコに仕込んだ。これを、120℃に加熱
し、3時間撹拌することにより、トルエン溶媒に不溶で
あったノボラック型フェノール樹脂層が消失し相溶化し
た。これをGPC測定したところ、インデンモノマーの
ピークは認められなかった。純水により触媒を抽出した
後、トルエンを留去し硬化剤(A)を得た。得られた硬
化剤(A)のGPCチャートを図1に示す。
樹脂(荒川化学(株)製、タマノル758、OH当量1
07)100重量部、カチオン重合触媒としてp−トル
エンスルホン酸を1.5重量部、及び溶媒としてトルエ
ン200重量部を用い、実施例1と同様にしてエポキシ
樹脂硬化剤(B)を得た。
シ樹脂(日本化薬(株)製、EOCN−1027、エポ
キシ当量197)、硬化剤として実施例1で得らた硬化
剤(A)、硬化促進剤としてトリフェニルフォスフィン
を使用し、エポキシ樹脂100重量部、硬化剤109重
量部、硬化促進剤1.4重量部の割合で配合し、ロール
で混練し150℃でプレス成形後、175℃で20時間
エージングを行い試料を調整した。
(B)を使用し、エポキシ樹脂(日本化薬(株)製、E
OCN−1027、エポキシ当量197)100重量
部、硬化剤82重量部、硬化促進剤1.2重量部の割合
で配合し、ロールで混練し150℃でプレス成形後、1
75℃で20時間エージングを行い試料を調整した。
リゴマー(新日鐵化学(株)製、IP−120、軟化点
120℃)を使用した。即ち、エポキシ樹脂100重量
部、硬化剤109重量部、硬化促進剤1.9重量部を配
合し、更に改質剤を全体の25重量%となるよう添加し
た。ロールで混練し150℃でプレス成形後、175℃
で20時間エージングを行い試料を調整した。
リゴマー(新日鐵化学(株)製、IP−120、軟化点
120℃)を使用した。即ち、エポキシ樹脂100重量
部、硬化剤109重量部、硬化促進剤2.8重量部を配
合し、更に改質剤を全体の50重量%となるよう添加し
た。ロールで混練し150℃でプレス成形後、175℃
で20時間エージングを行い試料を調整した。
キシ樹脂(日本化薬(株)製、EOCN−1027、エ
ポキシ当量197)、硬化剤としてノボラック型フェノ
ール樹脂(荒川化学(株)製、タマノル758、OH当
量107)、硬化促進剤としてトリフェニルフォスフィ
ンを使用し、エポキシ樹脂100重量部、硬化剤53.
8重量部、硬化促進剤1.0重量部の割合で配合し、ロ
ールで混練し150℃でプレス成形後、175℃で20
時間エージングを行い試料を調整した。
ポキシ樹脂の誘電率、誘電正接を低減することができ、
耐熱性、作業性、耐溶剤性、低吸水性等にも優れたもの
とすることができ、低誘電率プリント基板、電子部品封
止材料等の分野に好適な低誘電率樹脂組成物を提供する
ことができる。更に、インデンオリゴマーを添加するこ
とにより、一層の低誘電率化、低誘電正接化が可能とな
る。
ートである。
Claims (4)
- 【請求項1】フェノール性化合物100重量部に対し、
インデン、又はインデンオリゴマーを10〜500重量
部反応させて得られる反応生成物からなることを特徴と
するエポキシ樹脂硬化剤。 - 【請求項2】エポキシ樹脂、及び請求項1記載のエポキ
シ樹脂硬化剤を含有することを特徴とする低誘電率樹脂
組成物。 - 【請求項3】エポキシ樹脂、請求項1記載のエポキシ樹
脂硬化剤、及びインデンオリゴマーを含有し、インデン
オリゴマーの含有量がエポキシ樹脂、エポキシ樹脂硬化
剤、及びインデンオリゴマーの総量に対して10〜80
重量%であることを特徴とする低誘電樹脂組成物。 - 【請求項4】請求項2、又は3記載の低誘電樹脂組成物
を硬化させてなることを特徴とする低誘電樹脂硬化物。
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---|---|---|---|
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-
1996
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