JPH09155142A - 気液接触による特定成分除去方法並びに除去装置及び該装置に用いるトレイ - Google Patents
気液接触による特定成分除去方法並びに除去装置及び該装置に用いるトレイInfo
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- JPH09155142A JPH09155142A JP7345335A JP34533595A JPH09155142A JP H09155142 A JPH09155142 A JP H09155142A JP 7345335 A JP7345335 A JP 7345335A JP 34533595 A JP34533595 A JP 34533595A JP H09155142 A JPH09155142 A JP H09155142A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高い吸収効率と除塵効率を達成することので
きる気液接触による特定成分除去方法の提供。 【解決手段】 ２０〜６０％の開口率を有する多孔板
を、２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で少なくとも二枚以上
積層して、これら多孔板の間に気液接触空間を形成し、
前記多孔板の上方ら処理液を供給するとともに、前記多
孔板の下方から被処理ガスを供給し、前記気液接触空間
内において前記処理液と被処理ガスを激しく気液接触さ
せることによって被処理ガス中の特定成分を除去する。
きる気液接触による特定成分除去方法の提供。 【解決手段】 ２０〜６０％の開口率を有する多孔板
を、２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で少なくとも二枚以上
積層して、これら多孔板の間に気液接触空間を形成し、
前記多孔板の上方ら処理液を供給するとともに、前記多
孔板の下方から被処理ガスを供給し、前記気液接触空間
内において前記処理液と被処理ガスを激しく気液接触さ
せることによって被処理ガス中の特定成分を除去する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種工業における
工場排気ガス中から特定の成分を気液接触法によって除
去する方法並びに装置及び該装置に用いるトレイに関す
る。
工場排気ガス中から特定の成分を気液接触法によって除
去する方法並びに装置及び該装置に用いるトレイに関す
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、地球環境保護の観点から種々の公
害防止技術が開発されており、大気汚染をまねく廃ガス
の処理についても幾多の技術が実用化されている。廃ガ
スの処理技術の一つとして、気体状の被処理ガスに液体
状の処理液を接触させて特定の成分を吸収したり、微細
塵（粉塵、煤塵）を除塵したりする気液接触法が開発さ
れている。
害防止技術が開発されており、大気汚染をまねく廃ガス
の処理についても幾多の技術が実用化されている。廃ガ
スの処理技術の一つとして、気体状の被処理ガスに液体
状の処理液を接触させて特定の成分を吸収したり、微細
塵（粉塵、煤塵）を除塵したりする気液接触法が開発さ
れている。
【０００３】この気液接触法の一つとして、多孔板によ
る漏れ棚を用いた方法があり、この方法は、比較的大掛
かりな装置を用いて大量処理を行なえること、被処理ガ
スの圧力損失が少ないこと、及び、固形物を含む被処理
ガスに対しても効果的に使用できるなどの理由で注目さ
れている。
る漏れ棚を用いた方法があり、この方法は、比較的大掛
かりな装置を用いて大量処理を行なえること、被処理ガ
スの圧力損失が少ないこと、及び、固形物を含む被処理
ガスに対しても効果的に使用できるなどの理由で注目さ
れている。
【０００４】例えば、特公昭５１−３１０３６号公報で
は、２５〜６０％の開口率を有する少なくとも一段の漏
れ棚塔を用いて、上限点と溢汪点との間の被処理ガス空
塔速度で、吸収液と被処理ガスを向流接触させて被処理
ガス中の特定成分を除去する方法が提案されている。こ
の方法によれば、被処理ガス空塔速度の大きい領域で、
比較的高い吸収効率，除塵効率を得られることが予想さ
れる。
は、２５〜６０％の開口率を有する少なくとも一段の漏
れ棚塔を用いて、上限点と溢汪点との間の被処理ガス空
塔速度で、吸収液と被処理ガスを向流接触させて被処理
ガス中の特定成分を除去する方法が提案されている。こ
の方法によれば、被処理ガス空塔速度の大きい領域で、
比較的高い吸収効率，除塵効率を得られることが予想さ
れる。
【０００５】また、特開昭５３−１１８２７４号公報で
は、互いに近接して配置した２枚の有孔床板から成り、
１枚の有孔床板を固定するとともに、残りの有孔床板を
前記有孔床板に対して、垂直方向に小さい間隔を設け
て、かつ前記の有孔床板を含む平面に対してほぼ平行な
平面内において固定した構成の積層型気密接触トレイが
提案されている。
は、互いに近接して配置した２枚の有孔床板から成り、
１枚の有孔床板を固定するとともに、残りの有孔床板を
前記有孔床板に対して、垂直方向に小さい間隔を設け
て、かつ前記の有孔床板を含む平面に対してほぼ平行な
平面内において固定した構成の積層型気密接触トレイが
提案されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例には、次のような問題点があった。すなわち、特公
昭５１−３１０３６号公報のものは、被処理ガス空塔速
度が大きい領域では比較的高い吸収効率及び除塵効率を
得られるものの、高い総合効率を得るには４〜５段のト
レイを必要とし、しかも、各段の間隔は点検，検査を可
能とするために６００〜９００ｃｍの間隔を確保する必
要がある。このため、気液接触ゾーンの必要長さが大き
く、また各トレイで専用のトレイサポートを必要とする
ことから吸収塔の高さが高く、重量が重くなって建設コ
ストが嵩むという問題があった。
来例には、次のような問題点があった。すなわち、特公
昭５１−３１０３６号公報のものは、被処理ガス空塔速
度が大きい領域では比較的高い吸収効率及び除塵効率を
得られるものの、高い総合効率を得るには４〜５段のト
レイを必要とし、しかも、各段の間隔は点検，検査を可
能とするために６００〜９００ｃｍの間隔を確保する必
要がある。このため、気液接触ゾーンの必要長さが大き
く、また各トレイで専用のトレイサポートを必要とする
ことから吸収塔の高さが高く、重量が重くなって建設コ
ストが嵩むという問題があった。
【０００７】また、特開昭５３−１１８２７４号公報の
ものは、液が有孔床板を水平方向に通ることからこの装
置は、ダウンカマー付蒸留塔に適用されることを意味し
ているが、一般に、これらの蒸留塔のトレイの運転操作
範囲の限界は、塔の断面積当りの液負荷が６ｍ3／ｍ2／
ｈｒ、ガス負荷が１．８×１０3ｍ3／ｍ2／ｈｒ程度で
ある。すなわち、空塔速度が大きい領域ではフラッディ
ングにより運転不可能になるという問題があった。
ものは、液が有孔床板を水平方向に通ることからこの装
置は、ダウンカマー付蒸留塔に適用されることを意味し
ているが、一般に、これらの蒸留塔のトレイの運転操作
範囲の限界は、塔の断面積当りの液負荷が６ｍ3／ｍ2／
ｈｒ、ガス負荷が１．８×１０3ｍ3／ｍ2／ｈｒ程度で
ある。すなわち、空塔速度が大きい領域ではフラッディ
ングにより運転不可能になるという問題があった。
【０００８】本発明は、上記の問題点にかんがみなされ
たもので、通常の蒸留塔のトレイでは運転不可能な５×
１０3ｍ3／ｍ2／ｈｒ以上のガス負荷であっても、高い
吸収効率と除塵効率を達成することのできる気液接触に
よる特定成分除去方法並びに除去装置及び該装置に用い
るトレイの提供を目的とする。
たもので、通常の蒸留塔のトレイでは運転不可能な５×
１０3ｍ3／ｍ2／ｈｒ以上のガス負荷であっても、高い
吸収効率と除塵効率を達成することのできる気液接触に
よる特定成分除去方法並びに除去装置及び該装置に用い
るトレイの提供を目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の気液接触による特定成分除去方法は、２０〜６
０％の開口率を有する多孔板を、２５ｍｍ〜２００ｍｍ
の間隔で少なくとも二枚以上積層して、これら多孔板の
間に気液接触空間を形成し、前記多孔板の上部から処理
液を供給するとともに、前記多孔板の下部から被処理ガ
スを供給し、前記気液接触空間内において前記処理液と
被処理ガスを気液接触させることによって被処理ガス中
の特定成分を除去する方法としてある。
本発明の気液接触による特定成分除去方法は、２０〜６
０％の開口率を有する多孔板を、２５ｍｍ〜２００ｍｍ
の間隔で少なくとも二枚以上積層して、これら多孔板の
間に気液接触空間を形成し、前記多孔板の上部から処理
液を供給するとともに、前記多孔板の下部から被処理ガ
スを供給し、前記気液接触空間内において前記処理液と
被処理ガスを気液接触させることによって被処理ガス中
の特定成分を除去する方法としてある。
【００１０】また、請求項２のトレイは、１０ｍｍ〜３
０ｍｍの孔を開口率２０〜６０％の範囲で穿設した少な
くとも二枚の多孔板を、２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で
積層した構成としてある。
０ｍｍの孔を開口率２０〜６０％の範囲で穿設した少な
くとも二枚の多孔板を、２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で
積層した構成としてある。
【００１１】また、請求項３の気液接触による特定成分
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら多孔板を
吸収塔内に固定するためのサポートとを設け、前記複数
の多孔板のうち一枚の多孔板を前記サポートに直接固定
し、他の多孔板をスペーサを介して前記サポート又は前
記多孔板に２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で固定した構成
としてある。
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら多孔板を
吸収塔内に固定するためのサポートとを設け、前記複数
の多孔板のうち一枚の多孔板を前記サポートに直接固定
し、他の多孔板をスペーサを介して前記サポート又は前
記多孔板に２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で固定した構成
としてある。
【００１２】また、請求項４の気液接触による特定成分
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら多孔板を
吸収塔内に固定するためのサポートとを設け、前記複数
の多孔板いずれをも、スペーサを介して前記サポート又
は前記多孔板に２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で固定した
構成としてある。
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら多孔板を
吸収塔内に固定するためのサポートとを設け、前記複数
の多孔板いずれをも、スペーサを介して前記サポート又
は前記多孔板に２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で固定した
構成としてある。
【００１３】また、請求項５の気液接触による特定成分
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら多孔板を
吸収塔内に固定するためのサポートとを設け、前記複数
の多孔板のうち二枚の多孔板を２５ｍｍ〜２００ｍｍの
間隔で前記サポートに直接固定し、他の多孔板をスペー
サを介して前記サポート又は前記多孔板に２５ｍｍ〜２
００ｍｍの間隔で固定した構成としてある。
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら多孔板を
吸収塔内に固定するためのサポートとを設け、前記複数
の多孔板のうち二枚の多孔板を２５ｍｍ〜２００ｍｍの
間隔で前記サポートに直接固定し、他の多孔板をスペー
サを介して前記サポート又は前記多孔板に２５ｍｍ〜２
００ｍｍの間隔で固定した構成としてある。
【００１４】また、請求項６の気液接触による特定成分
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら二枚の多
孔板を２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔でサポートに直接固
定した構成としてある。
除去装置は、１０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜６
０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、これら二枚の多
孔板を２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔でサポートに直接固
定した構成としてある。
【００１５】このような方法並びに装置及び該装置に用
いるトレイによれば、気液接触空間内において、被処理
ガスと処理液が激しく気液接触（混合）し、被処理ガス
中における特定成分（ガス成分，固形成分）が除去され
る。
いるトレイによれば、気液接触空間内において、被処理
ガスと処理液が激しく気液接触（混合）し、被処理ガス
中における特定成分（ガス成分，固形成分）が除去され
る。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。まず、本発明の気液接触による特定成分除去
装置及び該装置に用いるトレイの一実施形態について、
図１〜図４を参照しつつ説明する。ここで、図１
（ａ），（ｂ）は、図示しない吸収塔内に多孔板を取り
付けるための構成を示す一部平面図と側面図、図２は多
孔板を二枚積層した構成からなる装置の要部断面図、図
３はトレイ（多孔板）の平面図、図４は多孔板間の間隔
調整手段の一部断面拡大図を示している。
説明する。まず、本発明の気液接触による特定成分除去
装置及び該装置に用いるトレイの一実施形態について、
図１〜図４を参照しつつ説明する。ここで、図１
（ａ），（ｂ）は、図示しない吸収塔内に多孔板を取り
付けるための構成を示す一部平面図と側面図、図２は多
孔板を二枚積層した構成からなる装置の要部断面図、図
３はトレイ（多孔板）の平面図、図４は多孔板間の間隔
調整手段の一部断面拡大図を示している。
【００１７】図１（ａ），（ｂ）において、１０は吸収
塔の本体であり、その内壁の多孔板を取り付ける位置に
はリング１１が溶接してある。１２はリブで、リング１
１の下部において吸収塔の本体１０の対向する部位から
突設してあり、本体１０及びリング１１との接合部を溶
接してある。このリブ１２は、リング１１の幅より長尺
で、かつ先端部にはサポート１をボルト１３によって固
定するためのボルト孔１２ａが形成してある。
塔の本体であり、その内壁の多孔板を取り付ける位置に
はリング１１が溶接してある。１２はリブで、リング１
１の下部において吸収塔の本体１０の対向する部位から
突設してあり、本体１０及びリング１１との接合部を溶
接してある。このリブ１２は、リング１１の幅より長尺
で、かつ先端部にはサポート１をボルト１３によって固
定するためのボルト孔１２ａが形成してある。
【００１８】サポート１は断面Ｈ形をしており、その両
端が、対向して突設してあるリブ１２の先端にボルト１
３によって固定されるとともに、固定時には上面板１ａ
がリング１１と同一高さとなるようにしてある。２は上
部多孔板、３は下部多孔板であり、それぞれの表面には
多数の孔２ａ，３ａが穿設してある。これら孔２ａ，３
ａの径は１０ｍｍ〜３０ｍｍとしてあり、また、多孔板
２，３におけるこれら孔２ａ，３ａの開口率は２０〜６
０％としてある。
端が、対向して突設してあるリブ１２の先端にボルト１
３によって固定されるとともに、固定時には上面板１ａ
がリング１１と同一高さとなるようにしてある。２は上
部多孔板、３は下部多孔板であり、それぞれの表面には
多数の孔２ａ，３ａが穿設してある。これら孔２ａ，３
ａの径は１０ｍｍ〜３０ｍｍとしてあり、また、多孔板
２，３におけるこれら孔２ａ，３ａの開口率は２０〜６
０％としてある。
【００１９】図３及び図４に示すように、下部多孔板３
は直接、また上部多孔板２はスペーサ４及びワッシャ７
を介してボルト５とナット６によってサポート１の上面
板１ａに固定されている。すなわち、上部多孔板２と下
部多孔板３は、スペーサ４を介してサポート１に固定さ
れ、その間に気液接触空間を形成している。なお、この
場合、上部及び下部多孔板２，３は、それぞれ水平面上
に複数枚並べることになるが、吸収塔の本体１０と接す
る一番外側に位置する上部及び下部多孔板２，３は吸収
塔本体１０の形状に合せた形状としてある。そして、外
側に位置する下部多孔板３の一部はリング１１によって
支持されている。
は直接、また上部多孔板２はスペーサ４及びワッシャ７
を介してボルト５とナット６によってサポート１の上面
板１ａに固定されている。すなわち、上部多孔板２と下
部多孔板３は、スペーサ４を介してサポート１に固定さ
れ、その間に気液接触空間を形成している。なお、この
場合、上部及び下部多孔板２，３は、それぞれ水平面上
に複数枚並べることになるが、吸収塔の本体１０と接す
る一番外側に位置する上部及び下部多孔板２，３は吸収
塔本体１０の形状に合せた形状としてある。そして、外
側に位置する下部多孔板３の一部はリング１１によって
支持されている。
【００２０】ここで、上部多孔板２，下部多孔板３，ス
ペーサ４，ボルト５，ナット６及びワッシャ７等は、全
体でトレイを構成しており、このトレイは、図示したサ
ポート１以外にも取り付けて用いることができる。
ペーサ４，ボルト５，ナット６及びワッシャ７等は、全
体でトレイを構成しており、このトレイは、図示したサ
ポート１以外にも取り付けて用いることができる。
【００２１】スペーサ４はボルト５の外周に嵌め込む筒
状となっており、各種寸法のものが用意されている。し
たがって、任意の寸法のスペーサ４を選択して用いるこ
とによって上部多孔板２と下部多孔板３の間の気液接触
空間を任意の距離とすることができる。本装置では、上
部多孔板２と下部多孔板３の間隔を２５ｍｍ〜２００ｍ
ｍの範囲で調整できるようにしてある。これら上部多孔
板２と下部多孔板３は、図示してないが吸収塔の水平方
向全面にわたって設けてある。
状となっており、各種寸法のものが用意されている。し
たがって、任意の寸法のスペーサ４を選択して用いるこ
とによって上部多孔板２と下部多孔板３の間の気液接触
空間を任意の距離とすることができる。本装置では、上
部多孔板２と下部多孔板３の間隔を２５ｍｍ〜２００ｍ
ｍの範囲で調整できるようにしてある。これら上部多孔
板２と下部多孔板３は、図示してないが吸収塔の水平方
向全面にわたって設けてある。
【００２２】なお、図示した多孔板２，３の孔２ａ，３
ａはマトリックス状に配置してあるが、これに限らず千
鳥状等であってもよく、また、上部と下部の多孔板２，
３の孔２ａ，３ａの径と配置は、孔径と開口率が上記範
囲内であれば、いずれか一方あるいは両方を異ならせた
ものであってもよい。
ａはマトリックス状に配置してあるが、これに限らず千
鳥状等であってもよく、また、上部と下部の多孔板２，
３の孔２ａ，３ａの径と配置は、孔径と開口率が上記範
囲内であれば、いずれか一方あるいは両方を異ならせた
ものであってもよい。
【００２３】また、上部多孔板２と下部多孔板３のサポ
ート１への固定態様は、上記したものに限られるもので
はなく種々態様のものを選択できる。たとえば、図５に
示すように、下部多孔板３をサポート１の下部にボルト
５とナット６で直接固定し、上部多孔板２をサポート１
の上部にスペーサ４とワッシャ７を介してボルト５とナ
ット６で固定するようにしたものであってもよい。さら
に、上下の多孔板２，３ともサポート１に直接固定して
もよく、この場合は、サポート１の高さを変える（サポ
ートの種類を変える）ことによって多孔板２，３の間隔
を調整する。またさらに、上部多孔板２をスペーサ４を
介して下部多孔板３に直接固定するようにしてもよい。
ート１への固定態様は、上記したものに限られるもので
はなく種々態様のものを選択できる。たとえば、図５に
示すように、下部多孔板３をサポート１の下部にボルト
５とナット６で直接固定し、上部多孔板２をサポート１
の上部にスペーサ４とワッシャ７を介してボルト５とナ
ット６で固定するようにしたものであってもよい。さら
に、上下の多孔板２，３ともサポート１に直接固定して
もよく、この場合は、サポート１の高さを変える（サポ
ートの種類を変える）ことによって多孔板２，３の間隔
を調整する。またさらに、上部多孔板２をスペーサ４を
介して下部多孔板３に直接固定するようにしてもよい。
【００２４】次に、気液接触による特定成分除去方法の
一実施形態について説明する。吸収塔内部に配置した上
記装置の上方、すなわち、上部多孔板２の上方から吸収
液（処理液）を供給するが、供給に際しては分散性に配
慮し、トラフタイプもしくはラダータイプのディストリ
ビュータまたはスプレイノズルを介して供給する。供給
された吸収液は、上部多孔板２上において孔２ａを上昇
してくる被処理ガスと接触しながら、該孔２ａを通って
下部多孔板３との間に形成された気液接触空間に送られ
る。
一実施形態について説明する。吸収塔内部に配置した上
記装置の上方、すなわち、上部多孔板２の上方から吸収
液（処理液）を供給するが、供給に際しては分散性に配
慮し、トラフタイプもしくはラダータイプのディストリ
ビュータまたはスプレイノズルを介して供給する。供給
された吸収液は、上部多孔板２上において孔２ａを上昇
してくる被処理ガスと接触しながら、該孔２ａを通って
下部多孔板３との間に形成された気液接触空間に送られ
る。
【００２５】一方、被処理ガスは、吸収塔の下方から上
方に向って導入されるが、下部多孔板３の孔３ａを介し
て気液接触空間に送りこまれる。したがって、気液接触
空間内において吸収液と被処理ガスの気液接触（混合）
が激しく行なわれ、特定成分の除去、すなわち、特定成
分中のガス成分が吸収されるとともに固形成分が洗浄さ
れる。なお、上部多孔板の上部では従来の多孔板トレイ
と同様の気液接触が行なわれ、ここでも特定成分の除去
が行なわれる。この結果、特定成分の吸収が効率的に行
なわれる。
方に向って導入されるが、下部多孔板３の孔３ａを介し
て気液接触空間に送りこまれる。したがって、気液接触
空間内において吸収液と被処理ガスの気液接触（混合）
が激しく行なわれ、特定成分の除去、すなわち、特定成
分中のガス成分が吸収されるとともに固形成分が洗浄さ
れる。なお、上部多孔板の上部では従来の多孔板トレイ
と同様の気液接触が行なわれ、ここでも特定成分の除去
が行なわれる。この結果、特定成分の吸収が効率的に行
なわれる。
【００２６】このようにして、気液接触で被処理ガス中
の特定成分を除去する場合、多孔板２，３に穿設した孔
２ａ，３ａの径が１０ｍｍより小さいとトレイ上の吸収
液が落下しにくくなって、被処理ガス通気量が著しく低
下し、３０ｍｍより大きいとガスの吹き抜けにより気液
接触の効率が低下する。さらに、多孔板２，３の間に形
成される気液接触空間の間隔も２５ｍｍより狭いと、孔
の位相を一致させた場合には気液接触の効率が低下し、
位相をずらした場合には圧力損失が著しく増加する。一
方、２００ｍｍより広くても気液接触上の効率の上昇傾
向が緩やかとなり気液接触部の必要長さを低減する効果
が少なくなる。
の特定成分を除去する場合、多孔板２，３に穿設した孔
２ａ，３ａの径が１０ｍｍより小さいとトレイ上の吸収
液が落下しにくくなって、被処理ガス通気量が著しく低
下し、３０ｍｍより大きいとガスの吹き抜けにより気液
接触の効率が低下する。さらに、多孔板２，３の間に形
成される気液接触空間の間隔も２５ｍｍより狭いと、孔
の位相を一致させた場合には気液接触の効率が低下し、
位相をずらした場合には圧力損失が著しく増加する。一
方、２００ｍｍより広くても気液接触上の効率の上昇傾
向が緩やかとなり気液接触部の必要長さを低減する効果
が少なくなる。
【００２７】上記した実施形態では、多孔板を二段に積
層した装置（トレイ）と方法について説明したが、被処
理ガスの種類あるいは量等に応じて多孔板を三段以上積
層してもよく、その場合における各多孔板間に形成され
る気液接触空間の間隔は２５ｍｍ〜２００ｍｍの範囲内
における任意のものとすることができ、また、各多孔板
の孔径及び開口率も１０ｍｍ〜３０ｍｍの範囲及び２０
〜６０％の範囲内において任意のものとすることができ
る。
層した装置（トレイ）と方法について説明したが、被処
理ガスの種類あるいは量等に応じて多孔板を三段以上積
層してもよく、その場合における各多孔板間に形成され
る気液接触空間の間隔は２５ｍｍ〜２００ｍｍの範囲内
における任意のものとすることができ、また、各多孔板
の孔径及び開口率も１０ｍｍ〜３０ｍｍの範囲及び２０
〜６０％の範囲内において任意のものとすることができ
る。
【００２８】
［従来例］塔内径１５０ｍｍの吸収塔内に孔径２０ｍ
ｍ、開口率３６％の従来型の多孔板を一段設け、ＳＯ2
７００〜８００ｖｏｌｐｐｍを含有した被処理ガスを
吸収液Ｍｇ（ＯＨ）2スラリーを用いてＰＨ６．２±
０．１に制御しながら各種の吸収液量にて脱硫率と圧力
損失を測定した。このときの被処理ガスの空塔速度は
２．３６ｍ／ｓｅｃ（１５０Ｎｍ3／ｈｒ）であった。
ｍ、開口率３６％の従来型の多孔板を一段設け、ＳＯ2
７００〜８００ｖｏｌｐｐｍを含有した被処理ガスを
吸収液Ｍｇ（ＯＨ）2スラリーを用いてＰＨ６．２±
０．１に制御しながら各種の吸収液量にて脱硫率と圧力
損失を測定した。このときの被処理ガスの空塔速度は
２．３６ｍ／ｓｅｃ（１５０Ｎｍ3／ｈｒ）であった。
【００２９】［実施例１］孔径２０ｍｍ、開口率３６％
の同一孔径，同一配列の上部多孔板と下部多孔板を１０
０ｍｍの間隔で二段に積層し、それらの間に気液接触空
間を形成した以外は従来例と同じ条件で脱硫率と圧力損
失を測定した。
の同一孔径，同一配列の上部多孔板と下部多孔板を１０
０ｍｍの間隔で二段に積層し、それらの間に気液接触空
間を形成した以外は従来例と同じ条件で脱硫率と圧力損
失を測定した。
【００３０】上記測定結果は表１及び表２に示す通りで
あった。
あった。
【表１】
【００３１】
【表２】
【００３２】表１，２から明らかなように、たとえば、
本発明においては吸収液量５．６６ｍ3／ｍ2／ｈｒにお
いて脱硫率７４．６％が確保できるが、従来型のもので
は、２２．６４ｍ3／ｍ2／ｈｒと４倍の吸収液量で７
４．２％の脱硫率であった。
本発明においては吸収液量５．６６ｍ3／ｍ2／ｈｒにお
いて脱硫率７４．６％が確保できるが、従来型のもので
は、２２．６４ｍ3／ｍ2／ｈｒと４倍の吸収液量で７
４．２％の脱硫率であった。
【００３３】また、通常、多孔板圧力損失は、吸収塔の
被処理ガス導入ブロアの所要動力を左右する因子であ
り、吸収液量は吸収液循環ポンプの動力を左右する因子
である。前述の事例では、多孔板圧力損失が、従来型で
３２．５ｍｍＨ2Ｏ、本発明の場合で３６．０ｍｍＨ2Ｏ
である。脱硫率を固定して考えた場合、本発明では、低
い吸収液量で従来型多孔板と同等の脱硫率を得ることが
できる。このことから、従来のものと本発明を比較した
場合、被処理ガス導入ブロアの所要動力がほぼ同等レベ
ルの条件においても、本発明の場合には、循環ポンプの
所要動力を大幅に低減できることが判る。
被処理ガス導入ブロアの所要動力を左右する因子であ
り、吸収液量は吸収液循環ポンプの動力を左右する因子
である。前述の事例では、多孔板圧力損失が、従来型で
３２．５ｍｍＨ2Ｏ、本発明の場合で３６．０ｍｍＨ2Ｏ
である。脱硫率を固定して考えた場合、本発明では、低
い吸収液量で従来型多孔板と同等の脱硫率を得ることが
できる。このことから、従来のものと本発明を比較した
場合、被処理ガス導入ブロアの所要動力がほぼ同等レベ
ルの条件においても、本発明の場合には、循環ポンプの
所要動力を大幅に低減できることが判る。
【００３４】［実施例２］吸収液量を固定し、上部多孔
板と下部多孔板の間隔を変化させた以外は実施例１と同
じ条件で脱硫率を測定した。その結果を表３に示す。
板と下部多孔板の間隔を変化させた以外は実施例１と同
じ条件で脱硫率を測定した。その結果を表３に示す。
【００３５】
【表３】
【００３６】また、本発明によって実施が可能な特定成
分の除去態様は、上記実施例で示した下記表４の以外
に、表４の〜の態様にも適用することができる。
分の除去態様は、上記実施例で示した下記表４の以外
に、表４の〜の態様にも適用することができる。
【００３７】
【表４】
【００３８】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、処理ガ
ス中における特定成分の除去効率（ガス成分の吸収効
率，固形成分の除塵効率）を固めることができるので、
吸収塔自体の小型化、及び処理液の循環装置、被処理ガ
スの吸引装置等の小型化を図ることができる。
ス中における特定成分の除去効率（ガス成分の吸収効
率，固形成分の除塵効率）を固めることができるので、
吸収塔自体の小型化、及び処理液の循環装置、被処理ガ
スの吸引装置等の小型化を図ることができる。
【図１】図１（ａ），（ｂ）は、図示しない吸収塔内に
多孔板を取り付けるための構成を示す一部平面図と側面
図である。
多孔板を取り付けるための構成を示す一部平面図と側面
図である。
【図２】図２は、図示しない吸収塔内に、多孔板を二枚
積層した構成からなる装置の要部断面図である。
積層した構成からなる装置の要部断面図である。
【図３】図３は、多孔板の平面図である。
【図４】図４は、多孔板間の間隔調整手段の一部断面拡
大図である。
大図である。
【図５】図５は、サポート上の異なる部位に上部多孔板
と下部多孔板を固定した多孔板の間隔調整手段を示す一
部断面拡大図である。
と下部多孔板を固定した多孔板の間隔調整手段を示す一
部断面拡大図である。
１ サポート ２ 上部多孔板 ２ａ 孔 ３ 下部多孔板 ３ａ 孔 ４ スペーサ ５ ボルト ６ ナット ７ ワッシャ １０ 吸収塔体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｊ 19/24 19/32
Claims (6)
- 【請求項１】 ２０〜６０％の開口率を有する多孔板
を、２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で少なくとも二枚以上
積層して、これら多孔板の間に気液接触空間を形成し、
前記多孔板の上方から処理液を供給するとともに、前記
多孔板の下方から被処理ガスを供給し、前記気液接触空
間内において前記処理液と被処理ガスを気液接触させる
ことによって被処理ガス中の特定成分を除去することを
特徴とした気液接触による特定成分除去方法。 - 【請求項２】 １０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜
６０％の範囲で穿設した少なくとも二枚の多孔板を、２
５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で積層したことを特徴とした
トレイ。 - 【請求項３】 １０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜
６０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、 これら多孔板を吸収塔内に固定するためのサポートとを
設け、 前記複数の多孔板のうち一枚の多孔板を前記サポートに
直接固定し、 他の多孔板をスペーサを介して前記サポート又は前記多
孔板に２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で固定したことを特
徴とする気液接触による特定成分除去装置。 - 【請求項４】 １０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜
６０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、 これら多孔板を吸収塔内に固定するためのサポートとを
設け、 前記複数の多孔板のいずれをも、スペーサを介して前記
サポート又は前記多孔板に２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔
で固定したことを特徴とする気液接触による特定成分除
去装置。 - 【請求項５】 １０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜
６０％の範囲で穿設した複数の多孔板と、 これら多孔板を吸収塔内に固定するためのサポートとを
設け、 前記複数の多孔板のうち二枚の多孔板を２５ｍｍ〜２０
０ｍｍの間隔で前記サポートに直接固定し、 他の多孔板をスペーサを介して前記サポート又は前記多
孔板に２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔で固定したことを特
徴とする気液接触による特定成分除去装置。 - 【請求項６】 １０ｍｍ〜３０ｍｍの孔を開口率２０〜
６０％の範囲で穿設した二枚の多孔板と、 これら二枚の多孔板を２５ｍｍ〜２００ｍｍの間隔でサ
ポートに直接固定した気液接触による特定成分除去装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7345335A JPH09155142A (ja) | 1995-12-07 | 1995-12-07 | 気液接触による特定成分除去方法並びに除去装置及び該装置に用いるトレイ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7345335A JPH09155142A (ja) | 1995-12-07 | 1995-12-07 | 気液接触による特定成分除去方法並びに除去装置及び該装置に用いるトレイ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09155142A true JPH09155142A (ja) | 1997-06-17 |
Family
ID=18375896
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7345335A Pending JPH09155142A (ja) | 1995-12-07 | 1995-12-07 | 気液接触による特定成分除去方法並びに除去装置及び該装置に用いるトレイ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09155142A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014042909A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-03-13 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 排煙脱硫装置および排煙脱硫方法 |
| CN109939637A (zh) * | 2019-05-07 | 2019-06-28 | 张化机（苏州）重装有限公司 | 填料支撑装置 |
| JPWO2020202330A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 |
-
1995
- 1995-12-07 JP JP7345335A patent/JPH09155142A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2014042909A (ja) * | 2012-07-31 | 2014-03-13 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 排煙脱硫装置および排煙脱硫方法 |
| JPWO2020202330A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | ||
| WO2020202330A1 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 三菱日立パワーシステムズ株式会社 | 排煙脱硫装置 |
| CN109939637A (zh) * | 2019-05-07 | 2019-06-28 | 张化机（苏州）重装有限公司 | 填料支撑装置 |
| CN109939637B (zh) * | 2019-05-07 | 2024-02-23 | 张化机（苏州）重装有限公司 | 填料支撑装置 |
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