JPH09189653A - 散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法 - Google Patents
散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法Info
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- JPH09189653A JPH09189653A JP8021932A JP2193296A JPH09189653A JP H09189653 A JPH09189653 A JP H09189653A JP 8021932 A JP8021932 A JP 8021932A JP 2193296 A JP2193296 A JP 2193296A JP H09189653 A JPH09189653 A JP H09189653A
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N15/00—Investigating characteristics of particles; Investigating permeability, pore-volume or surface-area of porous materials
- G01N15/02—Investigating particle size or size distribution
- G01N15/0205—Investigating particle size or size distribution by optical means
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-
- G—PHYSICS
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光検出器の光軸中心部に十分近接して散乱光
受光素子を設けても光軸合わせを確実行うことができる
散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法を提供す
ること。 【解決手段】 光源１と光検出器１６とを結ぶ光軸上に
回折光発生手段１５を設け、この回折光発生手段１５に
よって発生する回折光を用いて光軸調整を行うようにし
た。
受光素子を設けても光軸合わせを確実行うことができる
散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法を提供す
ること。 【解決手段】 光源１と光検出器１６とを結ぶ光軸上に
回折光発生手段１５を設け、この回折光発生手段１５に
よって発生する回折光を用いて光軸調整を行うようにし
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光源からの光を
試料に対して光を照射し、そのとき散乱光を集光レンズ
を介して光検出器に入射させ、このとき得られる散乱光
強度パターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散
乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法に関する。
試料に対して光を照射し、そのとき散乱光を集光レンズ
を介して光検出器に入射させ、このとき得られる散乱光
強度パターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散
乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】図４は、一般的な散乱式粒度分布測定装
置の要部を示すもので、この図において、１はレーザ光
２を発するレーザ管、３はレーザ光２を適宜拡大するビ
ーム拡大器、４は試料５を収容するセル、６はセル４の
後方に設けられる集光レンズ、７は集光レンズ６からの
散乱光を検出するフォトダイオードからなる光検出器、
８は光検出器７からの信号を取り込むマルチプレクサ、
９はマルチプレクサ８からの信号が入力され、散乱光強
度パターンに基づいて演算を行って粒度分布を求めるＣ
ＰＵである。
置の要部を示すもので、この図において、１はレーザ光
２を発するレーザ管、３はレーザ光２を適宜拡大するビ
ーム拡大器、４は試料５を収容するセル、６はセル４の
後方に設けられる集光レンズ、７は集光レンズ６からの
散乱光を検出するフォトダイオードからなる光検出器、
８は光検出器７からの信号を取り込むマルチプレクサ、
９はマルチプレクサ８からの信号が入力され、散乱光強
度パターンに基づいて演算を行って粒度分布を求めるＣ
ＰＵである。
【０００３】前記散乱式粒度分布測定装置においては、
セル４に試料５を収容して、レーザ光２を試料セル４に
対して照射すると、レーザ光２の一部がセル４内の試料
５中の粒子を照射して散乱光１０となり、残りの光は粒
子と粒子との間を通過して透過光１１となる。そして、
これら散乱光１０および透過光１１はともに、集光レン
ズ６を経て光検出器７に至る。
セル４に試料５を収容して、レーザ光２を試料セル４に
対して照射すると、レーザ光２の一部がセル４内の試料
５中の粒子を照射して散乱光１０となり、残りの光は粒
子と粒子との間を通過して透過光１１となる。そして、
これら散乱光１０および透過光１１はともに、集光レン
ズ６を経て光検出器７に至る。
【０００４】ところで、上記散乱式粒度分布測定装置に
おいては、光源であるレーザ管１と光検出器７との光軸
が厳密に一致していなければならないが、レーザ管１が
熱歪みを起こしたり、セル４、レンズ６、光検出器７な
どを設けたベンチ（図示してない）が熱で歪んだり、ま
た、セル４を交換したりする場合、その取付け位置が変
化するなどして、前記光軸にずれが生ずることがあっ
た。
おいては、光源であるレーザ管１と光検出器７との光軸
が厳密に一致していなければならないが、レーザ管１が
熱歪みを起こしたり、セル４、レンズ６、光検出器７な
どを設けたベンチ（図示してない）が熱で歪んだり、ま
た、セル４を交換したりする場合、その取付け位置が変
化するなどして、前記光軸にずれが生ずることがあっ
た。
【０００５】そこで、従来の散乱式粒度分布測定装置に
おいては、光検出器７の光軸中心部７Ａに、図５に示す
ように、例えばフォトダイオードよりなる４分割の光軸
調整用受光部１２を設け、この光軸調整用受光部１２を
構成する４つの受光素子１２ａ〜１２ｄからそれぞれ出
力される強度信号の大きさが等しくなるように、光検出
器７の位置を調整し、これによって光軸合わせを行うよ
うにしていた。
おいては、光検出器７の光軸中心部７Ａに、図５に示す
ように、例えばフォトダイオードよりなる４分割の光軸
調整用受光部１２を設け、この光軸調整用受光部１２を
構成する４つの受光素子１２ａ〜１２ｄからそれぞれ出
力される強度信号の大きさが等しくなるように、光検出
器７の位置を調整し、これによって光軸合わせを行うよ
うにしていた。
【０００６】なお、図５において、１３は光軸調整用受
光部１２を中心にして同心状に設けられる複数の散乱光
受光素子１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，…１３ｎからなる散
乱光検出用測定部、１４は各散乱光受光素子１３ａ〜１
３ｎの間に設けられるアイソレーションギャップ１４で
ある。
光部１２を中心にして同心状に設けられる複数の散乱光
受光素子１３ａ，１３ｂ，１３ｃ，…１３ｎからなる散
乱光検出用測定部、１４は各散乱光受光素子１３ａ〜１
３ｎの間に設けられるアイソレーションギャップ１４で
ある。
【０００７】そして、上述のようにして光軸調整を行う
には、光軸調整用受光部１２は、レーザ管１から発せら
れるレーザ光の変動分の大きさと同等かそれ以上の半径
を持つようにしておく必要があり、レーザ光が例えば最
大１００μｍ変動する場合、この変動を測定するために
半径１００μｍの光軸調整用受光部１２が必要であっ
た。
には、光軸調整用受光部１２は、レーザ管１から発せら
れるレーザ光の変動分の大きさと同等かそれ以上の半径
を持つようにしておく必要があり、レーザ光が例えば最
大１００μｍ変動する場合、この変動を測定するために
半径１００μｍの光軸調整用受光部１２が必要であっ
た。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、散乱式粒度
分布測定装置においては、粒子の径が大きくなるほど、
その散乱光の光軸となす角度は小さくなるので、光軸中
心部７Ａに近い位置にまで散乱光検出用測定部１３を形
成する必要があるが、上述のように、かなりの大きさの
光軸調整用受光部１２を設けるような場合、光軸中心部
７Ａに近接して散乱光受光素子１３ａなどを設けること
ができず、したがって、径の大きい粒子の測定には、あ
る限界が生じていた。
分布測定装置においては、粒子の径が大きくなるほど、
その散乱光の光軸となす角度は小さくなるので、光軸中
心部７Ａに近い位置にまで散乱光検出用測定部１３を形
成する必要があるが、上述のように、かなりの大きさの
光軸調整用受光部１２を設けるような場合、光軸中心部
７Ａに近接して散乱光受光素子１３ａなどを設けること
ができず、したがって、径の大きい粒子の測定には、あ
る限界が生じていた。
【０００９】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、その目的は、光検出器の光軸中心部に十分近
接して散乱光受光素子を設けても光軸合わせを確実行う
ことができる散乱式粒度分布測定装置における光軸調整
方法（以下、単に光軸調整方法という）を提供すること
である。
たもので、その目的は、光検出器の光軸中心部に十分近
接して散乱光受光素子を設けても光軸合わせを確実行う
ことができる散乱式粒度分布測定装置における光軸調整
方法（以下、単に光軸調整方法という）を提供すること
である。
【００１０】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明では、光源と光検出器とを結ぶ光軸上に回
折光発生手段を設け、この回折光発生手段によって発生
する回折光を用いて光軸調整を行うようにしている。
め、この発明では、光源と光検出器とを結ぶ光軸上に回
折光発生手段を設け、この回折光発生手段によって発生
する回折光を用いて光軸調整を行うようにしている。
【００１１】
【発明の実施の形態】この発明では、光源からの光を試
料に対して照射し、そのとき散乱光を集光レンズを介し
て光検出器に入射させ、このとき得られる散乱光強度パ
ターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散乱式粒
度分布測定装置において、前記光源と集光レンズとの間
の光路中に回折光発生手段を設けるとともに、前記光検
出器の光軸中心部の周囲に３以上の回折光検出器を、前
記光検出器に設けられている散乱光測定用検出部と重な
らないように等配置し、光源からの光が回折光発生手段
を通過する際に発生する回折光が前記回折光検出器に入
射したときの各出力が等しくなるように光検出器または
光源の位置を変更することにより、光軸調整を行うよう
にしている。
料に対して照射し、そのとき散乱光を集光レンズを介し
て光検出器に入射させ、このとき得られる散乱光強度パ
ターンに基づいて試料中の粒度分布を測定する散乱式粒
度分布測定装置において、前記光源と集光レンズとの間
の光路中に回折光発生手段を設けるとともに、前記光検
出器の光軸中心部の周囲に３以上の回折光検出器を、前
記光検出器に設けられている散乱光測定用検出部と重な
らないように等配置し、光源からの光が回折光発生手段
を通過する際に発生する回折光が前記回折光検出器に入
射したときの各出力が等しくなるように光検出器または
光源の位置を変更することにより、光軸調整を行うよう
にしている。
【００１２】前記回折光発生手段としては、例えば光を
遮断するような板体にピンホールを形成してもよく、逆
に、光透過性の板体に小径の遮光部を形成してもよい。
いずれの場合においても望ましい回折光を得ることがで
きる。
遮断するような板体にピンホールを形成してもよく、逆
に、光透過性の板体に小径の遮光部を形成してもよい。
いずれの場合においても望ましい回折光を得ることがで
きる。
【００１３】前記回折光による光強度に基づく調整を行
うに際して、集光レンズによって集光された光が最大に
なるように光軸を微調整すれば、光軸位置精度をより向
上させることができる。
うに際して、集光レンズによって集光された光が最大に
なるように光軸を微調整すれば、光軸位置精度をより向
上させることができる。
【００１４】
【実施例】実施例について、図面を参照しながら説明す
る。以下の図において、図４および図５に示した符号と
同一のものは同一物であるので、その説明は省略する。
る。以下の図において、図４および図５に示した符号と
同一のものは同一物であるので、その説明は省略する。
【００１５】図１は、この発明が適用される散乱式粒度
分布測定装置の構成を示す。この散乱式粒度分布測定装
置は、図４に示した散乱式粒度分布測定装置と基本的に
は同じものであり、レーザ管１と集光レンズ６との間の
光路中に光軸調整の際に用いる回折光発生手段１５を設
けるとともに、この回折光発生手段１５によって発生し
た回折光を光検出器１６によって検出するようにした点
が大きく異なる。以下、これらの詳細について説明す
る。
分布測定装置の構成を示す。この散乱式粒度分布測定装
置は、図４に示した散乱式粒度分布測定装置と基本的に
は同じものであり、レーザ管１と集光レンズ６との間の
光路中に光軸調整の際に用いる回折光発生手段１５を設
けるとともに、この回折光発生手段１５によって発生し
た回折光を光検出器１６によって検出するようにした点
が大きく異なる。以下、これらの詳細について説明す
る。
【００１６】図２は、前記回折光発生手段１５の一例を
示すもので、この図において、１７は光遮断性の材料よ
りなる板材で、そのほぼ中央にピンホール１８が開設さ
れている。
示すもので、この図において、１７は光遮断性の材料よ
りなる板材で、そのほぼ中央にピンホール１８が開設さ
れている。
【００１７】図３は、前記光検出器１６の平面的な構成
の一例を示すもので、この図において、１９は光検出器
１６の光軸中心部Ｏに設けられる出力モニター用検出器
で、レーザ光２のビーム径と同等の受光部を備えてい
る。２０は光軸中心部Ｏ（出力モニター用検出器１９）
を中心として、９０°の広がり角度をもって扇状かつ同
心状に設けられる複数の散乱光受光素子２０ａ〜２０ｎ
よりなる散乱光検出用測定部で、２１は散乱光受光素子
２０ａ〜２０ｎの間に設けられるアイソレーションギャ
ップである。そして、２２は出力モニター用検出器１９
を中心にし、かつ散乱光受光素子２０ａ〜２０ｎと重な
らない位置に設けられる回折光検出器で、図示例では、
円周を４等配するように設けられている。
の一例を示すもので、この図において、１９は光検出器
１６の光軸中心部Ｏに設けられる出力モニター用検出器
で、レーザ光２のビーム径と同等の受光部を備えてい
る。２０は光軸中心部Ｏ（出力モニター用検出器１９）
を中心として、９０°の広がり角度をもって扇状かつ同
心状に設けられる複数の散乱光受光素子２０ａ〜２０ｎ
よりなる散乱光検出用測定部で、２１は散乱光受光素子
２０ａ〜２０ｎの間に設けられるアイソレーションギャ
ップである。そして、２２は出力モニター用検出器１９
を中心にし、かつ散乱光受光素子２０ａ〜２０ｎと重な
らない位置に設けられる回折光検出器で、図示例では、
円周を４等配するように設けられている。
【００１８】上記構成の散乱式粒度分布測定装置におい
ては、試料５の粒度分布を測定する場合、セル４に試料
５を収容した状態でレーザ管１によってレーザ光２を照
射する。このとき、回折光発生手段１５は、図１におい
て矢印Ｕ方向に移動して、光路から退避させて測定の妨
げにならないようにしておく。前記レーザ光２の一部が
セル４内の試料５中の粒子を照射して散乱光１０とな
り、残りの光は粒子と粒子との間を通過して透過光１１
となる。そして、これら散乱光１０および透過光１１は
ともに、集光レンズ６を経て光検出器１６に至る。そし
て、このとき得られる光検出器１６の出力をマルチプレ
クサ８を介してＣＰＵ９に入力し、このＣＰＵ９におい
て散乱光強度パターンに基づいて演算を行うことにより
粒度分布を求めることができる。
ては、試料５の粒度分布を測定する場合、セル４に試料
５を収容した状態でレーザ管１によってレーザ光２を照
射する。このとき、回折光発生手段１５は、図１におい
て矢印Ｕ方向に移動して、光路から退避させて測定の妨
げにならないようにしておく。前記レーザ光２の一部が
セル４内の試料５中の粒子を照射して散乱光１０とな
り、残りの光は粒子と粒子との間を通過して透過光１１
となる。そして、これら散乱光１０および透過光１１は
ともに、集光レンズ６を経て光検出器１６に至る。そし
て、このとき得られる光検出器１６の出力をマルチプレ
クサ８を介してＣＰＵ９に入力し、このＣＰＵ９におい
て散乱光強度パターンに基づいて演算を行うことにより
粒度分布を求めることができる。
【００１９】そして、光軸調整を行う場合、回折光発生
手段１５を、図１において矢印Ｖ方向に移動して、ビー
ム拡大器３とセル４との間に介装する。この状態でレー
ザ光２をセル方向に向けて発すると、下記フラウンフォ
ーファー回折Ｉで近似される回折光が発生する。
手段１５を、図１において矢印Ｖ方向に移動して、ビー
ム拡大器３とセル４との間に介装する。この状態でレー
ザ光２をセル方向に向けて発すると、下記フラウンフォ
ーファー回折Ｉで近似される回折光が発生する。
【００２０】Ｉ＝Ｉ0 （Ｊ1 （ｘ）／ｘ）2 ｘ＝２πｒｓ／λｆ ここで、λｆ；波長 ｒ；ピンホール半径 ｓ；検出器位置 Ｊ1 ；第１次ベッセル関数 Ｉ0 ；入射光強度
【００２１】この場合、回折光発生手段１５によって生
じた回折光が、光検出器１６における各回折光検出器２
２に入射するように、板材１７に設けられるピンホール
１８の径を適宜設定する。そして、４つの回折光検出器
２２からの出力が等しくなるように、光検出器１６の位
置を微動させる。そして、各回折光検出器２２の出力が
互いに等しくなったところを求め、その位置に光検出器
１６を固定する。例えば、５０μｍの位置に最大回折光
強度の１／２の光強度がくるようにするためには、ピン
ホール１８の径は３２０μｍであればよく。そのときの
回折光は、半径８２０μｍまで広がる。したがって、こ
の範囲内のレーザ光２の光軸変動を調整することができ
る。
じた回折光が、光検出器１６における各回折光検出器２
２に入射するように、板材１７に設けられるピンホール
１８の径を適宜設定する。そして、４つの回折光検出器
２２からの出力が等しくなるように、光検出器１６の位
置を微動させる。そして、各回折光検出器２２の出力が
互いに等しくなったところを求め、その位置に光検出器
１６を固定する。例えば、５０μｍの位置に最大回折光
強度の１／２の光強度がくるようにするためには、ピン
ホール１８の径は３２０μｍであればよく。そのときの
回折光は、半径８２０μｍまで広がる。したがって、こ
の範囲内のレーザ光２の光軸変動を調整することができ
る。
【００２２】そして、図３から理解されるように、回折
光検出器２２を構成する受光素子２２ａ〜２２ｄは、散
乱光検出用測定部２０の散乱光受光素子２０ａ〜２０ｎ
とは重ならない位置に設けられ、しかも、散乱光検出用
測定部２０の内側の素子（この場合２０ａ）を、光検出
器１６の光軸中心部Ｏにきわめて近づけた状態で配置さ
れている。したがって、光軸中心部Ｏにかなり接近して
散乱光検出用測定部２０の受光素子を配置することがで
きるので、従来は困難であった径の大きい粒子の測定を
も十分行うことができる。
光検出器２２を構成する受光素子２２ａ〜２２ｄは、散
乱光検出用測定部２０の散乱光受光素子２０ａ〜２０ｎ
とは重ならない位置に設けられ、しかも、散乱光検出用
測定部２０の内側の素子（この場合２０ａ）を、光検出
器１６の光軸中心部Ｏにきわめて近づけた状態で配置さ
れている。したがって、光軸中心部Ｏにかなり接近して
散乱光検出用測定部２０の受光素子を配置することがで
きるので、従来は困難であった径の大きい粒子の測定を
も十分行うことができる。
【００２３】この発明は、上述の実施例に限られるもの
ではなく、種々に変形して実施することができる。例え
ば、回折光を発生させる手段１５としては、透光性部材
に小径の遮光部を形成したものを用いてもよい。すなわ
ち、図２に示した板材１７を透光性とし、ピンホール１
８に代えて、この部分に遮光性素材よりなる球形の粒子
を形成してもよい。
ではなく、種々に変形して実施することができる。例え
ば、回折光を発生させる手段１５としては、透光性部材
に小径の遮光部を形成したものを用いてもよい。すなわ
ち、図２に示した板材１７を透光性とし、ピンホール１
８に代えて、この部分に遮光性素材よりなる球形の粒子
を形成してもよい。
【００２４】そして、前記回折光発生手段１５の光路へ
の挿入、退避を適宜の機構によって自動的に行わせるよ
うにしてもよい。また、回折光発生手段１５の設置位置
は、レーザ管１と集光レンズ６との間の光路であればど
こでもよい。
の挿入、退避を適宜の機構によって自動的に行わせるよ
うにしてもよい。また、回折光発生手段１５の設置位置
は、レーザ管１と集光レンズ６との間の光路であればど
こでもよい。
【００２５】上述の光軸調整方法は、セル４を光路に設
けた状態で、回折光発生手段１５を挿入するようにして
いたので、セル４を取外しできないような散乱式粒度分
布測定装置に好適であるが、この方法に代えて、セル４
を光路から外し、その位置に回折光発生手段１５をセッ
トするようにしてもよい。
けた状態で、回折光発生手段１５を挿入するようにして
いたので、セル４を取外しできないような散乱式粒度分
布測定装置に好適であるが、この方法に代えて、セル４
を光路から外し、その位置に回折光発生手段１５をセッ
トするようにしてもよい。
【００２６】また、光検出器１６に設けられる回折光検
出器２２を構成する受光素子の数は、４つでなくてもよ
く、レーザ光２が図３において矢印Ｘ，Ｙ方向で示す方
向、つまり二次元方向においてずれていることを検出
し、これを矯正できればよいから、少なくとも３つの受
光素子があればよく、好ましくは、光軸中心部Ｏを中心
に同心配置してあればなおよい。
出器２２を構成する受光素子の数は、４つでなくてもよ
く、レーザ光２が図３において矢印Ｘ，Ｙ方向で示す方
向、つまり二次元方向においてずれていることを検出
し、これを矯正できればよいから、少なくとも３つの受
光素子があればよく、好ましくは、光軸中心部Ｏを中心
に同心配置してあればなおよい。
【００２７】さらに、上述した各種の光軸調整方法にお
いて、集光レンズ６によって集光されたレーザ光が最大
になるように光軸を微調整すれば、光軸位置精度をより
向上させることができる。
いて、集光レンズ６によって集光されたレーザ光が最大
になるように光軸を微調整すれば、光軸位置精度をより
向上させることができる。
【００２８】なお、この光軸調整方法は、レーザ２のみ
ならず、他の光線を用いた散乱式粒度分布測定装置にも
適用できることはいうまでもない。
ならず、他の光線を用いた散乱式粒度分布測定装置にも
適用できることはいうまでもない。
【００２９】
【発明の効果】この発明は、以上のような形態で実施さ
れ、以下のような効果を奏する。
れ、以下のような効果を奏する。
【００３０】従来に比べて、光検出器の光軸中心部によ
り近い部分に散乱光検出用測定部の受光素子を配置する
ことができるので、従来よりも大径の粒子の測定が可能
になり、より測定範囲の広い粒度分布を一度に測定でき
る。
り近い部分に散乱光検出用測定部の受光素子を配置する
ことができるので、従来よりも大径の粒子の測定が可能
になり、より測定範囲の広い粒度分布を一度に測定でき
る。
【図１】この発明の光軸調整方法が適用される散乱式粒
度分布測定装置の一例を概略的に示す図である。
度分布測定装置の一例を概略的に示す図である。
【図２】前記光軸調整方法で用いる回折光発生手段の一
例を示す斜視図である。
例を示す斜視図である。
【図３】前記散乱式粒度分布測定装置の光検出器の平面
構成を概略的に示す図である。
構成を概略的に示す図である。
【図４】一般的な散乱式粒度分布測定装置の構成を概略
的に示す図である。
的に示す図である。
【図５】前記散乱式粒度分布測定装置の光検出器の平面
構成を概略的に示す図である。
構成を概略的に示す図である。
１…光源、６…集光レンズ、１０…散乱光、１５…回折
光発生手段、１６…光検出器、１７…遮光性部材、１８
…ピンホール、１９…出力検出用モニター検出器、２２
…回折光検出器、Ｏ…光軸中心部。
光発生手段、１６…光検出器、１７…遮光性部材、１８
…ピンホール、１９…出力検出用モニター検出器、２２
…回折光検出器、Ｏ…光軸中心部。
Claims (5)
- 【請求項１】 光源と光検出器とを結ぶ光軸上に回折光
発生手段を設け、この回折光発生手段によって発生する
回折光を用いて光軸調整を行うようにしたことを特徴と
する散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法。 - 【請求項２】 光源からの光を試料に対して照射し、そ
のとき散乱光を集光レンズを介して光検出器に入射さ
せ、このとき得られる散乱光強度パターンに基づいて試
料中の粒度分布を測定する散乱式粒度分布測定装置にお
いて、前記光源と集光レンズとの間の光路中に回折光発
生手段を設けるとともに、前記光検出器の光軸中心部の
周囲に３以上の回折光検出器を、前記光検出器に設けら
れている散乱光測定用検出部と重ならないように等配置
し、光源からの光が回折光発生手段を通過する際に発生
する回折光が前記回折光検出器に入射したときの各出力
が等しくなるように光検出器または光源の位置を変更す
ることにより、光軸調整を行うようにしたことを特徴と
する散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法。 - 【請求項３】 回折光発生手段として、遮光性部材にピ
ンホールを形成したものを用いる請求項１または２に記
載の散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法。 - 【請求項４】 回折光発生手段として、透光性部材に小
径の遮光部を形成したものを用いる請求項１または２に
記載の散乱式粒度分布測定装置における光軸調整方法。 - 【請求項５】 光軸中心部に出力検出用モニター検出器
を設け、集光レンズを経た透過光が前記モニター検出器
に入射したときのモニター出力が最大となるようにして
なる請求項１〜４のいずれかに記載の散乱式粒度分布測
定装置における光軸調整方法。
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