JPH1041098A - 周期磁場発生装置 - Google Patents
周期磁場発生装置Info
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- JPH1041098A JPH1041098A JP19450896A JP19450896A JPH1041098A JP H1041098 A JPH1041098 A JP H1041098A JP 19450896 A JP19450896 A JP 19450896A JP 19450896 A JP19450896 A JP 19450896A JP H1041098 A JPH1041098 A JP H1041098A
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- magnetic field
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 磁場の微調整を容易に行うことができ、かつ
低コストで簡潔な構造のハルバック型周期磁場発生装置
を提供する。 【解決手段】 垂直磁化磁石と水平磁化磁石の永久磁石
列が磁石固定用コマ止めを介してネジにより磁石ホルダ
ーに機械的に固定されてなる、電子加速器または電子蓄
積装置の直線部に挿入して放射光を発生させるための周
期磁場発生装置において、垂直磁化磁石を磁石固定用コ
マ止めのネジの締め量調整により磁気空隙側に前後移動
させ、垂直磁化磁石と磁石ホルダーの間に空隙を設け、
磁場調整を行うことを特徴とする周期磁場発生装置。
低コストで簡潔な構造のハルバック型周期磁場発生装置
を提供する。 【解決手段】 垂直磁化磁石と水平磁化磁石の永久磁石
列が磁石固定用コマ止めを介してネジにより磁石ホルダ
ーに機械的に固定されてなる、電子加速器または電子蓄
積装置の直線部に挿入して放射光を発生させるための周
期磁場発生装置において、垂直磁化磁石を磁石固定用コ
マ止めのネジの締め量調整により磁気空隙側に前後移動
させ、垂直磁化磁石と磁石ホルダーの間に空隙を設け、
磁場調整を行うことを特徴とする周期磁場発生装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子加速器または
電子蓄積装置の直線部に挿入して放射光を発生させるた
めの周期磁場発生装置に関するものである。
電子蓄積装置の直線部に挿入して放射光を発生させるた
めの周期磁場発生装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】周期磁場発生装置は、シンクロトロン電
子加速器・電子蓄積リングや線形電子加速器の直線部に
挿入して、空間的に周期磁場を発生し、相対論的高速電
子を蛇行させて放射光を発生させるものである。一般的
な周期磁場発生装置の磁気回路部の概要は、図３に示す
ように、周期的に磁化方向を変化させて配列した磁石列
２１を対向して配置し、磁石列同士の空隙２５に電子を
走行させるものであり、構成される磁性体の種類によ
り、ハルバック型とハイブリッド型がある。本発明の周
期磁場発生装置は、ハルバック型に関するものである。
子加速器・電子蓄積リングや線形電子加速器の直線部に
挿入して、空間的に周期磁場を発生し、相対論的高速電
子を蛇行させて放射光を発生させるものである。一般的
な周期磁場発生装置の磁気回路部の概要は、図３に示す
ように、周期的に磁化方向を変化させて配列した磁石列
２１を対向して配置し、磁石列同士の空隙２５に電子を
走行させるものであり、構成される磁性体の種類によ
り、ハルバック型とハイブリッド型がある。本発明の周
期磁場発生装置は、ハルバック型に関するものである。
【０００３】周期磁場発生装置に使用される永久磁石
は、希土類磁石が一般的であり、該磁石は金属間化合物
を主体とした脆性な材料であるので、タップを立ててネ
ジで固定したりすることは困難である。したがって、図
４に示すように、磁石列２１は非磁性磁石ホルダー２４
に接着剤またはコマ止め２６などで機械的に固定された
後、コマ止めネジ２７などで固着される。
は、希土類磁石が一般的であり、該磁石は金属間化合物
を主体とした脆性な材料であるので、タップを立ててネ
ジで固定したりすることは困難である。したがって、図
４に示すように、磁石列２１は非磁性磁石ホルダー２４
に接着剤またはコマ止め２６などで機械的に固定された
後、コマ止めネジ２７などで固着される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このような周期磁場発
生装置の磁場調整方法としては、磁石の磁気空隙側表面
に磁性シムを貼るという方法があるが、微調整が困難で
あった。さらに、微調整の方法としては磁石を接着剤や
コマ止めにより磁石ホルダーに固定し、図４に示すよう
に磁石ホルダー２４をホルダー固定用ベース板２８にネ
ジにより固定し、磁石ホルダーを固定する押しネジ２９
・引きネジ３０により、磁石の磁気空隙２５側及び反対
側（以下、この二方向を前後と称す）への移動を行う磁
場調整があるが、構造が複雑で、高コストであった。
生装置の磁場調整方法としては、磁石の磁気空隙側表面
に磁性シムを貼るという方法があるが、微調整が困難で
あった。さらに、微調整の方法としては磁石を接着剤や
コマ止めにより磁石ホルダーに固定し、図４に示すよう
に磁石ホルダー２４をホルダー固定用ベース板２８にネ
ジにより固定し、磁石ホルダーを固定する押しネジ２９
・引きネジ３０により、磁石の磁気空隙２５側及び反対
側（以下、この二方向を前後と称す）への移動を行う磁
場調整があるが、構造が複雑で、高コストであった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、周期磁場発生装置の
ハルバック型構造の磁石同士の吸引・反発に注目し、本
発明を完成した。すなわち本発明は、垂直磁化磁石と水
平磁化磁石の永久磁石列が磁石固定用コマ止めを介して
ネジにより磁石ホルダーに機械的に固定されてなる、電
子加速器または電子蓄積装置の直線部に挿入して放射光
を発生させるための周期磁場発生装置において、垂直磁
化磁石を磁石固定用コマ止めのネジの締め量調整により
磁気空隙側に前後移動させ、垂直磁化磁石と磁石ホルダ
ーの間に空隙を設け、磁場調整を行う周期磁場発生装置
を要旨とするものである。以下に、これをさらに詳述す
る。
点に鑑み、鋭意研究を重ねた結果、周期磁場発生装置の
ハルバック型構造の磁石同士の吸引・反発に注目し、本
発明を完成した。すなわち本発明は、垂直磁化磁石と水
平磁化磁石の永久磁石列が磁石固定用コマ止めを介して
ネジにより磁石ホルダーに機械的に固定されてなる、電
子加速器または電子蓄積装置の直線部に挿入して放射光
を発生させるための周期磁場発生装置において、垂直磁
化磁石を磁石固定用コマ止めのネジの締め量調整により
磁気空隙側に前後移動させ、垂直磁化磁石と磁石ホルダ
ーの間に空隙を設け、磁場調整を行う周期磁場発生装置
を要旨とするものである。以下に、これをさらに詳述す
る。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を、図面に基
づいて説明する。本発明は、特に垂直磁化磁石が周囲の
水平磁化磁石により強い反発力を受け、さらに磁気空隙
を隔てて対向する垂直磁化磁石により磁気空隙側に吸引
されることを利用して磁場の微調整を行うものである。
図１（ａ）、（ｂ）は長手方向から見た本発明の周期磁
場発生装置の一例の断面模式図であり、図２は図１のＡ
−Ａ′断面方向から見た磁石列の配置（対向する磁石列
部分を含む）を示す模式図である。図１（ａ）におい
て、永久磁石列１は、磁石固定用コマ止め６と磁石ホル
ダー４との接触部を支点としてコマ止めネジ７で下に押
されるような状態で機械的に固定されている。ここで、
垂直磁化磁石１１と磁石ホルダー４の間に空隙３を設
け、図２に示すように垂直磁化磁石１１を磁気空隙５側
へ前後移動可能とすることにより、磁場の微調整を行う
ことができる。この垂直磁化磁石１１の移動の調整は、
コマ止めネジ７の締め量調整により行う。コマ止め６・
コマ止めネジ７は移動の調整を行えるものであれば、形
状は特に限定されない。移動の一例を挙げると、例えば
図１（ｂ）に示すように、てこの原理でコマ止めネジ７
を締める（力点）ことによりコマ止め６が磁石１１（作
用点）を後ろ方向に移動させることができる。
づいて説明する。本発明は、特に垂直磁化磁石が周囲の
水平磁化磁石により強い反発力を受け、さらに磁気空隙
を隔てて対向する垂直磁化磁石により磁気空隙側に吸引
されることを利用して磁場の微調整を行うものである。
図１（ａ）、（ｂ）は長手方向から見た本発明の周期磁
場発生装置の一例の断面模式図であり、図２は図１のＡ
−Ａ′断面方向から見た磁石列の配置（対向する磁石列
部分を含む）を示す模式図である。図１（ａ）におい
て、永久磁石列１は、磁石固定用コマ止め６と磁石ホル
ダー４との接触部を支点としてコマ止めネジ７で下に押
されるような状態で機械的に固定されている。ここで、
垂直磁化磁石１１と磁石ホルダー４の間に空隙３を設
け、図２に示すように垂直磁化磁石１１を磁気空隙５側
へ前後移動可能とすることにより、磁場の微調整を行う
ことができる。この垂直磁化磁石１１の移動の調整は、
コマ止めネジ７の締め量調整により行う。コマ止め６・
コマ止めネジ７は移動の調整を行えるものであれば、形
状は特に限定されない。移動の一例を挙げると、例えば
図１（ｂ）に示すように、てこの原理でコマ止めネジ７
を締める（力点）ことによりコマ止め６が磁石１１（作
用点）を後ろ方向に移動させることができる。
【０００７】水平磁化磁石１２は、コマ止め６に例えば
ノックピン、切り欠け、接着剤等の公知の機械的方法を
併用して磁石ホルダー４に固定されてもよい。磁石ホル
ダー４は、図１、図２に示すようにホルダー固定用ベー
ス板を兼ねることができる。また磁石１１、１２の表面
に、磁場の微調整のために磁性シム（図示せず）を貼っ
てもよい。
ノックピン、切り欠け、接着剤等の公知の機械的方法を
併用して磁石ホルダー４に固定されてもよい。磁石ホル
ダー４は、図１、図２に示すようにホルダー固定用ベー
ス板を兼ねることができる。また磁石１１、１２の表面
に、磁場の微調整のために磁性シム（図示せず）を貼っ
てもよい。
【０００８】垂直磁化磁石１１の移動量は、磁気空隙内
に配置される真空チャンバーとの干渉を避け、磁石列組
み立て後の磁場不均一を十分補正できるために、水平磁
化磁石１２に対して磁気空隙５側に前後0.5 ｍｍ以内が
よい。
に配置される真空チャンバーとの干渉を避け、磁石列組
み立て後の磁場不均一を十分補正できるために、水平磁
化磁石１２に対して磁気空隙５側に前後0.5 ｍｍ以内が
よい。
【０００９】また、垂直磁化磁石１１の移動量は水平磁
化磁石１２に対して磁気空隙側に0.1 〜1.0 ｍｍとし、
水平磁化磁石１２の磁気空隙５側表面に磁場の微調整の
ために磁性シムを貼ってもよい。この時、磁性シムとし
ては例えば0.05〜1.0 mm厚さの鉄板が例示される。
化磁石１２に対して磁気空隙側に0.1 〜1.0 ｍｍとし、
水平磁化磁石１２の磁気空隙５側表面に磁場の微調整の
ために磁性シムを貼ってもよい。この時、磁性シムとし
ては例えば0.05〜1.0 mm厚さの鉄板が例示される。
【００１０】
【実施例】次に、本発明について実施例を挙げて説明す
る。 実施例 寸法が縦３５mm×横４５mm×厚み６mmの Nd-Fe-B製の水
平磁化磁石１２ａ、１２ｂと、縦３４．５mm×横４３mm
×厚み６mmの Nd-Fe-B製の垂直磁化磁石１１ａ、１１ｂ
とを１周期として 100周期連なる磁石列を、図１、図２
に示すように、磁石固定用コマ止め６により磁石ホルダ
ー４に固定して周期磁場発生装置を作製した。ここで、
垂直磁化磁石１１ａ、１１ｂはコマ止めネジ７の締め量
により磁気空隙５側へ前後移動可能とした。また、磁気
空隙５は１２mmとした。まず、垂直磁化磁石１１の位置
を、磁気空隙５側に水平磁化磁石１２と揃えて配列し、
垂直磁化磁石１１と磁石ホルダー４の間に空隙３を設け
た。この周期磁場発生装置の磁場均一度は、磁気空隙の
中心で、長手方向磁場ピークの平均磁場強度5000Ｇに対
し、±３％であった。次に、この垂直磁化磁石１１を、
コマ止めネジ７の締め量により図２のように磁場空隙側
へ±０．５mmの範囲で前後移動させ、磁場の微調整を行
った。この周期磁場発生装置の磁場均一度を同様に測定
した。測定結果は±０．２％であった。
る。 実施例 寸法が縦３５mm×横４５mm×厚み６mmの Nd-Fe-B製の水
平磁化磁石１２ａ、１２ｂと、縦３４．５mm×横４３mm
×厚み６mmの Nd-Fe-B製の垂直磁化磁石１１ａ、１１ｂ
とを１周期として 100周期連なる磁石列を、図１、図２
に示すように、磁石固定用コマ止め６により磁石ホルダ
ー４に固定して周期磁場発生装置を作製した。ここで、
垂直磁化磁石１１ａ、１１ｂはコマ止めネジ７の締め量
により磁気空隙５側へ前後移動可能とした。また、磁気
空隙５は１２mmとした。まず、垂直磁化磁石１１の位置
を、磁気空隙５側に水平磁化磁石１２と揃えて配列し、
垂直磁化磁石１１と磁石ホルダー４の間に空隙３を設け
た。この周期磁場発生装置の磁場均一度は、磁気空隙の
中心で、長手方向磁場ピークの平均磁場強度5000Ｇに対
し、±３％であった。次に、この垂直磁化磁石１１を、
コマ止めネジ７の締め量により図２のように磁場空隙側
へ±０．５mmの範囲で前後移動させ、磁場の微調整を行
った。この周期磁場発生装置の磁場均一度を同様に測定
した。測定結果は±０．２％であった。
【００１１】
【発明の効果】本発明によれば、均一な磁場を得るため
に磁場の微調整を容易に行えるハルバック型周期磁場発
生装置を、簡潔な構造でかつ低コストで構成できる。
に磁場の微調整を容易に行えるハルバック型周期磁場発
生装置を、簡潔な構造でかつ低コストで構成できる。
【図１】本発明の周期磁場発生装置の一例の、長手方向
から見た断面模式図である。（ａ）は磁石位置を調整す
る前の断面図、（ｂ）は（ａ）においてコマ止めネジを
締めて磁石を移動させた部分断面図である。
から見た断面模式図である。（ａ）は磁石位置を調整す
る前の断面図、（ｂ）は（ａ）においてコマ止めネジを
締めて磁石を移動させた部分断面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ′断面から見た磁石配置（対向す
る磁石列部分を含む）の模式図である。
る磁石列部分を含む）の模式図である。
【図３】従来のハルバック型周期磁場発生装置の磁石配
置を示す模式図である。
置を示す模式図である。
【図４】従来の周期磁場発生装置の長手方向から見た断
面模式図である。
面模式図である。
１、２１‥‥永久磁石列 １１、３１‥垂直磁化磁石 １２、３２‥平行磁化磁石 ３‥‥ 空隙 ４、２４‥‥磁石ホルダー ５、２５‥‥磁気空隙 ６、２６‥‥コマ止め ７、２７‥‥コマ止めネジ ２８‥‥ ホルダー固定用ベース板 ２９‥‥ 押しネジ ３０‥‥ 引きネジ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 角野 和義 福井県武生市北府２丁目１番５号 信越化 学工業株式会社磁性材料研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 垂直磁化磁石と水平磁化磁石の永久磁石
列が磁石固定用コマ止めを介してネジにより磁石ホルダ
ーに機械的に固定されてなる、電子加速器または電子蓄
積装置の直線部に挿入して放射光を発生させるための周
期磁場発生装置において、垂直磁化磁石を磁石固定用コ
マ止めのネジの締め量調整により磁気空隙側に前後移動
させ、垂直磁化磁石と磁石ホルダーの間に空隙を設け、
磁場調整を行うことを特徴とする周期磁場発生装置。 - 【請求項２】 垂直磁化磁石の移動量が、水平磁化磁石
に対して磁気空隙側に前後0.5 ｍｍ以内である請求項１
に記載の周期磁場発生装置。 - 【請求項３】 垂直磁化磁石の移動量が、水平磁化磁石
に対して磁気空隙側に0.1 〜1.0 ｍｍであり、水平磁化
磁石表面に磁性シムを貼ってなる請求項１に記載の周期
磁場発生装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19450896A JPH1041098A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 周期磁場発生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19450896A JPH1041098A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 周期磁場発生装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1041098A true JPH1041098A (ja) | 1998-02-13 |
Family
ID=16325700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19450896A Pending JPH1041098A (ja) | 1996-07-24 | 1996-07-24 | 周期磁場発生装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1041098A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004021748A1 (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-11 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | プラズマ処理装置 |
| JP2011205879A (ja) * | 2010-01-13 | 2011-10-13 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 磁性アクター及びその取り付け方法 |
-
1996
- 1996-07-24 JP JP19450896A patent/JPH1041098A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004021748A1 (ja) * | 2002-08-30 | 2004-03-11 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | プラズマ処理装置 |
| US7322313B2 (en) | 2002-08-30 | 2008-01-29 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma processing system |
| US7762209B2 (en) | 2002-08-30 | 2010-07-27 | Sekisui Chemical Co., Ltd. | Plasma processing apparatus |
| JP2011205879A (ja) * | 2010-01-13 | 2011-10-13 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | 磁性アクター及びその取り付け方法 |
| US8541911B2 (en) | 2010-01-13 | 2013-09-24 | Integrated Dynamics Engineering Gmbh | Magnetic actor and a method for its installation |
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