JPH09204995A - 挿入光源の組立方法 - Google Patents

挿入光源の組立方法

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JPH09204995A
JPH09204995A JP1172396A JP1172396A JPH09204995A JP H09204995 A JPH09204995 A JP H09204995A JP 1172396 A JP1172396 A JP 1172396A JP 1172396 A JP1172396 A JP 1172396A JP H09204995 A JPH09204995 A JP H09204995A
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JP
Japan
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magnetic field
magnets
support member
field generating
vacuum chamber
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JP1172396A
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Inventor
Shinichi Bandai
新一 萬代
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 挿入光源の磁石の間隔の調整を容易になし得
るようにする。 【解決手段】 真空チェンバの両側部に配置された支持
架構19のそれぞれに、真空チェンバに沿うように延び
る支持部材9の両端部を固着し、各支持部材9の中央部
分にそれぞれ同形状の複数の磁場発生用磁石7のひとつ
を極性が異なるように装着し、その後における支持部材
9の長手方向に対する撓み量の分布を計測し、支持部材
9の中央部分の撓み量と他の磁場発生用磁石7を装着す
べき部分の撓み量との差に応じた形状を有するスペーサ
20を介して他の磁場発生用磁石7を、各支持部材9の
中央部分から両端側へ順に且つ隣接する磁場発生用磁石
7の極性が交互に異なるように各支持部材9に装着す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、挿入光源の組立方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光速に近い速度で移動する電子がその進
行方向を磁場や電場で曲げられると、電子の軌道の接線
方向に放射光とよばれる電磁波(光)を放出する。
【0003】近年、高輝度の放射光を発生させる手段と
して、電子蓄積リングの直線部分や線形加速器に設ける
アンジュレータ装置あるいはウィグラ装置等の挿入光源
の研究開発が行われている。
【0004】図3は挿入光源の原理を示すもので、挿入
光源という名称は、この装置が電子蓄積リングの電子加
速手段に組み込まれていることに由来する。
【0005】挿入光源は、真空チェンバ1の左側及び右
側に、同形状の複数の磁石(永久磁石)2を隣接するも
のの極性が交互に異なるように直線的に並べた一対の磁
石列3を、真空チェンバ1を介して対峙する磁石2の極
性が異なるように配置し、この磁石列3によって、真空
チェンバ1の内部を進行する電子ビーム4の軌道面に水
平な方向を向き且つ該電子ビーム4に対して正弦波的な
周期を有する磁場を発生させるようになっている。
【0006】即ち、真空チェンバ1の内部を高真空状態
に減圧したうえ、図示していない電子加速器などの手段
によって加速された高エネルギーの電子ビーム4を真空
チェンバ1に入射させると、該真空チェンバ1の内部を
進行する電子ビーム4が磁石列3により発生する磁場の
影響を受けて該磁場の周期に応じて蛇行し、蛇行する電
子ビーム4の接線方向に放射光5が発生する。
【0007】図4から図6は挿入光源の一例を示すもの
で、この挿入光源において、真空チェンバ1の左側及び
右側に配置される磁石列6は、それぞれ同形状の複数の
磁場発生用磁石(永久磁石)7及び補助磁石(永久磁
石)8と、真空チェンバ1の左側及び右側に該真空チェ
ンバ1と平行に配置された支持部材9とを有している。
【0008】磁場発生用磁石7及び補助磁石8は、真空
チェンバ1の長手方向から見ると、図5及び図6に示す
ように、真空チェンバ1に対峙する面の上縁部並びに下
縁部が切り欠かれた形状に形成されている。
【0009】磁場発生用磁石7は、図5に示すように、
上下に真空チェンバ1へ向って突出するフランジ部10
aを有する溝形部材よりなる取付座10に、各磁場発生
用磁石7ごとに嵌入されている。
【0010】取付座10の上下のフランジ部10aに
は、押え板11が磁場発生用磁石7の上縁部並びに下縁
部に当接するようにボルト12により固定されており、
この押え板11によって、磁場発生用磁石7が取付座1
0から脱落しないようになっている。
【0011】取付座10の背面(磁場発生用磁石7が露
出していない面)は、磁場発生用磁石7が真空チェンバ
1の長手方向に等間隔に並んで該真空チェンバ1に対峙
し且つ隣接する磁場発生用磁石7の極性が交互に異なる
ように、ボルト13によって前記の支持部材9に支持さ
れている。
【0012】また、真空チェンバ1を介して対峙する磁
場発生用磁石7は、その極性が互いに異なるようになっ
ている。
【0013】更に、取付座10の背面には、各取付座1
0に対応するように支持部材9に螺合されたボルト14
の先端が当接するようになっており、取付座10に対す
るボルト13の螺合状態と支持部材9に対するボルト1
4の螺合状態(支持部材9からのボルト14の先端部の
突出量)とを適宜変化させることにより、磁場発生用磁
石7と支持部材9と相対的な位置を調整できるようにな
っている。
【0014】補助磁石8は、図6に示すように、上下に
真空チェンバ1へ向って突出するフランジ部15aを有
する溝形部材よりなる取付座15に嵌入されている。
【0015】この補助磁石8の極性は、真空チェンバ1
の長手方向の一端側がN極或いはS極に、また、真空チ
ェンバ1の長手方向の他端側がS極或いはN極となって
いる。
【0016】取付座15の上下のフランジ部15aに
は、押え板16が補助磁石8の上縁部並びに下縁部に当
接するようにボルト17により固定されており、この押
え板16によって、補助磁石8が取付座15から脱落し
ないようになっている。
【0017】取付座15の背面(補助磁石8が露出して
いない面)は、補助磁石8が前述の磁場発生用磁石7の
間にはまり込んで真空チェンバ1に対峙し且つ隣接する
補助磁石8の極性が交互に異なるように、ボルト18に
よって前記の支持部材9に固定されており、これら、磁
場発生用磁石7、補助磁石8、支持部材9をはじめとす
る各部材で構成される磁石列6により、真空チェンバ1
の内部を進行する電子ビーム4の軌道面に水平な方向を
向き且つ該電子ビーム4に対して正弦波的な周期を有す
る磁場が発生するようになっている。
【0018】更に、支持部材9は、磁石列6の間に生じ
る磁場の強度、即ち、真空チェンバ1の内部を進行する
電子ビーム4に作用する磁場の強度を変化させるため
に、支持架構19を介してボールねじ等により構成され
る移動機構(図示せず)に支持されており、該移動機構
を作動させることにより真空チェンバ1を介して対峙す
る磁石列6が近接あるいは離反し、上記の磁場の強度が
変化するようになっている。
【0019】従来、上述したような挿入光源を組み立て
る際には、磁場発生用磁石7を固定した取付座10と補
助磁石8を固定した取付座15とを支持部材9に装着し
て磁石列6を形成させた後、支持部材9の両端部を支持
架構19に固着することにより、磁石列6を移動機構に
支持させるようにしている。
【0020】
【発明が解決しようとする課題】ところが、支持部材9
の両端部を支持架構19に固着すると、磁力に起因する
吸着力が真空チェンバ1を挟んで対峙する磁場発生用磁
石7に作用し、支持部材9がその両端部を支点として撓
む傾向を呈する。
【0021】このように支持部材9が撓むと、支持部材
9の両端部付近において真空チェンバ1を挟んで対峙す
る磁場発生用磁石7の間隔に比べ、支持部材9の中央部
付近において真空チェンバ1を挟んで対峙する磁場発生
用磁石7の間隔が狭くなり、磁石列6の間に発生する磁
場の強度分布が不均一になる。
【0022】この磁石列6の間に発生する磁場の強度分
布を均一とするためには、各取付座10ごとにボルト1
3,14の螺合状態を変化させることにより、各磁場発
生用磁石7と支持部材9との相対的な位置を調整し、真
空チェンバ1を介して対峙する磁場発生用磁石7の間隔
が等しくなるようにするという煩雑な作業を行う必要が
ある。
【0023】本発明は上述した実情に鑑みてなしたもの
で、挿入光源を組み立てる際に、真空チェンバを介して
対向するそれぞれの磁石の間隔を、容易に等しくできる
ようにすることを目的としている。
【0024】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の挿入光源の組立方法においては、真空チェ
ンバの両側部に配置された支持架構のそれぞれに、真空
チェンバに沿うように延びる支持部材の両端部を固着
し、各支持部材の中央部分にそれぞれ同形状の複数の磁
石のひとつを極性が異なるように装着し、中央部分に磁
石を装着した後における支持部材の長手方向に対する撓
み量の分布を計測し、支持部材の中央部分の撓み量と他
の磁石を装着すべき部分の撓み量との差に応じた形状を
有するスペーサを介して他の磁石を、各支持部材の中央
部分から両端側へ順に且つ隣接する磁石の極性が交互に
異なるように各支持部材に装着する。
【0025】本発明の挿入光源の組立方法では、相対す
る支持部材の中央部分に磁石を装着した状態における支
持部材の長手方向の撓みの分布を計測し、撓みに応じた
スペーサを介して他の磁石を支持部材に装着して、磁石
の間隔と等しくするのに必要な磁石の移動量を小さくす
る。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。
【0027】図1及び図2は本発明の挿入光源の組立方
法の実施の形態の一例であり、図中、図4から図6と同
じものには同じ符号を付してある。
【0028】真空チェンバ1の両側部に配置された支持
架構19,19のそれぞれに、真空チェンバ1に沿うよ
うに延びる支持部材9,9の両端部を固着し、各支持部
材9,9のそれぞれの中央部分に、同形状の複数の磁場
発生用磁石7の1個ずつを相対する極性が互いに異なる
ように取付座10を介して装着する。
【0029】中央部分に磁場発生用磁石7を装着した後
に、磁場発生用磁石7の間に作用する吸着力に起因した
支持部材9の長手方向の撓み量の分布を計測し、支持部
材9の中央部分の撓み量と他の磁場発生用磁石7を装着
すべき各部分の撓み量とをそれぞれ比較してその差を求
め、それぞれの撓み量の差に応じた形状(厚さ)を有す
るスペーサ20a,20b,20c〜20xを用意す
る。
【0030】その後、各支持部材9,9のそれぞれ中央
部に配置した前記の磁場発生用磁石7,7の支持部材
9,9の長手方向の両側に、それぞれ補助磁石8,8を
取付座15を介して支持部材9,9に装着し、該各補助
磁石8,8の支持部材9,9の各両端部側に、他の磁場
発生用磁石7a,7aを相対する極性が互いに異なるよ
うに取付座10,10を介して装着するとともに、該取
付座10,10と支持部材9,9との間に、磁場発生用
磁石7a,7aを装着すべき部分の支持部材9,9の撓
み量に対応するスペーサ20a,20aを介在させるよ
うにする。
【0031】同様に、各支持部材9,9の前記の磁場発
生用磁石7a,7aの支持部材9,9の長手方向の両端
部側に、それぞれ補助磁石8a,8aを取付座15を介
して支持部材9,9に装着し、該各補助磁石8a,8a
の支持部材9,9の各両端部側に、他の磁場発生用磁石
7b,7bを相対する極性が互いに異なるように取付座
10,10を介して装着するとともに、該取付座10,
10と支持部材9,9との間に、磁場発生用磁石7b,
7bを装着すべき部分の支持部材9,9の撓み量に対応
するスペーサ20b,20bを介在させるようにする。
【0032】以上のような取り付け順序を繰り返して各
支持部材9,9の中央部分から両端側へ順に、補助磁石
8を挟んで隣接する磁場発生用磁石7a〜7xを極性が
交互に異なるように取付座10を介して支持部材9に装
着するとともに、該取付座10と支持部材9との間に、
磁場発生用磁石7a〜7xを装着すべき部分の支持部材
9の撓み量に対応するスペーサ20a〜20xを介在さ
せるようにする。
【0033】即ち、磁場発生用磁石7a〜7xが嵌入さ
れている取付座10と支持部材9との間には、支持部材
9の撓みに最も大きな影響を与える磁場発生用磁石7が
嵌入されている取付座10のみを支持部材9に取り付け
た際の支持部材9の中央部分と、支持部材9の他の磁場
発生用磁石7a,7a〜7x,7xが嵌入されている取
付座10を取り付けるべき部分との撓み量の差に応じた
スペーサ20a,20b〜20xが介在していることに
なり、このスペーサ20a,20b〜20xによって、
磁場発生用磁石7が嵌入されている取付座10のみを支
持部材9に取り付けた際における支持部材9の撓みが相
殺される。
【0034】従って、各磁場発生用磁石7〜7xを支持
部材9にそれぞれ取付座10を介して装着した後の磁場
発生用磁石7,7以外の磁場発生用磁石7a,7a〜7
x,7xのそれぞれの間隔の差は、従来の手順により挿
入光源を組み立てた場合に比べて少なくなる。
【0035】これにより、磁場発生用磁石7a,7a〜
7x,7xの間隔を磁場発生用磁石7,7の間隔と等し
くするのに必要な磁場発生用磁石7a,7a〜7x,7
xの移動量が小さくなり、磁場発生用磁石7,7〜7
x,7xの間に発生する磁場の強度分布を均一にするた
めの磁場発生用磁石7a,7a〜7x,7xの間隔の調
整作業を容易に行うことができる。
【0036】なお、本発明の挿入光源の組立方法は、上
述した実施の形態のみに限定されるものではなく、本発
明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得
ることは勿論である。
【0037】
【発明の効果】このように、本発明の挿入光源の組立方
法では、相対する支持部材の中央部分に磁石を装着した
状態における支持部材の長手方向の撓みの分布を計測
し、撓みに応じたスペーサを介して他の磁石を支持部材
に装着するので、磁石の間隔と等しくするのに必要な磁
石の移動量が小さくなり、磁石の間に発生する磁場の強
度分布を均一にするための磁石の間隔の調整作業を容易
に行うことができる、という優れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の挿入光源の組立方法の実施の形態の一
例を示す平面図である。
【図2】図1のII−II矢視図である。
【図3】挿入光源の原理を示す斜視図である。
【図4】従来の挿入光源の一例の平面図である。
【図5】図4のV−V矢視図である。
【図6】図4のVI−VI矢視図である。
【符号の説明】
1 真空チェンバ 7,7a,7b,7c〜7x 磁場発生用磁石 9 支持部材 19 支持架構 20a,20b,20c〜20x スペーサ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 真空チェンバの両側部に配置された支持
    架構のそれぞれに、真空チェンバに沿うように延びる支
    持部材の両端部を固着し、各支持部材の中央部分にそれ
    ぞれ同形状の複数の磁石のひとつを極性が異なるように
    装着し、中央部分に磁石を装着した後における支持部材
    の長手方向に対する撓み量の分布を計測し、支持部材の
    中央部分の撓み量と他の磁石を装着すべき部分の撓み量
    との差に応じた形状を有するスペーサを介して他の磁石
    を、各支持部材の中央部分から両端側へ順に且つ隣接す
    る磁石の極性が交互に異なるように各支持部材に装着す
    ることを特徴とする挿入光源の組立方法。
JP1172396A 1996-01-26 1996-01-26 挿入光源の組立方法 Pending JPH09204995A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009510981A (ja) * 2005-09-26 2009-03-12 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト リニア電気機械の二次側およびその製造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009510981A (ja) * 2005-09-26 2009-03-12 シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト リニア電気機械の二次側およびその製造方法
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