JPH09178918A - Ａｕ薄膜付き反射鏡 - Google Patents
Ａｕ薄膜付き反射鏡Info
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- JPH09178918A JPH09178918A JP8229156A JP22915696A JPH09178918A JP H09178918 A JPH09178918 A JP H09178918A JP 8229156 A JP8229156 A JP 8229156A JP 22915696 A JP22915696 A JP 22915696A JP H09178918 A JPH09178918 A JP H09178918A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い反射率特性と高い耐熱性を有する。Ａｕ
薄膜の密着性に優れる。 【解決手段】 Ａｕ薄膜付き反射鏡１０は、Ａｌ2Ｏ3、
ＡｌＮ、ＳｉＣ、タングステン、モリブデン、銅等から
なる基体１１と、この基体上に形成されたガラス層１２
と、このガラス層の表面にＡｕ有機化合物を含むペース
トを塗布し焼成して形成されたＡｕ薄膜１３を備える。
このＡｕ薄膜１３はＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ
3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ金属酸化物（但
し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及びＭ’Ｏで表さ
れるアルカリ土類金属酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ
又はＢａである。）からなる群より選ばれた１種又は２
種以上の酸化物を０．１〜２０重量％含み、残部がＡｕ
により構成される。
薄膜の密着性に優れる。 【解決手段】 Ａｕ薄膜付き反射鏡１０は、Ａｌ2Ｏ3、
ＡｌＮ、ＳｉＣ、タングステン、モリブデン、銅等から
なる基体１１と、この基体上に形成されたガラス層１２
と、このガラス層の表面にＡｕ有機化合物を含むペース
トを塗布し焼成して形成されたＡｕ薄膜１３を備える。
このＡｕ薄膜１３はＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ
3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ金属酸化物（但
し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及びＭ’Ｏで表さ
れるアルカリ土類金属酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ
又はＢａである。）からなる群より選ばれた１種又は２
種以上の酸化物を０．１〜２０重量％含み、残部がＡｕ
により構成される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は赤外線の反射に適す
るＡｕ薄膜付き反射鏡に関する。更に詳しくはハロゲン
ヒータのような赤外線ヒータから放射された赤外線を反
射するに適した反射鏡に関するものである。
るＡｕ薄膜付き反射鏡に関する。更に詳しくはハロゲン
ヒータのような赤外線ヒータから放射された赤外線を反
射するに適した反射鏡に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、太陽エネルギ吸収装置に用いられ
る反射鏡として、アルミニウム、鋼板、ステンレスなど
の金属、合金又はプラスチックなどの適宜な材料で形成
された基板上にアルミニウム、銀などからなる金属反射
膜が被着され、この金属反射膜の表面にＳｉＯ2のよう
なガラス質膜からなる透明性無機質保護膜が形成された
反射鏡が開示されている（特開昭５７−４００３）。こ
の反射鏡によれば、紫外域から可視域及び赤外域まで広
い範囲で高い反射率を有し、反射膜が透明性無機質保護
膜で保護されているため、反射面が平滑で汚損しにく
く、反射率が低下することがなく、またこの保護膜によ
り耐酸性、耐アルカリ性、耐塩性に優れ、長期にわた
り、反射特性を維持できる特長がある。
る反射鏡として、アルミニウム、鋼板、ステンレスなど
の金属、合金又はプラスチックなどの適宜な材料で形成
された基板上にアルミニウム、銀などからなる金属反射
膜が被着され、この金属反射膜の表面にＳｉＯ2のよう
なガラス質膜からなる透明性無機質保護膜が形成された
反射鏡が開示されている（特開昭５７−４００３）。こ
の反射鏡によれば、紫外域から可視域及び赤外域まで広
い範囲で高い反射率を有し、反射膜が透明性無機質保護
膜で保護されているため、反射面が平滑で汚損しにく
く、反射率が低下することがなく、またこの保護膜によ
り耐酸性、耐アルカリ性、耐塩性に優れ、長期にわた
り、反射特性を維持できる特長がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記反射鏡に
は、反射鏡が赤外線ヒータの放射熱のように１０００℃
以上の高温の熱線を受けてこれを反射すると、基板が金
属の場合には金属粒子が粒成長を起こし、また基板がプ
ラスチックの場合には熱変形を生じ、これにより金属反
射膜が剥離して、それぞれ反射率を低下させる不具合が
あった。本発明の目的は、高い反射率特性と高い耐熱性
を有するＡｕ薄膜付き反射鏡を提供することにある。本
発明の別の目的は、Ａｕ薄膜の密着性に優れたＡｕ薄膜
付き反射鏡を提供することにある。
は、反射鏡が赤外線ヒータの放射熱のように１０００℃
以上の高温の熱線を受けてこれを反射すると、基板が金
属の場合には金属粒子が粒成長を起こし、また基板がプ
ラスチックの場合には熱変形を生じ、これにより金属反
射膜が剥離して、それぞれ反射率を低下させる不具合が
あった。本発明の目的は、高い反射率特性と高い耐熱性
を有するＡｕ薄膜付き反射鏡を提供することにある。本
発明の別の目的は、Ａｕ薄膜の密着性に優れたＡｕ薄膜
付き反射鏡を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
図１の拡大図に示すように基体１１上にガラス層１２が
形成され、このガラス層１２上にＡｕ薄膜１３が形成さ
れたＡｕ薄膜付き反射鏡１０である。その特徴ある構成
はＡｕ薄膜１３がＡｕ有機化合物を含むペーストをガラ
ス層１２上に塗布し焼成することにより形成され、かつ
Ａｕ薄膜１３がＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、
Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ金属酸化物（但
し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及びＭ’Ｏで表さ
れるアルカリ土類金属酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ
又はＢａである。）からなる群より選ばれた１種又は２
種以上の酸化物を０．１〜２０重量％含み、残部がＡｕ
により構成されたことにある。基体１１の表面が粗くて
も、ガラス層１２がこれを平滑化し、ガラス層上に形成
されたＡｕ薄膜１３の表面を歪みのない鏡面とし、高い
反射率特性を有するようにする。またガラス層１２の上
にＡｕ有機化合物ペーストを塗布して乾燥した後、焼成
すると、このペースト中のＳｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ａ
ｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等が酸化物とな
り、これらがガラス層１２のガラス成分と化学的に結合
する。これによりガラス層の表面に高い密着力で緻密で
連続したＡｕ薄膜を形成する。Ａｕ薄膜１３中の酸化物
の含有量が０．１重量％未満ではガラス層１２のガラス
成分との結合力に劣り、２０重量％を越えるとＡｕの含
有量が相対的に低下し反射率が低下するようになる。Ａ
ｕ薄膜１３中の上記酸化物の好ましい含有割合は０．５
〜１０重量％である。
図１の拡大図に示すように基体１１上にガラス層１２が
形成され、このガラス層１２上にＡｕ薄膜１３が形成さ
れたＡｕ薄膜付き反射鏡１０である。その特徴ある構成
はＡｕ薄膜１３がＡｕ有機化合物を含むペーストをガラ
ス層１２上に塗布し焼成することにより形成され、かつ
Ａｕ薄膜１３がＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、
Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ金属酸化物（但
し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及びＭ’Ｏで表さ
れるアルカリ土類金属酸化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ
又はＢａである。）からなる群より選ばれた１種又は２
種以上の酸化物を０．１〜２０重量％含み、残部がＡｕ
により構成されたことにある。基体１１の表面が粗くて
も、ガラス層１２がこれを平滑化し、ガラス層上に形成
されたＡｕ薄膜１３の表面を歪みのない鏡面とし、高い
反射率特性を有するようにする。またガラス層１２の上
にＡｕ有機化合物ペーストを塗布して乾燥した後、焼成
すると、このペースト中のＳｉ，Ｂ，Ｐｂ，Ｂｉ，Ａ
ｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等が酸化物とな
り、これらがガラス層１２のガラス成分と化学的に結合
する。これによりガラス層の表面に高い密着力で緻密で
連続したＡｕ薄膜を形成する。Ａｕ薄膜１３中の酸化物
の含有量が０．１重量％未満ではガラス層１２のガラス
成分との結合力に劣り、２０重量％を越えるとＡｕの含
有量が相対的に低下し反射率が低下するようになる。Ａ
ｕ薄膜１３中の上記酸化物の好ましい含有割合は０．５
〜１０重量％である。
【０００５】請求項２又は請求項３に係る発明は、請求
項１に係る発明であって、基体１１がＡｌ2Ｏ3（アルミ
ナ）、ＡｌＮ（窒化アルミニウム）、ＳｉＣ（炭化珪
素）等のセラミックス、又はＷ（タングステン）、Ｍｏ
（モリブデン）、Ｃｕ（銅）等の金属又はその合金から
なることを特徴とする。基体１１をセラミックスや高融
点の金属で構成することにより、高い耐熱性を有するよ
うにする。
項１に係る発明であって、基体１１がＡｌ2Ｏ3（アルミ
ナ）、ＡｌＮ（窒化アルミニウム）、ＳｉＣ（炭化珪
素）等のセラミックス、又はＷ（タングステン）、Ｍｏ
（モリブデン）、Ｃｕ（銅）等の金属又はその合金から
なることを特徴とする。基体１１をセラミックスや高融
点の金属で構成することにより、高い耐熱性を有するよ
うにする。
【０００６】請求項４に係る発明は、請求項１ないし３
いずれかに係る発明であって、Ａｕ薄膜１３に含まれる
Ａｕ又はその合金がペースト中に１５〜７５重量％含ま
れることを特徴とする。このＡｕ薄膜１３に含まれる金
属はＡｕ又はその合金であって、このＡｕ又はその合金
のペースト中の含有量は２０〜５０重量％が更に好まし
い。Ａｕ又はその合金の含有量が１５重量％未満では連
続した緻密な薄膜が得難く、７５重量％を越えるとガラ
ス層に対する密着力が劣るようになる。
いずれかに係る発明であって、Ａｕ薄膜１３に含まれる
Ａｕ又はその合金がペースト中に１５〜７５重量％含ま
れることを特徴とする。このＡｕ薄膜１３に含まれる金
属はＡｕ又はその合金であって、このＡｕ又はその合金
のペースト中の含有量は２０〜５０重量％が更に好まし
い。Ａｕ又はその合金の含有量が１５重量％未満では連
続した緻密な薄膜が得難く、７５重量％を越えるとガラ
ス層に対する密着力が劣るようになる。
【０００７】請求項５に係る発明は、請求項１ないし４
いずれかに係る発明であって、ガラス層１２が０．１μ
ｍ〜１００μｍの厚さに形成され、Ａｕ薄膜１３が０．
０１μｍ〜１０μｍの厚さに形成されたことを特徴とす
る。ガラス層１２は２μｍ〜４０μｍの厚さに形成され
ることが好ましい。ガラス層１２の厚さが０．１μｍ未
満では基体の表面平滑性が十分でなく、結果として高い
反射率を得ることが困難になり、１００μｍを越えると
基体全体の熱伝導性を極端に低下させる不具合がある。
またＡｕ薄膜１３は反射鏡の用途に応じて０．２μｍ〜
４μｍの厚さに形成されることが好ましい。Ａｕ薄膜１
３は０．０１μｍ未満の厚さに作ることは至難であり、
厚さが１０μｍを越えると経済的でない。
いずれかに係る発明であって、ガラス層１２が０．１μ
ｍ〜１００μｍの厚さに形成され、Ａｕ薄膜１３が０．
０１μｍ〜１０μｍの厚さに形成されたことを特徴とす
る。ガラス層１２は２μｍ〜４０μｍの厚さに形成され
ることが好ましい。ガラス層１２の厚さが０．１μｍ未
満では基体の表面平滑性が十分でなく、結果として高い
反射率を得ることが困難になり、１００μｍを越えると
基体全体の熱伝導性を極端に低下させる不具合がある。
またＡｕ薄膜１３は反射鏡の用途に応じて０．２μｍ〜
４μｍの厚さに形成されることが好ましい。Ａｕ薄膜１
３は０．０１μｍ未満の厚さに作ることは至難であり、
厚さが１０μｍを越えると経済的でない。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の基体１１は図１に示すよ
うに板状の基板でも、図３に示すようにバルク状でもよ
い。また反射面は、図１及び図３に示すように凹面で
も、図示しないが、凸面でも平面でもよい。また本発明
のガラス層１２を構成するガラス成分は、例えばＰｂＯ
−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系にＡｌ2Ｏ3、アルカリ土類金属、
アルカリ金属等が添加された系である。このガラス層１
２は、熱膨張係数が基体の熱膨張係数に近いことが、ガ
ラス層形成時にクラック等の欠陥を生じないため、好ま
しい。例えば基体がＡｌ2Ｏ3からなる場合、ガラス層の
熱膨張係数はこの基体の熱膨張係数に近い６．８±１．
０×１０-6／℃であることが好ましく、またＡｌＮから
なる場合、ガラス層の熱膨張係数はこの基体の熱膨張係
数に近い４．４±１．０×１０-6／℃であることが好ま
しい。ガラス層１２は、上記ガラス粉末を溶剤と混合し
てガラスペーストとし、このガラスペーストを基体の表
面にスクリーン印刷、スプレーコーティング、ディップ
コーティング、スピンコーティング等の方法により塗布
して乾燥した後、焼成しガラスを軟化させることにより
形成される。
うに板状の基板でも、図３に示すようにバルク状でもよ
い。また反射面は、図１及び図３に示すように凹面で
も、図示しないが、凸面でも平面でもよい。また本発明
のガラス層１２を構成するガラス成分は、例えばＰｂＯ
−ＳｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系にＡｌ2Ｏ3、アルカリ土類金属、
アルカリ金属等が添加された系である。このガラス層１
２は、熱膨張係数が基体の熱膨張係数に近いことが、ガ
ラス層形成時にクラック等の欠陥を生じないため、好ま
しい。例えば基体がＡｌ2Ｏ3からなる場合、ガラス層の
熱膨張係数はこの基体の熱膨張係数に近い６．８±１．
０×１０-6／℃であることが好ましく、またＡｌＮから
なる場合、ガラス層の熱膨張係数はこの基体の熱膨張係
数に近い４．４±１．０×１０-6／℃であることが好ま
しい。ガラス層１２は、上記ガラス粉末を溶剤と混合し
てガラスペーストとし、このガラスペーストを基体の表
面にスクリーン印刷、スプレーコーティング、ディップ
コーティング、スピンコーティング等の方法により塗布
して乾燥した後、焼成しガラスを軟化させることにより
形成される。
【０００９】更に本発明のガラス層１２上に形成される
Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物を含むペーストを塗布
し焼成してなるＡｕ薄膜である。従来のＡｕペーストと
異なり、本発明のＡｕペーストはＡｕ又はその合金が粉
末の状態でなく、Ａｕ成分及び微量の他の金属成分が有
機成分と化合物を形成し、液状になっているため、１μ
ｍ以下の厚さの連続した薄膜も得られる特長がある。本
発明のガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３はＳｉ
Ｏ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表
されるアルカリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又は
Ｋである。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸
化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）から
なる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１
〜２０重量％含み、残部がＡｕにより構成される。この
液状のＡｕ有機化合物に、例えばα−テレピネオール、
エチルセルロース等の有機物を添加し、ペースト化す
る。この有機物はペーストに粘性を付与して塗工性を高
めるとともに、焼成後のバインダとしての機能を有す
る。Ａｕ以外の他の金属成分としてはＢ，Ｐｂ，Ｂｉ，
Ａｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等が挙げられ
る。Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物ペーストをガラス
層１２の表面にスクリーン印刷、スプレーコーティン
グ、ディップコーティング、スピンコーティング等の方
法により塗布して乾燥した後、焼成することにより形成
される。このＡｕ薄膜１３の上に更にＡｕめっきを施せ
ば、反射率特性がより向上し好ましい。
Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物を含むペーストを塗布
し焼成してなるＡｕ薄膜である。従来のＡｕペーストと
異なり、本発明のＡｕペーストはＡｕ又はその合金が粉
末の状態でなく、Ａｕ成分及び微量の他の金属成分が有
機成分と化合物を形成し、液状になっているため、１μ
ｍ以下の厚さの連続した薄膜も得られる特長がある。本
発明のガラス層１２上に形成されたＡｕ薄膜１３はＳｉ
Ｏ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表
されるアルカリ金属酸化物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又は
Ｋである。）及びＭ’Ｏで表されるアルカリ土類金属酸
化物（但し、Ｍ’はＭｇ，Ｃａ又はＢａである。）から
なる群より選ばれた１種又は２種以上の酸化物を０．１
〜２０重量％含み、残部がＡｕにより構成される。この
液状のＡｕ有機化合物に、例えばα−テレピネオール、
エチルセルロース等の有機物を添加し、ペースト化す
る。この有機物はペーストに粘性を付与して塗工性を高
めるとともに、焼成後のバインダとしての機能を有す
る。Ａｕ以外の他の金属成分としてはＢ，Ｐｂ，Ｂｉ，
Ａｌ，Ｌｉ，Ｎａ，Ｋ，Ｍｇ，Ｃａ，Ｂａ等が挙げられ
る。Ａｕ薄膜１３は、Ａｕ有機化合物ペーストをガラス
層１２の表面にスクリーン印刷、スプレーコーティン
グ、ディップコーティング、スピンコーティング等の方
法により塗布して乾燥した後、焼成することにより形成
される。このＡｕ薄膜１３の上に更にＡｕめっきを施せ
ば、反射率特性がより向上し好ましい。
【００１０】
【実施例】次に本発明の実施例を説明する。 ＜実施例１〜６＞図１及び図２に示すように、Ａｕ薄膜
付き反射鏡１０の基板１１は厚さが１０ｍｍであって、
この基板１１の凹面は２次曲面に形成された。基板１１
の材質は表１に示される。この基板１１の凹面上のガラ
ス層１２は、凹面全体に軟化点が７５０℃のＰｂＯ−Ｓ
ｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系ガラス粒子を含むペーストをスプレー
コーティング法により塗布し、このペーストを塗布した
基板を１５０℃で１０分間乾燥した後、大気中で１００
０℃で１時間焼成することにより約４μｍの厚さで形成
された。この基板１１のガラス層１２上に厚さ１μｍの
Ａｕ薄膜１３が形成した。このＡｕ薄膜１３は他の金属
成分としてＰｂとＢｉを含有する。即ち、Ａｕ薄膜１３
は、Ａｕ２７重量％とＰｂ０．１重量％とＢｉ０．２重
量％とＳｉ０．１重量％をそれぞれ含む有機化合物と、
残部がα−テレピネオール、エチルセルロース等の有機
物からなるＡｕ有機化合物ペーストをスプレーコーティ
ング法により塗布して、基板を１２０℃で乾燥した後、
大気中で７００℃で１０分間焼成することにより形成し
た。反射鏡１０の２次曲線の焦点近傍には定格電圧２０
０Ｖ、消費電力１０００Ｗのハロゲンヒータ１４を設置
した。
付き反射鏡１０の基板１１は厚さが１０ｍｍであって、
この基板１１の凹面は２次曲面に形成された。基板１１
の材質は表１に示される。この基板１１の凹面上のガラ
ス層１２は、凹面全体に軟化点が７５０℃のＰｂＯ−Ｓ
ｉＯ2−Ｂ2Ｏ3系ガラス粒子を含むペーストをスプレー
コーティング法により塗布し、このペーストを塗布した
基板を１５０℃で１０分間乾燥した後、大気中で１００
０℃で１時間焼成することにより約４μｍの厚さで形成
された。この基板１１のガラス層１２上に厚さ１μｍの
Ａｕ薄膜１３が形成した。このＡｕ薄膜１３は他の金属
成分としてＰｂとＢｉを含有する。即ち、Ａｕ薄膜１３
は、Ａｕ２７重量％とＰｂ０．１重量％とＢｉ０．２重
量％とＳｉ０．１重量％をそれぞれ含む有機化合物と、
残部がα−テレピネオール、エチルセルロース等の有機
物からなるＡｕ有機化合物ペーストをスプレーコーティ
ング法により塗布して、基板を１２０℃で乾燥した後、
大気中で７００℃で１０分間焼成することにより形成し
た。反射鏡１０の２次曲線の焦点近傍には定格電圧２０
０Ｖ、消費電力１０００Ｗのハロゲンヒータ１４を設置
した。
【００１１】＜比較例１〜６＞比較のため、ガラス層を
形成しない以外は実施例１〜６と同様にして比較例１〜
６の反射鏡を作製した。
形成しない以外は実施例１〜６と同様にして比較例１〜
６の反射鏡を作製した。
【００１２】＜比較試験と評価＞実施例１〜６及び比較
例１〜６の反射鏡について、それぞれ赤外線の反射率と
耐熱性と基板に対するＡｕ薄膜の密着性を比較試験し
た。その結果を表１に示す。反射率は基板上のＡｕ薄膜
に対して波長２．５μｍの赤外線を照射したときの赤外
線の全反射率を測定することにより求め、また耐熱性は
Ａｕ薄膜を形成した基板を大気中、５００℃で１００時
間、エージング処理した後のＡｕ薄膜の外観変化の有無
を目視により判断した。更に基板に対するＡｕ薄膜の密
着性は上述のエージング処理の後にＡｕ薄膜のピーリン
グ（引き剥がし）試験を行い、その剥離箇所又は破壊箇
所により判断した。
例１〜６の反射鏡について、それぞれ赤外線の反射率と
耐熱性と基板に対するＡｕ薄膜の密着性を比較試験し
た。その結果を表１に示す。反射率は基板上のＡｕ薄膜
に対して波長２．５μｍの赤外線を照射したときの赤外
線の全反射率を測定することにより求め、また耐熱性は
Ａｕ薄膜を形成した基板を大気中、５００℃で１００時
間、エージング処理した後のＡｕ薄膜の外観変化の有無
を目視により判断した。更に基板に対するＡｕ薄膜の密
着性は上述のエージング処理の後にＡｕ薄膜のピーリン
グ（引き剥がし）試験を行い、その剥離箇所又は破壊箇
所により判断した。
【００１３】
【表１】
【００１４】表１から明らかなように、ガラス層のない
比較例１〜６では反射率が５０％未満であったのに対し
て、ガラス層を有する実施例１〜６では９６％以上の高
い反射率を示した。またＡｌ2Ｏ3を除くセラミックスに
直接Ａｕ薄膜を形成した比較例２及び３では高熱処理で
微細な膨れが発生し、金属の基板を用いた比較例４〜６
では高熱処理でＡｕ薄膜が変色したのに対して、実施例
１〜６ではＡｕ薄膜に変化がなく、高い耐熱性を示すこ
とが判った。更にピーリング試験で比較例２〜６の反射
鏡でＡｕ薄膜が剥離したのに対して、実施例１〜６の反
射鏡ではＡｕ薄膜は剥離せずにその下層のガラス層又は
基板自体が内部で割れを生じた。
比較例１〜６では反射率が５０％未満であったのに対し
て、ガラス層を有する実施例１〜６では９６％以上の高
い反射率を示した。またＡｌ2Ｏ3を除くセラミックスに
直接Ａｕ薄膜を形成した比較例２及び３では高熱処理で
微細な膨れが発生し、金属の基板を用いた比較例４〜６
では高熱処理でＡｕ薄膜が変色したのに対して、実施例
１〜６ではＡｕ薄膜に変化がなく、高い耐熱性を示すこ
とが判った。更にピーリング試験で比較例２〜６の反射
鏡でＡｕ薄膜が剥離したのに対して、実施例１〜６の反
射鏡ではＡｕ薄膜は剥離せずにその下層のガラス層又は
基板自体が内部で割れを生じた。
【００１５】
【発明の効果】以上述べたように、本発明のＡｕ薄膜付
き反射鏡では、基体の表面が粗くても、ガラス層がこれ
を平滑化し、ガラス層上に形成されたＡｕ薄膜の表面を
歪みのない鏡面とする。基体上のガラス層上にＡｕ有機
化合物を含むペーストを塗布し焼成することによりＡｕ
薄膜が形成されているので、ガラス層の表面に高い密着
力でＡｕ薄膜を形成できる。また基体をセラミックスや
高融点の金属で構成することにより、高い耐熱性を有す
る。特に従来の反射鏡と比較して、反射率特性及び耐熱
性に優れた効果を奏する。
き反射鏡では、基体の表面が粗くても、ガラス層がこれ
を平滑化し、ガラス層上に形成されたＡｕ薄膜の表面を
歪みのない鏡面とする。基体上のガラス層上にＡｕ有機
化合物を含むペーストを塗布し焼成することによりＡｕ
薄膜が形成されているので、ガラス層の表面に高い密着
力でＡｕ薄膜を形成できる。また基体をセラミックスや
高融点の金属で構成することにより、高い耐熱性を有す
る。特に従来の反射鏡と比較して、反射率特性及び耐熱
性に優れた効果を奏する。
【図１】本発明のＡｕ薄膜付き反射鏡の断面図。
【図２】その斜視図。
【図３】本発明の別のＡｕ薄膜付き反射鏡の断面図。
１０ Ａｕ薄膜付き反射鏡 １１ 基板（基体） １２ ガラス層 １３ Ａｕ薄膜 １４ ハロゲンヒータ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 5/10 Ｇ０２Ｂ 5/10 Ｃ (72)発明者 中林 明 埼玉県大宮市北袋町１丁目297番地 三菱 マテリアル株式会社総合研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 基体(11)上にガラス層(12)が形成され、
前記ガラス層(12)上にＡｕ薄膜(13)が形成されたＡｕ薄
膜付き反射鏡であって、 前記Ａｕ薄膜(13)がＡｕ有機化合物を含むペーストを前
記ガラス層(12)上に塗布し焼成することにより形成さ
れ、 かつ前記Ａｕ薄膜(13)がＳｉＯ2、Ｂ2Ｏ3、ＰｂＯ、Ｂ
ｉ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｍ2Ｏで表されるアルカリ金属酸化
物（但し、ＭはＬｉ，Ｎａ又はＫである。）及びＭ’Ｏ
で表されるアルカリ土類金属酸化物（但し、Ｍ’はＭ
ｇ，Ｃａ又はＢａである。）からなる群より選ばれた１
種又は２種以上の酸化物を０．１〜２０重量％含み、残
部がＡｕにより構成されたことを特徴とするＡｕ薄膜付
き反射鏡。 - 【請求項２】 基体(11)がＡｌ2Ｏ3、ＡｌＮ又はＳｉＣ
のセラミックスからなる請求項１記載のＡｕ薄膜付き反
射鏡。 - 【請求項３】 基体(11)がＷ、Ｍｏ又はＣｕ或いはその
合金からなる請求項１記載のＡｕ薄膜付き反射鏡。 - 【請求項４】 Ａｕ薄膜(13)に含まれるＡｕ又はその合
金がペースト中に１５〜７５重量％含まれる請求項１な
いし３記載のＡｕ薄膜付き反射鏡。 - 【請求項５】 ガラス層(12)が０．１μｍ〜１００μｍ
の厚さに形成され、Ａｕ薄膜(13)が０．０１μｍ〜１０
μｍの厚さに形成された請求項１ないし４いずれか記載
のＡｕ薄膜付き反射鏡。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8229156A JPH09178918A (ja) | 1995-10-25 | 1996-08-30 | Ａｕ薄膜付き反射鏡 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-277296 | 1995-10-25 | ||
| JP27729695 | 1995-10-25 | ||
| JP8229156A JPH09178918A (ja) | 1995-10-25 | 1996-08-30 | Ａｕ薄膜付き反射鏡 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09178918A true JPH09178918A (ja) | 1997-07-11 |
Family
ID=26528660
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8229156A Withdrawn JPH09178918A (ja) | 1995-10-25 | 1996-08-30 | Ａｕ薄膜付き反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09178918A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007145234A1 (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-21 | Teitokusha Co., Ltd. | 反射体及びその製造方法並びにこれを用いたヒーターユニット及び炉 |
-
1996
- 1996-08-30 JP JP8229156A patent/JPH09178918A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007145234A1 (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-21 | Teitokusha Co., Ltd. | 反射体及びその製造方法並びにこれを用いたヒーターユニット及び炉 |
| JPWO2007145234A1 (ja) * | 2006-06-13 | 2009-11-05 | 貞徳舎株式会社 | 反射体及びその製造方法並びにこれを用いたヒーターユニット及び炉 |
| JP4681051B2 (ja) * | 2006-06-13 | 2011-05-11 | 貞徳舎株式会社 | 反射体及びその製造方法並びにこれを用いたヒーターユニット及び炉 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031104 |