JPH09155580A - コンタクトマスク - Google Patents
コンタクトマスクInfo
- Publication number
- JPH09155580A JPH09155580A JP31780195A JP31780195A JPH09155580A JP H09155580 A JPH09155580 A JP H09155580A JP 31780195 A JP31780195 A JP 31780195A JP 31780195 A JP31780195 A JP 31780195A JP H09155580 A JPH09155580 A JP H09155580A
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- Japan
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- transparent member
- contact mask
- slit
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/362—Laser etching
- B23K26/364—Laser etching for making a groove or trench, e.g. for scribing a break initiation groove
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 デブリに影響されることなく所定のパターン
を加工面に形成し得るコンタクトマスクを提供する。 【解決手段】 透明部材７の下面に、光学的にスリット
として機能する透明部９を残して反射膜８を形成すると
ともに、この透明部９を透過したレーザ光で、透明部９
と同形の溝を加工面１１に形成し、さらに透明部材７の
下面に脚部１０を設けて溝加工に伴ない加工面１１から
発生するデブリを良好に除去し得るようにしたものであ
る。
を加工面に形成し得るコンタクトマスクを提供する。 【解決手段】 透明部材７の下面に、光学的にスリット
として機能する透明部９を残して反射膜８を形成すると
ともに、この透明部９を透過したレーザ光で、透明部９
と同形の溝を加工面１１に形成し、さらに透明部材７の
下面に脚部１０を設けて溝加工に伴ない加工面１１から
発生するデブリを良好に除去し得るようにしたものであ
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はコンタクトマスクに
関し、特に液晶カラーフィルタ等、高分子材料で形成し
た面に多数のスリット状の溝を形成する場合に適用して
有用なものである。
関し、特に液晶カラーフィルタ等、高分子材料で形成し
た面に多数のスリット状の溝を形成する場合に適用して
有用なものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶カラーフィルタは、例えばラップト
ップ形パソコンの表示部として利用されている。この種
の液晶カラーフィルタは、図３（ａ）に示すように、三
原色である赤（Ｒ），青（Ｂ），緑（Ｇ）に対応する三
種類の高分子材料で形成した着色層１，２，３を有して
おり、Ｒ，Ｂ，Ｇの各要素をガラス基板４上に透明電極
５を介して順に規則正しくマトリックス状に並べたもの
である。
ップ形パソコンの表示部として利用されている。この種
の液晶カラーフィルタは、図３（ａ）に示すように、三
原色である赤（Ｒ），青（Ｂ），緑（Ｇ）に対応する三
種類の高分子材料で形成した着色層１，２，３を有して
おり、Ｒ，Ｂ，Ｇの各要素をガラス基板４上に透明電極
５を介して順に規則正しくマトリックス状に並べたもの
である。
【０００３】かかる液晶カラーフィルタは、図３（ｂ）
に示すように、線状の各着色層１，２，３がその幅方向
で順次隣接するように、ガラス基板４上に透明電極５を
介して交互に平行に並べて形成した複数本の着色層１，
２，３に、線状の各着色層１，２，３の幅方向に伸びる
溝６を複数本形成してマトリックス化したものである。
に示すように、線状の各着色層１，２，３がその幅方向
で順次隣接するように、ガラス基板４上に透明電極５を
介して交互に平行に並べて形成した複数本の着色層１，
２，３に、線状の各着色層１，２，３の幅方向に伸びる
溝６を複数本形成してマトリックス化したものである。
【０００４】このとき、マトリックス状の着色層１，
２，３の一辺は、例えば数１００μｍと微小であり、ま
たこの溝６は例えばその幅が２５μｍで、±２μｍの加
工精度が要求され、その数は例えば４８０本という多数
本が必要とされる。
２，３の一辺は、例えば数１００μｍと微小であり、ま
たこの溝６は例えばその幅が２５μｍで、±２μｍの加
工精度が要求され、その数は例えば４８０本という多数
本が必要とされる。
【０００５】かかる微小で均質な多数本の溝６を複数本
づつ能率良く形成するための微細加工は、従来、フォト
リソグラフィの技術を利用して実現していた。
づつ能率良く形成するための微細加工は、従来、フォト
リソグラフィの技術を利用して実現していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】ところが、フォトリソ
グラフィではレジストの塗布からはじまり露光，現像，
エッチング等、多段のウェット工程を必要とするため製
造効率が悪いばかりでなく、これに要する装置の設備費
も膨大なものとなる。
グラフィではレジストの塗布からはじまり露光，現像，
エッチング等、多段のウェット工程を必要とするため製
造効率が悪いばかりでなく、これに要する装置の設備費
も膨大なものとなる。
【０００７】これに代わるものとして溝６に対応するス
リットを有するマスクを使用し、このマスクに矩形状の
レーザ光を照射して線状レーザ光を得、この線状レーザ
光で溝６を形成する技術が考えられる。
リットを有するマスクを使用し、このマスクに矩形状の
レーザ光を照射して線状レーザ光を得、この線状レーザ
光で溝６を形成する技術が考えられる。
【０００８】ところが、この場合には、マスクにおける
スリットの加工精度の制限から縮小投影系を使用しなけ
ればならない。マスクのスリットを透過して線状に成形
されたレーザ光を縮小投影系で縮小してはじめて所望の
精度で所望の線幅の線状レーザ光が得られるからであ
る。
スリットの加工精度の制限から縮小投影系を使用しなけ
ればならない。マスクのスリットを透過して線状に成形
されたレーザ光を縮小投影系で縮小してはじめて所望の
精度で所望の線幅の線状レーザ光が得られるからであ
る。
【０００９】すなわち、加工精度による制限という技術
的課題を解決し、形成すべき溝６の形状と同形状のスリ
ットを有するマスク、すなわち加工面上に直接載置し得
るコンタクトマスクを形成することができれば理想的で
ある。
的課題を解決し、形成すべき溝６の形状と同形状のスリ
ットを有するマスク、すなわち加工面上に直接載置し得
るコンタクトマスクを形成することができれば理想的で
ある。
【００１０】そこで、加工精度に関する技術課題を検討
した結果、フォトリソグラフィの技術を利用すれば、±
１μｍの加工精度で２５μｍの溝６を加工するためのス
リットを有するコンタクトマスクを作成し得ることが判
明した。
した結果、フォトリソグラフィの技術を利用すれば、±
１μｍの加工精度で２５μｍの溝６を加工するためのス
リットを有するコンタクトマスクを作成し得ることが判
明した。
【００１１】このコンタクトマスクは、図４に示すよう
に、フォトリソグラフィの技術を利用して平板状の透明
部材７の下面に反射コーティングを施して反射膜８を形
成し、その際溝６に対応する部分には反射膜８を施すこ
となく透明部９として残しておくことにより形成する。
このときの透明部材７としては合成石英が好適である。
に、フォトリソグラフィの技術を利用して平板状の透明
部材７の下面に反射コーティングを施して反射膜８を形
成し、その際溝６に対応する部分には反射膜８を施すこ
となく透明部９として残しておくことにより形成する。
このときの透明部材７としては合成石英が好適である。
【００１２】かくして、当該コンタクトマスクに上方か
ら入射した矩形状レーザ光は透明部９以外の部分では反
射膜８に反射されて加工面１１に達することはなく、透
明部９を透過したレーザ光のみが加工面１１に達するの
で、透明部９と同形の溝６を形成し得る。すなわち、透
明部９は機械的なスリットとしては機能しないが、光学
的にはスリットとして機能するこの場合の実効的なスリ
ットと考え得る。
ら入射した矩形状レーザ光は透明部９以外の部分では反
射膜８に反射されて加工面１１に達することはなく、透
明部９を透過したレーザ光のみが加工面１１に達するの
で、透明部９と同形の溝６を形成し得る。すなわち、透
明部９は機械的なスリットとしては機能しないが、光学
的にはスリットとして機能するこの場合の実効的なスリ
ットと考え得る。
【００１３】ところが、この場合新たな問題を生起す
る。それは、加工面１１が前記液晶フィルタの如く高分
子材料で形成されている場合、レーザ光が照射された部
分の高分子材料が蒸発して透明部９の下面に付着する
（このようにレーザ光の照射により蒸発する微粒子をデ
ブリと称す）結果、このデブリの付着によりコンタクト
マスクがマスクとして機能しなくなるというものであ
る。
る。それは、加工面１１が前記液晶フィルタの如く高分
子材料で形成されている場合、レーザ光が照射された部
分の高分子材料が蒸発して透明部９の下面に付着する
（このようにレーザ光の照射により蒸発する微粒子をデ
ブリと称す）結果、このデブリの付着によりコンタクト
マスクがマスクとして機能しなくなるというものであ
る。
【００１４】本発明は、上記問題点に鑑み、デブリに影
響されることなく所定のパターンを加工面に形成し得る
コンタクトマスクを提供することを目的とする。
響されることなく所定のパターンを加工面に形成し得る
コンタクトマスクを提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の構成は次の点を特徴とする。
明の構成は次の点を特徴とする。
【００１６】1) 平板状の透明部材の一面に、相互に平
行な多数のスリット状の透明部を残して反射膜を形成す
るとともに、透明部材の下面の下方に気体が流通する空
間が形成されるように透明部材の下面から突出する少な
くとも２本の脚部を透明部間に形成したこと。 2) 平板状の透明部材の一面に、相互に平行な多数のス
リット状の透明部を残して反射膜を形成するとともに、
透明部材の下面の下方に気体が流通する空間が形成され
るように透明部材の下面から突出する少なくとも２本の
脚部を透明部間に形成し、さらに気体が供給されるとと
もにこの気体を透明部材の下面の下方の空間に向けて噴
射する孔を有する気体噴射手段を透明部材に取付けたこ
と。 3) 1)又は2)において、透明部材は合成石英で構成した
こと。 4) 1)〜3)の何れか一つにおいて、脚部は隣接する透明
部間に、各透明部に沿って配設したこと。
行な多数のスリット状の透明部を残して反射膜を形成す
るとともに、透明部材の下面の下方に気体が流通する空
間が形成されるように透明部材の下面から突出する少な
くとも２本の脚部を透明部間に形成したこと。 2) 平板状の透明部材の一面に、相互に平行な多数のス
リット状の透明部を残して反射膜を形成するとともに、
透明部材の下面の下方に気体が流通する空間が形成され
るように透明部材の下面から突出する少なくとも２本の
脚部を透明部間に形成し、さらに気体が供給されるとと
もにこの気体を透明部材の下面の下方の空間に向けて噴
射する孔を有する気体噴射手段を透明部材に取付けたこ
と。 3) 1)又は2)において、透明部材は合成石英で構成した
こと。 4) 1)〜3)の何れか一つにおいて、脚部は隣接する透明
部間に、各透明部に沿って配設したこと。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態を図面に
基づき詳細に説明する。
基づき詳細に説明する。
【００１８】図１は本発明の実施の形態に係るコンタク
トマスクＩを概念的に示す説明図である。同図に示すよ
うに、このコンタクトマスクＩは図４に示すコンタクト
マスクに脚部１０を追加したものである。そこで、図４
と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略す
る。
トマスクＩを概念的に示す説明図である。同図に示すよ
うに、このコンタクトマスクＩは図４に示すコンタクト
マスクに脚部１０を追加したものである。そこで、図４
と同一部分には同一番号を付し、重複する説明は省略す
る。
【００１９】脚部１０は隣接する透明部９間に各透明部
９に沿って配設してあり、透明部材７と一体に形成して
ある。この結果、当該コンタクトマスクＩを加工面１１
に載置した場合、透明部材７の下面の下方、特に透明部
９の下面の下方には空間が形成される。このとき、脚部
１０で規定される空間は脚部１０の両端で開口してお
り、気体が流通し得る空間となっている。
９に沿って配設してあり、透明部材７と一体に形成して
ある。この結果、当該コンタクトマスクＩを加工面１１
に載置した場合、透明部材７の下面の下方、特に透明部
９の下面の下方には空間が形成される。このとき、脚部
１０で規定される空間は脚部１０の両端で開口してお
り、気体が流通し得る空間となっている。
【００２０】かかるコンタクトマスクＩによれば透明部
９がレーザ光に対して実効的なスリットとして機能し、
これと同形の溝６（図３（ｂ）参照）を加工面１１に形
成するとともに、このとき発生するデブリは透明部９の
下面の下方の空間に飛散するので、この空間内に別途気
体（例えばヘリウム、空気）を送給してやることにより
この空間内から排除することができ、デブリの透明部９
の下面への付着を防止することができる。
９がレーザ光に対して実効的なスリットとして機能し、
これと同形の溝６（図３（ｂ）参照）を加工面１１に形
成するとともに、このとき発生するデブリは透明部９の
下面の下方の空間に飛散するので、この空間内に別途気
体（例えばヘリウム、空気）を送給してやることにより
この空間内から排除することができ、デブリの透明部９
の下面への付着を防止することができる。
【００２１】この結果、溝６と同形のスリットを有する
コンタクトマスクとして良好に機能する。
コンタクトマスクとして良好に機能する。
【００２２】図２は本発明の他の実施の形態に係るコン
タクトマスクIIを概念的に示す説明図である。同図に示
すように、このコンタクトマスクIIは図１に示すコンタ
クトマスクＩに気体供給管１２を追加したものである。
そこで、図１と同一部分には同一番号を付し、重複する
説明は省略する。
タクトマスクIIを概念的に示す説明図である。同図に示
すように、このコンタクトマスクIIは図１に示すコンタ
クトマスクＩに気体供給管１２を追加したものである。
そこで、図１と同一部分には同一番号を付し、重複する
説明は省略する。
【００２３】気体供給管１２は透明部９の下方の空間に
臨んで開口する孔１２ａを有しており、開口部１３から
供給されるヘリウム、空気等の気体を孔１２ａを介して
前記空間内に噴射する。かくして、空間内に浮遊するデ
ブリはこの空間内から排除される。
臨んで開口する孔１２ａを有しており、開口部１３から
供給されるヘリウム、空気等の気体を孔１２ａを介して
前記空間内に噴射する。かくして、空間内に浮遊するデ
ブリはこの空間内から排除される。
【００２４】上述の２つの実施の形態においては、脚部
１０は隣接する透明部９間に全て設けたが、この数に特
別な制限はない。透明部材７の下面の下方、特に透明部
９の下方に空間が形成されれば良い。ただ、この空間の
高さ方向の寸法は非常に小さいので、透明部材７の剛性
にもよるが、隣接する全ての透明部９間に配設するのが
勿論最良である。
１０は隣接する透明部９間に全て設けたが、この数に特
別な制限はない。透明部材７の下面の下方、特に透明部
９の下方に空間が形成されれば良い。ただ、この空間の
高さ方向の寸法は非常に小さいので、透明部材７の剛性
にもよるが、隣接する全ての透明部９間に配設するのが
勿論最良である。
【００２５】また、図１，図２では理解を容易にするた
め、コンタクトマスクＩ，IIの他の部分に較べた厚さ
は、実際のものよりも可成り厚く表現してあるが、実際
の厚さ寸法は１ｍｍ程度であり、他の短辺及び長辺の長
さは、例えば１５０ｍｍ，２００ｍｍである。このと
き、脚部１０の高さは、光の解像度が許容する範囲で低
く形成する。
め、コンタクトマスクＩ，IIの他の部分に較べた厚さ
は、実際のものよりも可成り厚く表現してあるが、実際
の厚さ寸法は１ｍｍ程度であり、他の短辺及び長辺の長
さは、例えば１５０ｍｍ，２００ｍｍである。このと
き、脚部１０の高さは、光の解像度が許容する範囲で低
く形成する。
【００２６】
【発明の効果】以上実施の形態とともに具体的に説明し
たように、本発明によれば、加工形状と同形状の実効的
なスリットとして機能する透明部を有するので、極めて
能率的に所定の加工を行なうことができる。
たように、本発明によれば、加工形状と同形状の実効的
なスリットとして機能する透明部を有するので、極めて
能率的に所定の加工を行なうことができる。
【００２７】また、加工物がデブリを発生してもこれを
排除することができるので、所定の加工の障害となるこ
とはない。
排除することができるので、所定の加工の障害となるこ
とはない。
【図１】本発明の実施の形態に係るコンタクトマスクを
概念的に示す説明図。
概念的に示す説明図。
【図２】本発明の他の実施の形態に係るコンタクトマス
クを概念的に示す説明図。
クを概念的に示す説明図。
【図３】加工物である液晶カラーフィルタを概念的に示
す説明図。
す説明図。
【図４】コンタクトマスクの基本的な概念を示す説明
図。
図。
Ｉ，II コンタクトマスク ７ 透明部材 ８ 反射膜 ９ 透明部 １０ 脚部 １１ 加工面 １２ 気体供給管 １２ａ 孔
Claims (4)
- 【請求項１】 平板状の透明部材の一面に、相互に平行
な多数のスリット状の透明部を残して反射膜を形成する
とともに、透明部材の下面の下方に気体が流通する空間
が形成されるように透明部材の下面から突出する少なく
とも２本の脚部を透明部間に形成したことを特徴とする
コンタクトマスク。 - 【請求項２】 平板状の透明部材の一面に、相互に平行
な多数のスリット状の透明部を残して反射膜を形成する
とともに、透明部材の下面の下方に気体が流通する空間
が形成されるように透明部材の下面から突出する少なく
とも２本の脚部を透明部間に形成し、さらに気体が供給
されるとともにこの気体を透明部材の下面の下方の空間
に向けて噴射する孔を有する気体噴射手段を透明部材に
取付けたことを特徴とするコンタクトマスク。 - 【請求項３】 透明部材は合成石英で構成したことを特
徴とする［請求項１］又は［請求項２］に記載するコン
タクトマスク。 - 【請求項４】 脚部は隣接する透明部間に、各透明部に
沿って配設したことを特徴とする［請求項１］〜［請求
項３］の何れか一つに記載するコンタクトマスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31780195A JPH09155580A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | コンタクトマスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31780195A JPH09155580A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | コンタクトマスク |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09155580A true JPH09155580A (ja) | 1997-06-17 |
Family
ID=18092196
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31780195A Pending JPH09155580A (ja) | 1995-12-06 | 1995-12-06 | コンタクトマスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09155580A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7838796B2 (en) * | 2004-11-29 | 2010-11-23 | Fujitsu Limited | Stack structure cutting method and stack structure |
-
1995
- 1995-12-06 JP JP31780195A patent/JPH09155580A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7838796B2 (en) * | 2004-11-29 | 2010-11-23 | Fujitsu Limited | Stack structure cutting method and stack structure |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20030401 |