JPH09175817A - ゾル・ゲル組成物 - Google Patents
ゾル・ゲル組成物Info
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- JPH09175817A JPH09175817A JP7341293A JP34129395A JPH09175817A JP H09175817 A JPH09175817 A JP H09175817A JP 7341293 A JP7341293 A JP 7341293A JP 34129395 A JP34129395 A JP 34129395A JP H09175817 A JPH09175817 A JP H09175817A
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- Japan
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- ion
- quaternary ammonium
- composition
- clay mineral
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機溶媒及び／又はポリシロキサン類を含
む、均一な分散性、高い粘性及び長期安定性を同時に満
足させるゾル・ゲル組成物を提供する。 【解決手段】 膨潤性層状ケイ酸塩の層間に、ポリオキ
シエチレン基を有する第四級アンモニウムイオン及び／
又はポリオキシプロピレン基を有する第四級アンモニウ
ムイオンが導入された有機変性粘土鉱物と、アニオン界
面活性剤を含有するゾル・ゲル組成物。
む、均一な分散性、高い粘性及び長期安定性を同時に満
足させるゾル・ゲル組成物を提供する。 【解決手段】 膨潤性層状ケイ酸塩の層間に、ポリオキ
シエチレン基を有する第四級アンモニウムイオン及び／
又はポリオキシプロピレン基を有する第四級アンモニウ
ムイオンが導入された有機変性粘土鉱物と、アニオン界
面活性剤を含有するゾル・ゲル組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、有機変性粘土鉱物
とアニオン界面活性剤を含有するゾル・ゲル組成物、及
びそれを含有する化粧料及び塗料組成物に関する。
とアニオン界面活性剤を含有するゾル・ゲル組成物、及
びそれを含有する化粧料及び塗料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】層状ケイ酸塩鉱物は、粘土を構成する代
表的な鉱物であって、２：１型層状ケイ酸塩鉱物にあっ
ては、２層のシリカ四面体層の間にマグネシウム八面体
層又はアルミニウム八面体層が挟まれたサンドイッチ型
の３層構造を有し、これが、数〜数１０層積層した構造
をしている。
表的な鉱物であって、２：１型層状ケイ酸塩鉱物にあっ
ては、２層のシリカ四面体層の間にマグネシウム八面体
層又はアルミニウム八面体層が挟まれたサンドイッチ型
の３層構造を有し、これが、数〜数１０層積層した構造
をしている。
【０００３】膨潤性層状ケイ酸塩のケイ酸塩層は負の電
荷を有しているが、その電荷は層間に存在するアルカリ
金属及び／又はアルカリ土類金属カチオンによって中和
されているため、全体として電荷がバランスしている。
これらの膨潤性層状ケイ酸塩であるスメクタイト系粘土
鉱物や膨潤性雲母系鉱物は、陽イオン交換能を有する微
粒子で、層間が広がり易く、水中で分散してチクソトロ
ピー性を有するゾルを形成し、濃度を高くするとゲルを
形成する性質を有している。
荷を有しているが、その電荷は層間に存在するアルカリ
金属及び／又はアルカリ土類金属カチオンによって中和
されているため、全体として電荷がバランスしている。
これらの膨潤性層状ケイ酸塩であるスメクタイト系粘土
鉱物や膨潤性雲母系鉱物は、陽イオン交換能を有する微
粒子で、層間が広がり易く、水中で分散してチクソトロ
ピー性を有するゾルを形成し、濃度を高くするとゲルを
形成する性質を有している。
【０００４】膨潤性層状ケイ酸塩は、種々のカチオン性
の有機化合物をインターカレートさせることにより有機
変性粘土鉱物とすることができ、膨潤性層状ケイ酸塩の
層間に、ポリオキシエチレン基を有する第四級アンモニ
ウムイオン及び／又はポリオキシプロピレン基を有する
第四級アンモニウムイオンが導入された有機変性粘土鉱
物は、特開平６−２４７３２号公報、特開平６−２８７
０１４号公報、特開平７−１８７６５６号公報及び特開
平７−１８７６５７号公報に開示されている。
の有機化合物をインターカレートさせることにより有機
変性粘土鉱物とすることができ、膨潤性層状ケイ酸塩の
層間に、ポリオキシエチレン基を有する第四級アンモニ
ウムイオン及び／又はポリオキシプロピレン基を有する
第四級アンモニウムイオンが導入された有機変性粘土鉱
物は、特開平６−２４７３２号公報、特開平６−２８７
０１４号公報、特開平７−１８７６５６号公報及び特開
平７−１８７６５７号公報に開示されている。
【０００５】このうち、合成スメクタイトの層間にポリ
オキシエチレン基を有する第四級アンモニウムイオンが
導入された有機変性粘土鉱物は、高極性有機溶媒に分散
し、増粘するが、長時間放置しておくと２層に分離する
といった現象が生ずることがあった。
オキシエチレン基を有する第四級アンモニウムイオンが
導入された有機変性粘土鉱物は、高極性有機溶媒に分散
し、増粘するが、長時間放置しておくと２層に分離する
といった現象が生ずることがあった。
【０００６】また、合成スメクタイトの層間にポリオキ
シプロピレン基を有する第四級アンモニウムイオンを導
入した有機変性粘土鉱物は、広範囲の有機溶媒やポリシ
ロキサン類に分散するが、高い粘性を有するものではな
かった。
シプロピレン基を有する第四級アンモニウムイオンを導
入した有機変性粘土鉱物は、広範囲の有機溶媒やポリシ
ロキサン類に分散するが、高い粘性を有するものではな
かった。
【０００７】また、合成スメクタイトの層間にポリオキ
シエチレン基を有する第四級アンモニウムイオンとポリ
オキシプロピレン基を有する第四級アンモニウムイオン
を混合して導入した有機変性粘土鉱物は、上記２つの性
質を兼備えたものであるが、ポリオキシエチレン基を有
する第四級アンモニウムイオンが多く導入された有機変
性粘土鉱物は分散性が悪く、またポリオキシプロピレン
基を有する第四級アンモニウムイオンが多く導入された
有機変性粘土鉱物は粘性が低い、という問題が残り、分
散性と粘性のどちらも優れているものは得られなかっ
た。
シエチレン基を有する第四級アンモニウムイオンとポリ
オキシプロピレン基を有する第四級アンモニウムイオン
を混合して導入した有機変性粘土鉱物は、上記２つの性
質を兼備えたものであるが、ポリオキシエチレン基を有
する第四級アンモニウムイオンが多く導入された有機変
性粘土鉱物は分散性が悪く、またポリオキシプロピレン
基を有する第四級アンモニウムイオンが多く導入された
有機変性粘土鉱物は粘性が低い、という問題が残り、分
散性と粘性のどちらも優れているものは得られなかっ
た。
【０００８】また、上記有機変性粘土鉱物をアルコール
類等の有機溶媒の増粘剤や乳化剤として化粧料に使用し
た場合、安定性が不十分で、沈殿が生じたり、粘度変化
が生じてしまうといった問題があった。
類等の有機溶媒の増粘剤や乳化剤として化粧料に使用し
た場合、安定性が不十分で、沈殿が生じたり、粘度変化
が生じてしまうといった問題があった。
【０００９】さらに、上記有機変性粘土鉱物を有機溶媒
の増粘剤として塗料に使用した場合にも、はけ塗り、噴
霧作業を行うと、塗装面に凝集物が付着するといった問
題があった。
の増粘剤として塗料に使用した場合にも、はけ塗り、噴
霧作業を行うと、塗装面に凝集物が付着するといった問
題があった。
【００１０】特公平６−９８２９８号公報には、有機変
性粘土鉱物と、アニオン界面活性剤としてポリオキシエ
チレンラウリル硫酸ナトリウムと、ポリオキシプロピレ
ン基を有するカチオン界面活性剤を含有するゲル組成物
が開示されている。しかし、該ゲル組成物に用いられて
いる有機変性粘土鉱物は、例えばベンジルオクタデシル
ジメチルアンモニウム変性モンモリロナイトであり、本
発明に使用しているポリオキシエチレン基を有する第四
級アンモニウムイオンやポリオキシプロピレン基を有す
る第四級アンモニウムイオンが導入された有機変性粘土
鉱物ではない。このため、溶剤としてエタノール等の高
極性溶媒を用いた場合には、有機変性粘土鉱物が溶媒に
うまく分散せず、２層に分離し、沈殿物を生ずるため、
化粧料用ゲル化剤として満足しうるものではなかった。
性粘土鉱物と、アニオン界面活性剤としてポリオキシエ
チレンラウリル硫酸ナトリウムと、ポリオキシプロピレ
ン基を有するカチオン界面活性剤を含有するゲル組成物
が開示されている。しかし、該ゲル組成物に用いられて
いる有機変性粘土鉱物は、例えばベンジルオクタデシル
ジメチルアンモニウム変性モンモリロナイトであり、本
発明に使用しているポリオキシエチレン基を有する第四
級アンモニウムイオンやポリオキシプロピレン基を有す
る第四級アンモニウムイオンが導入された有機変性粘土
鉱物ではない。このため、溶剤としてエタノール等の高
極性溶媒を用いた場合には、有機変性粘土鉱物が溶媒に
うまく分散せず、２層に分離し、沈殿物を生ずるため、
化粧料用ゲル化剤として満足しうるものではなかった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、有機溶媒及
び／又はポリシロキサン類中で、均一な分散性、高い粘
性及び長期安定性の３つの条件を同時に満足させる組成
物、特にゾル・ゲル組成物を提供する。また、上記ゾル
・ゲル組成物を含有し、アルコール類や酢酸エチル、酢
酸ブチル等の高極性有機溶媒に対してチクソトロピー性
を有し、しかも経時安定性の良好な化粧料を提供する。
また、上記ゾル・ゲル組成物を含有し、沈殿物や凝集物
を生成しない、経時安定性の良好な塗料組成物を提供す
る。
び／又はポリシロキサン類中で、均一な分散性、高い粘
性及び長期安定性の３つの条件を同時に満足させる組成
物、特にゾル・ゲル組成物を提供する。また、上記ゾル
・ゲル組成物を含有し、アルコール類や酢酸エチル、酢
酸ブチル等の高極性有機溶媒に対してチクソトロピー性
を有し、しかも経時安定性の良好な化粧料を提供する。
また、上記ゾル・ゲル組成物を含有し、沈殿物や凝集物
を生成しない、経時安定性の良好な塗料組成物を提供す
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、膨潤性層
状ケイ酸塩の層間にポリオキシエチレン基を有する第四
級アンモニウムイオン及び／又はポリオキシプロピレン
基を有する第四級アンモニウムイオンが導入された有機
変性粘土鉱物と、アニオン界面活性剤を含有する組成物
は、有機溶媒やポリシロキサン類を含有することにより
均一で安定なゾルやゲルを形成し、かつ該組成物を少量
添加するだけで、高い粘性が安定して得られることを見
いだした。
状ケイ酸塩の層間にポリオキシエチレン基を有する第四
級アンモニウムイオン及び／又はポリオキシプロピレン
基を有する第四級アンモニウムイオンが導入された有機
変性粘土鉱物と、アニオン界面活性剤を含有する組成物
は、有機溶媒やポリシロキサン類を含有することにより
均一で安定なゾルやゲルを形成し、かつ該組成物を少量
添加するだけで、高い粘性が安定して得られることを見
いだした。
【００１３】すなわち本発明は、膨潤性層状ケイ酸塩の
層間に、ポリオキシエチレン基を有する第四級アンモニ
ウムイオン及び／又はポリオキシプロピレン基を有する
第四級アンモニウムイオンが導入された有機変性粘土鉱
物と、アニオン界面活性剤を含有する組成物に関する。
層間に、ポリオキシエチレン基を有する第四級アンモニ
ウムイオン及び／又はポリオキシプロピレン基を有する
第四級アンモニウムイオンが導入された有機変性粘土鉱
物と、アニオン界面活性剤を含有する組成物に関する。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明で原料として使用する膨潤
性層状ケイ酸塩は、陽イオン交換能を有し、さらに層間
に水を取り込んで膨潤する性質を示す層状ケイ酸塩で、
スメクタイト系粘土鉱物や膨潤性雲母系鉱物等を挙げる
ことができる。スメクタイト系粘土鉱物としては、例え
ばヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、バイデ
ライト、モンモリロナイト、ノントロナイト、ベントナ
イト等の天然品又は化学的合成品、又はこれらの置換
体、誘導体、あるいはこれらの混合物を挙げることがで
きる。また膨潤性雲母系鉱物としては、Ｌｉ型フッ素テ
ニオライト、Ｎａ型フッ素テニオライト、Ｎａ型四ケイ
素雲母、Ｌｉ型四ケイ素雲母等の天然品又は化学的合成
品で、層間にＬｉイオンやＮａイオンを有する膨潤性雲
母、又はこれらの置換体、誘導体あるいはこれらの混合
物が挙げられ、バーミキュライト、フッ素バーミキュラ
イト等も用いることができる。
性層状ケイ酸塩は、陽イオン交換能を有し、さらに層間
に水を取り込んで膨潤する性質を示す層状ケイ酸塩で、
スメクタイト系粘土鉱物や膨潤性雲母系鉱物等を挙げる
ことができる。スメクタイト系粘土鉱物としては、例え
ばヘクトライト、サポナイト、スチブンサイト、バイデ
ライト、モンモリロナイト、ノントロナイト、ベントナ
イト等の天然品又は化学的合成品、又はこれらの置換
体、誘導体、あるいはこれらの混合物を挙げることがで
きる。また膨潤性雲母系鉱物としては、Ｌｉ型フッ素テ
ニオライト、Ｎａ型フッ素テニオライト、Ｎａ型四ケイ
素雲母、Ｌｉ型四ケイ素雲母等の天然品又は化学的合成
品で、層間にＬｉイオンやＮａイオンを有する膨潤性雲
母、又はこれらの置換体、誘導体あるいはこれらの混合
物が挙げられ、バーミキュライト、フッ素バーミキュラ
イト等も用いることができる。
【００１５】合成スメクタイトとしては、ルーセンタイ
ト（コープケミカル（株）製）、ラポナイト（英国ラポ
ート社製）、サーマビス（独国ヘンケル社製）、スメク
トン（クニミネ工業（株）製）等が挙げられる。
ト（コープケミカル（株）製）、ラポナイト（英国ラポ
ート社製）、サーマビス（独国ヘンケル社製）、スメク
トン（クニミネ工業（株）製）等が挙げられる。
【００１６】本発明で使用する合成スメクタイト系粘土
鉱物は、特公昭６１−１２８４８号公報に記載されてい
る製法、あるいはそれと類似の製法により製造される、
すなわち、ケイ酸とマグネシウム塩の均質混合液にアル
カリ溶液を反応させてケイ素・マグネシウム複合体を合
成し、副生した電解質を除去した後、該複合体にリチウ
ムイオンと必要に応じてナトリウムイオン及び／又はフ
ッ素イオンを添加して、１００℃ないし３５０℃で水熱
反応させ、次いで乾燥して得られ、ヘクトライト型粘土
鉱物に類似した構造を有する一般式（Ｉ）の合成スメク
タイトが好ましい。
鉱物は、特公昭６１−１２８４８号公報に記載されてい
る製法、あるいはそれと類似の製法により製造される、
すなわち、ケイ酸とマグネシウム塩の均質混合液にアル
カリ溶液を反応させてケイ素・マグネシウム複合体を合
成し、副生した電解質を除去した後、該複合体にリチウ
ムイオンと必要に応じてナトリウムイオン及び／又はフ
ッ素イオンを添加して、１００℃ないし３５０℃で水熱
反応させ、次いで乾燥して得られ、ヘクトライト型粘土
鉱物に類似した構造を有する一般式（Ｉ）の合成スメク
タイトが好ましい。
【００１７】 Ｘc Ｍｇd Ｌｉe Ｓｉf Ｏg （ＯＨ及び／又はＦ)h （Ｉ） 〔式中、Ｘは層間イオンで、Ｌｉイオン及び／又はＮａ
イオンを表し、ｃは０．１〜１．０であり、ｄは２．４
〜２．９であり、ｅは０．１〜０．６であり、ｆは３．
５〜４．５であり、ｇは９．５〜１０．５であり、ｈは
１．５〜２．５である〕
イオンを表し、ｃは０．１〜１．０であり、ｄは２．４
〜２．９であり、ｅは０．１〜０．６であり、ｆは３．
５〜４．５であり、ｇは９．５〜１０．５であり、ｈは
１．５〜２．５である〕
【００１８】本発明で使用する膨潤性雲母系鉱物は、例
えば特開平２−１４９４１５号公報に記載された方法に
より、ケイフッ化ナトリウムもしくはケイフッ化リチウ
ムとタルクの混合物、又はケイフッ化ナトリウムもしく
はケイフッ化リチウムとフッ化ナトリウムもしくはフッ
化リチウムとタルクの混合物を、７００〜１，０００℃
で加熱処理することにより得られ、次式（II）で示され
る合成膨潤性フッ素雲母が好ましい。
えば特開平２−１４９４１５号公報に記載された方法に
より、ケイフッ化ナトリウムもしくはケイフッ化リチウ
ムとタルクの混合物、又はケイフッ化ナトリウムもしく
はケイフッ化リチウムとフッ化ナトリウムもしくはフッ
化リチウムとタルクの混合物を、７００〜１，０００℃
で加熱処理することにより得られ、次式（II）で示され
る合成膨潤性フッ素雲母が好ましい。
【００１９】 αＬＦ・γ（ａＭｇＦ2 ・ｂＭｇＯ）・σＳｉＯ2 （II） 〔式中、Ｌは層間イオンで、Ｎａイオン又はＬｉイオン
を表し、αは０．１〜２であり、γは２〜３．５であ
り、σは３〜４であり、ａ及びｂはそれぞれ０〜１であ
り、ａ＋ｂ＝１である〕
を表し、αは０．１〜２であり、γは２〜３．５であ
り、σは３〜４であり、ａ及びｂはそれぞれ０〜１であ
り、ａ＋ｂ＝１である〕
【００２０】膨潤性層状ケイ酸塩の陽イオン交換容量
は、粘土１００ｇ当り１０ミリ当量以上、好ましくは６
０ミリ当量以上であり、一般式（Ｉ）の合成スメクタイ
トの場合は、８５〜１３０ミリ当量であり、交換容量が
大きいほどよい。天然の膨潤性層状ケイ酸塩は、５０％
以下の非粘土不純物を含有していてもよいが、非粘土不
純物の量は１０％以下が望ましい。
は、粘土１００ｇ当り１０ミリ当量以上、好ましくは６
０ミリ当量以上であり、一般式（Ｉ）の合成スメクタイ
トの場合は、８５〜１３０ミリ当量であり、交換容量が
大きいほどよい。天然の膨潤性層状ケイ酸塩は、５０％
以下の非粘土不純物を含有していてもよいが、非粘土不
純物の量は１０％以下が望ましい。
【００２１】ポリオキシエチレン基を有する第四級アン
モニウムイオンとしては、一般式（III)で示されるもの
が好ましく、ポリオキシプロピレン基を有する第四級ア
ンモニウムイオンとしては一般式（IV）で示されるもの
が好ましい。
モニウムイオンとしては、一般式（III)で示されるもの
が好ましく、ポリオキシプロピレン基を有する第四級ア
ンモニウムイオンとしては一般式（IV）で示されるもの
が好ましい。
【００２２】
【化２】
【００２３】〔式（III)において、Ｒ1 は水素原子、炭
素数１〜３０のアルキル基又はベンジル基を表し、Ｒ2
及びＲ3 は（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n−Ｈ基又は炭素数１〜３
０のアルキル基を表し、Ｒ4 は（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n−Ｈ
基を表し、ｎは１〜５０であり；式（IV）において、Ｒ
5 は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又はベンジ
ル基を表し、Ｒ6 及びＲ7 は（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3)Ｏ)m
−Ｈ基、（ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基又は炭素数１
〜３０のアルキル基を表し、Ｒ8 は（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ
3)Ｏ)m−Ｈ基又は（ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基を表
し、ｍは１〜５０である。
素数１〜３０のアルキル基又はベンジル基を表し、Ｒ2
及びＲ3 は（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n−Ｈ基又は炭素数１〜３
０のアルキル基を表し、Ｒ4 は（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n−Ｈ
基を表し、ｎは１〜５０であり；式（IV）において、Ｒ
5 は水素原子、炭素数１〜３０のアルキル基又はベンジ
ル基を表し、Ｒ6 及びＲ7 は（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3)Ｏ)m
−Ｈ基、（ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基又は炭素数１
〜３０のアルキル基を表し、Ｒ8 は（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ
3)Ｏ)m−Ｈ基又は（ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基を表
し、ｍは１〜５０である。
【００２４】一般式（III)で示される第四級アンモニウ
ムイオンにおけるアルキル基は、炭素数１〜３０であ
り、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、オクタデシル等が挙げられ
るが、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 のうち少なくとも１つのアル
キル基は炭素数１０〜２０であることが好ましい。
ムイオンにおけるアルキル基は、炭素数１〜３０であ
り、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、オクタデシル等が挙げられ
るが、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 のうち少なくとも１つのアル
キル基は炭素数１０〜２０であることが好ましい。
【００２５】ポリオキシエチレン基（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n
−Ｈのｎは、好ましくは２〜２０であり、その付加モル
数は多い方が好ましい。かつ複数のポリオキシエチレン
基が置換している場合、それらのポリオキシエチレン単
位の合計は２〜５０であるが、６以上、好ましくは１０
以上、特に好ましくは１５以上である。
−Ｈのｎは、好ましくは２〜２０であり、その付加モル
数は多い方が好ましい。かつ複数のポリオキシエチレン
基が置換している場合、それらのポリオキシエチレン単
位の合計は２〜５０であるが、６以上、好ましくは１０
以上、特に好ましくは１５以上である。
【００２６】一般式（III)で示される第四級アンモニウ
ムイオンを導入するには、該イオンを含む第四級アンモ
ニウム塩が用いられるが、そのような塩としては、例え
ばＣｌ- 、Ｂｒ- 、ＮＯ3 -、ＯＨ- 、ＣＨ3 ＣＯＯ- 等
の陰イオンとの塩を挙げることができる。
ムイオンを導入するには、該イオンを含む第四級アンモ
ニウム塩が用いられるが、そのような塩としては、例え
ばＣｌ- 、Ｂｒ- 、ＮＯ3 -、ＯＨ- 、ＣＨ3 ＣＯＯ- 等
の陰イオンとの塩を挙げることができる。
【００２７】一般式（III)で示される第四級アンモニウ
ムイオンを有する塩の具体例としては、 ポリオキシエチレン・トリアルキルアンモニウムクロリ
ド ポリオキシエチレン・トリアルキルアンモニウムブロミ
ド ポリオキシエチレン・ジアルキルアンモニウムクロリド ポリオキシエチレン・ジアルキルアンモニウムアセテー
ト ポリオキシエチレン・ベンジル・ジアルキルアンモニウ
ムクロリド ポリオキシエチレン・ベンジル・ジアルキルアンモニウ
ムブロミド ジ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムクロ
リド ジ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムアセ
テート ジ（ポリオキシエチレン）・ベンジル・アルキルアンモ
ニウムクロリド ジ（ポリオキシエチレン）・ベンジル・アルキルアンモ
ニウムアセテート ジ（ポリオキシエチレン）・ジアルキルアンモニウムク
ロリド ジ（ポリオキシエチレン）・ジアルキルアンモニウムブ
ロミド トリ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムク
ロリド トリ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムブ
ロミド トリ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムア
セテート 等を挙げることができる。
ムイオンを有する塩の具体例としては、 ポリオキシエチレン・トリアルキルアンモニウムクロリ
ド ポリオキシエチレン・トリアルキルアンモニウムブロミ
ド ポリオキシエチレン・ジアルキルアンモニウムクロリド ポリオキシエチレン・ジアルキルアンモニウムアセテー
ト ポリオキシエチレン・ベンジル・ジアルキルアンモニウ
ムクロリド ポリオキシエチレン・ベンジル・ジアルキルアンモニウ
ムブロミド ジ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムクロ
リド ジ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムアセ
テート ジ（ポリオキシエチレン）・ベンジル・アルキルアンモ
ニウムクロリド ジ（ポリオキシエチレン）・ベンジル・アルキルアンモ
ニウムアセテート ジ（ポリオキシエチレン）・ジアルキルアンモニウムク
ロリド ジ（ポリオキシエチレン）・ジアルキルアンモニウムブ
ロミド トリ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムク
ロリド トリ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムブ
ロミド トリ（ポリオキシエチレン）・アルキルアンモニウムア
セテート 等を挙げることができる。
【００２８】一般式（IV）で示される第四級アンモニウ
ムイオンにおけるアルキル基は、炭素数１〜３０であ
り、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、オクタデシル等が挙げられ
る。
ムイオンにおけるアルキル基は、炭素数１〜３０であ
り、例えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノ
ニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テ
トラデシル、ペンタデシル、オクタデシル等が挙げられ
る。
【００２９】ポリオキシプロピレン基〔（ＣＨ2 ＣＨ
（ＣＨ3)Ｏ)m−Ｈ又は（ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ〕
のｍは、１〜５０であり、好ましくは５〜５０であり、
その付加モル数は多いほど、有機溶媒やポリシロキサン
類に対する分散性はよくなるが、過剰になりすぎると、
生成物が粘着性を帯びるようになる。溶媒に対する分散
性に重点をおけば、ｍの数は２０〜５０がより好まし
い。ｍの数が５〜２０である場合には、生成物が非粘着
性で粉砕性が優れている。
（ＣＨ3)Ｏ)m−Ｈ又は（ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ〕
のｍは、１〜５０であり、好ましくは５〜５０であり、
その付加モル数は多いほど、有機溶媒やポリシロキサン
類に対する分散性はよくなるが、過剰になりすぎると、
生成物が粘着性を帯びるようになる。溶媒に対する分散
性に重点をおけば、ｍの数は２０〜５０がより好まし
い。ｍの数が５〜２０である場合には、生成物が非粘着
性で粉砕性が優れている。
【００３０】一般式（IV）の第四級アンモニウムイオン
において、Ｒ5 で好ましいものはメチル基又はベンジル
基である。Ｒ6 で好ましいものは炭素数１〜１２のアル
キル基であり、特に好ましいものは炭素数１〜４のアル
キル基であり、最も好ましいものはエチル基である。Ｒ
7 で好ましいものは炭素数１〜４のアルキル基であり、
特に好ましいものはエチル基である。Ｒ8 で好ましいも
のは（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3)Ｏ)m−Ｈ基又は（ＣＨ2 ＣＨ
2 ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基であり、ｍは５〜５０であるものが
好ましい。
において、Ｒ5 で好ましいものはメチル基又はベンジル
基である。Ｒ6 で好ましいものは炭素数１〜１２のアル
キル基であり、特に好ましいものは炭素数１〜４のアル
キル基であり、最も好ましいものはエチル基である。Ｒ
7 で好ましいものは炭素数１〜４のアルキル基であり、
特に好ましいものはエチル基である。Ｒ8 で好ましいも
のは（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3)Ｏ)m−Ｈ基又は（ＣＨ2 ＣＨ
2 ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基であり、ｍは５〜５０であるものが
好ましい。
【００３１】一般式（III)で示される第四級アンモニウ
ムイオンを導入するには、該イオンを含む第四級アンモ
ニウム塩が用いられるが、そのような塩としては、例え
ばＣｌ- 、Ｂｒ- 、ＮＯ3 -、ＯＨ- 、ＣＨ3 ＣＯＯ- 等
の陰イオンとの塩を挙げることができる。
ムイオンを導入するには、該イオンを含む第四級アンモ
ニウム塩が用いられるが、そのような塩としては、例え
ばＣｌ- 、Ｂｒ- 、ＮＯ3 -、ＯＨ- 、ＣＨ3 ＣＯＯ- 等
の陰イオンとの塩を挙げることができる。
【００３２】一般式（IV）で示される第四級アンモニウ
ムイオンを有する塩の具体例としては、 ポリオキシプロピレン・トリアルキルアンモニウムクロ
リド ポリオキシプロピレン・トリアルキルアンモニウムブロ
ミド ジ（ポリオキシプロピレン）・ジアルキルアンモニウム
クロリド ジ（ポリオキシプロピレン）・ジアルキルアンモニウム
ブロミド トリ（ポリオキシプロピレン）・アルキルアンモニウム
クロリド トリ（ポリオキシプロピレン）・アルキルアンモニウム
ブロミド 等を挙げることができる。
ムイオンを有する塩の具体例としては、 ポリオキシプロピレン・トリアルキルアンモニウムクロ
リド ポリオキシプロピレン・トリアルキルアンモニウムブロ
ミド ジ（ポリオキシプロピレン）・ジアルキルアンモニウム
クロリド ジ（ポリオキシプロピレン）・ジアルキルアンモニウム
ブロミド トリ（ポリオキシプロピレン）・アルキルアンモニウム
クロリド トリ（ポリオキシプロピレン）・アルキルアンモニウム
ブロミド 等を挙げることができる。
【００３３】本発明で使用するアニオン界面活性剤とし
ては、硫酸エステル塩類、リン酸塩類、カルボン酸塩
類、スルホン酸塩類等が挙げられる。好ましいアニオン
界面活性剤は、ポリオキシエチレン基を有するアニオン
界面活性剤であり、特に好ましくは、次式（Ｖ）のアニ
オン界面活性剤である。
ては、硫酸エステル塩類、リン酸塩類、カルボン酸塩
類、スルホン酸塩類等が挙げられる。好ましいアニオン
界面活性剤は、ポリオキシエチレン基を有するアニオン
界面活性剤であり、特に好ましくは、次式（Ｖ）のアニ
オン界面活性剤である。
【００３４】 ＲＯ−（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n−Ｙ- Ｍ+ （Ｖ） 〔式中、Ｒはアルキル基又はアルキルアリール基を表
し、Ｙ- は硫酸エステルイオン、リン酸イオン、カルボ
ン酸イオンのような陰イオンを表し、Ｍ+ はアルカリ金
属イオンのような陽イオンを表し、ｎは２〜１００を表
す〕
し、Ｙ- は硫酸エステルイオン、リン酸イオン、カルボ
ン酸イオンのような陰イオンを表し、Ｍ+ はアルカリ金
属イオンのような陽イオンを表し、ｎは２〜１００を表
す〕
【００３５】例えば、下記のアニオン界面活性剤が挙げ
られる。 ・ライオン（株）製の次のアルキルフェニル・ポリオキ
シエチレンエーテル・硫酸エステルナトリウム塩（商品
名：サンノール） ＮＰ２０３０〔Ｒ：Ｃ9 Ｈ19−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ： ９〕 ＮＰ６１３０〔Ｒ：Ｃ9 Ｈ19−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ：５０〕 ＯＰ３３３０〔Ｒ：Ｃ8 Ｈ17−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ：２２〕 ＤＰ２６３０〔Ｒ：Ｃ10Ｈ21−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ：１５〕 ・日光ケミカル（株）製のカルボキシル化ＰＯＥトリデ
シルエーテルナトリウム塩 ＥＣＴ−３ＮＥＸ〔Ｒ：Ｃ10Ｈ21 Ｙ：ＣＨ2 ＣＯＯ
Ｍ：Ｎａ ｎ：３〕 ・日光ケミカル（株）製のＰＯＥラウリルエーテルリン
酸ナトリウム塩 ＤＬＰ−１０〔Ｒ：Ｃ12Ｈ25 Ｙ：ＰＯ4 Ｍ：Ｎａ
ｎ：１０〕
られる。 ・ライオン（株）製の次のアルキルフェニル・ポリオキ
シエチレンエーテル・硫酸エステルナトリウム塩（商品
名：サンノール） ＮＰ２０３０〔Ｒ：Ｃ9 Ｈ19−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ： ９〕 ＮＰ６１３０〔Ｒ：Ｃ9 Ｈ19−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ：５０〕 ＯＰ３３３０〔Ｒ：Ｃ8 Ｈ17−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ：２２〕 ＤＰ２６３０〔Ｒ：Ｃ10Ｈ21−ｐｈ Ｙ：ＳＯ3 Ｍ：
Ｎａ ｎ：１５〕 ・日光ケミカル（株）製のカルボキシル化ＰＯＥトリデ
シルエーテルナトリウム塩 ＥＣＴ−３ＮＥＸ〔Ｒ：Ｃ10Ｈ21 Ｙ：ＣＨ2 ＣＯＯ
Ｍ：Ｎａ ｎ：３〕 ・日光ケミカル（株）製のＰＯＥラウリルエーテルリン
酸ナトリウム塩 ＤＬＰ−１０〔Ｒ：Ｃ12Ｈ25 Ｙ：ＰＯ4 Ｍ：Ｎａ
ｎ：１０〕
【００３６】具体的には、以下の方法で製造することが
できるが、本発明は以下の製法に限定されるものではな
い。有機変性粘土鉱物は、特開平６−２４７３２号公報
又は特開平６−２８７０１４号公報に記載されている製
法、あるいはそれと類似した製法により製造される。す
なわち、膨潤性層状ケイ酸塩の水分散液に、ポリオキシ
エチレン基を有する第四級アンモニウム塩溶液又はポリ
オキシプロピレン基を有する第四級アンモニウム塩溶
液、あるいはこれらの混合溶液を添加して反応させる。
得られた反応物を固液分離し、洗浄、乾燥させることに
より、有機変性粘土鉱物が得られる。
できるが、本発明は以下の製法に限定されるものではな
い。有機変性粘土鉱物は、特開平６−２４７３２号公報
又は特開平６−２８７０１４号公報に記載されている製
法、あるいはそれと類似した製法により製造される。す
なわち、膨潤性層状ケイ酸塩の水分散液に、ポリオキシ
エチレン基を有する第四級アンモニウム塩溶液又はポリ
オキシプロピレン基を有する第四級アンモニウム塩溶
液、あるいはこれらの混合溶液を添加して反応させる。
得られた反応物を固液分離し、洗浄、乾燥させることに
より、有機変性粘土鉱物が得られる。
【００３７】本発明のゾル・ゲル組成物は、有機変性粘
土鉱物とアニオン界面活性剤の混合物を、有機溶媒やポ
リシロキサン類に分散させることにより得られる。な
お、有機溶媒やポリシロキサン類に、有機変性粘土鉱物
とアニオン界面活性剤を別々に添加して、分散させても
よい。
土鉱物とアニオン界面活性剤の混合物を、有機溶媒やポ
リシロキサン類に分散させることにより得られる。な
お、有機溶媒やポリシロキサン類に、有機変性粘土鉱物
とアニオン界面活性剤を別々に添加して、分散させても
よい。
【００３８】ゾル・ゲル組成物を形成している有機溶媒
としては、高極性有機溶媒や、その他の各種有機溶媒が
挙げられる。
としては、高極性有機溶媒や、その他の各種有機溶媒が
挙げられる。
【００３９】高極性有機溶媒としては、メタノール、エ
タノール、プロパノール、イソプロパノールのような低
級アルコール類；デカノールのような高級アルコール
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンのようなケトン類；テトラヒドロフランのような
エーテル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブ
チルのようなエステル類；ジメチルホルムアミドのよう
なアミド類；及びジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンが挙げられる。
タノール、プロパノール、イソプロパノールのような低
級アルコール類；デカノールのような高級アルコール
類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトンのようなケトン類；テトラヒドロフランのような
エーテル類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸イソブ
チルのようなエステル類；ジメチルホルムアミドのよう
なアミド類；及びジメチルスルホキシド、Ｎ−メチル−
２−ピロリドンが挙げられる。
【００４０】その他の各種有機溶媒としては、ベンゼ
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；四
塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、パークロロエチレンのようなハロゲン化炭化水素
類；及びクロロベンゼン、フタル酸ジオクチル、メチル
セロソルブ等が挙げられる。
ン、トルエン、キシレンのような芳香族炭化水素類；四
塩化炭素、クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエ
タン、パークロロエチレンのようなハロゲン化炭化水素
類；及びクロロベンゼン、フタル酸ジオクチル、メチル
セロソルブ等が挙げられる。
【００４１】ポリシロキサン類としては、各種シリコー
ンオイル等が挙げられる。
ンオイル等が挙げられる。
【００４２】本発明のゾル・ゲル組成物における有機変
性粘土鉱物の含量は０．０１〜４０重量％、好ましくは
０．１〜２０重量％、特に好ましくは１〜１０重量％で
ある。０．０１％以下では十分な粘性やチクソトロピー
性が得られず、また４０重量％以上では分散液がゲル化
して、分散しきれないものが凝集してしまうためであ
る。
性粘土鉱物の含量は０．０１〜４０重量％、好ましくは
０．１〜２０重量％、特に好ましくは１〜１０重量％で
ある。０．０１％以下では十分な粘性やチクソトロピー
性が得られず、また４０重量％以上では分散液がゲル化
して、分散しきれないものが凝集してしまうためであ
る。
【００４３】また、アニオン界面活性剤の含量は、使用
する有機変性粘土鉱物の原料である膨潤性層状ケイ酸塩
１００ｇに対して、０．１〜１００meq(ミリ当量）であ
り、好ましくは１〜４０meq(ミリ当量）である。
する有機変性粘土鉱物の原料である膨潤性層状ケイ酸塩
１００ｇに対して、０．１〜１００meq(ミリ当量）であ
り、好ましくは１〜４０meq(ミリ当量）である。
【００４４】以下に、各種有機溶媒を含むゾル・ゲル組
成物の特性を記載する。エタノール等のアルコール類又
は酢酸エステル類を含む本発明のゾル・ゲル組成物は、
有機変性粘土鉱物とアニオン界面活性剤の含量が２〜８
重量％の場合、分散状態が良好で、長期安定性に優れ、
チクソトロピー性を有する高粘性のゾル又はゲルとな
る。
成物の特性を記載する。エタノール等のアルコール類又
は酢酸エステル類を含む本発明のゾル・ゲル組成物は、
有機変性粘土鉱物とアニオン界面活性剤の含量が２〜８
重量％の場合、分散状態が良好で、長期安定性に優れ、
チクソトロピー性を有する高粘性のゾル又はゲルとな
る。
【００４５】また、ジメチルホルムアミド等のアミド類
を含む本発明のゾル・ゲル組成物は、有機変性粘土鉱物
とアニオン界面活性剤の含量が１〜５重量％の場合、分
散状態が良好で、長期安定性に優れ、チクソトロピー性
を有する高粘性のゾル又はゲルとなる。
を含む本発明のゾル・ゲル組成物は、有機変性粘土鉱物
とアニオン界面活性剤の含量が１〜５重量％の場合、分
散状態が良好で、長期安定性に優れ、チクソトロピー性
を有する高粘性のゾル又はゲルとなる。
【００４６】このように、本発明のゾル・ゲル組成物
は、有機変性粘土鉱物とアニオン界面活性剤の含有量と
して、高極性有機溶媒やその他の各種有機溶媒及び／又
はポリシロキサン類に対して１０％重量以下の少量を含
有することでよく、安定した高い粘性を維持し、優れた
増粘効果を示し、また分散性にも優れ、凝集物が分離、
沈降することがない。このため、本発明のゾル・ゲル組
成物は、均一に塗布できる塗料や、肌触りの良さが求め
られる化粧品原料として、特に有用である。
は、有機変性粘土鉱物とアニオン界面活性剤の含有量と
して、高極性有機溶媒やその他の各種有機溶媒及び／又
はポリシロキサン類に対して１０％重量以下の少量を含
有することでよく、安定した高い粘性を維持し、優れた
増粘効果を示し、また分散性にも優れ、凝集物が分離、
沈降することがない。このため、本発明のゾル・ゲル組
成物は、均一に塗布できる塗料や、肌触りの良さが求め
られる化粧品原料として、特に有用である。
【００４７】本発明のゾル・ゲル組成物は、高極性有機
溶媒を添加した場合でも、優れたゾルやゲルを形成する
ため、化粧料用として適している。特に美爪料として使
用する場合には、酢酸エチル、酢酸ブチル、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、酢酸セロソルブ、エチル
セロソルブ等の一般に化粧料に用いられる有機溶媒に対
しても、優れたゾルやゲルが形成されるため、将来的に
は、安全な美爪料用原料として、安心して使用すること
ができる。
溶媒を添加した場合でも、優れたゾルやゲルを形成する
ため、化粧料用として適している。特に美爪料として使
用する場合には、酢酸エチル、酢酸ブチル、エタノー
ル、イソプロピルアルコール、酢酸セロソルブ、エチル
セロソルブ等の一般に化粧料に用いられる有機溶媒に対
しても、優れたゾルやゲルが形成されるため、将来的に
は、安全な美爪料用原料として、安心して使用すること
ができる。
【００４８】
【発明の効果】本発明のゾル・ゲル組成物は、アルコー
ル類、ケトン類、エーテル類、アミド類、エステル類等
の高極性有機溶媒や、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭
化水素類、及びポリシロキサン類、あるいはそれらを含
む広範囲の溶媒を含むゾルやゲルである。また本発明の
ゾル・ゲル組成物は、溶媒含有率を一定にして、従来報
告されているゾル組成物等と比較した場合、均一な分散
性、高い粘性及び長期安定性の３つの条件を同時に満足
させたゾルやゲルとして、極めて優れたものである。こ
のため、本発明のゾル・ゲル組成物は、化粧品、医薬
品、接着剤、塗料、インキ、各種プラスチック工業や繊
維工業等の各種の製品や工業プロセスにおいて用いるこ
とができる。
ル類、ケトン類、エーテル類、アミド類、エステル類等
の高極性有機溶媒や、芳香族炭化水素類、ハロゲン化炭
化水素類、及びポリシロキサン類、あるいはそれらを含
む広範囲の溶媒を含むゾルやゲルである。また本発明の
ゾル・ゲル組成物は、溶媒含有率を一定にして、従来報
告されているゾル組成物等と比較した場合、均一な分散
性、高い粘性及び長期安定性の３つの条件を同時に満足
させたゾルやゲルとして、極めて優れたものである。こ
のため、本発明のゾル・ゲル組成物は、化粧品、医薬
品、接着剤、塗料、インキ、各種プラスチック工業や繊
維工業等の各種の製品や工業プロセスにおいて用いるこ
とができる。
【００４９】また、エタノール等のアルコール類を含む
ゾル・ゲル組成物は、すっきり感、さわやか感、速乾性
を肌や頭皮に付与するとともに、耐寒剤及び抗菌剤とし
ても有用であるため、化粧料として、原料にエタノール
等の低級アルコールを使用するクリーム、乳液等の基礎
化粧品として特に有用である。また、酢酸エチルや酢酸
ブチル等を含むゾル・ゲル組成物は、エナメル等の美爪
料等をはじめ、頭髪化粧料、ファンデーション等のメー
キャップ化粧料、日焼け止め化粧料に配合することは有
効である。
ゾル・ゲル組成物は、すっきり感、さわやか感、速乾性
を肌や頭皮に付与するとともに、耐寒剤及び抗菌剤とし
ても有用であるため、化粧料として、原料にエタノール
等の低級アルコールを使用するクリーム、乳液等の基礎
化粧品として特に有用である。また、酢酸エチルや酢酸
ブチル等を含むゾル・ゲル組成物は、エナメル等の美爪
料等をはじめ、頭髪化粧料、ファンデーション等のメー
キャップ化粧料、日焼け止め化粧料に配合することは有
効である。
【００５０】
参考例１ 有機変性粘土鉱物Ａの製造 コープケミカル（株）製合成スメクタイト（ＳＷＮ）
と、次式（VI）で示される第四級アンモニウム塩を用い
て、特開平６−２８７０１４号公報記載の製法により有
機変性粘土鉱物Ａを製造した。
と、次式（VI）で示される第四級アンモニウム塩を用い
て、特開平６−２８７０１４号公報記載の製法により有
機変性粘土鉱物Ａを製造した。
【００５１】
【化３】
【００５２】参考例２ 有機変性粘土鉱物Ｂの製造 コープケミカル（株）製合成スメクタイト（ＳＷＮ）
と、次式（VII)で示される第四級アンモニウム塩を用い
て、特開平６−２４７３２号公報記載の製法により有機
変性粘土鉱物Ｂを製造した。
と、次式（VII)で示される第四級アンモニウム塩を用い
て、特開平６−２４７３２号公報記載の製法により有機
変性粘土鉱物Ｂを製造した。
【００５３】
【化４】
【００５４】参考例３ 有機変性粘土鉱物Ｃの製造 コープケミカル（株）製合成スメクタイト（ＳＷＮ）
と、上記式（VI）で示される第四級アンモニウム塩と、
上記式（VII)で示される第四級アンモニウム塩を、モル
比で１：１に混合したものを用いて、特開平７−１８７
６７号公報記載の製法により有機変性粘土鉱物Ｃを製造
した。
と、上記式（VI）で示される第四級アンモニウム塩と、
上記式（VII)で示される第四級アンモニウム塩を、モル
比で１：１に混合したものを用いて、特開平７−１８７
６７号公報記載の製法により有機変性粘土鉱物Ｃを製造
した。
【００５５】参考例４ 有機変性粘土鉱物Ｄの製造 コープケミカル（株）製合成膨潤性雲母（ＭＥ）と、上
記式（VI）で示される第四級アンモニウム塩を用いて、
参考例１と同様の方法で有機変性粘土鉱物Ｄを製造し
た。
記式（VI）で示される第四級アンモニウム塩を用いて、
参考例１と同様の方法で有機変性粘土鉱物Ｄを製造し
た。
【００５６】実施例１ ゾル・ゲル組成物の製造 参考例１〜４の有機変性粘土鉱物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤをそ
れぞれ４wt％の濃度になるようにエタノール、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、トルエン、ポリ
メチルシロキサン及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢ
Ｋ）に添加した。この添加液に、アニオン界面活性剤
（ライオン（株）製、アルキルフェニル・ＰＯＥエーテ
ル・硫酸エステル塩 商品名：サンノールＮＰ−２０３
０、ＮＰ−６１３０；日光ケミカル（株）製カルボキシ
ル化ＰＯＥトリデシルエーテルナトリウム塩ＥＣＴ−３
ＮＥＸ、同社製ＰＯＥラウリルエーテルリン酸ナトリウ
ム塩ＤＬＰ−１０）を有機変性粘土鉱物の原料であるＳ
ＷＮ又はＭＥに対して５〜２０meq/１００ｇとなるよう
に添加して、本発明のゾル・ゲル組成物を得た。
れぞれ４wt％の濃度になるようにエタノール、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、トルエン、ポリ
メチルシロキサン及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢ
Ｋ）に添加した。この添加液に、アニオン界面活性剤
（ライオン（株）製、アルキルフェニル・ＰＯＥエーテ
ル・硫酸エステル塩 商品名：サンノールＮＰ−２０３
０、ＮＰ−６１３０；日光ケミカル（株）製カルボキシ
ル化ＰＯＥトリデシルエーテルナトリウム塩ＥＣＴ−３
ＮＥＸ、同社製ＰＯＥラウリルエーテルリン酸ナトリウ
ム塩ＤＬＰ−１０）を有機変性粘土鉱物の原料であるＳ
ＷＮ又はＭＥに対して５〜２０meq/１００ｇとなるよう
に添加して、本発明のゾル・ゲル組成物を得た。
【００５７】試験例１ 分散性試験 実施例１のゾル・ゲル組成物３０ｇを５０ml容のスクリ
ュー管に投入し、２５℃で２４時間及び６カ月放置し
て、この組成物の分散性を肉眼で測定した。結果を表１
〜表３に示す。
ュー管に投入し、２５℃で２４時間及び６カ月放置し
て、この組成物の分散性を肉眼で測定した。結果を表１
〜表３に示す。
【００５８】試験例２ 粘性試験 実施例１のゾル・ゲル組成物３０ｇを５０ml容のスクリ
ュー管に投入し、東京計器（株）製Ｂ型粘度計を用い、
６rpm 及び６０rpm における見掛け粘度を測定した。結
果を表１〜表３に示す。
ュー管に投入し、東京計器（株）製Ｂ型粘度計を用い、
６rpm 及び６０rpm における見掛け粘度を測定した。結
果を表１〜表３に示す。
【００５９】比較試験例１ 比較分散性試験及び粘性試
験 参考例１〜４の有機変性粘土鉱物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤをそ
れぞれ４wt％の濃度になるようにエタノール、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、トルエン、ポリ
メチルシロキサン及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢ
Ｋ）に添加したが、アニオン界面活性剤を添加しなかっ
たゾル・ゲル組成物について、上記試験例１及び２と同
様にして分散性及び見掛け粘度を測定した。結果を表１
〜表３に示す。
験 参考例１〜４の有機変性粘土鉱物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤをそ
れぞれ４wt％の濃度になるようにエタノール、酢酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、トルエン、ポリ
メチルシロキサン及びメチルイソブチルケトン（ＭＩＢ
Ｋ）に添加したが、アニオン界面活性剤を添加しなかっ
たゾル・ゲル組成物について、上記試験例１及び２と同
様にして分散性及び見掛け粘度を測定した。結果を表１
〜表３に示す。
【００６０】
【表１】
【００６１】
【表２】
【００６２】
【表３】
【００６３】実施例２ 組成物の分散性及び粘性試験 参考例１〜４の有機変性粘土鉱物Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤに、
有機変性粘土鉱物の原料であるＳＷＮ又はＭＥに対して
５〜２０meq/100gとなる量のアニオン界面活性剤（ライ
オン（株）製、アルキルフェニル・ＰＯＥエーテル・硫
酸エステル塩商品名：サンノールＮＰ−２０３０・ＮＰ
−３０１０；日光ケミカル（株）製カルボキシル化ＰＯ
Ｅトリデシルエーテルナトリウム塩ＥＣＴ−３ＮＥＸ、
同社製ＰＯＥラウイルエーテルリン酸ナトリウム塩ＤＬ
Ｐ−１０）を添加し、混合して組成物を得た。得られた
組成物を、エタノール、酢酸エチル、ＤＭＦ、トルエ
ン、ＭＩＢＫの有機溶媒及びポリメチルシロキサンに分
散させると、試験例１及び試験例２とほぼ同一の試験結
果が得られた。
有機変性粘土鉱物の原料であるＳＷＮ又はＭＥに対して
５〜２０meq/100gとなる量のアニオン界面活性剤（ライ
オン（株）製、アルキルフェニル・ＰＯＥエーテル・硫
酸エステル塩商品名：サンノールＮＰ−２０３０・ＮＰ
−３０１０；日光ケミカル（株）製カルボキシル化ＰＯ
Ｅトリデシルエーテルナトリウム塩ＥＣＴ−３ＮＥＸ、
同社製ＰＯＥラウイルエーテルリン酸ナトリウム塩ＤＬ
Ｐ−１０）を添加し、混合して組成物を得た。得られた
組成物を、エタノール、酢酸エチル、ＤＭＦ、トルエ
ン、ＭＩＢＫの有機溶媒及びポリメチルシロキサンに分
散させると、試験例１及び試験例２とほぼ同一の試験結
果が得られた。
【００６４】比較試験例２ 比較組成物の分散性試験 下記膨潤性粘土鉱物〜を、エタノール４wt％及び８
wt％になるように混合・撹拌した。この混合液に、前記
式(VI)で示されるポリオキシプロピレン基を有する第四
級アンモニウム塩を全重量の３％、及びアニオン界面活
性剤（ライオン（株）製：ＮＰ−２０３０）を全重量の
２％添加し、撹拌して、２５℃で２４時間放置して、こ
の混合液の分散性を肉眼で測定した。
wt％になるように混合・撹拌した。この混合液に、前記
式(VI)で示されるポリオキシプロピレン基を有する第四
級アンモニウム塩を全重量の３％、及びアニオン界面活
性剤（ライオン（株）製：ＮＰ−２０３０）を全重量の
２％添加し、撹拌して、２５℃で２４時間放置して、こ
の混合液の分散性を肉眼で測定した。
【００６５】 膨潤性粘土鉱物：ＳＡＮ コープケミカル（株）製 親油性スメクタイト 膨潤性粘土鉱物：Ｎｅｗ Ｄ ＯＲＢＥＮ 白石工業（株）製 ベントナイト 膨潤性粘土鉱物：ＢＥＮＴＯＮＥ ＳＤ−２ ＮＬインダース（米）製 ベントナイト 膨潤性粘土鉱物：ＢＥＮＴＯＮＥ ２７ ＮＬインダース（米）製 ベントナイト 膨潤性粘土鉱物：Ｓ−ＢＥＮ Ｎ−４００ （株）豊順洋行製、ベントナイト
【００６６】ポリオキシエチレン基を有する第四級アン
モニウムイオン又はポリオキシプロピレン基を有する第
四級アンモニウムイオンが導入されていない膨潤性粘土
鉱物に、ポリオキシプロピレン基を有する第四級アンモ
ニウム塩（カチオン）及びアニオン界面活性剤を添加し
ても、エタノールには全く分散せず、粘性も得られなか
った。
モニウムイオン又はポリオキシプロピレン基を有する第
四級アンモニウムイオンが導入されていない膨潤性粘土
鉱物に、ポリオキシプロピレン基を有する第四級アンモ
ニウム塩（カチオン）及びアニオン界面活性剤を添加し
ても、エタノールには全く分散せず、粘性も得られなか
った。
【００６７】実施例３ 美爪料Ａ 参考例１の有機変性粘土鉱物Ａに、有機変性粘土鉱物の
原料であるＳＷＮに対して１０meq/100gとなる量のアニ
オン界面活性剤（ライオン（株）製、アルキルフェニル
・ＰＯＥエーテル・硫酸エステル塩 商品名：サンノー
ルＮＰ−２０３０）を添加し、混合して組成物を得た。
得られた組成物を用いて、下記に示す組成の美爪料を製
造した。 上記Ａ成分にＣ成分を均一に溶解した後、Ｂ成分を添加
して十分に混合した。その後Ｄ成分を加えて美爪料Ａを
得た。
原料であるＳＷＮに対して１０meq/100gとなる量のアニ
オン界面活性剤（ライオン（株）製、アルキルフェニル
・ＰＯＥエーテル・硫酸エステル塩 商品名：サンノー
ルＮＰ−２０３０）を添加し、混合して組成物を得た。
得られた組成物を用いて、下記に示す組成の美爪料を製
造した。 上記Ａ成分にＣ成分を均一に溶解した後、Ｂ成分を添加
して十分に混合した。その後Ｄ成分を加えて美爪料Ａを
得た。
【００６８】 上記Ａ成分にＢ成分を加えて混合・撹拌し、本発明の組
成物を得た。この組成物にＣ成分を加えて混合した後、
さらにＤ成分を加えて美爪料Ｂを得た。
成物を得た。この組成物にＣ成分を加えて混合した後、
さらにＤ成分を加えて美爪料Ｂを得た。
【００６９】比較例 比較美爪料Ｃ 実施例４において、アニオン界面活性剤を添加せず、酢
酸ブチルの添加量を４６．０重量％とした以外は、同様
にして比較の美爪料Ｃを作成した。
酸ブチルの添加量を４６．０重量％とした以外は、同様
にして比較の美爪料Ｃを作成した。
【００７０】試験例３ 美爪料の試験 上記美爪料Ａ、Ｂ及びＣを容器に充填し、１カ月及び
１年経過後の沈殿、分離を次の基準で肉眼観察した。 ◎：沈殿、分離が全く認められない。 ○：沈殿、分離が僅かに認められる。 △：沈殿、分離が認められる。 実際に爪に塗布して、塗膜の光沢を次の基準で官能評
価した。 ◎：非常に光沢がある。 △：やや光沢がない。 実際に爪に塗布して、３日後のもち（はがれ）を次の
基準で官能評価した。 ◎：非常にもちが良い。 △：もちが悪い。 結果を表４に示す。
１年経過後の沈殿、分離を次の基準で肉眼観察した。 ◎：沈殿、分離が全く認められない。 ○：沈殿、分離が僅かに認められる。 △：沈殿、分離が認められる。 実際に爪に塗布して、塗膜の光沢を次の基準で官能評
価した。 ◎：非常に光沢がある。 △：やや光沢がない。 実際に爪に塗布して、３日後のもち（はがれ）を次の
基準で官能評価した。 ◎：非常にもちが良い。 △：もちが悪い。 結果を表４に示す。
【００７１】
【表４】
【００７２】実施例５ 塗料組成物 下記に示す組成の塗料組成物を製造した。 Ａ：ブチルセロソルブ １０．０wt％ ｎ−ブチルアルコール ４．０ ジブチルフタレート １．０ 酢酸ブチル １８．０ Ｂ：実施例３で混合した組成物 ３．０ Ｃ：ベッコゾール１３０８ ３５．０ 〔日本ライヒホールド社製〕 スーパーベッカミンＪ８２０ ２０．０重量％ 〔同上〕 ソルベッソ＃１５０ ４．０重量％ 〔エッソスタンダード社製〕 酸化チタン ５．０重量％ 上記Ａ成分にＢ成分を添加して十分に混合した後、Ｃ成
分を加えて塗料組成物を得た。この塗料組成物は、１年
間放置しても沈殿や分離が起こらず、また塗装後の塗膜
は非常に光沢があり、塗膜のはがれの心配もなかった。
分を加えて塗料組成物を得た。この塗料組成物は、１年
間放置しても沈殿や分離が起こらず、また塗装後の塗膜
は非常に光沢があり、塗膜のはがれの心配もなかった。
【００７３】実施例６ 塗料組成物 下記に示す組成の塗料組成物を得た。 上記Ａ成分にＢ成分を十分に混合・撹拌して均一にした
後、Ｃ成分を添加して十分に混合して塗料組成物を得
た。この塗料組成物は、１年間放置しても沈殿や分離が
起こらず、また塗装した後の塗膜は非常に光沢があり、
塗膜のはがれの心配もなかった。
後、Ｃ成分を添加して十分に混合して塗料組成物を得
た。この塗料組成物は、１年間放置しても沈殿や分離が
起こらず、また塗装した後の塗膜は非常に光沢があり、
塗膜のはがれの心配もなかった。
【００７４】比較例４ 比較塗料組成物 実施例５において、有機粘土組成物の代りに有機変性粘
土鉱物Ａのみを用いた以外は、同様にして比較塗料組成
物を得た。この比較塗料組成物は、塗装後の塗膜の表面
に微少の凝集物が付着し、表面の光沢が損なわれてい
た。
土鉱物Ａのみを用いた以外は、同様にして比較塗料組成
物を得た。この比較塗料組成物は、塗装後の塗膜の表面
に微少の凝集物が付着し、表面の光沢が損なわれてい
た。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 // Ａ６１Ｋ 7/00 Ａ６１Ｋ 7/00 Ｒ Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２ Ｂ０５Ｄ 7/24 ３０２Ｂ (72)発明者 安藤 誠之助 東京都千代田区一番町23番地３ コープケ ミカル株式会社内
Claims (10)
- 【請求項１】 膨潤性層状ケイ酸塩の層間に、ポリオキ
シエチレン基を有する第四級アンモニウムイオン及び／
又はポリオキシプロピレン基を有する第四級アンモニウ
ムイオンが導入された有機変性粘土鉱物と、アニオン界
面活性剤を含有する組成物。 - 【請求項２】 ゾル・ゲル組成物である、請求項１記載
の組成物。 - 【請求項３】 有機溶媒及び／又はポリシロキサン類を
含有する請求項２記載の組成物。 - 【請求項４】 膨潤性層状ケイ酸塩が、スメクタイト系
粘土鉱物又は膨潤性雲母鉱物である、請求項１〜３のい
ずれか１項記載の組成物。 - 【請求項５】 スメクタイト系粘土鉱物が、合成スメク
タイトである、請求項４記載の組成物。 - 【請求項６】 合成スメクタイトが、ケイ酸とマグネシ
ウム塩の均質混合液にアルカリ溶液を反応させてケイ素
・マグネシウム複合体を合成し、副生した電解質を除去
した後、該複合体にリチウムイオンと必要に応じてナト
リウムイオン及び／又はフッ素イオンを添加して１００
℃ないし３５０℃で水熱反応させ、次いで乾燥して得ら
れる、次式（Ｉ）の合成スメクタイトである、請求項５
記載の組成物。 Ｘc Ｍｇd Ｌｉe Ｓｉf Ｏg （ＯＨ及び／又はＦ)h （Ｉ） 〔式中、Ｘは層間イオンで、Ｌｉイオン及び／又はＮａ
イオンを表し、ｃは０．１〜１．０であり、ｄは２．４
〜２．９であり、ｅは０．１〜０．６であり、ｆは３．
５〜４．５であり、ｇは９．５〜１０．５であり、ｈは
１．５〜２．５である〕 - 【請求項７】 ポリオキシエチレン基を有する第四級ア
ンモニウムイオンが一般式（III)で示されるイオンであ
り、ポリオキシプロピレン基を有する第四級アンモニウ
ムイオンが一般式（IV）で示されるイオンである、請求
項１〜６のいずれか１項記載の組成物。 【化１】 〔式（III)において、Ｒ1 は水素原子、炭素数１〜３０
のアルキル基又はベンジル基を表し、Ｒ2 及びＲ3 は
（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n−Ｈ基又は炭素数１〜３０のアルキ
ル基を表し、Ｒ4 は（ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)n−Ｈ基を表し、
ｎは１〜５０であり；式（IV）において、Ｒ5 は水素原
子、炭素数１〜３０のアルキル基又はベンジル基を表
し、Ｒ6 及びＲ7 は（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3)Ｏ)m−Ｈ基、
（ＣＨ2 ＣＨ2ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基又は炭素数１〜３０の
アルキル基を表し、Ｒ8 は（ＣＨ2 ＣＨ（ＣＨ3)Ｏ)m−
Ｈ基又は（ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＨ2 Ｏ)m−Ｈ基を表し、ｍは
１〜５０である〕 - 【請求項８】 アニオン界面活性剤が、ポリオキシエチ
レン基を有するアニオン界面活性剤である、請求項１〜
７のいずれか１項記載の組成物。 - 【請求項９】 請求項２〜８のいずれか１項記載の組成
物を含有する化粧料。 - 【請求項１０】 請求項２〜８のいずれか１項記載の組
成物を含有する塗料組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34129395A JP3713604B2 (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | ゾル・ゲル組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34129395A JP3713604B2 (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | ゾル・ゲル組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09175817A true JPH09175817A (ja) | 1997-07-08 |
| JP3713604B2 JP3713604B2 (ja) | 2005-11-09 |
Family
ID=18344938
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34129395A Expired - Fee Related JP3713604B2 (ja) | 1995-12-27 | 1995-12-27 | ゾル・ゲル組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3713604B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002005756A1 (fr) * | 2000-07-13 | 2002-01-24 | Shiseido Co., Ltd. | Composition gel et embellisseur d'ongle |
| EP1281689A2 (en) | 2001-07-31 | 2003-02-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inorganic composition, film made therefrom, and method for producing such film |
| JP2008266351A (ja) * | 1997-05-09 | 2008-11-06 | Avon Products Inc | ゲルを含有する化粧組成物の製造方法 |
| JP2012201550A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Kunimine Industries Co Ltd | 有機化処理粘土分散液及びその製造方法 |
| LU100762B1 (fr) * | 2018-04-05 | 2019-10-07 | Int Lacquers S A | Activateur d'argiles |
| CN113797858A (zh) * | 2020-06-15 | 2021-12-17 | 夏普株式会社 | 光催化剂喷雾器以及除臭方法 |
-
1995
- 1995-12-27 JP JP34129395A patent/JP3713604B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2008266351A (ja) * | 1997-05-09 | 2008-11-06 | Avon Products Inc | ゲルを含有する化粧組成物の製造方法 |
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| US6814797B2 (en) | 2000-07-13 | 2004-11-09 | Shiseido Co., Ltd. | Gel composition and nail enamel |
| JP4643120B2 (ja) * | 2000-07-13 | 2011-03-02 | 株式会社資生堂 | ゲル組成物及び美爪料 |
| EP1281689A2 (en) | 2001-07-31 | 2003-02-05 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inorganic composition, film made therefrom, and method for producing such film |
| US6903035B2 (en) | 2001-07-31 | 2005-06-07 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Inorganic composition, film, and method of producing film |
| JP2012201550A (ja) * | 2011-03-25 | 2012-10-22 | Kunimine Industries Co Ltd | 有機化処理粘土分散液及びその製造方法 |
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| CN113797858A (zh) * | 2020-06-15 | 2021-12-17 | 夏普株式会社 | 光催化剂喷雾器以及除臭方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3713604B2 (ja) | 2005-11-09 |
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