JPH09173927A - 塗布装置及び塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】ロールコータ又はバーコータにより被塗布基板
表面にフォトレジスト等を塗布する塗布装置に関し、コ
ーティングロールの溝内に乾燥したレジストが残らない
ようにして、常に正常な塗布液の塗布を行う。 【解決手段】基板２６上に塗布液２７を塗布する塗布装
置であって、表面に凹部を有し、塗布液２７を基板２６
に塗布する回転可能な第１の円柱体２１と、第１の円柱
体２１の少なくとも凹部に、塗布液２７を供給する塗布
液供給手段２２と、第１の円柱体２１の回転方向とは反
対方向に回転し、第１の円柱体２１の凹部内の塗布液２
７を、凹部内から除去する第２の円柱体２３とを備えた
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、塗布装置及び塗布
方法に関し、より詳しくは、ロールコータ又はバーコー
タにより被塗布基板表面にレジスト溶液等を塗布する塗
布装置及び塗布方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ、プラズマディスプレ
イにおいては、画面の大型化を図るため、或いは高いス
ループットを得るために、大型のガラス基板を用いるよ
うになってきている。従来、ガラス基板上に形成された
配線層等のパターニングに用いるレジスト溶液の塗布に
はスピンコータを用いている。しかし、ガラス基板の大
型化に伴い、スピンコータでは塗布効率の悪化を招き、
しかも塗布膜の膜厚の均一化を図れなくなってしまう。
これらの問題を解決するため、大型基板に対してはロー
ルコータやバーコータ或いはスロットコータを用いるよ
うになってきている。

【０００３】図７（ａ），（ｂ）は、従来例に係るロー
ルコータの全体の構成を示す斜視図及び断面図である。
同図に示すように、弾性を有する円柱体１ａと回転軸１
ｂとからなるコーティングロール１と、そのコーティン
グロール１に近接し、かつその回転軸１ｂと平行な回転
軸４ｂを中心として回転可能な円柱体４ａを有するバッ
クアップロール４とが設置され、両円柱体１ａ，４ａの
間をコンベアベルト３に載置された被塗布基板５がコー
ティングロール１の円柱体１ａと接触しつつ、通過する
ようになっている。

【０００４】また、コーティングロール１の円柱体１ａ
には被塗布基板５へのレジスト溶液塗布位置の少し手前
にレジスト溶液を供給し、塗着させるレジスト容器（ド
クタバー）２が設置されている。コーティングロール１
に対面する側でレジスト容器２のレジスト溶液溜め２ａ
の底部から突起２ｂが出ており、この突起２ｂを回転す
る円柱体１ａに一定圧（以後、ドクタバー圧と称す
る。）で押圧する。円柱体１ａにはレジスト溶液を保持
する図示しない溝が円周方向に形成されており、レジス
ト容器２から供給されたレジスト溶液はこの溝に充填さ
れ、保持される。このとき、溝に充填されるレジスト溶
液量はドクタバー圧によって調整可能である。

【０００５】コーティングロール１とバックアップロー
ル４の間に被塗布基板５が送られてくると、被塗布基板
５の表面でコーティングロール１の溝の周辺の凸部が潰
れて溝内にあるレジスト溶液が被塗布基板５の表面に移
転・塗布される。コーティングロール１の構造に若干の
違いはあるが、金属線が円周方向に巻かれた構造を有す
る所謂バーコータも上記ロールコータの場合とほぼ同様
にして被塗布基板の表面に塗布液を塗布することができ
る。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、コーテ
ィングロール１表面の溝内のレジスト溶液はコーティン
グロール１の表面が被塗布基板５と接触しないと、その
まま溝内に残ってしまうため、塗布間隔（タクトタイ
ム）が空くと、溝内のレジスト溶液は乾燥してしまう。
このようになってしまうと、溝内には新しい流動性のあ
るレジスト溶液が十分に満たされないため、正常にレジ
スト溶液を塗布することが出来なくなってしまう。ま
た、レジスト溶液中の溶剤の蒸発量はタクトタイムによ
り異なってくるが、溶剤の蒸発は連続塗布を行う場合に
大きな問題となる。

【０００７】この問題を解決するため、図８に示すよう
に、被塗布基板１４を反転させ、即ち塗布面を下に向け
てレジスト溶液等の塗布液１５を塗布する装置が開発さ
れた。図８に示すように、レジスト溶液溜め１２ａにレ
ジスト溶液１５を溜めておくレジスト容器１２の上部に
はレジスト溶液溜め１２ａのレジスト溶液１５に半分漬
かりながら回転軸１１ｂを中心として回転するコーティ
ングロール１１が取り付けられている。被塗布基板１４
は、塗布面を下にして、円柱体１３ａと回転軸１３ｂと
からなる回転可能なバックアップロール１３と、コーテ
ィングロール１１とに挟まれて移動するようになってい
る。

【０００８】この塗布装置を用いた塗布方法では、コー
ティングロール１１の回転する円柱体１１ａが大気に曝
される時間を短くできるため塗布液１５の乾燥を抑制す
ることが可能である。しかし、被塗布基板１４が大型化
するに伴い、塗布液１５の塗布前及び塗布後に被塗布基
板１４自体を反転させることが難しくなってしまう等、
製造工程における困難さが増す。

【０００９】本発明は、上記の従来例の問題点に鑑みて
創作されたものであり、ロールコータやバーコータを用
いて被塗布基板表面に塗布液を塗布する際、コーティン
グロールの溝内に乾燥したレジスト溶液が残らないよう
にして、常に正常な塗布液の塗布を行うことができる塗
布装置を提供することを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記課題は、第１の発明
である、基板上に塗布液を塗布する塗布装置であって、
表面に凹部を有し、前記塗布液を前記基板に塗布する回
転可能な第１の円柱体と、前記第１の円柱体の少なくと
も前記凹部に、塗布液を供給する塗布液供給手段と、前
記第１の円柱体の回転方向とは反対方向に回転し、前記
第１の円柱体の凹部内の前記塗布液を、前記凹部内から
除去する第２の円柱体とを備えたことを特徴とする塗布
装置によって達成され、第２の発明である、基板上に塗
布液を塗布する塗布装置であって、表面に凹部を有し、
前記塗布液を前記基板に塗布する回転可能な第１の円柱
体と、前記第１の円柱体の少なくとも前記凹部に、塗布
液を供給する塗布液供給手段と、前記第１の円柱体に接
触し、該第１の円柱体の凹部内の前記塗布液を、前記凹
部内から除去する帯状連続体とを備えたことを特徴とす
る塗布装置によって達成され、第３の発明である、基板
上に塗布液を塗布する塗布方法であって、表面に凹部を
有する回転可能な第１の円柱体の該凹部内に、前記塗布
液を供給する工程と、次いで、前記第１の円柱体を回転
させ、該凹部内の塗布液を前記基板に塗布する工程と、
次いで、該第１の円柱体の該回転方向とは反対方向に回
転する第２の円柱体を用いて、該凹部内に残存する該塗
布液を除去する工程とを含むことを特徴とする塗布方法
によって達成され、第４の発明である、基板上に塗布液
を塗布する塗布方法であって、表面に凹部を有する回転
可能な第１の円柱体の該凹部内に、前記塗布液を供給す
る工程と、次いで、前記第１の円柱体を回転させ、該凹
部内の塗布液を前記基板上に塗布する工程と、次いで、
前記第１の円柱体に接触する帯状連続体を用いて、前記
凹部内に残存する前記塗布液を除去する工程とを含むこ
とを特徴とする塗布方法によって達成される。

【００１１】本発明においては、塗布液を保持する凹部
が形成された第１の円柱体に接触して第２の円柱体が設
けられ、かつ第２の円柱体と第１の円柱体とは互いに反
対方向に回転し、第２の円柱体との接触により第１の円
柱体の凹部内の塗布液を除去する。即ち、第１の円柱体
と第２の円柱体とは互いに反対方向に回転可能なので、
特開平６−７９２０９号公報に示す第１の円柱体と第２
の円柱体とを同じ方向に回転させている場合と異なり、
第２の円柱体を第１の円柱体に十分に押圧しても第１の
円柱体の回転を妨げることはない。これにより、第１の
円柱体の表面に残っている塗布液をほぼ完全に除去する
ことが可能である。従って、本発明の塗布装置とベルト
コンベア等被塗布基板の自動送り装置を併用することに
より、大量生産向けの塗布装置として用いることができ
る。

【００１２】更に、第１の円柱体の凹部の残留塗布液は
第２の円柱体により除去される。このため、特開平６−
７９２０９号公報に示すような第１の円柱体に直接ヘラ
を接触させて第１の円柱体から直接レジスト溶液を削ぎ
取る場合と比べて、第１の円柱体の凹部が弾性を有する
部材で作成されていても、第１の円柱体の凹部を傷めな
くて済む。

【００１３】また、塗布液を移転・塗着させる帯状連続
体が第１の円柱体に接触して設けられている。従って、
帯状連続体を移動させて、第１の円柱体の表面に残った
塗布液を帯状連続体により連続して除去することができ
る。従って、本発明の塗布装置とベルトコンベア等被塗
布基板の自動送り装置を併用することにより、大量生産
向けの塗布装置として用いることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施の形態につ
いて図面を参照しながら説明する。 （第１の実施の形態）図１（ａ），（ｂ）は、本発明の
第１の実施の形態に係る塗布装置を示す。図１（ａ），
（ｂ）において、２１はコーティングロールで、ゴム製
の第１の円柱体２１ａと、第１の円柱体２１ａの軸に沿
う回転軸２１ｂとからなる。第１の円柱体２１ａの表面
には回転軸２１ｂの周りの円周方向に沿って図５（ａ）
に示すようなレジスト溶液２７が溜まる溝２１ｄが形成
されている。第１の円柱体２１ａは回転軸２１ｂにより
回転し、被塗布基板２６の表面にレジスト溶液２７を移
転し、塗布する。

【００１５】２２はレジスト溶液２７をコーティングロ
ール２１に供給し、塗着させる、ステンレス製のレジス
ト容器である。レジスト容器２２は長方形状のレジスト
溶液溜め２２ａの三方が側壁に囲まれており、他の一つ
の長手側には側壁がなく開放されている。開放された側
がコーティングロール２１に対面し、レジスト溶液溜め
２２ａからレジスト溶液２７が供給されるようになって
いる。また、この開放側でレジスト溶液溜め２２ａの底
部にあたるところに突起２２ｂが形成され、この突起２
２ｂとコーティングロール２１とが接触する。接触の押
圧力を調整することにより弾性を有する凸部２１ｄを潰
してコーティングロール２１に塗着させるレジスト溶液
２７の量を調整可能である。

【００１６】２４は被塗布基板２６、例えばガラス基板
２６を載置して一定方向に移動させるコンベアベルト
で、コンベアベルト２４と接触したバックアップロール
２５の回転によってその方向に動くようになっている。
バックアップロール２５の回転軸とコーティングロール
２１の回転軸とは平行に保たれ、移動している被塗布基
板２６がコーティングロール２１の表面とバックアップ
ロール２５の表面の間に挟まれて通過する。これによ
り、コーティングロール２１の凸部２１ｃが潰れて凸部
２１ｃの間の溝２１ｄからレジスト溶液２７が被塗布基
板２６の表面に移転され、塗布されることになる。な
お、バックアップロール２５はコンベアベルト２４を制
御するモータとは別のモータで制御されていてもよい
し、接触するコンベアベルト２４の動きに従って動くよ
うにされていてもよい。

【００１７】２３は多孔質の材料、例えばセラミック又
は焼結金属からなる第２の円柱体２３ａと、この第２の
円柱体２３ａの中心軸に沿う回転軸２３ｂとを有するレ
ジスト除去ロール３３である。レジスト除去ロール２３
は被塗布基板２６へのレジスト塗布位置からレジスト供
給位置に至る途中に設けられ、また、その回転軸２３ｂ
の方向がコーティングロール２１の回転軸２１ｂの方向
と平行になるように、かつコーティングロール２１の表
面と接触するように設置されている。更に、レジスト除
去ロール２３の回転軸２３ｂの内部は中空の流通穴２３
ｃになっている。また、レジスト除去ロール２３の回転
軸２３ｂを支持して回転軸２１ｂの方に近づけたり回転
軸２１ｂから遠ざけたりすることにより、レジスト除去
ロール２３のコーティングロール２１への押圧力を調整
する手段（図示していない。）を有している。

【００１８】塗布装置の使用時に、レジスト除去ロール
２３をコーティングロール２１と接触させて逆方向に回
転させるとともに、流通穴２３ｃを吸気する。レジスト
除去ロール２３とコーティングロール２１との接触によ
り、被塗布基板２６へのレジスト溶液塗布終了後にコー
ティングロール２１の表面に残っているレジスト溶液２
７をレジスト除去ロール２３の表面に移転させ、塗着さ
せるとともに、流通穴２３ｃを吸気することにより、コ
ーティングロール２１の表面に塗着しているレジスト溶
液と第２の円柱体２３ａの表面に移転・塗着したレジス
ト溶液２７とが多孔質の第２の円柱体２３ａにある多数
の孔及び流通穴２３ｃを通して除去される。

【００１９】即ち、セラミック又は焼結金属からなるレ
ジスト除去ロール２３はゴム製のコーティングロール２
１に対してレジスト溶液に対する付着力が大きい。ま
た、レジスト除去ロール２３のコーティングロール２１
への押圧力により、コーティングロール２１の凸部２１
ｃの潰れ量が変わり、移転・塗着させるレジスト溶液量
が変化するので、その押圧力を調整することにより、レ
ジスト除去ロール２３に十分な量のレジスト溶液２７が
移転・塗着される。しかも、流通穴２３ｃからの吸気に
より、コーティングロール２１の溝２１ｄの底部に残る
レジスト溶液２７もほぼ完全に取り去ることができる。
なお、コーティングロール２１とレジスト除去ロール２
３とは互いに逆方向に回転するので、それらの間の押圧
力を十分に強くしてもコーティングロール２１の回転は
妨げられない。

【００２０】上記の塗布装置の動作について図１（ｂ）
を参照しながら説明する。即ち、コーティングロール２
１を一定方向に回転させると同時に、バックアップロー
ル２５及びレジスト除去ロール２３をコーティングロー
ル２１の回転方向と逆の方向に回転させる。そして、レ
ジスト溶液２７をレジスト容器２２に満たし、コーティ
ングロール２１の表面に所定のレジスト溶液量が塗着さ
れるようにレジスト容器２２の突起２２ｂをコーティン
グロール２１の表面に適当な押圧力で押圧する。これに
より、所定量のレジスト溶液２７がコーティングロール
２１の第１の円柱体２１ａの溝２１ｄ内に移転され、保
持される。コーティングロール２１の更なる回転により
順次レジスト溶液２７が溝２１ｄ内に満たされていく。
また、レジスト除去ロール２３の流通穴２３ｃを不図示
の排気装置により吸気しておく。

【００２１】一方、バックアップロール２５の回転によ
りコンベアベルト２４が移動し、被塗布基板２６がコー
ティングロール２１の下に送られてくる。被塗布基板２
６は引き続き移動することによりコーティングロール２
１と接触しつつ、通過する。被塗布基板２６とコーティ
ングロール２１の接触により凸部２１ｃが潰れて、第１
の円柱体２１ａの溝２１ｄ内のレジスト溶液２７は殆ど
被塗布基板２６の表面に移転され、塗布される。しか
し、溝２６内には僅かにレジスト溶液２７が残ることも
ある。そのときの溝２１ｄの様子を図５（ｂ）に示す。

【００２２】コーティングロール２１がさらに回転し、
レジスト溶液２７が残った溝２１ｄがレジスト除去ロー
ル２３と接触する。このとき、レジスト除去ロール２３
のコーティングロール２１への押圧力により、弾性を有
する凸部２１ｃが潰れて溝２６内のレジスト溶液２７が
レジスト除去ロール２３の第２の円柱体３１ａの表面と
接触し、そのレジスト溶液２７が第２の円柱体３１ａの
表面に移転され、塗着される。このとき、流通穴２３ｃ
の吸気により、第２の円柱体３１ａの表面に移転され、
塗着されたレジスト溶液２７が多孔質の第２の円柱体３
１ａにある多数の孔を通して吸い取られるとともに、さ
らに、コーティングロール２１の表面から直接残留した
レジスト溶液２７が同じようにして吸い取られる。そし
て、コーティングロール２１の更なる回転により、順次
溝２１ｄ内に残ったレジスト溶液２７が第２の円柱体３
１ａの表面に移転され、塗着され、続いてそのレジスト
溶液２７は吸気によりその表面から流通穴２１ｃを経て
次々に除去されていく。

【００２３】次いで、コーティングロール２１のさらな
る回転によりレジスト容器２２の設置位置に再び戻って
きた溝２１ｄに適量の新たなレジスト溶液が供給され
る。このため、新しい被塗布基板２６に所定量のレジス
ト溶液を塗布することが可能となる。なお、塗布間隔
（タクトタイム）があいた場合には、コーティングロー
ル２１表面の溝２１ｄ内にレジスト容器２２からの供給
量がそのまま残ったまま塗布位置を通過するが、レジス
ト除去ロール２３によりそのレジスト溶液２７は完全に
除去されるので、レジスト溶液残留のない溝２１ｄが再
びレジスト容器２２の位置に戻る。これにより、適量の
新たなレジスト溶液２７がコーティングロール２１に供
給され、連続して新たな被塗布基板２６に正常なレジス
ト塗布を行うことができる。

【００２４】以上のように、本発明の第１の実施の形態
によれば、弾性を有する凸部２１ｃの間にレジスト溶液
２７を保持する溝２１ｄが表面に形成されたコーティン
グロール２１に接触してレジスト除去ロール２３が設け
られており、かつコーティングロール２１へのレジスト
除去ロール２３の押圧力を調整する手段を有する。従っ
て、適当に押圧力を調整することにより、コーティング
ロール２１の凸部２１ｃが潰れて凹部２１ｄが現れ、レ
ジスト除去ロール２３に十分な量のレジスト溶液２７が
移転され、塗着される。

【００２５】また、レジスト除去ロール２３の第２の円
柱体２３ａは多孔質の材料で形成され、かつ第２の円柱
体２３ａの中央部に中空の流通穴２３ｃが形成されてい
る。従って、コーティングロール２１の表面、特にコー
ティングロール２１の溝２１ｄの底部に残るレジスト溶
液が、レジスト除去ロール２３の多孔質の第２の円柱体
２３ａにある多数の孔及び流通穴２３ｃを通して除去さ
れる。

【００２６】これにより、コーティングロール２１の表
面に残っているレジスト溶液２７をほぼ完全に除去する
ことが可能である。従って、次のレジスト塗布の際、常
に適量の新たなレジスト溶液をコーティングロール２１
の溝２１ｄに供給し、連続して新たな被塗布基板２６に
所定量のレジスト溶液を塗布することが可能となる。ま
た、流通穴２３ｃを吸気することにより、レジスト除去
ロール２３の表面に塗着したレジスト溶液２７は第２の
円柱体２３ａの多数の孔及び流通穴２３ｃを通して除去
される。これにより、コーティングロール２１の第１の
円柱体２１ａの表面に残ったレジスト溶液２７をレジス
ト除去ロール２３により連続して除去し、かつ適量の新
たなレジスト溶液をコーティングロール２１に供給する
ことができるので、大量生産向けの塗布装置として用い
ることができる。

【００２７】（第２の実施の形態）図２（ａ），（ｂ）
は、本発明の第２の実施の形態に係る塗布装置を示す。
第１の実施の形態と異なるところは、レジスト溶液を除
去する手段として、多孔質の材料からなる第２の円柱体
２３ａを有するレジスト除去ロール２３の代わりに、金
属材料からなる第２の円柱体３１ａを有するレジスト除
去ロール３１と、さらに長手方向に沿う先端部分が尖っ
た長方形状のヘラ３２を用いることである。ヘラ３２の
長手方向をレジスト除去ロール３１の回転軸２１ｂの方
向に向けて先端をレジスト除去ロール３１と接触させ、
その表面に塗着したレジスト溶液２７を削ぎ取るもので
ある。

【００２８】上記の塗布装置の動作について図２（ｂ）
を参照しながら説明する。即ち、第１の実施の形態で説
明したのと同じ方法により、コーティングロール２１と
レジスト除去ロール３１とバックアップロール２５を回
転させる。コーティングロール２１の溝２１ｄに順次レ
ジスト溶液２７を満たしていく。また、ヘラ３２の尖っ
た先端部をレジスト除去ロール３１の第２の円柱体３１
ａの表面に接触させておく。

【００２９】更に、第１の実施の形態で説明したのと同
じ方法により、被塗布基板２６の表面にレジスト溶液２
７を塗布する。塗布後にレジスト溶液２７が残った溝２
１ｄの様子を図５（ｂ）に示す。コーティングロール２
１がさらに回転し、レジスト溶液２７が残った溝２１ｄ
がレジスト除去ロール３１と接触する。このとき、レジ
スト除去ロール３１のコーティングロール２１への押圧
力により、弾性を有する凸部２１ｃが潰れて溝２６内の
レジスト溶液２７がレジスト除去ロール３１の第２の円
柱体３１ａの表面と接触し、そのレジスト溶液２７が第
２の円柱体３１ａの表面に移転され、塗着される。そし
て、更なる回転により、順次溝２１ｄ内に残ったレジス
ト溶液２７が第２の円柱体３１ａの表面に移転され、塗
着されていく。そして、ヘラ３２の設置位置に達する
と、第２の円柱体３１ａの表面に塗着したレジスト溶液
２７はその表面から次々に除去されていく。

【００３０】次いで、コーティングロール２１のさらな
る回転によりレジスト容器２２の設置位置に再び戻って
きた溝２１ｄに適量の新たなレジスト溶液が供給され
る。このため、新しい被塗布基板２６に所定量のレジス
ト溶液を塗布することが可能となる。なお、塗布間隔
（タクトタイム）があいた場合には、コーティングロー
ル２１表面の溝２１ｄ内にレジスト容器２２からの供給
量がそのまま残ったまま塗布位置を通過するが、レジス
ト除去ロール３１によりそのレジスト溶液２７は完全に
除去されるので、レジスト溶液が除去された溝２１ｄが
再びレジスト容器２２の位置に戻る。このため、適量の
新たなレジスト溶液２７がコーティングロール２１に供
給され、連続して新たな被塗布基板２６に正常なレジス
ト塗布を行うことができ、これにより、大量生産向けの
塗布装置として用いることができる。

【００３１】以上のように、本発明の第２の実施の形態
においては、コーティングロール２１から一旦レジスト
除去ロール２３に残留レジスト溶液を移転させた後、レ
ジスト除去ロール２３の表面に塗着した残留レジスト溶
液をヘラで削ぎ取っている。コーティングロール２１に
直接ヘラを接触させてコーティングロール２１から直接
レジスト溶液を削ぎ取る場合と比べて弾性を有するコー
ティングロール２１を傷めなくて済む。

【００３２】なお、図２（ａ），（ｂ）では、回転可能
なレジスト除去ロール３１をレジスト容器２２から離れ
た所に設置しているが、図３に示すように、回転可能な
レジスト除去ロール４１をレジスト容器２２の近くに設
けて、ヘラ４２により削ぎ取られたレジスト２７を再び
レジスト容器２２に戻し、再利用することも可能であ
る。なお、図中、４１ａはレジスト除去ロール４１の円
柱体、４１ｂは円柱体４１ａの軸に沿って設けられた、
円柱体４１ａを回転させる回転軸である。

【００３３】（第３の実施の形態）図４（ａ），（ｂ）
は、本発明の第３の実施の形態に係る塗布装置を示す。
第１の実施の形態と異なるところは、レジスト除去ロー
ル３１の代わりに、コーティングロール２１表面のレジ
スト溶液を移転・塗着させる帯状のアルミ箔又はポリエ
チレンフィルム（帯状連続体）５２が用いられているこ
とである。更に、コーティングロール２１の両側部にこ
の帯状連続体５２の供給ロール５３と巻き取りロール５
４が設けられ、かつ帯状連続体５２をコーティングロー
ル２１と接触させている。この接触部は被塗布基板２６
へのレジスト溶液の塗布位置からレジスト容器２２の設
置位置に至る途中にくるようにしている。これにより、
被塗布基板２６へのレジスト溶液２７の塗布後にコーテ
ィングロール２１の溝２１ｄに残るレジスト溶液２７を
除去して、レジスト溶液残留のない溝２１ｄに新たなレ
ジスト溶液が供給されることになる。

【００３４】コーティングロール２１との接触部では、
帯状連続体５２をコーティングロール２１に押圧するた
め押圧ロール５１が設けられている。押圧ロール５１と
コーティングロール２１とは回転軸２１ｂ，５１ｂが互
いに平行に配置され、かつ押圧ロール５１の第２の円柱
体５１ａとコーティングロール２１の第１の円柱体２１
ａとの間に帯状連続体５２が挟まれて移動する。押圧ロ
ール５１はコーティングロール２１と逆方向に回転し、
帯状連続体５２を送る機能も有する。なお、帯状連続体
５２をコーティングロール２１に押圧する押圧力は、押
圧ロール５１の回転軸５１ｂを支持して移動させる図示
しない押圧力を調整する手段により調整可能となってい
る。

【００３５】この場合、アルミ箔又はポリエチレンフィ
ルム５２はゴム製のコーティングロール２１に対してレ
ジスト溶液に対する付着力が大きい。また、帯状連続体
５２のコーティングロール２１への押圧力により、コー
ティングロール２１の凸部２１ｃの潰れ量が変わり、移
転・塗着させるレジスト溶液量が変化する。従って、押
圧力を調整する手段によって押圧ロール５１の押圧力を
調整することにより、アルミ箔又はポリエチレンフィル
ム５２へのレジスト溶液２７の十分な移転・塗着が行わ
れ、コーティングロール２１の表面に残っているレジス
ト溶液２７をほぼ完全に除去することが可能である。な
お、コーティングロール２１と押圧ロール５１とは互い
に逆方向に回転するので、それらの間の押圧力を十分に
強くしてもコーティングロール２１の回転は妨げられな
い。

【００３６】以上のように、本発明の第３の実施の形態
においては、レジスト溶液を移転・塗着させる帯状連続
体５２がコーティングロール２１に接触して設けられて
おり、かつ押圧ロール５１及び押圧力を調整する手段に
より帯状連続体５２のコーティングロール２１への押圧
力を調整可能である。従って、その押圧力を適当に調整
することにより、帯状連続体５２へのレジスト溶液２７
の十分な移転・塗着が行われ、コーティングロール２１
の表面に残っているレジスト溶液２７をほぼ完全に除去
することができる。従って、次のレジスト塗布の際、常
に適量の新たなレジスト溶液２７をコーティングロール
２１の溝２１ｄに供給し、連続して新たな被塗布基板２
６に所定量のレジスト溶液を塗布することが可能とな
る。

【００３７】また、帯状連続体５２の供給ロール５３と
巻き取りロール５４を有するので、コーティングロール
２１の円柱体２１ａの表面に残ったレジスト溶液２７を
帯状連続体５２により連続して除去し、かつ適量の新た
なレジスト溶液２７をコーティングロール２１に供給す
ることができる。これにより、大量生産向けの塗布装置
として用いることができる。

【００３８】なお、第１〜第３の実施の形態では、コー
ティングロール２１のレジスト溶液溜まりとして第１の
円柱体２１ａに溝２１ｄを形成したものを用いている
が、図６（ａ），（ｂ）に示すような円柱体６１ａの表
面の円周方向に金属線や弾性を有する線材６１ｃが巻か
れて隣接する線材６１ｃの間にレジスト溶液が溜まる凹
部６１ｄが形成される、所謂バーコータのコーティング
ロール６１を用いてもよい。

【００３９】また、レジスト溶液の塗布に用いている
が、スピンオングラス溶液やポリイミド溶液等特に揮発
性の顕著な塗布液の塗布に用いる場合に有効である。更
に、第２の円柱体２３ａ及び押圧ロール５１ａとして金
属等の固い物質を用いているが、ゴム等の弾性体を用い
てもよい。

【００４０】

【発明の効果】以上のように、本発明においては、塗布
液を保持する凹部が形成された第１の円柱体に接触して
第２の円柱体が設けられ、かつ第２の円柱体と第１の円
柱体とは互いに反対方向に回転し、第２の円柱体との接
触により第１の円柱体の凹部内の塗布液を除去する。

【００４１】即ち、第１の円柱体と第２の円柱体とは互
いに反対方向に回転可能なので、第２の円柱体を第１の
円柱体に十分に押圧しても第１の円柱体の回転を妨げる
ことはない。これにより、第１の円柱体の表面に残って
いる塗布液をほぼ完全に除去することが可能である。従
って、本発明の塗布装置とベルトコンベア等被塗布基板
の自動送り装置を併用することにより、大量生産向けの
塗布装置として用いることができる。

【００４２】更に、第１の円柱体の凹部の残留塗布液は
第２の円柱体により除去されるので、第１の円柱体の凹
部が弾性を有する部材で作成されていても、第１の円柱
体の凸部を傷めなくて済む。また、塗布液を移転・塗着
させる帯状連続体が第１の円柱体に接触して設けられて
いる。従って、帯状連続体を移動させて、第１の円柱体
の表面に残った塗布液を帯状連続体により連続して除去
することができる。従って、本発明の塗布装置とベルト
コンベア等被塗布基板の自動送り装置を併用することに
より、大量生産向けの塗布装置として用いることができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１（ａ）は本発明の第１の実施の形態に係る
塗布装置の全体構成について示す斜視図、図１（ｂ）は
図１（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。

【図２】図２（ａ）は本発明の第２の実施の形態に係る
塗布装置の全体構成について示す斜視図、図２（ｂ）は
図２（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。

【図３】本発明の第２の実施の形態に係る他の塗布装置
の全体構成について示す断面図である。

【図４】図４（ａ）は本発明の第３の実施の形態に係る
塗布装置の全体構成について示す斜視図、図４（ｂ）は
図４（ａ）のＡ−Ａ線断面図である。

【図５】本発明の第１乃至第３の実施の形態に係る塗布
装置のコーティングロールの表面の詳細について示すＢ
−Ｂ線断面図である。

【図６】図６（ａ）は本発明の実施の形態に係る塗布装
置のコーティングロールについて示す斜視図、図６
（ｂ）は図６（ａ）のＢ−Ｂ線断面図である。

【図７】図７（ａ）は従来例に係る塗布装置の全体構成
について示す斜視図、図７（ｂ）は図７（ａ）のＡ−Ａ
線断面図である。

【図８】従来例に係る他の塗布装置の全体構成について
示す断面図である。

【符号の説明】

２１，６１ コーティングロール、 ２１ａ，６１ａ 第１の円柱体、 ２１ｂ，２３ｂ，２５ｂ，３１ｂ，４１ｂ，５１ｂ，５
３ｂ，５４ｂ，６１ｂ回転軸、 ２１ｃ 凸部、 ２１ｄ 溝（凹部）、 ２２ レジスト容器（塗布液容器）、 ２２ａ レジスト溶液溜め（塗布液溜め）、 ２２ｂ 突起、 ２３，３１，４１ レジスト除去ロール、 ２３ａ，３１ａ，４１ａ，５１ａ 第２の円柱体、 ２４ コンベアベルト、 ２５ バックアップロール、 ２５ａ ５３ａ，５４ａ 円柱体、 ２６ 被塗布基板、 ２７ レジスト溶液（塗布液）、 ３２，４２ ヘラ、 ５１ 押圧ロール、 ５２ アルミ箔又はポリエチレンフィルム（帯状連続
体）、 ５３ 供給用ロール（供給用円柱体）、 ５４ 巻き取り用ロール（巻き取り用円柱体）、 ６１ｃ 金属線又は弾性を有する線材、 ６１ｄ 凹部。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に塗布液を塗布する塗布装置であ
   って、 表面に凹部を有し、前記塗布液を前記基板に塗布する回
   転可能な第１の円柱体と、 前記第１の円柱体の少なくとも前記凹部に、塗布液を供
   給する塗布液供給手段と、 前記第１の円柱体の回転方向とは反対方向に回転し、前
   記第１の円柱体の凹部内の前記塗布液を、前記凹部内か
   ら除去する第２の円柱体とを備えたことを特徴とする塗
   布装置。
2. 【請求項２】 基板上に塗布液を塗布する塗布装置であ
   って、 表面に凹部を有し、前記塗布液を前記基板に塗布する回
   転可能な第１の円柱体と、 前記第１の円柱体の少なくとも前記凹部に、塗布液を供
   給する塗布液供給手段と、 前記第１の円柱体に接触し、該第１の円柱体の凹部内の
   前記塗布液を、前記凹部内から除去する帯状連続体とを
   備えたことを特徴とする塗布装置。
3. 【請求項３】 基板上に塗布液を塗布する塗布方法であ
   って、 表面に凹部を有する回転可能な第１の円柱体の該凹部内
   に、前記塗布液を供給する工程と、 次いで、前記第１の円柱体を回転させ、該凹部内の塗布
   液を前記基板に塗布する工程と、 次いで、該第１の円柱体の該回転方向とは反対方向に回
   転する第２の円柱体を用いて、該凹部内に残存する該塗
   布液を除去する工程とを含むことを特徴とする塗布方
   法。
4. 【請求項４】 基板上に塗布液を塗布する塗布方法であ
   って、 表面に凹部を有する回転可能な第１の円柱体の該凹部内
   に、前記塗布液を供給する工程と、 次いで、前記第１の円柱体を回転させ、該凹部内の塗布
   液を前記基板上に塗布する工程と、 次いで、前記第１の円柱体に接触する帯状連続体を用い
   て、前記凹部内に残存する前記塗布液を除去する工程と
   を含むことを特徴とする塗布方法。