JPH09181038A

JPH09181038A - 基板処理槽

Info

Publication number: JPH09181038A
Application number: JP33938095A
Authority: JP
Inventors: Kentarou Tokuri; 憲太郎徳利
Original assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Current assignee: Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date: 1995-12-26
Filing date: 1995-12-26
Publication date: 1997-07-11

Abstract

(57)【要約】【課題】槽内流動の対称性を容易に得られる基板処理
槽を安価に提供する。【解決手段】水洗槽ＷＢ１の底面近傍両サイドには、
噴出用の窓を設けたノズル２０を配管し、当該ノズル２
０の外壁面上には、２枚の断面略円弧状の整流板５０
ａ、５０ｂを所定の間隔を隔てて設けている。この所定
の間隔はノズル２０の噴出用窓と重なるようにされてお
り、また、２枚の整流板５０ａ、５０ｂは、シールキャ
ップ３０に接続されて、ノズル２０の外壁面上を回動自
在とされている。すなわち、シールキャップ３０を回動
させることによって、容易に噴出水流の方向を変化させ
ることが可能となる。したがって、槽製作時に加工誤差
が存在したとしても、槽を再製作することなく、安価
に、対称な槽内流動を得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体基板や液
晶ガラス基板などの薄板状基板（以下、「基板」と称す
る）を処理液に浸漬して諸処理を施す基板処理槽に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】従来、上記のような基板処理槽は、薬液
処理槽や水洗槽として使用され、これらに基板を順次浸
漬する複数工程により、基板表面の汚染物質を除去した
り、基板表面の酸化膜をエッチングしたり、レジスト膜
を剥離したりする。

【０００３】図８は、従来の基板処理槽を示す図であ
る。図８（ａ）は基板処理槽１０の側面図であり、処理
液２が満たされた基板処理槽１０に複数の基板１が浸漬
されるとともに、基板処理槽１０の底面近傍両サイドに
処理液噴出用のノズル２０がその長手方向を図のＹ方向
に平行に配管されている。上記複数の基板１は図示を省
略する手段によって支持されるともに、互いに間隔を隔
てて図中のＹ方向に沿って並べられて浸漬されている。
また、ノズル２０は円筒状の部材であり、当該ノズル２
０には、図８（ｂ）に示す如く、処理液を噴出するため
の複数のノズル孔２１をノズル２０の長手方向に沿って
一列に等間隔に設けている。

【０００４】このノズル２０は、その一端が基板処理槽
１０の槽壁を貫通して槽外部の配管（図示省略）に接続
されるとともに、他端は溶接によって基板処理槽１０の
槽壁に溶着されている。このときに、ノズル２０は、ノ
ズル孔２１が基板１側に向くように設置されている。し
たがって、処理液は、上記配管からノズル２０に供給さ
れて、ノズル孔２１から基板１に向けて噴出される。

【０００５】上記のような構成の基板処理槽１０におい
ては、複数の基板１に対して複数のノズル孔２１から処
理液が噴出されるため、当該複数の基板１には同時に処
理が施される。また、基板処理槽１０は、両サイドに配
置したノズル２０のノズル孔２１から基板１に向けて処
理液を直接噴出しているため、効率よく処理を行え、例
えば、純水洗浄の場合には、薬液と純水の置換を速やか
に行えるため、薬液処理直後の水洗などに適している。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、一般に、上
記のような基板処理槽１０は、硫酸、アンモニア、塩
酸、フッ酸など種々の薬液を収容するため、これらの薬
液に対して耐食性に優れた材料、例えば、樹脂や石英な
どを使用して製作されている。このときに、基板処理槽
１０の材料に応じて、ノズル２０も樹脂や石英などを使
用して製作され、基板処理槽１０に溶接によって溶着さ
れる。このため溶着時に誤差が生じると該誤差は、加工
誤差としてそのまま固定され、槽内流動も一義的に決ま
ることになる。そして、その槽内流動が非対称である場
合に、これを修正するには槽を再製作する必要があり、
コストの上昇を招くことになる。

【０００７】本発明は、上記課題に鑑み、槽内流動の対
称性を容易に得られる基板処理槽を安価に提供すること
を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１の発明は、基板を所定の処理液に浸漬させ
て基板処理を行う基板処理槽において、(a) 前記基板処
理槽本体内に設けられ、前記処理液を噴出するための噴
出用の窓を設けた円筒と、(b) 前記円筒の表面に設けら
れ、前記窓から噴出した前記処理液を整流する整流手段
と、(c) 前記整流手段を前記円筒表面の円周方向に沿っ
て回動させることが可能な回動機構とを備えている。

【０００９】また、請求項２の発明は、前記整流手段を
前記円筒表面の円周方向に互いに所定の間隔を隔てて並
べられた複数の板としている。

【００１０】また、請求項３の発明は、前記整流手段を
前記円筒の軸方向にスリットを設けた板としている。

【００１１】また、請求項４の発明は、基板を所定の処
理液に浸漬させて基板処理を行う基板処理槽において、
(a) 前記基板処理槽本体内に設けられ、前記処理液を噴
出するための噴出孔を設けた筒と、(b) 前記筒の長軸方
向を中心にして前記筒を回動させることが可能な回動機
構とを備えている。

【００１２】

【発明の実施の形態】

【００１３】

【発明の第１の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本
発明の実施の形態について詳細に説明する。

【００１４】図１は、この発明にかかる基板処理槽の一
実施形態である水洗槽ＷＢ１の外観斜視図である。石英
製の水洗槽ＷＢ１には、洗浄用の純水３が満たされると
ともに、槽中央部には、複数の基板１が互いに間隔を隔
てて図中のＹ方向に沿って並べられて純水中に浸漬され
ている。水洗槽ＷＢ１は、その底部両サイドに円筒状の
石英製のノズル２０をその軸方向を図のＹ方向に平行に
配管している。ノズル２０の外壁面には、２枚の石英製
の整流板（整流手段）５０ａ、５０ｂが設けられてお
り、後に詳述するように、当該整流板５０ａ、５０ｂは
シールキャップ３０の回動にともなってノズル２０の外
壁面上を摺動自在に回動するように構成されている。

【００１５】図２は、ノズル２０の端部２０Ｂ近傍の組
立を示す図である。また、図３は、図２のＡ−Ａ線に沿
って見たノズル２０の端部２０Ｂ近傍の構造を説明する
ための断面的部分拡大図である。

【００１６】ノズル２０は、その一端部２０Ａが水洗槽
ＷＢ１の槽壁を貫通し槽外部の純水供給用配管（図示省
略）に接続されるとともに、他端部２０Ｂは溶接によっ
て水洗槽ＷＢ１の槽壁に溶着されている。そして、図３
に示すように、ノズル２０には、その軸方向に沿って複
数の窓２５が一定間隔で設けられており、それぞれの窓
２５はその長手方向をノズル２０の円周方向と一致させ
るように設けられている。

【００１７】また、整流板５０ａ、５０ｂは、断面略円
弧形の長尺材であり、該断面の内側の弧の曲率はノズル
２０の外径の曲率と一致している。また、整流板５０
ａ，５０ｂの端部には図示のように、それぞれ接合ネジ
５１ａ、５１ｂを設けている。そして、接合ネジ５１
ａ、５１ｂは、水洗槽ＷＢ１およびパッキング４０を貫
通して、シールキャップ３０に螺合されている。このと
きに、２枚の整流板５０ａ、５０ｂは、ノズル２０の外
壁面上において互いに所定の間隔を隔てるように設けら
れており、この間隔は窓２５に直交して重なるように配
されている。したがって、上記の整流板５０ａ、５０ｂ
間の間隔と窓２５の重なる部分から、ノズル２０内に供
給された洗浄用純水が噴出する。

【００１８】上記のパッキング４０は、水洗槽ＷＢ１の
外壁に固着されている。このパッキング４０は、図２に
示すように、円弧形の貫通孔４１と４カ所のネジ通過部
４５を設けている。また、シールキャップ３０は、接合
ネジ５１ａ、５１ｂを螺合すべき雌ねじ部を設けるとと
もに、４カ所のネジ穴３１を設けている。なお、ネジ穴
３１およびネジ通過部４５の数は４カ所に限定されるも
のではなく、２カ所以上であればかまわないが、あまり
多くなるとネジ通過部４５の大きさが小さくなり、後述
するように、シールキャップ３０の回動可能な角度が小
さくなる。

【００１９】パッキング４０とシールキャップ３０はボ
ルト３５とナット３６によって当接されている。このと
きに、ボルト３５はシールキャップ３０のネジ穴３１と
パッキング４０のネジ通過部４５を貫通し、ナット３６
によって締結されている。ここで、パッキング４０とシ
ールキャップ３０は摺動自在であるとともに、ナット３
６とパッキング４０も摺動自在である。したがって、シ
ールキャップ３０はパッキング４０のネジ通過部４５の
大きさに応じて、回動自在である。

【００２０】一方、水洗槽ＷＢ１の槽壁には、パッキン
グ４０の貫通孔４１と対向する位置に、当該貫通孔４１
と同じ形状の貫通孔が設けられており、接合ネジ５１
ａ、５１ｂは、この水洗槽ＷＢ１の貫通孔とパッキング
４０の貫通孔４１を通過してシールキャップ３０の雌ね
じ部に螺合されている。

【００２１】以上のように構成すれば、シールキャップ
３０を回動させることにより、これに連動して整流板５
０ａ、５０ｂが回動する。そして、整流板５０ａ、５０
ｂが回動すると、両整流板間の間隔も回動することにな
り、ノズル２０からの噴出水流の方向が変化することに
なる。

【００２２】すなわち、シールキャップ３０を回動させ
ることによって、ノズル２０からの噴出水流の方向を所
望の方向に調整することが可能であり、さらに、シール
キャップ３０は両サイドのノズル２０に設けられている
ため、噴出水流の方向調整は両サイドのノズル２０のそ
れぞれについて独立に可能である。したがって、槽内流
動が非対称である場合にも、両サイドのシールキャップ
３０を回動させることによって噴出水流の方向をそれぞ
れ調整できるため、槽を再製作することなく、容易に槽
内流動の対称性が得られる。

【００２３】また、整流板５０ａ、５０ｂがシールキャ
ップ３０へ螺合される位置を調整すれば、両整流板間の
間隔が変化するため、噴出水流の流速も調整可能であ
る。すなわち、両整流板間の間隔を拡げれば流速を遅く
でき、間隔を狭くしてやると流速を速くできるため、所
望の流速を得ることが可能となる。

【００２４】以上のようにして、噴出水流の最適方向お
よび最適流速が決まれば、溶接によって板をノズル２０
に溶着してもかまわない。

【００２５】上記の水洗槽ＷＢ１においては、２枚の整
流板５０ａ、５０ｂによって噴出水流の噴出方向を調整
していたが、整流手段はこれに限定されるものではな
く、以下に示すような構成であってもよい。

【００２６】図４は、整流手段の他の形態を示す図であ
る。図４（ａ）に示す形態では、所定の幅のスリット５
６を設けたスリット板５５を用いて噴出方向を調整して
おり、これ以外の構成は上記の第１実施形態と同じであ
る。したがって、スリット板５５を使用した場合、ノズ
ル２０の窓２５とスリット板５５のスリット５６の重な
る部分より洗浄用純水が噴出する。

【００２７】スリット板５５には、接合ネジ５７が設け
られており、上記の整流板５０ａ、５０ｂと同様に、シ
ールキャップ３０に螺合して接続されている。そして、
シールキャップ３０を回動させることにより、スリット
板５５もノズル２０の外壁面上を摺動自在に回動し、噴
出水流の方向を所望の方向に調整することが可能とな
り、容易に槽内流動の対称性が得られる。ただし、上記
第１実施形態のように、２枚の整流板５０ａ、５０ｂを
使用した方が、シールキャップ３０への接続位置を変え
るだけで両板間の間隔を調整することができるため、容
易に噴出水流の流速を調整することができる。

【００２８】また、図４（ｂ）に示す形態が上記第１実
施形態と相違するのは、第１実施形態においては２枚の
整流板５０ａ、５０ｂを使用して噴出方向を調整してい
るのに対して、図４（ｂ）に示す形態では３枚の整流板
５２ａ、５２ｂ、５２ｃを使用している点である。この
ように、３枚の整流板５２ａ、５２ｂ、５２ｃを使用す
れば、図４（ｂ）に示す如く、整流板間の間隔が２本で
きるため、２方向の噴出水流を得ることができる。な
お、整流板の枚数以外の構成は、上記第１実施形態と同
じである。

【００２９】３枚の整流板５２ａ、５２ｂ、５２ｃに
は、それぞれの端部に接合ネジ５３ａ、５３ｂ、５３ｃ
が接続されており、これら３つの接合ネジ５３ａ、５３
ｂ、５３ｃはシールキャップ３０に螺合されている。し
たがって、シールキャップ３０を回動させることによ
り、３枚の整流板５２ａ、５２ｂ、５２ｃもノズル２０
の外壁面上を摺動自在に回動し、噴出水流の方向を所望
の方向に調整することが可能となり、容易に槽内流動の
対称性が得られる。さらに、２方向の噴出水流を作って
いるため、水洗槽ＷＢ１内に停滞域が発生しにくくな
り、より効率よく洗浄処理を行うことができる。

【００３０】また、整流板を３枚にした場合も、それぞ
れの配置間隔を調整することで、所望の噴出流速が得ら
れるので、上記噴出方向の調整と組み合わせて多彩な槽
内流動パターンが実現できる。

【００３１】なお、整流板を４枚以上にしても上記と同
様に構成することで、同様の効果が得られる。

【００３２】

【第２の実施の形態】図５は、この発明にかかる基板処
理槽の第２の実施形態である水洗槽ＷＢ２の外観斜視図
である。

【００３３】第２の実施形態である水洗槽ＷＢ２が第１
の実施形態である水洗槽ＷＢ１と相違する点は、第１実
施形態においてはノズル２０に窓２５を設けるととも
に、ノズル２０の外壁面上に摺動自在に回動する整流手
段を設けていたのに対して、第２実施形態ではノズル２
０にノズル孔２１が設けられるとともに、当該ノズル２
０がシールキャップ８０に接続されて回動されるように
構成されている点である。以下、ノズル２０の端部の構
造について図面を参照しつつ説明する。

【００３４】図６は、第２実施形態におけるノズル２０
の端部２０Ｂ近傍の組立を示す図である。また、図７
は、第２実施形態におけるノズル２０の端部２０Ｂ近傍
の構造を説明するための断面図である。

【００３５】パッキング９０には、ノズル２０が貫通す
べき中空部９３と、４カ所のネジ通過部９５を設けると
ともに、その片面が水洗槽ＷＢ２に固着されている。ま
た、シールキャップ８０には、４カ所のネジ穴８５が設
けられるとともに、その片面にノズル２０が嵌合されて
いる。なお、ネジ通過部９５およびネジ穴８５の数は４
カ所に限定されないことは上記第１実施形態と同様であ
る。

【００３６】パッキング９０とシールキャップ８０は、
ボルト８１とナット８２を締結することによって当接さ
れ、その様子は、図３に示した第１実施形態におけるパ
ッキング９０とシールキャップ８０の当接と同じであ
る。すなわち、シールキャップ８０は、ネジ通過部９５
の大きさに応じて回動自在であり、当該シールキャップ
８０に連動してノズル２０が回動するように構成されて
いる。なお、ノズル２０において、端部２０Ｂと反対側
の他端部２０Ａは、水洗槽ＷＢ２の槽壁を貫通して槽外
部の純水供給用配管（図示省略）に回動自在に接続され
ている。

【００３７】上記以外の構成については、第１実施形態
と同じなので説明を省略する。

【００３８】以上のようにすれば、シールキャップ８０
を回動させることにより、ノズル２０も回動するため、
当該ノズル２０からの噴出水流の方向を所望の方向に調
整することが可能であり、さらに、シールキャップ８０
は両サイドのノズル２０に設けられているため、噴出水
流の方向調整は両サイドのノズル２０のそれぞれについ
て独立に可能である。したがって、ノズル２０の加工誤
差に起因する非対称な槽内流動がある場合にも、両サイ
ドのシールキャップ８０を回動させることによって噴出
水流の方向をそれぞれ調整できるため、槽を再製作する
ことなく、容易に槽内流動の対称性が得られる。

【００３９】このようにして、槽内流動の対称性が得ら
れた後は、溶接によってノズル２０を溶着してもよい。

【００４０】なお、本第２の実施の形態においては断面
視が円形のノズル２０を用いたが、断面視が多角形のも
のを用いてもよい。

【００４１】

【変形例】以上、この発明の実施形態について説明した
が、この発明は上記の例に限定されるものではなく、例
えば、本実施形態においては石英槽を使用した場合であ
ったが、これが薬液に浸蝕されない他の材料を使用した
ノズル、整流板、槽（例えば、樹脂槽など）であっても
かまわない。

【００４２】また、本実施形態では、水洗槽における洗
浄処理であったが、薬液槽における薬液処理についても
上記と同様に構成することで同様の効果が得られる。

【００４３】

【発明の効果】請求項１の発明によれば、円筒表面の円
周方向に沿って整流手段を回動させることが可能な回動
機構を備えているため、容易に処理液の噴出方向を調整
することが可能となる。したがって、槽製作時に加工誤
差が存在したとしても、槽を再製作することなく、安価
に、対称な槽内流動を得ることができる。

【００４４】請求項２の発明によれば、円筒表面の円周
方向に互いに所定の間隔を隔てて並べられた複数の板で
整流しているので、請求項１の発明と同じ効果に加え
て、処理液の噴出方向を２方向以上にすることもでき、
さらに、処理液の噴出流速も調整可能となるので、より
多彩な槽内流動パターンを得ることができる。

【００４５】請求項３の発明によれば、円筒の軸方向に
スリットを設けた板で整流しているので請求項１の発明
と同じ効果が得られる。

【００４６】請求項４の発明によれば、噴出孔を設けた
筒をその長軸方向を中心にして回動させることが可能な
回動機構を備えているため、請求項１の発明と同じ効果
が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明にかかる基板処理槽の一実施形態であ
る水洗槽の外観斜視図である。

【図２】図１のノズルの端部近傍の組立を示す図であ
る。

【図３】図１のノズルの端部近傍の構造を説明するため
の断面的部分拡大図である。

【図４】整流手段の他の形態を示す図である。

【図５】この発明にかかる基板処理槽の他の実施形態を
示す外観斜視図である。

【図６】図５のノズルの端部近傍の組立を示す図であ
る。

【図７】図５のノズルの端部近傍の構造を説明するため
の断面図である。

【図８】従来の基板処理槽を示す図である。

【符号の説明】

２０ノズル２１ノズル孔２５窓５０ａ、５０ｂ、５２ａ、５２ｂ、５２ｃ整流板５６スリット３０、８０シールキャップ４０、９０パッキングＷＢ１、ＷＢ２水洗槽

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板を所定の処理液に浸漬させて基板処
理を行う基板処理槽において、 (a) 前記基板処理槽本体内に設けられ、前記処理液を噴
出するための噴出用の窓を設けた円筒と、 (b) 前記円筒の表面に設けられ、前記窓から噴出した前
記処理液を整流する整流手段と、 (c) 前記整流手段を前記円筒表面の円周方向に沿って回
動させることが可能な回動機構と、を備えることを特徴とする基板処理槽。
【請求項２】前記整流手段が前記円筒表面の円周方向
に互いに所定の間隔を隔てて並べられた複数の板である
ことを特徴とする請求項１記載の基板処理槽。
【請求項３】前記整流手段が前記円筒の軸方向にスリ
ットを設けた板であることを特徴とする請求項１記載の
基板処理槽。
【請求項４】基板を所定の処理液に浸漬させて基板処
理を行う基板処理槽において、 (a) 前記基板処理槽本体内に設けられ、前記処理液を噴
出するための噴出孔を設けた筒と、 (b) 前記筒の長軸方向を中心にして前記筒を回動させる
ことが可能な回動機構と、を備えることを特徴とする基板処理槽。