JPH09169891A - Epoxy resin composition for sealing material, its production and inorganic filler - Google Patents

Epoxy resin composition for sealing material, its production and inorganic filler

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JPH09169891A
JPH09169891A JP33300095A JP33300095A JPH09169891A JP H09169891 A JPH09169891 A JP H09169891A JP 33300095 A JP33300095 A JP 33300095A JP 33300095 A JP33300095 A JP 33300095A JP H09169891 A JPH09169891 A JP H09169891A
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epoxy resin
resin composition
inorganic filler
silane coupling
sealing material
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郁雄 中筋
Masashi Nakamura
正志 中村
Hiroyuki Shiraki
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain an epoxy resin composition for a sealing material, excellent in both soldering crack resistance and temperature cycle resistance by using an inorganic filler in a specified amount and specified silane coupling agents as the constituents. SOLUTION: This epoxy resin composition for a sealing material, is obtained by blending an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler and silane coupling agents and contains the inorganic filler in an amount of 70-95 pts.wt. based on 100 pts.wt. of the composition, wherein the silane coupling agents blended comprise a silane compound represented by formula I (wherein R<1> , R<3> and R<4> are each H or a 1-12C hydrocarbon group; R<2> is a 1-12C hydrocarbon group; and (n) is 1 to 3) and a silane compound represented by formula II (wherein R<5> is a 1-12C hydrocarbon group; R<6> and R<7> are each H or a 1-12C hydrocarbon group; and (m) is 1 to 3). A crystalline silica in particular is preferably used as the inorganic filler. It is desirable to blend the silane coupling agents each in an amount of 0.05-1.5 pts.wt. based on 100 pts.wt. inorganic filler.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体等の封止に
使用される封止材用エポキシ樹脂組成物及びそれに用い
られる無機充填材に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition for encapsulating materials used for encapsulating semiconductors and the like, and an inorganic filler used for the composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体装置などの電子部品の封止方法と
して、セラミックや、熱硬化性樹脂を用いる方法が、従
来より行われている。なかでも、エポキシ樹脂組成物に
よる封止が、経済性及び性能のバランスより好ましく、
広く行われている。このエポキシ樹脂組成物により封止
された半導体装置は、例えば配線回路を有する基板又は
リードフレーム用金属上に半導体チップを搭載し、その
半導体チップとリードフレームを金線等のボンディング
ワイヤーを用いて、溶着等の方法によって接続し、半導
体チップとボンディングワイヤーの全体及びリードフレ
ームの一部を、封止材で封止して形成されている。上記
リードフレームとしては、電気伝導性の性能の点より銅
製のリードフレームや、熱膨張率の性能の点より42ア
ロイ製のリードフレームが一般に使用されている。これ
らのリードフレームは、金線等のボンディングワイヤー
との接着性が低いため、リードフレームのボンディング
ワイヤーと接続しようとする部分にあらかじめ銀メッキ
や金メッキを行った後、ボンディングワイヤーと接続
し、接続の信頼性を改良する方法が検討されている。
2. Description of the Related Art As a method for sealing electronic components such as semiconductor devices, a method using ceramic or thermosetting resin has been conventionally used. Among them, encapsulation with an epoxy resin composition is more preferable than the balance between economic efficiency and performance,
Widely used. A semiconductor device sealed with this epoxy resin composition has, for example, a semiconductor chip mounted on a substrate having a wiring circuit or a lead frame metal, and the semiconductor chip and the lead frame are bonded with a bonding wire such as a gold wire. It is formed by connecting by a method such as welding and sealing the entire semiconductor chip and the bonding wire and a part of the lead frame with a sealing material. As the above-mentioned lead frame, a lead frame made of copper from the viewpoint of electric conductivity and a lead frame made of 42 alloy from the viewpoint of thermal expansion coefficient are generally used. Since these lead frames have low adhesiveness with bonding wires such as gold wires, the parts of the lead frame that are to be connected to the bonding wires are silver-plated or gold-plated in advance, and then connected to the bonding wires. Methods of improving reliability are being investigated.

【0003】近年、電子装置の小型化、薄型化のため、
半導体装置の実装方法が、従来のピン挿入実装方式から
表面実装方式へと移行している。従来のピン挿入実装方
式で半導体装置を実装する場合、一般に半導体装置の端
子(リードフレームの封止材で封止されていない部分)
のみハンダに浸漬し、封止材の部分は浸漬しないため、
封止材の温度はあまり高くならないが、表面実装方式で
半導体装置を実装する場合、ハンダリフロー等により、
封止材の部分と端子の部分が同様に加熱されるため封止
材は高い温度に曝されることとなり、場合によっては封
止材の部分は一般に黒色等に着色しているため端子の部
分よりも高い温度になる場合さえあった。この表面実装
方式の場合、半導体装置が吸湿していると、実装時の急
激な加熱により吸湿水分が急激に膨張することにより、
半導体装置の封止材の部分にクラックが発生し、信頼性
が低下するという問題が発生する場合があり、耐ハンダ
クラック性が優れた封止材用エポキシ樹脂組成物が求め
られている。
In recent years, in order to reduce the size and thickness of electronic devices,
The semiconductor device mounting method is shifting from the conventional pin insertion mounting method to the surface mounting method. When a semiconductor device is mounted by the conventional pin insertion mounting method, the terminal of the semiconductor device is generally used (the part of the lead frame that is not sealed with the sealing material).
Only the solder is soaked in the encapsulant, not the solder.
The temperature of the encapsulant does not rise so much, but when mounting the semiconductor device by surface mounting method, due to solder reflow etc.
Since the encapsulant part and the terminal part are heated in the same way, the encapsulant part is exposed to a high temperature. In some cases, the encapsulant part is generally colored in black or the like, so the terminal part There were even times when temperatures were higher than. In the case of this surface mounting method, if the semiconductor device absorbs moisture, the absorbed moisture rapidly expands due to rapid heating during mounting,
There is a case where a crack occurs in the sealing material portion of the semiconductor device and the reliability is deteriorated. Therefore, an epoxy resin composition for a sealing material having excellent solder crack resistance is required.

【0004】この耐ハンダクラック性の改良として、封
止材中に無機充填材を充填することにより封止材中の吸
湿しやすい成分であるエポキシ樹脂の量を減らし封止材
中の吸湿量を減らす方法や、吸湿率の低いエポキシ樹脂
等を用いる方法や、無機充填材の表面をシランカップリ
ング剤等により処理したものを用いる方法等が検討され
ている。
In order to improve the solder crack resistance, an inorganic filler is filled in the encapsulating material to reduce the amount of epoxy resin, which is a component that easily absorbs moisture, in the encapsulating material to reduce the amount of moisture absorbed in the encapsulating material. A method of reducing the amount, a method of using an epoxy resin or the like having a low moisture absorption rate, a method of using an inorganic filler whose surface is treated with a silane coupling agent, and the like are being studied.

【0005】しかし封止材中に無機充填材を高い比率で
加えて耐ハンダクラック性を改良した場合、実際に半導
体装置を使用するときに曝される温度サイクルにより、
リードフレームの銀メッキや金メッキを行った部分と封
止材及びリードフレームの銀メッキや金メッキを行って
いない部分と封止材との接合部に、これらの接着性が低
いためと推定されるが、クラックが発生する場合があ
り、リードフレームと封止材との接着性が高く、温度サ
イクルに曝されても封止材とリードフレームの接合部に
クラックが発生しにくい封止ができる封止材用エポキシ
樹脂組成物が求められている。
However, when a high proportion of an inorganic filler is added to the encapsulating material to improve the solder crack resistance, the temperature cycle exposed when the semiconductor device is actually used causes
It is presumed that the adhesiveness is low at the joint between the silver-plated or gold-plated part of the lead frame and the encapsulant and the part of the lead frame not silver-plated or gold-plated. , The cracks may occur, the adhesion between the lead frame and the encapsulant is high, and the encapsulant and the lead frame can be sealed without cracks even when exposed to a temperature cycle. There is a need for an epoxy resin composition for wood.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を改善するために成されたもので、耐ハンダクラック性
及び耐温度サイクル性が共に優れた封止材用エポキシ樹
脂組成物を提供することを目的とする。また、このよう
な封止材用エポキシ樹脂組成物の製造方法を提供するこ
とを目的とする。また、それを使用することにより、こ
のような封止材用エポキシ樹脂組成物を得ることができ
るようになる無機充填材を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above problems, and provides an epoxy resin composition for a sealing material, which is excellent in both solder crack resistance and temperature cycle resistance. The purpose is to do. Moreover, it aims at providing the manufacturing method of such an epoxy resin composition for sealing materials. Moreover, it aims at providing the inorganic filler which becomes possible to obtain such an epoxy resin composition for sealing materials by using it.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に係る
封止材用エポキシ樹脂組成物は、エポキシ樹脂、硬化
剤、無機充填材及びシランカップリング剤を配合してな
る封止材用エポキシ樹脂組成物100重量部中に、無機
充填材を70〜95重量部含有する封止材用エポキシ樹
脂組成物において、シランカップリング剤として、下記
式(a)で表されるシラン化合物及び下記式(b)で表
されるシラン化合物を配合していることを特徴とする。
An epoxy resin composition for encapsulant according to claim 1 of the present invention is an encapsulant prepared by blending an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler and a silane coupling agent. In the epoxy resin composition for encapsulants containing 70 to 95 parts by weight of an inorganic filler in 100 parts by weight of an epoxy resin composition, a silane compound represented by the following formula (a) as a silane coupling agent and the following: A silane compound represented by the formula (b) is blended.

【0008】[0008]

【化3】 Embedded image

【0009】[0009]

【化4】 Embedded image

【0010】本発明の請求項2に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物は、請求項1記載の封止材用エポキシ樹脂組
成物において、無機充填材が、シリカを含有しているこ
とを特徴とする。
The epoxy resin composition for encapsulant according to claim 2 of the present invention is the epoxy resin composition for encapsulant according to claim 1, characterized in that the inorganic filler contains silica. And

【0011】本発明の請求項3に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物は、請求項1又は請求項2記載の封止材用エ
ポキシ樹脂組成物において、上記式(a)で表されるシ
ランカップリング剤及び上記式(b)で表されるシラン
カップリング剤を、無機充填材100重量部に対して、
それぞれ0.05〜1.5重量部配合していることを特
徴とする。
An epoxy resin composition for encapsulant according to claim 3 of the present invention is the silane represented by the above formula (a) in the epoxy resin composition for encapsulant according to claim 1 or 2. The coupling agent and the silane coupling agent represented by the above formula (b) are added to 100 parts by weight of the inorganic filler.
Each of them is characterized by being mixed in an amount of 0.05 to 1.5 parts by weight.

【0012】本発明の請求項4に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物は、請求項1から請求項3のいずれかに記載
の封止材用エポキシ樹脂組成物において、結晶シリカを
無機充填材100重量部に対して、20〜100重量部
含有していることを特徴とする。
An epoxy resin composition for a sealing material according to a fourth aspect of the present invention is the epoxy resin composition for a sealing material according to any one of the first to third aspects, wherein crystalline silica is used as an inorganic filler. It is characterized by containing 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight.

【0013】本発明の請求項5に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物は、請求項1から請求項4のいずれかに記載
の封止材用エポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂
が、ビフェニル型エポキシ樹脂を含有していることを特
徴とする。
An epoxy resin composition for a sealing material according to a fifth aspect of the present invention is the epoxy resin composition for a sealing material according to any one of the first to fourth aspects, wherein the epoxy resin is a biphenyl type. It is characterized by containing an epoxy resin.

【0014】本発明の請求項6に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物は、請求項1から請求項5のいずれかに記載
の封止材用エポキシ樹脂組成物において、硬化剤が、ア
ラルキル型フェノール樹脂を含有していることを特徴と
する。
An epoxy resin composition for encapsulant according to claim 6 of the present invention is the epoxy resin composition for encapsulant according to any one of claims 1 to 5, wherein the curing agent is an aralkyl type. It is characterized by containing a phenol resin.

【0015】本発明の請求項7に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物の製造方法は、請求項1から請求項6のいず
れかに記載の封止材用エポキシ樹脂組成物の製造方法で
あって、無機充填材をシランカップリング剤で処理した
のち、封止材用エポキシ樹脂組成物に配合することを特
徴とする。
A method for producing an epoxy resin composition for encapsulant according to claim 7 of the present invention is the method for producing the epoxy resin composition for encapsulant according to any one of claims 1 to 6. Then, the inorganic filler is treated with a silane coupling agent and then mixed with the epoxy resin composition for a sealing material.

【0016】本発明の請求項8に係る無機充填材は、封
止材用エポキシ樹脂組成物に使用する無機充填材であっ
て、上記式(a)で表されるシランカップリング剤及び
上記式(b)で表されるシランカップリング剤で、処理
されていることを特徴とする。
The inorganic filler according to claim 8 of the present invention is an inorganic filler used in an epoxy resin composition for a sealing material, which comprises the silane coupling agent represented by the above formula (a) and the above formula. It is characterized by being treated with a silane coupling agent represented by (b).

【0017】本発明によると、上記式(a)及び上記式
(b)で表されるシランカップリング剤を封止材用エポ
キシ樹脂組成物に配合し、かつ、無機充填材を、封止材
用エポキシ樹脂組成物100重量部中に、70〜95重
量部含有しているため、これらのシランカップリング剤
が無機充填材とリードフレームとの密着力を改善し、ま
た、無機充填材が吸湿率を低下させるため、耐ハンダク
ラック性及び耐温度サイクル性が向上する。
According to the present invention, the silane coupling agent represented by the above formula (a) and the above formula (b) is blended with the epoxy resin composition for a sealing material, and the inorganic filler is added to the sealing material. Since 70 to 95 parts by weight is contained in 100 parts by weight of the epoxy resin composition for use, these silane coupling agents improve the adhesion between the inorganic filler and the lead frame, and the inorganic filler absorbs moisture. Since the rate is lowered, the solder crack resistance and the temperature cycle resistance are improved.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の封止材用エポキシ樹脂組
成物は、少なくともエポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材
及びシランカップリング剤として、上記式(a)で表さ
れるシラン化合物及び上記式(b)で表されるシラン化
合物を配合してなる。上記式(a)で表されるシラン化
合物及び上記式(b)で表されるシラン化合物を共に配
合していることが重要であり、これらのシランカップリ
ング剤を配合していない場合又は一方のみ配合している
場合は、リードフレームとの接着性が低下し、耐温度サ
イクル性が低下する。なお、上記式(a)で表されるシ
ラン化合物の内、下記式(c)で表されるN−フェニル
−γ−アミノプロピルトリメトキシシランを用い、上記
式(b)で表されるシラン化合物の内、下記式(d)で
表されるγ−メルカプトプロピルトリメトキシシランを
用いた場合、耐温度サイクル性を改良する効果が大きく
好ましい。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The epoxy resin composition for encapsulant of the present invention comprises at least an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler and a silane coupling agent, and a silane compound represented by the above formula (a) and the above. It is prepared by blending a silane compound represented by the formula (b). It is important that the silane compound represented by the above formula (a) and the silane compound represented by the above formula (b) are blended together. If these silane coupling agents are not blended or only one of them is blended. When it is mixed, the adhesiveness to the lead frame is lowered and the temperature cycle resistance is lowered. In addition, among the silane compounds represented by the above formula (a), N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane represented by the following formula (c) is used, and the silane compound represented by the above formula (b) is used. Among them, the use of γ-mercaptopropyltrimethoxysilane represented by the following formula (d) is preferable because the effect of improving the temperature cycle resistance is large.

【0019】[0019]

【化5】 Embedded image

【0020】[0020]

【化6】 [Chemical 6]

【0021】なお、上記式(a)で表されるシランカッ
プリング剤及び上記式(b)で表されるシランカップリ
ング剤を、無機充填材100重量部に対して、それぞれ
0.05〜1.5重量部、より好ましくは0.1〜1.
0重量部配合していることが好ましい。0.05重量部
未満の場合は、耐温度サイクル性を改良する効果が小さ
く、1.5重量部を越える場合は、封止材の強度が低下
し問題となる。
The silane coupling agent represented by the above formula (a) and the silane coupling agent represented by the above formula (b) are each contained in an amount of 0.05 to 1 with respect to 100 parts by weight of the inorganic filler. 0.5 parts by weight, more preferably 0.1-1.
It is preferable that 0 part by weight is blended. If it is less than 0.05 parts by weight, the effect of improving the temperature cycle resistance is small, and if it exceeds 1.5 parts by weight, the strength of the encapsulant is lowered, which is a problem.

【0022】なお、シランカップリング剤としては、上
記式(a)で表されるシラン化合物及び上記式(b)で
表されるシラン化合物のみを配合していることに限定す
るものではなく、更に必要に応じてエポキシシランや他
のアミノシラン等を配合していてもよい。また、これら
のシランカップリング剤は、封止材用エポキシ樹脂組成
物に直接添加してもよいが、あらかじめ無機充填材に直
接噴霧する方法や、シランカップリング剤を溶かした溶
液に無機充填材を浸漬する方法等により無機充填材をシ
ランカップリング剤で処理したのち、封止材用エポキシ
樹脂組成物に添加する方法の場合、封止材用エポキシ樹
脂組成物に直接添加する場合と比較して、封止材とリー
ドフレームとの接着性の改良や、耐温度サイクル性を改
良する効果を確実に得ることができ好ましい。
The silane coupling agent is not limited to the one containing only the silane compound represented by the above formula (a) and the silane compound represented by the above formula (b). You may mix | blend epoxysilane, other aminosilane, etc. as needed. Further, these silane coupling agents may be added directly to the epoxy resin composition for encapsulant, but they may be sprayed directly on the inorganic filler in advance, or the inorganic filler may be added to the solution in which the silane coupling agent is dissolved. After the inorganic filler is treated with a silane coupling agent by a method such as dipping, the method of adding it to the epoxy resin composition for encapsulant is compared with the case of adding it directly to the epoxy resin composition for encapsulant. Therefore, it is preferable that the adhesiveness between the encapsulant and the lead frame and the temperature cycle resistance can be improved.

【0023】本発明で使用する無機充填材としては特に
限定するものではなく、例えば結晶シリカ、非晶質シリ
カ、アルミナ、マグネシア、酸化チタン、炭酸カルシウ
ム、炭酸マグネシウム、窒化ケイ素、タルク、ケイ酸カ
ルシウム等が挙げられる。上記無機充填材は、単独で用
いても、2種類以上を併用してもよい。なお、無機充填
材を、封止材用エポキシ樹脂組成物100重量部中に、
70〜95重量部、より好ましくは80〜93重量部含
有することが重要である。無機充填材が70重量部未満
の場合、封止材の吸湿量が増加し、耐ハンダクラック性
が低下する場合があり問題となり、95重量部を越える
場合、封止材用エポキシ樹脂組成物の粘度が高くなり、
封止する際の成形性が低下し問題となる。なお、封止材
用エポキシ樹脂組成物中に、難燃剤、着色剤等として無
機物を配合した場合、上記重量部の計算に当たっては、
無機充填材として重量に加えて計算する。
The inorganic filler used in the present invention is not particularly limited, and examples thereof include crystalline silica, amorphous silica, alumina, magnesia, titanium oxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, silicon nitride, talc, calcium silicate. Etc. The inorganic filler may be used alone or in combination of two or more. In addition, the inorganic filler in 100 parts by weight of the epoxy resin composition for encapsulant,
It is important to contain 70 to 95 parts by weight, more preferably 80 to 93 parts by weight. If the amount of the inorganic filler is less than 70 parts by weight, the moisture absorption amount of the encapsulant may increase and the solder crack resistance may decrease, which is a problem. If the amount exceeds 95 parts by weight, the epoxy resin composition for an encapsulant may be used. Viscosity increases,
Formability at the time of sealing is lowered, which is a problem. In addition, in the epoxy resin composition for encapsulant, when an inorganic material is mixed as a flame retardant, a colorant, etc., in calculating the above-mentioned parts by weight,
Calculated in addition to weight as inorganic filler.

【0024】なお、無機充填材として結晶シリカ又は非
晶質シリカ等のシリカを用いた場合、封止材の線膨張係
数が小さくなり好ましい。特に結晶シリカを含有した封
止材用エポキシ樹脂組成物で銅製のリードフレームを封
止した場合、その封止材の線膨張係数と、銅製のリード
フレームの線膨張係数がほぼ同じになるため、さらに耐
ハンダクラック性が向上し好ましい。なお、結晶シリカ
を無機充填材100重量部に対して、20〜100重量
部含有すると、封止材と銅製のリードフレームとの線膨
張係数がほぼ同じになるため、耐ハンダクラック性が向
上する効果が得られる。
When silica such as crystalline silica or amorphous silica is used as the inorganic filler, the linear expansion coefficient of the encapsulant is small, which is preferable. In particular, when a copper lead frame is sealed with an epoxy resin composition for a sealing material containing crystalline silica, the linear expansion coefficient of the sealing material and the linear expansion coefficient of the copper lead frame are almost the same, Further, the solder crack resistance is improved, which is preferable. When 20 to 100 parts by weight of crystalline silica is contained with respect to 100 parts by weight of the inorganic filler, the linear expansion coefficient of the encapsulating material and that of the lead frame made of copper are almost the same, and the solder crack resistance is improved. The effect is obtained.

【0025】本発明で使用するエポキシ樹脂としては特
に限定するものではなく、例えばオルソクレゾールノボ
ラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹
脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、線状脂肪族エポキシ樹
脂、脂環式エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂等が挙
げられ、これらを単独で用いても、2種類以上を併用し
てもよい。なお、下記式(e)で表わされるビフェニル
型エポキシ樹脂は吸湿率の低いエポキシ樹脂のため、こ
の樹脂を含有する場合、耐ハンダクラック性が更に向上
し好ましい。なお、式中R11,R12,R13,R14は水素
又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
The epoxy resin used in the present invention is not particularly limited. For example, orthocresol novolac type epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, biphenyl type epoxy resin, linear aliphatic epoxy resin, alicyclic epoxy resin. , Heterocyclic epoxy resins and the like, and these may be used alone or in combination of two or more kinds. The biphenyl type epoxy resin represented by the following formula (e) is an epoxy resin having a low moisture absorption rate, and therefore, when this resin is contained, the solder crack resistance is further improved, which is preferable. In the formula, R 11 , R 12 , R 13 , and R 14 represent hydrogen or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms.

【0026】[0026]

【化7】 Embedded image

【0027】本発明で使用する硬化剤としては、エポキ
シ樹脂と反応して硬化させるものであれば特に限定する
ものではなく、例えばフェノールノボラック樹脂、クレ
ゾールノボラック樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ア
ラルキル型フェノール樹脂等の各種ノボラック樹脂、無
水フタル酸、無水ピロメット酸等の酸無水物、ジアミノ
ジフェニルメタン、メタフェニレンジアミン等の芳香族
アミン等が挙げられる。上記硬化剤は、単独で用いて
も、2種類以上を併用してもよく、その配合量として
は、通常エポキシ樹脂に対して、当量比で0.1〜10
の範囲で配合される。なお、下記式(f)で表わされる
アラルキル型フェノール樹脂を含有する場合、樹脂の強
度が高いため、耐ハンダクラック性及び耐温度サイクル
性が向上し好ましい。なお、式中pは0又は正の整数を
表す。アラルキル型フェノール樹脂は、フェノール、ク
レゾール等のフェノール類と、アラルキルエーテル類と
の反応で得られる樹脂組成物である。
The curing agent used in the present invention is not particularly limited as long as it cures by reacting with an epoxy resin. For example, phenol novolac resin, cresol novolac resin, naphthol novolac resin, aralkyl type phenol resin, etc. Various novolak resins, acid anhydrides such as phthalic anhydride and pyromellitic anhydride, aromatic amines such as diaminodiphenylmethane and metaphenylenediamine. The above curing agents may be used alone or in combination of two or more, and the compounding amount thereof is usually 0.1 to 10 in an equivalent ratio with respect to the epoxy resin.
It is blended in the range. In addition, when the aralkyl type phenol resin represented by the following formula (f) is contained, the strength of the resin is high, so that the solder crack resistance and the temperature cycle resistance are improved, which is preferable. In the formula, p represents 0 or a positive integer. The aralkyl-type phenol resin is a resin composition obtained by reacting phenols such as phenol and cresol with aralkyl ethers.

【0028】[0028]

【化8】 Embedded image

【0029】また、硬化剤として上記式(f)で表わさ
れるアラルキル型フェノール樹脂のフェノール部をα−
ナフトールに代えた、下記式(g)で表わされるフェノ
ール樹脂を含有する場合、樹脂の吸湿率が低くなるた
め、耐ハンダクラック性が向上し好ましい。なお、式中
qは0又は正の整数を表す。
Further, the phenol portion of the aralkyl type phenol resin represented by the above formula (f) is used as a curing agent in α-
When a phenol resin represented by the following formula (g) is contained in place of naphthol, the resin has a low moisture absorption rate, and thus the solder crack resistance is improved, which is preferable. In the formula, q represents 0 or a positive integer.

【0030】[0030]

【化9】 Embedded image

【0031】本発明の封止材用エポキシ樹脂組成物に
は、必要に応じて、硬化促進剤、離型剤、着色剤、低応
力化剤及び難燃剤等を配合させることもできる。硬化促
進剤としては例えば、1,8−ジアザ−ビシクロ(5,
4,0)ウンデセン−7、トリエチレンジアミン、ベン
ジルジメチルアミン等の三級アミン化合物、2−メチル
イミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、
2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル
イミダゾール等のイミダゾール化合物、トリフェニルホ
スフィン、トリブチルホスフィン等の有機ホスフィン化
合物等が挙げられる。離型剤としては例えば、カルナバ
ワックス、ステアリン酸、モンタン酸、カルボキシル基
含有ポリオレフィン等が挙げられる。着色剤としては例
えば、カーボンブラック、酸化チタン等が挙げられる。
低応力化剤としては例えば、シリコーンゲル、シリコー
ンゴム、シリコーンオイル等が挙げられる。難燃剤とし
ては例えば、三酸化アンチモン、ハロゲン化合物、リン
化合物等が挙げられる。これらの硬化促進剤、離型剤、
着色剤、低応力化剤及び難燃剤等は2種類以上を併用す
ることもできる。
If desired, the epoxy resin composition for encapsulant of the present invention may contain a curing accelerator, a release agent, a coloring agent, a stress reducing agent, a flame retardant, and the like. As the curing accelerator, for example, 1,8-diaza-bicyclo (5,5
(4,0) tertiary amine compounds such as undecene-7, triethylenediamine, benzyldimethylamine, 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole,
Examples thereof include imidazole compounds such as 2-phenylimidazole and 2-phenyl-4-methylimidazole, and organic phosphine compounds such as triphenylphosphine and tributylphosphine. Examples of the release agent include carnauba wax, stearic acid, montanic acid, carboxyl group-containing polyolefin and the like. Examples of the colorant include carbon black and titanium oxide.
Examples of the stress reducing agent include silicone gel, silicone rubber, silicone oil and the like. Examples of the flame retardant include antimony trioxide, halogen compounds, phosphorus compounds and the like. These curing accelerators, release agents,
Two or more kinds of colorants, stress reducing agents, flame retardants and the like can be used in combination.

【0032】本発明の封止材用エポキシ樹脂組成物は、
均一に混合され、混練されていることが好ましい。混練
の方法としては例えば、ロール、ニーダー、ミキサー等
を用いて加熱して行われ、その後冷却、粉砕するなどの
方法で封止材用エポキシ樹脂組成物は製造される。
The epoxy resin composition for encapsulant of the present invention is
It is preferable that they are uniformly mixed and kneaded. As a kneading method, for example, heating is performed using a roll, a kneader, a mixer, or the like, and then the epoxy resin composition for a sealing material is manufactured by a method such as cooling and pulverizing.

【0033】次に、本発明の請求項8に係る無機充填材
の実施の形態を説明する。本発明の請求項8に係る無機
充填材は、上記式(a)で表されるシランカップリング
剤及び上記式(b)で表されるシランカップリング剤で
処理されている、封止材用エポキシ樹脂組成物に使用す
る無機充填材である。封止材用エポキシ樹脂組成物10
0重量部中に無機充填材を70〜95重量部含有してい
る封止材用エポキシ樹脂組成物に、この無機充填材を使
用すると、耐ハンダクラック性及び耐温度サイクル性が
共に優れた封止材用エポキシ樹脂組成物が得られる。
Next, an embodiment of the inorganic filler according to claim 8 of the present invention will be described. The inorganic filler according to claim 8 of the present invention is for a sealing material, which is treated with a silane coupling agent represented by the above formula (a) and a silane coupling agent represented by the above formula (b). It is an inorganic filler used in an epoxy resin composition. Epoxy resin composition for sealing material 10
When this inorganic filler is used in an epoxy resin composition for encapsulant, which contains 70 to 95 parts by weight of the inorganic filler in 0 parts by weight, the sealing has excellent solder crack resistance and temperature cycle resistance. An epoxy resin composition for a stopping material is obtained.

【0034】[0034]

【実施例】【Example】

(実施例1〜7、比較例1〜5)封止材用エポキシ樹脂
組成物として、下記の3種類のエポキシ樹脂、2種類の
硬化剤、4種類の無機充填材、3種類のシランカップリ
ング剤、硬化促進剤、離型剤、着色剤及び難燃剤を表1
及び表2に示す重量比で配合した。なお、表1及び表2
の中で、充填材の比率は、封止材用エポキシ樹脂組成物
の重量部に対する、無機充填材と難燃剤の合計の重量部
を表し、結晶シリカの比率は、無機充填材の合計重量部
に対する、結晶シリカの重量部を表す。 ・エポキシ樹脂ア:上記式(e)で表され、R11
12,R13,R14が全て水素であるビフェニル型エポキ
シ樹脂[油化シェル社製、商品名YX4000H] ・エポキシ樹脂イ:上記式(e)で表され、R11
12,R13,R14が全て水素であるビフェニル型エポキ
シ樹脂と上記式(e)で表され、R11,R12,R13,R
14が全てメチル基であるビフェニル型エポキシ樹脂を重
量比で各50%混合した樹脂[油化シェル社製、商品名
YL6121] ・エポキシ樹脂ウ:テトラブロモビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂 ・硬化剤エ:上記式(f)で表されるアラルキル型フェ
ノール樹脂[住金化工社製、商品名HE−100] ・硬化剤オ:上記式(g)で表されるフェノール樹脂
[三井東圧社製、商品名αNX] ・無機充填剤カ:非晶質シリカ[電気化学工業社製、商
品名FB74] ・無機充填剤キ:非晶質シリカ[電気化学工業社製、商
品名FB30] ・無機充填剤ク:非晶質シリカ[龍森社製、商品名SO
25R] ・無機充填剤ケ:結晶シリカ[龍森社製、商品名3K
S] ・シランカップリング剤コ:上記式(c)で表されるN
−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン
[信越化学工業社製、商品名KBM573] ・シランカップリング剤サ:上記式(d)で表されるγ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン[東芝シリコ
ーン社製、商品名TSL8380E] ・シランカップリング剤シ:下記式(h)で表されるエ
ポキシシラン[東レダウコーニング社製、商品名SH6
040]
(Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5) As epoxy resin compositions for encapsulants, the following three types of epoxy resins, two types of curing agents, four types of inorganic fillers, and three types of silane couplings. Table 1 shows the agents, curing accelerators, release agents, colorants and flame retardants
And the weight ratio shown in Table 2. Table 1 and Table 2
In the above, the ratio of the filler represents the total weight part of the inorganic filler and the flame retardant with respect to the weight part of the epoxy resin composition for encapsulant, and the ratio of the crystalline silica is the total weight part of the inorganic filler. Represents the parts by weight of crystalline silica. Epoxy resin A: represented by the above formula (e), R 11 ,
Biphenyl type epoxy resin in which all of R 12 , R 13 and R 14 are hydrogen [YX400H, trade name YX4000H] -Epoxy resin a: represented by the above formula (e), R 11 ,
A biphenyl type epoxy resin in which R 12 , R 13 and R 14 are all hydrogen and represented by the above formula (e), R 11 , R 12 , R 13 and R
A resin in which biphenyl type epoxy resins in which 14 are all methyl groups are mixed in a weight ratio of 50% each [Yukaka Shell Co., trade name YL6121] -Epoxy resin C: Tetrabromobisphenol A type epoxy resin-Curing agent D: Above Aralkyl-type phenol resin represented by formula (f) [Sumikin Kako Co., Ltd., trade name HE-100] -Curing agent E: Phenolic resin represented by formula (g) [Mitsui Toatsu Co., Ltd. trade name αNX ] -Inorganic filler: amorphous silica [made by Denki Kagaku Kogyo, trade name FB74] -Inorganic filler Ki: amorphous silica [made by Denki Kagaku Kogyo, trade name FB30] -Inorganic filler Ku: non Crystalline silica [Tatsumori Co., trade name SO
25R] Inorganic filler K: crystalline silica [Tatsumori Co., product name 3K
S] -Silane coupling agent: N represented by the above formula (c)
-Phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KBM573] -Silane coupling agent: γ represented by the above formula (d)
-Mercaptopropyltrimethoxysilane [Toshiba Silicone Co., Ltd., trade name TSL8380E] Silane coupling agent Si: Epoxy silane represented by the following formula (h) [Toray Dow Corning Co., trade name SH6
040]

【0035】[0035]

【化10】 Embedded image

【0036】・硬化促進剤:トリフェニルホスフィン ・離型剤:カルナバワックス ・着色剤:カーボンブラック ・難燃剤:三酸化アンチモンCuring accelerator: triphenylphosphine Release agent: carnauba wax Colorant: carbon black Flame retardant: antimony trioxide

【0037】[0037]

【表1】 [Table 1]

【0038】[0038]

【表2】 [Table 2]

【0039】なお、上記シランカップリング剤は、あら
かじめ無機充填剤に直接噴霧して表面処理した後、配合
した。上記の各原料を混合した後、加熱ロールを用い
て、温度85℃で5分間混練し、次いで冷却した。その
後、粉砕して封止材用エポキシ樹脂組成物を得た。
The above-mentioned silane coupling agent was blended after being directly sprayed directly on the inorganic filler for surface treatment. After mixing each of the above raw materials, the mixture was kneaded with a heating roll at a temperature of 85 ° C. for 5 minutes and then cooled. Then, it pulverized and obtained the epoxy resin composition for sealing materials.

【0040】実施例1〜7及び比較例1〜5で得られた
封止材用エポキシ樹脂組成物をトランスファー成型機を
用いて、170℃の温度で90秒成形した後、175℃
の温度で6時間後硬化して評価用サンプルを作製した。
得られた評価用サンプルの耐温度サイクル性、耐ハンダ
クラック性、密着性、吸湿率、線膨張係数及び曲げ強度
を下記の方法で測定した。
The epoxy resin compositions for encapsulants obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Examples 1 to 5 were molded at a temperature of 170 ° C. for 90 seconds using a transfer molding machine, and then 175 ° C.
After curing at the temperature of 6 hours, a sample for evaluation was prepared.
The temperature cycle resistance, solder crack resistance, adhesion, moisture absorption coefficient, linear expansion coefficient, and bending strength of the obtained evaluation sample were measured by the following methods.

【0041】耐温度サイクル性は、9.6×9.6×
0.4mmの半導体チップを厚み150μmの銀メッキ
を施した銅製のリードフレームに銀ペーストで接着した
後、28×28×3.2mmの160ピンQFP型評価
用サンプルを上記方法で作製した。次いでこの評価用サ
ンプル10個を温度サイクル試験機で、−65℃30分
及び150℃30分の処理を1サイクルとし、500サ
イクル処理した。次いで評価用サンプルを半分に切断
し、切断面を研磨した後、顕微鏡でクラックの発生の大
きさを観察した。クラックの大きさが75μm(リード
フレームの厚みの半分)以上のものを不良として求め
た。
The temperature cycle resistance is 9.6 × 9.6 ×.
A 0.4 mm semiconductor chip was bonded to a 150 μm-thick silver-plated copper lead frame with silver paste, and then a 28 × 28 × 3.2 mm 160-pin QFP type evaluation sample was prepared by the above method. Next, the 10 samples for evaluation were treated with a temperature cycle tester for 500 cycles with treatment of -65 ° C for 30 minutes and 150 ° C for 30 minutes as one cycle. Next, the evaluation sample was cut in half, the cut surface was polished, and the size of cracks was observed with a microscope. A crack having a size of 75 μm (half the thickness of the lead frame) or more was determined as defective.

【0042】耐ハンダクラック性としては、9.6×
9.6×0.4mmの半導体チップを厚み150μmの
銀メッキを施した銅製のリードフレームに銀ペーストで
接着した後、15×19×1.8mmの60ピンQFP
型評価用サンプルを上記方法で作製した。次いでこの評
価用サンプル10個を85℃/85%RHの条件で72
時間処理した後、最高温度が245℃のハンダリフロー
装置で加熱した。次いで評価用サンプルを半分に切断
し、切断面を研磨した後、顕微鏡でクラックの発生の大
きさを観察した。クラックの大きさが75μm以上のも
のを不良として求めた。
The solder crack resistance is 9.6 ×
A 9.6 × 0.4 mm semiconductor chip is bonded to a 150 μm-thick silver-plated copper lead frame with silver paste, followed by 15 × 19 × 1.8 mm 60-pin QFP.
A mold evaluation sample was prepared by the above method. Then, 10 of these evaluation samples were used under conditions of 85 ° C./85% RH for 72 hours.
After the time treatment, it was heated by a solder reflow device having a maximum temperature of 245 ° C. Next, the evaluation sample was cut in half, the cut surface was polished, and the size of cracks was observed with a microscope. Those having a crack size of 75 μm or more were determined as defective.

【0043】密着性は、銀メッキを全面に施した厚み
0.5mmの銅板の片面に、プリン型評価用サンプルを
上記方法で作製した後、プッシュプルゲージを用いて、
剪断方向に引っ張り、破断したときの強度を求めた。
Adhesion was measured by using a push-pull gauge after preparing a pudding-type evaluation sample on one surface of a 0.5 mm-thick copper plate plated on the entire surface with the above method.
The strength at the time of breaking by pulling in the shearing direction was obtained.

【0044】線膨張係数は、直径5mm長さ20mmの
円柱型評価用サンプルを上記方法で作製した後、熱機械
測定(TMA)装置(理学電気社製、TAS200)を
用いて、50〜100℃の間の線膨張係数を求めた。
The coefficient of linear expansion was 50 to 100 ° C. using a thermomechanical measurement (TMA) device (TAS200, manufactured by Rigaku Denki Co., Ltd.) after a cylindrical evaluation sample having a diameter of 5 mm and a length of 20 mm was prepared by the above method. The coefficient of linear expansion between the two was determined.

【0045】吸湿率は、直径50mm厚み3mmの円盤
型評価用サンプルを上記方法で作製した後、125℃の
温度で16時間乾燥し、次いで85℃/85%RHの条
件で72時間処理した後、125℃の温度で16時間乾
燥した直後の重量との差を測定して増加率を計算して求
めた。
Regarding the moisture absorption rate, a disk-type evaluation sample having a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was prepared by the above method, dried at a temperature of 125 ° C. for 16 hours, and then treated at 85 ° C./85% RH for 72 hours. The difference from the weight immediately after drying at a temperature of 125 ° C. for 16 hours was measured and the rate of increase was calculated.

【0046】曲げ強度は、10×4×100mmの評価
用サンプルを上記方法で作製した後、JIS−K691
1に準じて室温で測定した。
The flexural strength was measured in accordance with JIS-K691 after preparing an evaluation sample of 10 × 4 × 100 mm by the above method.
It was measured at room temperature according to 1.

【0047】結果は表3に示したように、各実施例は比
較例1及び比較例3〜5と比較して耐ハンダクラック性
が良好であることが確認された。また各実施例は比較例
2〜4と比べ耐温度サイクル性が良好であることが確認
された。また各実施例は、上記式(a)及び上記式
(b)で表されるシランカップリング剤の一方又は両方
を配合していない比較例1〜4と比べ密着性が良好であ
り、また各実施例は無機充填材の量が少ない比較例5と
比べ吸湿率が低く良好であることが確認された。また、
無機充填材として、結晶シリカを無機充填材100重量
部に対して、20〜100重量部の範囲に含有した、実
施例1〜3は、実施例4、5及び実施例7と比較して、
銅製リードフレームの線膨張係数約1.7×10-5/℃
とほぼ同等であることが確認された。また、各実施例の
曲げ強度は比較例と差がないことを確認した。
As a result, as shown in Table 3, it was confirmed that each example had better solder crack resistance than Comparative Example 1 and Comparative Examples 3 to 5. It was also confirmed that each example had better temperature cycle resistance than Comparative Examples 2 to 4. Further, each of the examples has better adhesion than Comparative Examples 1 to 4 in which one or both of the silane coupling agents represented by the above formula (a) and the above formula (b) are not mixed, and each It was confirmed that the example has a lower moisture absorption rate and is better than the comparative example 5 in which the amount of the inorganic filler is small. Also,
Examples 1 to 3 containing crystalline silica as an inorganic filler in a range of 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic filler are compared with Examples 4, 5 and 7.
Linear expansion coefficient of copper lead frame about 1.7 × 10 -5 / ℃
It was confirmed to be almost equivalent to. It was also confirmed that the bending strength of each example was not different from that of the comparative example.

【0048】[0048]

【表3】 [Table 3]

【0049】[0049]

【発明の効果】本発明の請求項1から請求項6に係る封
止材用エポキシ樹脂組成物は、無機充填材を、封止材用
エポキシ樹脂組成物100重量部中に、70〜95重量
部含有し、更に上記式(a)及び上記式(b)で表され
るシランカップリング剤を封止材用エポキシ樹脂組成物
に配合しているため、この封止材用エポキシ樹脂組成物
を用いて封止をすると、耐ハンダクラック性及び耐温度
サイクル性が共に優れた封止品が得られる。
The epoxy resin composition for encapsulants according to claims 1 to 6 of the present invention contains an inorganic filler in an amount of 70 to 95 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin composition for encapsulant. Part, and since the silane coupling agent represented by the above formula (a) and the above formula (b) is blended in the epoxy resin composition for encapsulant, the epoxy resin composition for encapsulant is When used for sealing, a sealed product excellent in both solder crack resistance and temperature cycle resistance can be obtained.

【0050】本発明の請求項5に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物を用いて封止をすると、上記の効果に加えさ
らに、銅製リードフレームの線膨張係数とほぼ同様の線
膨張係数となる。
When the epoxy resin composition for encapsulant according to claim 5 of the present invention is used for encapsulation, in addition to the above effects, a linear expansion coefficient similar to that of the copper lead frame is obtained. .

【0051】本発明の請求項7に係る封止材用エポキシ
樹脂組成物の製造方法によると、耐ハンダクラック性及
び耐温度サイクル性が共に優れる効果を確実に得ること
ができる封止材用エポキシ樹脂組成物が得られる。
According to the method for producing an epoxy resin composition for encapsulant according to the seventh aspect of the present invention, the epoxy for encapsulant which can surely obtain the effects of both excellent solder crack resistance and temperature cycle resistance. A resin composition is obtained.

【0052】本発明の請求項8に係る無機充填材を、封
止材用エポキシ樹脂組成物100重量部中に無機充填材
を70〜95重量部含有している封止材用エポキシ樹脂
組成物に用いると、耐ハンダクラック性及び耐温度サイ
クル性が共に優れた封止品が得られる。
An epoxy resin composition for encapsulants, wherein the inorganic filler according to claim 8 of the present invention contains 70 to 95 parts by weight of the inorganic filler in 100 parts by weight of the epoxy resin composition for encapsulant. When used for, a sealed product excellent in both solder crack resistance and temperature cycle resistance can be obtained.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01L 23/31

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材及び
シランカップリング剤を配合してなる封止材用エポキシ
樹脂組成物100重量部中に、無機充填材を70〜95
重量部含有する封止材用エポキシ樹脂組成物において、
シランカップリング剤として、下記式(a)で表される
シラン化合物及び下記式(b)で表されるシラン化合物
を配合していることを特徴とする封止材用エポキシ樹脂
組成物。 【化1】 (式中R1,R3,R4 は水素又は炭素数1〜12の一価の
炭化水素基、R2 は炭素数1〜12の二価の炭化水素
基、nは1〜3の整数を表す。) 【化2】 (式中R5 は炭素数1〜12の二価の炭化水素基、R6,
7 は水素又は炭素数1〜12の一価の炭化水素基、m
は1〜3の整数を表す。)
1. An inorganic filler is added in an amount of 70 to 95 in 100 parts by weight of an epoxy resin composition for a sealing material, which comprises an epoxy resin, a curing agent, an inorganic filler and a silane coupling agent.
In the epoxy resin composition for sealing material containing by weight,
An epoxy resin composition for encapsulant, comprising a silane compound represented by the following formula (a) and a silane compound represented by the following formula (b) as a silane coupling agent. Embedded image (In the formula, R 1 , R 3 , and R 4 are hydrogen or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R 2 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, and n is an integer of 1 to 3 Is represented.) (In the formula, R 5 is a divalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, R 6 ,
R 7 is hydrogen or a monovalent hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms, m
Represents an integer of 1 to 3. )
【請求項2】 無機充填材が、シリカを含有しているこ
とを特徴とする請求項1記載の封止材用エポキシ樹脂組
成物。
2. The epoxy resin composition for a sealing material according to claim 1, wherein the inorganic filler contains silica.
【請求項3】 上記式(a)で表されるシランカップリ
ング剤及び上記式(b)で表されるシランカップリング
剤を、無機充填材100重量部に対して、それぞれ0.
05〜1.5重量部配合していることを特徴とする請求
項1又は請求項2記載の封止材用エポキシ樹脂組成物。
3. The silane coupling agent represented by the above formula (a) and the silane coupling agent represented by the above formula (b) are each added to 100 parts by weight of the inorganic filler, respectively.
The epoxy resin composition for encapsulants according to claim 1 or 2, wherein the epoxy resin composition is blended in an amount of 05 to 1.5 parts by weight.
【請求項4】 結晶シリカを無機充填材100重量部に
対して、20〜100重量部含有していることを特徴と
する請求項1から請求項3のいずれかに記載の封止材用
エポキシ樹脂組成物。
4. The epoxy for encapsulant according to claim 1, wherein the crystalline silica is contained in an amount of 20 to 100 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the inorganic filler. Resin composition.
【請求項5】 エポキシ樹脂が、ビフェニル型エポキシ
樹脂を含有していることを特徴とする請求項1から請求
項4のいずれかに記載の封止材用エポキシ樹脂組成物。
5. The epoxy resin composition for a sealing material according to claim 1, wherein the epoxy resin contains a biphenyl type epoxy resin.
【請求項6】 硬化剤が、アラルキル型フェノール樹脂
を含有していることを特徴とする請求項1から請求項5
のいずれかに記載の封止材用エポキシ樹脂組成物。
6. The curing agent contains an aralkyl type phenol resin, as claimed in any one of claims 1 to 5.
An epoxy resin composition for a sealing material according to any one of 1.
【請求項7】 無機充填材をシランカップリング剤で処
理したのち、封止材用エポキシ樹脂組成物に配合するこ
とを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載
の封止材用エポキシ樹脂組成物の製造方法。
7. The encapsulant according to claim 1, wherein the inorganic filler is treated with a silane coupling agent and then added to the epoxy resin composition for encapsulant. For producing epoxy resin composition for automobile.
【請求項8】 上記式(a)で表されるシランカップリ
ング剤及び上記式(b)で表されるシランカップリング
剤で、処理されている封止材用エポキシ樹脂組成物に使
用する無機充填材。
8. An inorganic material used in an epoxy resin composition for a sealing material, which is treated with a silane coupling agent represented by the above formula (a) and a silane coupling agent represented by the above formula (b). Filling material.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002128991A (en) * 2000-10-27 2002-05-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2002241585A (en) * 2001-02-19 2002-08-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2002249643A (en) * 2001-02-23 2002-09-06 Matsushita Electric Works Ltd Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JP2006193595A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Liquid sealing resin composition for underfill, semiconductor apparatus using the same and method for producing the same
WO2019139057A1 (en) * 2018-01-12 2019-07-18 Jnc株式会社 Composition for heat-dissipation member, heat-dissipation member, electronic apparatus, and production method for heat-dissipation member
WO2019194221A1 (en) * 2018-04-05 2019-10-10 Jnc株式会社 Composition for heat dissipating member, visible light reflective heat dissipating member, light emitting device, light emitting apparatus

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002128991A (en) * 2000-10-27 2002-05-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2002241585A (en) * 2001-02-19 2002-08-28 Sumitomo Bakelite Co Ltd Epoxy resin composition and semiconductor device
JP2002249643A (en) * 2001-02-23 2002-09-06 Matsushita Electric Works Ltd Epoxy resin composition for sealing semiconductor
JP4734731B2 (en) * 2001-02-23 2011-07-27 パナソニック電工株式会社 Method for producing epoxy resin composition for semiconductor encapsulation
JP2006193595A (en) * 2005-01-12 2006-07-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd Liquid sealing resin composition for underfill, semiconductor apparatus using the same and method for producing the same
WO2019139057A1 (en) * 2018-01-12 2019-07-18 Jnc株式会社 Composition for heat-dissipation member, heat-dissipation member, electronic apparatus, and production method for heat-dissipation member
JPWO2019139057A1 (en) * 2018-01-12 2021-01-28 Jnc株式会社 Method for manufacturing heat-dissipating member composition, heat-dissipating member, electronic device, heat-dissipating member
WO2019194221A1 (en) * 2018-04-05 2019-10-10 Jnc株式会社 Composition for heat dissipating member, visible light reflective heat dissipating member, light emitting device, light emitting apparatus

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