JPH09171788A - 微小焦点ｘ線管球及びそれを用いた装置及びその使用方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 数μｍの範囲の直径の焦点が可能なＸ線管
球、特に微小焦点Ｘ線管球を提供する。 【解決手段】 陽極部材はチャンネルを含み、その端で
はターゲット要素が配置される。電子はチャンネルの表
面上に非常に小さな角度で入射し、ターゲット要素に向
かって弾性的に散乱され、Ｘ線はそこでその入射に応じ
てその中で形成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はＸ線管球に関し、よ
り詳細には電子の射出用の電子源と、電子源に向いたそ
の入口開口がその出口開口より大きな電子に対する円錐
型チャンネルを設けられた陽極部材とを含む微小焦点Ｘ
線管球に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種のＸ線管球はＤＥ−ＯＳ２００４
３５９から知られている。電子は陰極から陽極へ加速さ
れ、チャンネル内の平面上に主に入射する。従って、Ｘ
線はチャンネルを通して発生され、有用な放射は入口よ
り小さなチャンネルの出口にある放射出射窓を介して抽
出される。例えば一実施例では１ｍｍ²の小さな焦点が
このようにして達成される。

【０００３】しかしながら微小焦点Ｘ線管球は例えば１
０μｍのような直径を有する可能な限り小さな焦点を形
成可能でなければならない。その時に遭遇する第一の問
題は非常に小さな焦点に電子が集中することである。精
巧な光電子システムでさえもはやこの目的には適切では
ない。それに含まれる更なる問題は電子源は非常に小さ
くなければならないが、それにもかかわらず適切な濃度
の電子ビームを供給可能でなければならない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】故に本発明の目的はで
きるだけ小さな焦点を得るのに適切なＸ線管球を提供す
ることにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上記の種類のＸ線管球に
基づいて、この目的はチャンネルは小さな角度でチャン
ネルの表面上に入射するときに電子は出口開口に向かっ
て散乱され、Ｘ線がその中で電子の入射に応答して発生
するターゲット要素は電子の移動の方向で見たときにチ
ャンネルの出口開口の後ろに配置されるように配置さ
れ、構成される本発明により達成される。

【０００６】本発明は電子ビームとチャンネルの表面と
の間の角度が小さくなるとチャンネルに入来する電子の
増加する数はその表面から弾性的に散乱されるという事
実の認識に基づく。有用なＸ線がチャンネルの壁に直接
入射する電子により専ら発生される知られているＸ線管
球と反対に本発明によるＸ線管球は表面からターゲット
要素に散乱される電子と同様にチャンネルを介して電子
源から直接にターゲット要素上に入射する電子がターゲ
ット要素上に入射する有用なＸ線を発生するために用い
られる。

【０００７】この種のＸ線管球の更なる利点は焦点はチ
ャンネルの機械的な寸法、即ちその後ろにターゲット要
素が配置されるチャンネルの減少された出口開口の断面
によってのみ決定され、それが焦点の大きさを決定す
る。この場合にはチャンネルそれ自体がターゲット要素
として設けられず、即ちチャンネル内の電子の小さな部
分により発生されるＸ線は有用な放射として用いられな
い。チャンネルの円錐型の形状の故にその出口開口がそ
の入口開口より実質的に小さく、チャンネルそれ自体で
電子が有用なＸ線を発生しない故に本発明によるＸ線管
球は知られているＸ線管球より実質的に小さな焦点を実
現する。この内容で「円錐」という用語は回転対称断面
を意味する必要はない；例えば長方形又は多角形の断面
を有するチャンネルは本発明を実現するためにまた用い
られ得る。

【０００８】本明細書において、ターゲット要素は高い
原子番号Ｚを有する材料からなり、即ち２６より若干高
く、例えば金又はモリブデンであり、その中で電子の入
射が有用な放射としてＸ線管球から抽出されるＸ線を発
生する。知られている装置では開口の全角度は３度から
７度の範囲である。開口の大きな角度の故にその中のチ
ャンネルに入来する電子は開口に衝突するときに弾性散
乱を起こさずにＸ線を発生する。チャンネルを有する陽
極それ自体はこの場合にはターゲット要素として設けら
れ、チャンネル内で発生されたＸ線は有用な放射として
管球から抽出される。

【０００９】本発明を実施するために電子が中心軸に平
行に（又はこの場合には回転対称なチャンネルの対称軸
に平行に）向けられた放射ビームとしてチャンネルに入
射する絶対的な必要はない。光電子システムは電子はそ
の表面に概略平行なチャンネルに入来し、非常に小さな
角度で入射し、斯くして弾性散乱が可能となることを確
実にするために用いられる。好ましくはチャンネルは電
子が２度以上、好ましくは１度以上の角度でチャンネル
の表面に入射するように配置され構成される。

【００１０】その様な段階がチャンネル内に入来する前
に電子の軌跡に影響するようとられるときにチャンネル
の開口の全角度は所定の上限値以下にはもはやない。故
に本発明の実施例では開口の全角度は８度より大きくな
い。そのＸ線（ｒａｙ）がチャンネルの中心軸に平行に
向けられる平行な電子ビームがチャンネルの開口の全角
度が所定の値を超えないよう用いられる。実験室のテス
トは特に多数の電子が本発明の更なる実施例のチャンネ
ルで弾性的に散乱され、これはチャンネルが２度の開口
の全角度を有することを特徴とする。この更なる実施例
はまたそれが巧妙な光電子システムの使用を必要としな
いという利点を有する。

【００１１】本発明の実施例での陽極部材はチャンネル
の内面に陽極層として設けられ、この陽極層は原子番号
Ｚ＞２６を有する。好ましい実施例では陽極層は銅、銀
又は金からなる。その原子番号が低すぎる材料が陽極層
用に用いられたときには電子の入射での弾性散乱の確率
は顕著に低くなる。原子番号Ｚが非常に低い場合にはＺ
がより小さいので電子は陽極層に入射するときにますま
すより多くのエネルギーを失い、即ちより多くの数の電
子は弾性散乱せず、それによりＸ線管球の効率はより低
くなる。

【００１２】本発明の更なる実施例でのターゲット要素
はチャンネルの開口に直接向かい合うように配置される
円錐型凹部内のターゲット担体上に配置される。電子は
この凹部に直接入射し、そこでＸ線を発生する。故に電
子が入射するターゲット要素の表面は凹部を有さないタ
ーゲット要素に比べて増加するが、焦点は増加しない。
Ｘ線の収率は更に増加する。

【００１３】本発明の更なる実施例でのターゲット担体
はダイアモンドの薄板からなる。板の厚さは例えば概略
５００μｍのような数百μｍのオーダーである。本発明
の更なる実施例での陽極部材はターゲット要素の表面上
の電子焦点を環状に囲むように延在するよう構成され、
電子焦点に向き、その方向にテーパ付けられた少なくと
も２つのチャンネルを含み、電子源は陽極部材の周囲の
円の弧として配置される陰極要素である。陽極は最大の
電子の数を供給することが確認される。一方で単一のチ
ャンネルからなる陽極部材では例えば陰極フィラメント
である陰極要素の寸法は非常に小さく、正確に画成され
ていなければならないが、本発明では陰極要素は実質的
に大きく、故に実質的に大きな量の電子を供給する。こ
の実施例ではターゲット要素上に入射する電子の数の実
質的な増加の全ては達成された。

【００１４】本発明の代替的な実施例での陽極部材は湾
曲を有し、好ましくは半球状の面を有し、電子源は湾曲
を有し、好ましくは半球状の面を有し、陽極部材に向か
い合う。その様な構成は電子の非常によい合焦の達成を
可能とし、それにより電子源により出射された電子の多
くがチャンネルへ入来する。更にまた電子源及び陽極部
材の構成は電子が小さな角度でチャンネルの表面上に入
射し、所望のように出口開口に向かって散乱するような
電界の形成を可能にする。電子源と陽極部材の向かいあ
う表面は好ましくは球面の一部分として形成され、好ま
しくは半球状であり、曲率半径は概略等しい。しかしな
がら曲率半径は特に陽極部材の表面に要求される開口に
より生ずる電界の攪乱を補正するため特にまた異なる。

【００１５】本発明の更なる実施例での電子源は陰極要
素を含み、好ましくは陰極フィラメント又は陰極板を含
み、これはその湾曲した面の中心に配置される。この陰
極部材は例えばタングステンで作られ、表面の残りと同
じ電位を担持し、直接（陰極フィラメント）又は間接的
に（陰極板）加熱され、それにより電子は陰極部材によ
り専ら出射される。

【００１６】本発明の更なる実施例ではＸ線の有用なビ
ームはチャンネルの中心で中心軸に関して０度に等しく
ない角度で微小焦点Ｘ線管球から発生する。ターゲット
要素は例えば中心軸に関して９０゜でない角度で配置さ
れる。更なる焦点の減少は有用な放射ビームがターゲッ
ト要素の表面に関して９０゜と等しくない角度で発生す
る場合に達成される。

【００１７】本発明によるＸ線管球の正確な動作のため
に陽極部材又は陽極層は適切な熱導電性を有する。チャ
ンネル内の表面が可能な限り平滑、即ち可能な限り頂点
と谷の高さの平均が小さいことがまた重要である。表面
が充分平滑ではない場合には表面により散乱される電子
が再び吸収される。本発明の目的は本発明によるＸ線管
球を含むＸ線装置により達成される。以上の特性及び長
所に基づいて本発明によるＸ線管球又はＸ線装置は特に
集積回路内の電気的な接点領域のテストに対して特に適
切である。

【００１８】

【発明の実施の形態】本発明を図を参照して以下により
詳細に説明する。図１の符号１は陽極部材２と通常タン
グステンワイヤである陰極要素３とからなる電子源を示
す。電極４は陽極部材５と陰極フィラメント３との間で
約６０から２００ｋＶの電圧により陽極部材５へ加速さ
れる。陽極部材５は入り口開口１７を介して電子により
入来される円錐型チャンネル９を含み、電子４はそこを
通して電子源１からチャンネル９の減少された断面の開
口１３に存在するターゲット要素６へ移動する。ターゲ
ット要素６への電子４の入射は垂直な中心軸１２に関し
て０度と異なる角度でターゲット担体７を介して下方に
Ｘ線管球から発生するＸ線１１を発生する。通常の放射
によりターゲット要素６内で発生されたＸ線１１の一部
分のみを抽出するために陽極部材５を包囲する陽極ブロ
ック８はターゲット担体７の下のＸ線管球をまた封入
し、Ｘ線が有用な放射として抽出される領域でのみ放射
出射窓を設けられない。

【００１９】チャンネル９の内側で陽極部材５の表面は
陽極層１０を設けられ、これは好ましくは銅、金又は銀
である高熱伝導性を有する材料からなる。陽極部材５は
例えば銅からなる。チャンネル９に入来するが、ターゲ
ット要素６上に直接入射しない電子４は陽極層１０を貫
通するか又はそれにより弾性的に散乱される（エネルギ
ーの損失なしに）。電子が表面により反射される確率は
電子の軌跡と陽極層２０の表面との間の角度が小さいほ
どより高い。この配置で可能な限り多くの電子を確実に
反射するために、チャンネルの開口の全角度は中心軸１
２に平行に延在する電子線を有する電子放射ビーム４に
対して可能な限り小さくしなければならない。示される
実施例（尺度ではない）ではチャンネル９の直径は入り
口開口の最も広い部分で約１．５ｍｍであり、一方で出
口開口１３での直径は約１０から２０μｍ（又はそれ以
下）である。約５０ｍｍのチャンネル９の長さに対して
開口の全角度は斯くして約１．７度である。

【００２０】更にまた電子の高反射率に対して陽極層１
０の表面はまた可能な限り平滑であり、即ち非常に小さ
い頂点から谷への平均高さを有する。過剰な表面の粗さ
がある場合には電子が反射される代わりに陽極層内でエ
ネルギー損失を伴う非弾性的な散乱を生ずる。この場合
には数μｍの厚さを有し、高い原子番号Ｚからなる層に
より形成されたターゲット要素６は好ましくは金であ
り、例えば真空蒸着によりターゲット担体７上に恒久的
に設けられる。ターゲット担体７はＸ線管球の動作中に
ターゲット要素６から生ずる熱を放散するために例えば
ダイアモンドのように高い熱導伝性を有する材料からな
る。

【００２１】陽極部材５は鋼鉄の陽極ブロック８により
封入され、図１で垂直に延在し、陰極フィラメント３を
通る中心軸１２の周りに実質的に回転対称になるよう構
成される。この場合にはチャンネル９はまた中心軸１２
の周りに実質的に回転対称になるよう構成される。陽極
層１０の表面は０．１μｍ以下の頂点から谷への平均高
さを有さなければならない。望ましい上限の値は電子の
平均自由行程により与えられ、材料の型に依存すること
にもよる。金で作られた陽極層１０の場合には電子の平
均自由行程は１００ｋＶの電圧に対して０．０１μｍで
ある。その様な低い頂点から谷への平均高さを有する表
面が望ましいが非常に高価にならざるを得ない。

【００２２】チャンネル９のターゲット要素６に向かう
テーパ化はターゲット要素６上に合焦された電子ビーム
及び非常に小さく正確に画成された焦点を得る。非常に
高密度の電子ビームはターゲット要素６上に入射し、そ
れにより非常に高強度のＸ線ビームはターゲット要素６
の表面に関して形成される。代替的に図１に示される装
置はまた電子４が垂直１２に正確に対応しない方向から
チャンネル９へ入来するような仕方で形成される。更に
またチャンネル９は垂直１２に関して必ずしも回転対称
である必要はない。本発明に対して陽極層１０上への電
子４の入射の角度が可能な限り小さいことだけが重要で
ある。

【００２３】更なる実施例ではＸ線１１はまた垂直に下
方にも発生し（軸１２に沿って）又はＸ線１１が管球か
ら側方に発生するように反射ターゲットを用いる。図２
は本発明による微小焦点Ｘ線管球用の陽極部材５と直接
連結するターゲット担体１５を示す。陽極部材５はチャ
ンネル９と陽極層１０を含み、これにより入射電子は弾
性的に散乱する。開口の寸法と角度に関して図１に示さ
れる陽極部材と同じことが言える。ターゲット担体１５
はこの場合には低原子番号Ｚを有し、例えばベリリウ
ム、アルミニウム、ダイアモンド、炭素であり、約５０
０μｍの厚さを有する薄い板として構成される。ターゲ
ット担体１５は垂直軸１２に関して対称に配置された円
錐型凹部を設けられ、その表面はターゲット層１４であ
る。ターゲット層１４は高原子番号Ｚを有する材料から
なり、例えば金又はモリブデンであり、それは入射電子
により発生され、約３０度の角度範囲でターゲット担体
１５の底から放射されるＸ線１１に対する放出ターゲッ
トとして供給される。故にターゲット担体１５の下側部
分に、例えばＸ線１１をこの角度範囲でのみ放出する鉛
板でできた遮蔽１８が設けられる。

【００２４】冷却は例えばチャンネル９から環状に延在
する陽極部材５の冷却媒体ダクトにより実現される。代
替的に例えば１以上の冷却媒体ダクトがターゲット担体
１５の下側に設けられる。更なる実施例ではターゲット
層１４を含む完全なターゲット担体１５が高い原子番号
Ｚを有する材料からなる。図３は本発明による微小焦点
Ｘ線管球の更なる実施例の原理を示す。電子源はここで
はターゲット要素３１の表面上の電子焦点３６に関する
円の弧として配置される陰極フィラメント２５からな
る。陽極部材２６は同じ電子焦点３６に関して輪状に、
ターゲット要素３１と陰極フィラメント２５との間に配
置される。ターゲット要素３１はターゲット担体３０に
強固に取り付けられる。陽極部材２６は長方形の断面を
有し、ターゲット要素３１の方向にテーパ状の複数のチ
ャンネル２７、２８、２９からなる。斯くして陰極フィ
ラメント２５からの電子はチャンネル２７、２８、２９
を介して直接に（電子の軌跡３４）、又はチャンネル２
７、２８、２９の内側からターゲット要素３１へ散乱さ
れる（電子の軌跡３５）いずれかによりターゲット要素
３１に到達する。電子の一部分（電子の軌跡３３）は陽
極部材２６の外側表面上に入射し、斯くしてＸ線を発生
するが陽極材料の高原子番号の故に陽極部材２６で吸収
される。陽極部材２６とターゲット３１との間に電子焦
点上に直接位置する開口を含み、陽極部材２６内の電子
により発生するＸ線から下方にあるターゲット要素３１
を遮蔽するダイアフラム３２が配置される。

【００２５】陰極フィラメント２５の半径は典型的には
５０ｍｍである。陽極部材２６の外径は典型的には２５
ｍｍであり、内径は１０ｍｍである。陽極部材２６の外
縁でのチャンネル２７、２８、２９の断面の高さは１０
０μｍであり、その断面の幅は１００μｍである。陽極
部材２６の内縁での断面の高さは１００μｍであり、幅
は６０μｍである。この結果、チャンネル２７、２８、
２９は約０．１５度の開口の全角度を有する。図３に示
される装置を用いて、数１０μｍのオーダーの電子焦点
の全体は電子焦点３６に形成される。

【００２６】陰極フィラメント２５と陽極部材２６は電
子焦点３６の周辺で１８０度に亘る任意の角度範囲内に
配置される。実際的な実施例では概略６０゜の角度範囲
で充分であり、陽極の寸法はさもなければ非常に大きく
なってしまう。更にまたこの発明に対して、陽極部材が
２以上のチャンネルを含むことは不適切である。ターゲ
ット要素３１は図４に再び拡大された尺度で示される。
ダイアモンド担体層３７上にＸ線が電子の入射に応答し
て形成される金の層３８が設けられる。その上に金の層
３８とダイアモンド層３７に円錐型凹部４０上に直接配
置される開口に更なるダイアモンド層３９が設けられ
る。ダイアモンド層３９は電子が金の層３８の外側に入
射すること故にＸ線を発生することを防止する。

【００２７】図３に示される配列では図２に示されるタ
ーゲット担体１５はターゲット要素３１を有するターゲ
ット担体３０の代わりにまた用いられる。図５は本発明
によるＸ線管球の更なる実施例を示す。符号４１は電子
源を示し、符号４２は例えば電子源に対する電圧接続を
含む。符号４３はチャンネル４４と共に電子コリメータ
４５を含む陽極部材を示す。チャンネルの出口開口でそ
れからＸ線が下方に放射されるターゲット要素４６が再
び配置される。チューブ筐体４９は真空密封された方法
で上記配列を封入する。

【００２８】陽極部材４３は湾曲した表面４３０を有
し、それはこの場合に球面の一部、即ち概略半球状の部
分として形成され、例えば銅の層によりなる。球の中心
は対称軸４８上に配置され、電子がチャンネル４４がト
ラバースされた後にターゲット要素４６上に入射する概
略電子焦点５０に配置される。図６は陽極部材４３の平
面図である。この図はテーパ化された通路として構成さ
れるチャンネル４４が円形の断面を有することを示す。

【００２９】陽極部材４３に対向する好ましくは銅で作
られた電子源４１の表面４１０はまた球面の一部分とし
て概略形成される。概略２０ｍｍに達するその半径は本
実施例では概略４０ｍｍに達する陽極部材４３の外側半
径より小さい。これは表面４３０のチャンネル４４の開
口による電界の発散を補正するために必要である。図７
は電子源４１を下から見た図であり、タングステンの中
心に配置された陰極板５２を示す。これは電子がそこか
ら出射するようにヒーター要素（図示せず）により間接
的に加熱される。

【００３０】電子源４１と陽極部材４３の上記の構成に
よりその様な電界がそれらの間に存在し、そのために電
子は平行な電子ビームとしてチャンネル４４に入来でき
ず、それらがチャンネル４４の表面上で小さな角度に入
射し、好ましくは電子焦点５０の方向に散乱されるよう
な方法で若干湾曲された軌跡に沿って入来する。実際的
な実施例でのチャンネル４４は概略４度の開口の全角度
を有する。その様な配置は１２０ｋＶで作動するＸ線管
球で概略３０μｍの直径を有する焦点を提供する。斯く
して発生したＸ線は主に制動放射であり、少ない部分
（概略１０％）のみがターゲット材料の放射特性を有
し、他方では３０ｋＶで動作する知られたＸ線管球では
チャンネル内のターゲット材料への電子の入射はほとん
どどのような制動放射も生じず、ターゲット材料の放射
特性の放射のみが生ずる。管球電圧とチャンネルの開口
の全角度との間に関係が存在し、開口の全角度は電圧が
より高くなると減少しなければならないことは事実であ
る。しかしながらこの関係はわずかなもののみでありそ
れにより４度の開口の全角度は１２０ｋＶで動作する上
記のＸ線管球に対してもまた充分小さい。

【００３１】チャンネル４４を形成するために陽極部材
４３の表面４３０で要求される開口はそれを介して電子
が通過する導伝性薄膜により覆われる。電子源４１と陽
極部材４３との間の電界の発散はそれによりより少なく
なり、電子源の湾曲した表面４１０の半径は陽極部材４
３の表面４３０の半径より大きくなるように選択でき
る。

【００３２】図５に示されるこの実施例は開口の小さな
全角度、チャンネル内の少ない表面の粗さ、チャンネル
の表面材料の高い原子番号のような付与された要求が例
えば図１に示された実施例より厳しくない故に非常に好
ましい。本発明による微小焦点Ｘ線管球では高電子密度
及び小さな断面の電子ビームがターゲット要素上に形成
され、該断面は機械的に決定される。斯くして非常に小
さな焦点がターゲット要素上に達成され、その焦点は機
械的寸法に依存し、従来のＸ線管球のように電極電圧に
依存しない。焦点の大きさに関するＸ線収率は従来のＸ
線管球と比較して実質的により高い。効率（Ｘ線管球の
入力パワーに関するＸ線出力パワー）はまた従来のＸ線
管球より実質的に高い。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による微小焦点Ｘ線管球を示す。

【図２】本発明による微小焦点Ｘ線管球の陽極部材とタ
ーゲット要素の部分を示す。

【図３】本発明による微小焦点Ｘ線管球の更なる実施例
の原理を示す。

【図４】本発明による微小焦点Ｘ線管球に対するターゲ
ット要素を示す。

【図５】本発明による微小焦点Ｘ線管球の更なる実施例
を示す。

【図６】図５に示される電子源の平面図である。

【図７】図５に示される陽極部材の平面図である。

【符号の説明】

１ 電子源 ２ 陽極部材 ３ 陰極要素 ４ 電極 ４ 電子 ４ 電子放射ビーム ５ 陽極部材 ６ ターゲット要素 ７ ターゲット担体 ８ 陽極ブロック １０、２０ 陽極層 １１ Ｘ線 １２ 中心軸 １３ 開口 １７ 開口 ２５ 陰極フィラメント ２６ 陽極部材 ３１ ターゲット要素 ３６ 電子焦点 ４１ 電子源 ４２ 電圧接続 ４３ 陽極部材 ４４ チャンネル ４５ 電子コリメータ ４６ ターゲット要素 ４９ チューブ筐体 ５０ 電子焦点 ４１０ 表面 ４３０ 表面

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 電子（４）の射出用の電子源（１）と、
   電子源（１）に向いたその入口開口（１７）がその出口
   開口（１３）より大きな電子（４）に対する円錐型チャ
   ンネル（９）を設けられた陽極部材（５）とを含む特に
   微小焦点Ｘ線管球であるＸ線管球であって、 チャンネル（９）は小さな角度でチャンネル（９）の表
   面上に入射するときに電子（４）は出口開口（１３）に
   向かって散乱され、Ｘ線（１１）がその中で電子の入射
   に応答して発生するターゲット要素（６）は電子（４）
   の移動の方向で見たときにチャンネル（９）の出口開口
   （１３）の後ろに配置されるように配置されるよう構成
   されることを特徴とするＸ線管球。
2. 【請求項２】 チャンネル（９）は８度より小さい、よ
   り好ましくは２度より小さい開口の全角度を有すること
   を特徴とする請求項１記載のＸ線管球。
3. 【請求項３】 陽極部材（５）はチャンネル（９）の内
   側の陽極層（１０）を設けられ、その陽極層は原子番号
   Ｚ＞２６を有する材料からなることを特徴とする請求項
   １又は２記載のＸ線管球。
4. 【請求項４】 陽極層（１０）は銅、銀、又は金から作
   られることを特徴とする請求項３記載のＸ線管球。
5. 【請求項５】 ターゲット要素（１４）はチャンネル
   （９）の出口開口（１３）に直接向かい合うように配置
   される円錐型凹部（１６）内のターゲット担体（１５）
   上に配置されることを特徴とする請求項１乃至４のうち
   のいずれか１項記載のＸ線管球。
6. 【請求項６】 ターゲット担体（１５）はダイアモンド
   の薄板からなることを特徴とする請求項１乃至５のうち
   のいずれか１項記載のＸ線管球。
7. 【請求項７】 陽極部材（３２）はターゲット要素（３
   １）の表面上の電子焦点（３６）を環状に囲むように延
   在するよう構成され、電子焦点（３６）に向きその方向
   にテーパのつけられた少なくとも２つのチャンネル（２
   ７、２８、２９）を含み、電子源は陽極部材の周囲の円
   の弧として配置される陰極要素（２５）であることを特
   徴とする請求項１乃至６のうちのいずれか１項記載のＸ
   線管球。
8. 【請求項８】 陽極部材（４３）は湾曲を有し、好まし
   くは半球状の面（４３０）を有し、電子源（４１）は湾
   曲を有し、好ましくは陽極部材（４３）に向かい合う半
   球状の面（４１０）を有することを特徴とする請求項１
   乃至６のうちのいずれか１項記載のＸ線管球。
9. 【請求項９】 電子源（４１）は陰極要素を含み、好ま
   しくは陰極フィラメント又は陰極板（５２）を含み、こ
   れはその湾曲した面（４１０）の中心に配置されること
   を特徴とする請求項８記載のＸ線管球。
10. 【請求項１０】 Ｘ線の有用なビームはチャンネル
    （９）の中心での中心軸（１２）に関して０度でない角
    度でＸ線管球から発生することを特徴とする請求項１乃
    至９のうちのいずれか１項記載のＸ線管球。
11. 【請求項１１】 請求項１乃至１０のうちのいずれか１
    項記載のＸ線管球を含むＸ線装置。
12. 【請求項１２】 電気的接触領域、特に集積回路のテス
    トに対して請求項１記載のＸ線管球又は請求項１１記載
    のＸ線装置を使用する方法。