JPH09216937A - Epoxy resin composition and sealed electronic part - Google Patents

Epoxy resin composition and sealed electronic part

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JPH09216937A
JPH09216937A JP4551096A JP4551096A JPH09216937A JP H09216937 A JPH09216937 A JP H09216937A JP 4551096 A JP4551096 A JP 4551096A JP 4551096 A JP4551096 A JP 4551096A JP H09216937 A JPH09216937 A JP H09216937A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
epoxy
resin
inorganic filler
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Application number
JP4551096A
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Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Yokouchi
比斗志 横内
Hiroyuki Ohashi
宏之 大橋
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Kyocera Chemical Corp
Original Assignee
Toshiba Chemical Corp
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Publication date
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Priority to JP4551096A priority Critical patent/JPH09216937A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an epoxy resin compsn. improved in moldability and resistances to moisture and soldering heat by compounding an epoxy resin, a novolak phenol resin, an inorg. filler, a cure accelerator, and a specific polysiloxane. SOLUTION: This compsn. is prepd. by compounding an epoxy resin having at least two epoxy groups in the molecule, a novolak phenol resin in a molar ratio of its phenolic hydroxyl group to the epoxy group of the epoxy resin of 0.1-10, 25-95wt.% inorg. filler, 0.01-5wt.% phosphorus- or imidazol-based cure accelerator, and 0.01-2.0wt.% polysiloxane represented by the formula [wherein R<1> and R<2> are each (CH2 )x ; (x) is 1 or higher, and (n) is 50-300].

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半田耐熱性、成形
性に優れたエポキシ樹脂組成物およびそれによって封止
される電子部品封止装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an epoxy resin composition having excellent solder heat resistance and moldability, and an electronic component sealing device sealed by the epoxy resin composition.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路の分野において、
高集積化、高信頼性化の技術開発と同時に半導体装置の
実装工程の自動化が推進されている。例えばフラットパ
ッケージ型の半導体装置を回路基板に取り付ける場合
に、従来、リードピン毎に半田付けを行っていたが、最
近では装置全体を250 ℃に加熱した半田浴に浸漬して一
度に半田漬けを行う方法が採用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in the field of semiconductor integrated circuits,
At the same time as the development of high integration and high reliability technologies, automation of the mounting process of semiconductor devices has been promoted. For example, when mounting a flat package type semiconductor device to a circuit board, conventionally, each lead pin was soldered, but recently, the entire device is dipped in a solder bath heated to 250 ° C and soldered at once. The method has been adopted.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】従来のエポキシ樹脂、
ノボラック型フェノール樹脂および無機質充填剤からな
る樹脂組成物によって封止した半導体装置は、装置全体
の半田浴浸漬を行うと耐湿性が低下するという欠点があ
った。特に吸湿した半導体装置を浸漬すると、封止樹脂
と半導体チップ、あるいは封止樹脂とリードフレームの
間の剥がれや、内部樹脂クラックが生じて著しい耐湿性
劣化を起こし、電極の腐蝕による断線や水分によるリー
ク電流を生じ、その結果、半導体装置は、長期間の信頼
性を保証することができないという欠点があった。
The conventional epoxy resin,
A semiconductor device sealed with a resin composition consisting of a novolac type phenolic resin and an inorganic filler has a drawback that the moisture resistance is lowered when the entire device is immersed in a solder bath. In particular, when a semiconductor device that has absorbed moisture is immersed, peeling between the sealing resin and the semiconductor chip, or between the sealing resin and the lead frame, and internal resin cracks occur, causing significant deterioration of moisture resistance. Leakage current occurs, and as a result, the semiconductor device has a disadvantage that long-term reliability cannot be guaranteed.

【0004】本発明は、上記の欠点を解消するためにな
されたもので、吸湿の影響が少なく、特に半田浴浸漬後
の半田耐熱性、耐湿性、成形性に優れ、封止樹脂と半導
体チップ或いは封止樹脂とリードフレームとの剥がれや
内部樹脂クラックの発生がなく、また電極の腐蝕による
断線や水分によるリーク電流の発生もなく、長期信頼性
を保証できるエポキシ樹脂組成物および電子部品封止装
置を提供しようとするものである。
The present invention has been made in order to solve the above-mentioned drawbacks, has little influence of moisture absorption, is particularly excellent in solder heat resistance, moisture resistance and moldability after immersion in a solder bath, and has a sealing resin and a semiconductor chip. Alternatively, there is no peeling of the encapsulating resin and the lead frame or internal resin cracking, and there is no disconnection due to electrode corrosion or leak current due to moisture, and epoxy resin composition and electronic component encapsulation that can guarantee long-term reliability. It is intended to provide a device.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の目
的を達成しようと鋭意研究を重ねた結果、特定のポリシ
ロキサンを配合することによって、半田耐熱性、成形性
に優れ、半田浴浸漬後の耐湿性が向上することを見いだ
し、本発明を完成したものである。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies aimed at achieving the above object, the present inventors have found that by blending a specific polysiloxane, the solder heat resistance and the moldability are excellent and the solder bath is excellent. It was found that the moisture resistance after immersion is improved, and the present invention has been completed.

【0006】即ち、本発明は、(A)エポキシ樹脂、
(B)ノボラック型フェノール樹脂、(C)無機質充填
剤 (D)硬化促進剤および(E)次の一般式で示されるポ
リシロキサン
That is, the present invention provides (A) an epoxy resin,
(B) novolac type phenol resin, (C) inorganic filler, (D) curing accelerator, and (E) polysiloxane represented by the following general formula

【0007】[0007]

【化3】 (但し、式中、R1 ,R2 は−(CH2 x −基を、x
は1 以上の整数を、n は50〜300 の整数をそれぞれ表
す)を必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して前記
(C)の無機質充填剤を25〜95重量%の割合で含有して
なることを特徴とするエポキシ樹脂組成物である。ま
た、このエポキシ樹脂組成物の硬化物によって、電子部
品が封止されてなることを特徴とする電子部品封止装置
である。
Embedded image (However, in the formula, R 1 and R 2 are a-(CH 2 ) x- group,
Represents an integer of 1 or more, and n represents an integer of 50 to 300) as an essential component, and contains the inorganic filler (C) in a proportion of 25 to 95% by weight with respect to the entire resin composition. It is an epoxy resin composition characterized by the following. An electronic component sealing device is characterized in that an electronic component is sealed with a cured product of the epoxy resin composition.

【0008】以下、本発明を詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in detail.

【0009】本発明に用いる(A)エポキシ樹脂として
は、その分子中にエポキシ基を少なくとも2 個有する化
合物である限り、その分子構造、分子量等に特に制限は
なく、一般に封止用材料として使用されているものを広
く包含することができる。具体的なものとして例えば、
ビスフェノール型の芳香族系、シクロヘキサン誘導体等
の脂肪族系、ビフェニル型エポキシ樹脂、さらに、次の
一般式で示されるエポキシノボラック系の樹脂が挙げら
れる。
The epoxy resin (A) used in the present invention is not particularly limited in its molecular structure, molecular weight, etc., as long as it is a compound having at least two epoxy groups in its molecule, and it is generally used as a sealing material. It is possible to broadly include what has been done. As a concrete example, for example,
Examples thereof include bisphenol type aromatic type, aliphatic type such as cyclohexane derivative, biphenyl type epoxy resin, and epoxy novolac type resin represented by the following general formula.

【0010】[0010]

【化4】 (但し、式中、R1 は水素原子、ハロゲン原子またはア
ルキル基を、R2 は水素原子またはアルキル基を、n は
1 以上の整数をそれぞれ表す) これらのエポキシ樹脂は、単独又は混合して使用するこ
とができる。
Embedded image (In the formula, R 1 is a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group, R 2 is a hydrogen atom or an alkyl group, and n is
Each of these represents an integer of 1 or more) These epoxy resins can be used alone or in combination.

【0011】本発明に用いる(B)ノボラック型フェノ
ール樹脂としては、フェノール、アルキルフェノール等
のフェノール類とホルムアルデヒドあるいはパラホルム
アルデヒドとを反応させて得られるノボラック型フェノ
ール樹脂およびこれらの変性樹脂、例えばエポキシ化も
しくはブチル化ノボラック型フェノール樹脂等が挙げら
れ、これらは単独又は混合して使用することができる。
ノボラック型フェノール樹脂の配合割合は、前記(A)
エポキシ樹脂のエポキシ基(a)と(B)ノボラック型
フェノール樹脂のフェノール性水酸基(b)とのモル比
[(a)/(b)]が0.1 〜10の範囲内であることが望
ましい。モル比が0.1 未満もしくは10を超えると耐熱
性、耐湿性、成形作業性および硬化物の電気特性が悪く
なり、いずれの場合も好ましくない。
The novolak type phenolic resin (B) used in the present invention is a novolak type phenolic resin obtained by reacting phenols such as phenol and alkylphenol with formaldehyde or paraformaldehyde, and modified resins thereof such as epoxidized or Butylated novolac type phenolic resin and the like can be used, and these can be used alone or in combination.
The compounding ratio of the novolac type phenol resin is the same as the above (A).
It is desirable that the molar ratio [(a) / (b)] of the epoxy group (a) of the epoxy resin to the phenolic hydroxyl group (b) of the (B) novolak type phenol resin is within the range of 0.1 to 10. When the molar ratio is less than 0.1 or exceeds 10, the heat resistance, moisture resistance, molding workability and electrical properties of the cured product deteriorate, and in either case, it is not preferable.

【0012】本発明に用いる(C)無機質充填剤として
は、シリカ粉末、アルミナ、三酸化アンチモン、タル
ク、炭酸カルシウム、チタンホワイト、クレー、マイ
カ、ベンガラ、ガラス繊維等が挙げられ、これらは単独
又は2 種以上混合して使用することができる。これらの
なかでも特にシリカ粉末やアルミナ粉末が好ましく使用
される。無機質充填剤の配合割合は、全体の樹脂組成物
に対して25〜95重量%含有するように配合することが好
ましい。その割合が25重量%未満では耐熱性、耐湿性、
半田耐熱性に劣り、機械的特性や成形性が悪くなり、ま
た、95重量%を超えるとカサバリが大きくなり、成形性
に劣り好ましくない。
Examples of the inorganic filler (C) used in the present invention include silica powder, alumina, antimony trioxide, talc, calcium carbonate, titanium white, clay, mica, red iron oxide, glass fiber and the like, which may be used alone or Two or more kinds can be mixed and used. Among these, silica powder and alumina powder are particularly preferably used. It is preferable to mix the inorganic filler so that the inorganic filler is contained in an amount of 25 to 95% by weight based on the entire resin composition. If the proportion is less than 25% by weight, heat resistance, moisture resistance,
Solder heat resistance is poor, mechanical properties and moldability are poor, and if it exceeds 95% by weight, dryness becomes large and moldability is poor, which is not preferable.

【0013】本発明に用いる(D)硬化促進剤として
は、リン系硬化促進剤、イミダゾール系硬化促進剤、D
BU系硬化促進剤、その他の硬化促進剤等を広く使用す
ることができる。これらは単独又は混合して使用するこ
とができる。硬化促進剤の配合割合は、全体の樹脂組成
物に対して0.01〜5 重量%含有するように配合すること
が望ましい。その割合が0.01重量%未満では樹脂組成物
のゲルタイムが長く、硬化特性も悪くなり、また、5 重
量%を超えると極端に流動性が悪くなって成形性に劣
り、さらに電気特性も悪くなり、耐湿性に劣り好ましく
ない。
The (D) curing accelerator used in the present invention includes a phosphorus-based curing accelerator, an imidazole-based curing accelerator,
BU-based curing accelerators and other curing accelerators can be widely used. These can be used alone or as a mixture. It is desirable that the curing accelerator is blended in an amount of 0.01 to 5% by weight based on the total resin composition. If the proportion is less than 0.01% by weight, the gel time of the resin composition will be long and the curing characteristics will be poor, and if it exceeds 5% by weight, the fluidity will be extremely poor and the moldability will be poor, and the electrical characteristics will also be poor. Moisture resistance is inferior and not preferable.

【0014】本発明に用いる(E)ポリシロキサンとし
ては、アミノ基を分子中に少なくとも2 個有するもので
前記の一般式で示されるものを使用する。そのポリシロ
キサンの具体的な化合物として、例えば
As the (E) polysiloxane used in the present invention, those having at least two amino groups in the molecule and represented by the above general formula are used. As a specific compound of the polysiloxane, for example,

【0015】[0015]

【化5】 (但し、n は50〜300 の整数を表す)等が挙げられ、こ
れらは単独又は混合して使用することができる。またさ
らに、その他のエポキシ基、アミノ基、メルカプト基を
有するポリシロキサンを併用することができる。ポリシ
ロキサンの配合割合は、樹脂組成物に対して0.01〜2.0
重量%含有するように配合することが望ましい。この割
合が0.01重量%未満では、成形性に効果なく、2.0 重量
%を超えると半田耐熱性および成形性特に樹脂バリ等に
悪影響を及ぼし、実用に適さず好ましくない。
Embedded image (However, n represents an integer of 50 to 300) and the like, and these can be used alone or in combination. Furthermore, other polysiloxanes having an epoxy group, an amino group or a mercapto group can be used in combination. The compounding ratio of polysiloxane is 0.01 to 2.0 with respect to the resin composition.
It is desirable to formulate so as to contain the composition in a weight percentage. If the proportion is less than 0.01% by weight, the moldability is not effective, and if it exceeds 2.0% by weight, the solder heat resistance and the moldability, especially the resin burr are adversely affected, which is not suitable for practical use.

【0016】本発明のエポキシ樹脂組成物は、前述した
エポキシ樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、無機質充
填剤、硬化促進剤および特定のポリシロキサンを必須成
分とするが、本発明の目的に反しない限度において、ま
た必要に応じて、例えば、天然ワックス類、合成ワック
ス類、直鎖脂肪酸の金属塩、酸アミド、エステル類、パ
ラフィン等の離型剤、三酸化アンチモン等の難燃剤、カ
ーボンブラック、ベンガラ等の着色剤、シランカップリ
ング剤、ゴム系やシリコーン系の低応力付与剤等を適
宜、添加配合することができる。
The epoxy resin composition of the present invention contains the above-mentioned epoxy resin, novolac type phenol resin, inorganic filler, curing accelerator and specific polysiloxane as essential components, but within the range not deviating from the object of the present invention. Also, if necessary, for example, natural waxes, synthetic waxes, metal salts of straight chain fatty acids, acid amides, esters, release agents such as paraffin, flame retardants such as antimony trioxide, carbon black, red iron oxide, etc. The colorant, the silane coupling agent, the rubber-based or silicone-based low stress imparting agent, and the like can be appropriately added and blended.

【0017】本発明のエポキシ樹脂組成物を成形材料と
して調製する場合の一般的方法は、エポキシ樹脂、ノボ
ラック型フェノール樹脂、無機質充填剤、硬化促進剤、
特定のポリシロキサン、その他成分を配合し、ミキサー
等によって十分均一に混合し、さらに熱ロールによる溶
融混合処理またはニーダ等による混合処理を行い、次い
で冷却固化させ適当な大きさに粉砕して成形材料とする
ことができる。こうして得られた成形材料は、半導体装
置をはじめとする電子部品の封止、被覆、絶縁等に適用
すれば優れた特性と信頼性を付与させることができる。
また、電気部品の封止、被覆、絶縁等に適用することも
できる。
The general method for preparing the epoxy resin composition of the present invention as a molding material is as follows: epoxy resin, novolac type phenol resin, inorganic filler, curing accelerator,
A specific polysiloxane and other ingredients are mixed and mixed sufficiently well with a mixer, etc., and further subjected to melt mixing treatment with a heat roll or mixing treatment with a kneader etc., followed by cooling and solidifying and pulverizing to an appropriate size to form a molding material. Can be When the molding material thus obtained is applied to sealing, coating, insulation, etc. of electronic parts such as semiconductor devices, excellent properties and reliability can be imparted.
It can also be applied to sealing, covering, insulating, etc. of electric parts.

【0018】また、本発明の電子部品封止装置は、上述
の成形材料を用いて電子部品を封止することにより容易
に製造することができる。封止を行う電子部品として
は、例えば集積回路、大規模集積回路、トランジスタ、
サイリスタ、ダイオード等で特に限定されるものではな
い。封止の最も一般的な方法としては、低圧トランスフ
ァー成形法があるが、射出成形、圧縮成形、注形等によ
る封止も可能である。成形材料で封止後、加熱して硬化
させ、最終的にはこの硬化物によって封止された半導体
封止装置が得られる。加熱による硬化は、150 ℃以上に
加熱して硬化させることが望ましい。
The electronic component sealing device of the present invention can be easily manufactured by sealing the electronic component using the above-mentioned molding material. Examples of electronic components for sealing include integrated circuits, large-scale integrated circuits, transistors,
The thyristor and the diode are not particularly limited. The most common sealing method is a low pressure transfer molding method, but sealing by injection molding, compression molding, casting, or the like is also possible. After sealing with a molding material, it is heated and cured, and finally a semiconductor sealing device sealed with the cured product is obtained. The curing by heating is desirably performed by heating to 150 ° C. or more.

【0019】本発明は、エポキシ樹脂、ノボラック型フ
ェノール樹脂、無機質充填剤、硬化促進剤および特定の
ポリシロキサンを用いたことによって、吸湿による樹脂
組成物の劣化を防止し、成形性を向上したエポキシ樹脂
組成物および電子部品装置を製造することができる。
The present invention uses an epoxy resin, a novolac type phenol resin, an inorganic filler, a curing accelerator and a specific polysiloxane to prevent deterioration of the resin composition due to moisture absorption and improve moldability. A resin composition and an electronic component device can be manufactured.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】次に本発明を実施例によって説明
するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるも
のではない。以下の実施例および比較例において「%」
とは「重量%」を意味する。
Next, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. "%" In the following examples and comparative examples
Means "% by weight".

【0021】実施例1 ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量193 )8.5
%、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂(エ
ポキシ当量400 )1.5 %、ノボラック型フェノール樹脂
(水酸基当量104 )5.0 %、化5のポリシロキサン(平
均分子量5000)0.ほ5 %、溶融シリカ粉末81.2%、硬化
促進剤0.3 %、エステル系ワックス類0.3%、カーボン
ブラック0.3 %、三酸化アンチモン2.0 %およびγ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン0.4 %を常温で
混合し、さらに90〜95℃で混練し冷却した後、、適当な
大きさに粉砕して成形材料(A)を製造した。
Example 1 Biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent 193) 8.5
%, Tetrabromobisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 400) 1.5%, novolac type phenol resin (hydroxyl equivalent 104) 5.0%, polysiloxane of Chemical formula 5 (average molecular weight 5000) 0.5% 5%, fused silica powder 81.2% , 0.3% of hardening accelerator, 0.3% of ester waxes, 0.3% of carbon black, 2.0% of antimony trioxide and 0.4% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane at room temperature and further kneaded at 90 to 95 ° C. After cooling, it was crushed to an appropriate size to produce a molding material (A).

【0022】実施例2 ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量193 )8.5
%、テトラブロモビスフェノールA型エポキシ樹脂(エ
ポキシ当量400 )1.5 %、ノボラック型フェノール樹脂
(水酸基当量104 )5.0 %、化5のポリシロキサン(平
均分子量8000)0.5 %、溶融シリカ粉末81.2%、硬化促
進剤0.3 %、エステル系ワックス類0.3 %、カーボンブ
ラック0.3 %、三酸化アンチモン2.0 %およびγ−グリ
シドキシプロピルトリメトキシシラン0.4 %を常温で混
合し、さらに90〜95℃で混練し冷却した後、、適当な大
きさに粉砕して成形材料(B)を製造した。
Example 2 Biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent 193) 8.5
%, Tetrabromobisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 400) 1.5%, novolac type phenol resin (hydroxyl equivalent 104) 5.0%, polysiloxane of Chemical formula 5 (average molecular weight 8000) 0.5%, fused silica powder 81.2%, curing acceleration After mixing 0.3% of agent, 0.3% of ester wax, 0.3% of carbon black, 2.0% of antimony trioxide and 0.4% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane at room temperature, further kneading at 90 to 95 ° C and cooling. A molding material (B) was manufactured by crushing into a suitable size.

【0023】実施例3 ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量193 )8.5
%、テトラロモビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポ
キシ当量400 )1.5 %、ノボラック型フェノール樹脂
(水酸基当量104 )5.0 %、化5のポリシロキサン(平
均分子量8000)0.5%、溶融シリカ粉末81.2%、硬化促
進剤0.3 %、エステル系ワックス類0.3 %、カーボンブ
ラック0.3 %、三酸化アンチモン2.0 %およびγ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン0.4 %を常温で混合
し、さらに90〜95℃で混練し冷却した後、、適当な大き
さに粉砕して成形材料(C)を製造した。
Example 3 Biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent 193) 8.5
%, Tetralomobisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 400) 1.5%, novolac type phenol resin (hydroxyl equivalent 104) 5.0%, polysiloxane of Chemical formula 5 (average molecular weight 8000) 0.5%, fused silica powder 81.2%, curing acceleration Agent 0.3%, ester waxes 0.3%, carbon black 0.3%, antimony trioxide 2.0% and γ-mercaptopropyltrimethoxysilane 0.4% are mixed at room temperature, and after further kneading at 90 to 95 ° C. and cooling, A molding material (C) was manufactured by crushing to an appropriate size.

【0024】比較例 ビフェニル型エポキシ樹脂(エポキシ当量193 )8.5
%、テトラロモビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポ
キシ当量400 )1.5 %、ノボラック型フェノール樹脂
(水酸基当量104 )5.0 %、エポキシ・ポリエーテル変
性ポリシロキサン(平均分子量3000)0.5 %、溶融シリ
カ粉末72%、硬化促進剤0.3 %、エステル系ワックス類
0.3 %、カーボンブラック0.3 %、三酸化アンチモン2.
0 %およびγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン0.4 %を常温で混合し、さらに90〜95℃で混練し冷却
した後、、適当な大きさに粉砕して成形材料(D)を製
造した。
Comparative Example Biphenyl type epoxy resin (epoxy equivalent 193) 8.5
%, Tetralomobisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent 400) 1.5%, novolac type phenol resin (hydroxyl equivalent 104) 5.0%, epoxy polyether modified polysiloxane (average molecular weight 3000) 0.5%, fused silica powder 72%, 0.3% curing accelerator, ester wax
0.3%, carbon black 0.3%, antimony trioxide 2.
0% and 0.4% of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane were mixed at room temperature, further kneaded at 90 to 95 ° C, cooled, and then pulverized to an appropriate size to produce a molding material (D).

【0025】こうして製造した成形材料(A)〜(D)
を用いて 170℃に加熱した金型内にトランスファー注入
し、フォトカプラーを封止し硬化させて電子部品封止装
置を製造した。これらの電子部品封止装置について、諸
試験を行ったのでその結果を表1に示したが、本発明の
エポキシ樹脂組成物および電子部品封止装置は諸特性に
優れており、本発明の顕著な効果を確認することができ
た。
The molding materials (A) to (D) thus produced
Transfer injection was carried out into a mold heated to 170 ° C by using, and a photocoupler was sealed and cured to manufacture an electronic component sealing device. Various tests were conducted on these electronic component sealing devices, and the results are shown in Table 1. The epoxy resin composition and the electronic component sealing device of the present invention are excellent in various characteristics, and the remarkable features of the present invention. I was able to confirm the effect.

【0026】[0026]

【表1】 *1 :トランスファー成形によって直径50mm、厚さ3mm の成形品をつくり、これ を127 ℃、2 気圧の飽和水蒸気中に24時間放置し、増加した重量によって算出し た。 *2 :吸水率の試験と同じ成形品を作り、これを熱機器分析装置を用いて測定し た。 *3 :成形材料を用いて、2 本以上のアルミニウム配線を有するシリコン製チッ プ(テスト用素子)を、通常の42アロイフレームに接着し、175 ℃,2 分間トラ ンスファー成形して5 ×10×1.5mm のフラットパッケージ型半導体装置を作り、 その後175 ℃,8 時間の後硬化を行った。この半導体封止装置30個について、予 め40℃,90%RH,100 時間の吸湿処理した後、250 ℃の半田浴に10秒間浸漬し た。その後、127 ℃, 2.5気圧の飽和水蒸気中でPCTを行い、アルミニウムの 腐蝕による50%断線を不良として評価した。[Table 1] * 1: A transfer molded product with a diameter of 50 mm and a thickness of 3 mm was made, left in saturated steam at 127 ° C and 2 atm for 24 hours, and calculated by the increased weight. * 2: The same molded product as in the water absorption test was made and measured using a thermal instrument analyzer. * 3: A silicon chip (test element) with two or more aluminum wirings is bonded to a normal 42 alloy frame using the molding material, and transfer molding is performed at 175 ° C for 2 minutes to obtain 5 × 10 A flat package type semiconductor device with a size of × 1.5 mm was fabricated and then post-cured at 175 ° C for 8 hours. 30 semiconductor encapsulation devices were preliminarily subjected to moisture absorption treatment at 40 ° C, 90% RH for 100 hours and then immersed in a solder bath at 250 ° C for 10 seconds. Then, PCT was performed in saturated steam at 127 ° C. and 2.5 atm, and 50% disconnection due to corrosion of aluminum was evaluated as defective.

【0027】[0027]

【発明の効果】以上の説明及び表1から明らかなよう
に、本発明のエポキシ樹脂組成物および電子部品封止装
置は、半田浴浸漬後でも耐湿性に優れ、その結果、電極
の腐蝕による断線や水分によるリーク電流の発生等を著
しく低減することができ、しかも長時間にわたって信頼
性を保証することができる。また、250 ℃の半田浴浸漬
にもかかわらず優れた半田耐熱性を示した。
As is clear from the above description and Table 1, the epoxy resin composition and the electronic component sealing device of the present invention have excellent moisture resistance even after immersion in a solder bath, and as a result, breakage due to electrode corrosion It is possible to remarkably reduce the generation of leak current due to water and moisture, and to ensure the reliability for a long time. It also showed excellent solder heat resistance despite immersion in a solder bath at 250 ° C.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/31 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location H01L 23/31

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)エポキシ樹脂、(B)ノボラック
型フェノール樹脂、(C)無機質充填剤 (D)硬化促進剤および(E)次の一般式で示されるポ
リシロキサン 【化1】 (但し、式中、R1 ,R2 は−(CH2 x −基を、x
は1 以上の整数を、n は50〜300 の整数をそれぞれ表
す)を必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して前記
(C)の無機質充填剤を25〜95重量%の割合で含有して
なることを特徴とするエポキシ樹脂組成物。
1. An epoxy resin (A), a novolac type phenolic resin (B), an inorganic filler (C), a curing accelerator (E) and a polysiloxane represented by the following general formula: (However, in the formula, R 1 and R 2 are a-(CH 2 ) x- group,
Represents an integer of 1 or more, and n represents an integer of 50 to 300) as an essential component, and contains the inorganic filler (C) in a proportion of 25 to 95% by weight with respect to the entire resin composition. An epoxy resin composition comprising:
【請求項2】 (A)エポキシ樹脂、(B)ノボラック
型フェノール樹脂 (C)無機質充填剤 (D)硬化促進剤および(E)次の一般式で示されるポ
リシロキサン 【化2】 (但し、式中、R1 ,R2 は−(CH2 x −基を、x
は1 以上の整数を、n は50〜300 の整数をそれぞれ表
す)を必須成分とし、全体の樹脂組成物に対して前記
(C)の無機質充填剤を25〜95重量%の割合で含有した
エポキシ樹脂組成物の硬化物によって、電子部品が封止
されてなることを特徴とする電子部品封止装置。
2. An epoxy resin (A), a novolac type phenolic resin (B), an inorganic filler (C), a curing accelerator (E), and a polysiloxane represented by the following general formula: (However, in the formula, R 1 and R 2 are a-(CH 2 ) x- group,
Is an integer of 1 or more, and n is an integer of 50 to 300) as an essential component, and the inorganic filler of (C) is contained in a proportion of 25 to 95% by weight with respect to the entire resin composition. An electronic component encapsulation device, wherein an electronic component is encapsulated with a cured product of an epoxy resin composition.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008055042A1 (en) 2008-12-19 2010-06-24 Hüttenes-Albertus Chemische Werke GmbH Modified phenolic resins
JP2011236303A (en) * 2010-05-10 2011-11-24 Nitto Denko Corp Epoxy resin composition for sealing semiconductor and semiconductor device using the same

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US8569425B2 (en) 2008-12-19 2013-10-29 Huttenes-Albertus Chemische Werke Gmbh Modified phenolic resins
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