JPH09153658A - 半導体レーザ装置 - Google Patents

半導体レーザ装置

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JPH09153658A
JPH09153658A JP7312909A JP31290995A JPH09153658A JP H09153658 A JPH09153658 A JP H09153658A JP 7312909 A JP7312909 A JP 7312909A JP 31290995 A JP31290995 A JP 31290995A JP H09153658 A JPH09153658 A JP H09153658A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor laser
light
laser device
recording medium
optical recording
Prior art date
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Pending
Application number
JP7312909A
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English (en)
Inventor
Tetsuya Ashikari
哲也 芦刈
Noboru Oshima
昇 大島
Shinji Kaneiwa
進治 兼岩
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 気相成長法によって作成された半導体レーザ
を光学式記録媒体の光源に使用する際の、ディスクから
のサブビームの端面入射を防止できる半導体レーザ装置
を提供する。 【解決手段】 ヒートシンク8上の半導体レーザ1の出
射側前面に、レーザ出射光の障壁とならず、且つ光学式
記録媒体からの反射光L3を遮光する遮光体11を設け
る。また、遮光体11には、光学式記録媒体からの反射
光をこの光学式記録媒体とは別方向にさらに反射させる
反射面12が設ける。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンパクトディス
ク(CD、以下CDと記す)用の光源等に使用される半
導体レーザ装置に関し、特に気相成長法によって作成さ
れた半導体レーザ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】CD用の光源等としては、半導体レーザ
装置が一般的に使用されている。この従来の半導体レー
ザ装置について、図5乃至図7を参照して説明する。図
5は半導体レーザ装置の斜視図、図6は図5をA方向か
ら見た側面図、図7は図5をB方向から見た正面図であ
る。
【0003】図5乃至図7に示すように、従来の半導体
レーザ1は、GaAs基板2上にこれと同型の導電型の
AlGaAsからなるクラッド層3、同じくAlGaA
sからなる活性層4を順次形成し、この活性層4の上に
これと逆の導電型のAlGaAsからなるクラッド層
5、同導電型のGaAsからなるキャップ層6を形成し
ている。ここで、上記各層の形成は液相成長法によって
行うものとする。
【0004】さらに、レーザ出射端面には、シリコンナ
イトライド等からなる保護膜7によってレーザ出射端面
を保護し特性劣化を防止している。
【0005】そしてこのような半導体レーザ1を、ヒー
トシンク8上へマウントした状態で実装され、CDプレ
ーヤー等の装置の光学式ヘッドの光源等として使用され
ている。なお、9及び10はそれぞれ、裏面側電極及び
表面側電極である。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、3ビーム方
式の光学式記録装置、光学式再生装置等の光源として使
用した場合、半導体レーザ1から出射された光L1は記
録媒体であるディスク(図示せず)で反射され、2つの
戻り光(サブビーム、以下サブビームと記す)L2、L
3となって半導体レーザ1の方向に戻ってくる。このサ
ブビームL2及びL3の位置はそれぞれ、活性層4の上
方及び下方約75μmの位置である。
【0007】この半導体レーザ1が図5乃至図7に示し
たように液相成長法によって作成したものであれば、チ
ップ厚約100μmの内、活性層4はチップ略中央部の
約50μmの位置に設定されている。従って、上記のよ
うなディスクからの戻り光はそれぞれ、図6に示すよう
に半導体レーザ1の端面の上方及び下方に外れて半導体
レーザ1の端面に入射するということはない。
【0008】これに対して、半導体レーザが気相成長法
によって作成されたものであれば、以下のような問題が
生じる。このことを図8及び図9を参照して説明する。
図8は気相成長法によって作成された従来の半導体装置
の斜視図、図9は図8をA方向からみた側面図である。
ここでは、半導体レーザの構造は活性層の位置が明確に
なるように簡略化して描いている。
【0009】気相成長法によって作成された半導体レー
ザ装置の場合、図8及び図9に示すように、半導体レー
ザ1の表面から活性層4までの厚みは約2μmと薄くな
ることから、液相成長法で作成した素子と同じ極性の使
い方をするには、活性層4を上方となるようにしてヒー
トシンク8にダイボンドしなければならない。この結
果、サブビームの内、L3の方は半導体レーザ1の端面
下方に再入射することとなり、雑音(ノイズ)が発生し
てしまう。
【0010】なお、液相成長法に比較して気相成長法の
方が層厚制御を正確にできることから、最近は気相成長
法が多く採用されている。
【0011】そこで、本発明の目的は、特に気相成長法
によって作成された半導体レーザを光学式記録装置、光
学式再生装置等の光源に使用する際の、ディスクからの
サブビームの端面入射を防止できる半導体レーザ装置を
提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に請求項1に記載の発明は、気相成長法によって作成さ
れたレーザを搭載するヒートシンクとを備え、外部の光
学式記録媒体にレーザ光を出射する半導体レーザ装置に
おいて、前記ヒートシンク上の前記半導体レーザの出射
側前面に、レーザ出射光の障壁とならず、且つ前記記録
媒体からの反射光を遮光する遮光体を設けてなることを
特徴とする。
【0013】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の半導体レーザ装置において、前記遮光体には、前記光
学式記録媒体からの反射光を前記光学式記録媒体とは別
方向にさらに反射させる反射面が設けられてなることを
特徴とする。
【0014】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2のいづれかに記載の半導体レーザ装置において、前記
遮光体の内、少なくとも前記光学式記録媒体からの反射
光が照射される箇所に低反射膜を形成してなることを特
徴とする。
【0015】請求項4に記載の発明は、請求項1または
2のいづれかに記載の半導体レーザ装置において、前記
遮光体の内、少なくとも前記光学式記録媒体からの反射
光が照射される箇所に光吸収用の樹脂を塗布してなるこ
とを特徴とする。
【0016】請求項5に記載の発明は、請求項1または
2のいづれかに記載の半導体レーザ装置において、前記
遮光体の内、少なくとも前記光学式記録媒体からの反射
光が照射される箇所を粗面化してなることを特徴とす
る。
【0017】請求項1の発明によれば、半導体レーザの
出射面前面に遮光体を設けているので、光学式記録媒体
からの反射光を遮光でき、雑音(ノイズ)の発生を防止
できる。
【0018】請求項2の発明によれば、光学式記録媒体
からの反射光を光学式記録媒体とは別方向にさらに反射
させるように反射面を設けているので、遮光体で反射し
た光りが再度、光学式記録媒体に入射することがないの
で、信号の記録、読み取りの信頼性を向上できる。
【0019】請求項3乃至5によれば、遮光体での反射
光を吸収して反射率を低減できるので、光学式記録媒体
へ向かう光をより確実に減少でき、さらに信頼性を向上
できる。
【0020】
【発明の実施の形態】本発明の特徴は、光学式記録装
置、光学式再生装置の光源等に使用される半導体レーザ
装置において、半導体レーザから出射され光学式記録媒
体であるディスク(以下、ディスクと記す)で反射され
たサブビームが再度半導体レーザに入射しないように、
サブビームが戻ってくる位置に光反射用のサブマウント
を設けたことにある。
【0021】以下、図面を参照して具体的に説明する。
【0022】図1乃至図3はそれぞれ、本発明の一実施
例による半導体レーザ装置の斜視図、図1をA方向から
みた側面図及びB方向からみた正面図である。図5乃至
図9に示す従来例と同一機能部分には同一記号を付して
いる。ここでは、半導体レーザの構造を活性層4の位置
が明確になるように簡略化して描いている。
【0023】図1に示すように、本実施例による半導体
レーザ装置は、外部のディスクで反射されたサブビーム
が戻ってくる位置にこのサブビームを反射させるサブマ
ウント11を設けている。
【0024】より具体的に説明すると、まず、本実施例
が対象としているのは、気相成長法によって作成された
半導体レーザであるので、活性層4は半導体レーザ1の
表面より約2μm下方のところに形成されている。従っ
て、この半導体レーザ1から出射され、記録媒体である
ディスク等で反射されて返ってくる2つのサブビームL
2、L3の内、下方のサブビームL3は、半導体レーザ
1の表面からは(2μm+75μm)=77μmのとこ
ろ、従って半導体レーザ1の下方から約23μmのとこ
ろに入射することになる。そこで、本実施例ではこのサ
ブビームL3の入射を防止するために、半導体レーザ1
の下端から上方に高さ約20〜30μmのサブマウント
11を設けている。
【0025】そして、サブマウント11の反射面12
は、反射したサブビームL2が再びディスクの方向に向
かわないように略直角方向に反射するような角度となる
ようにしている。ここでは、この角度θを図2に示すよ
うに45°としている。これによって、遮光体で反射し
た光が再度、ディスクへ入射するのを防止でき、信号の
記録、読み取りの信頼性を向上できる。
【0026】また、サブマウント11はヒートシンク8
とは別体であり、ヒートシンク8にダイボンドすること
によって固定している。ここでは、ヒートシンク8とな
る銅製のステム上にIn(インジウム)を接着剤として
サブマウント11を溶着固定している。ここで、サブマ
ウント11の材料としては、シリコン、セラミック、S
iC等を使用することができる。
【0027】以上のように本実施例によれば、半導体レ
ーザ1とは別体のサブマウント11をステム上に設ける
ことによってサブビームを防止することができ、しかも
半導体レーザ1自体の形状を変えたり、半導体レーザ1
自体に何かを付加するものではないので、半導体レーザ
1の特性を変えることなく高信頼性を保証できる。
【0028】なお、ヒートシンク8と一体的にサブマウ
ント11を形成するようにしてもよいのは言うまでもな
い。
【0029】また、他の実施例として、サブマウント1
1の反射面12の反射率を低減させれば、ディスクの方
向へ向かう光をさらに低減することができ、信頼性をよ
り向上することができる。そこで、例えば、サブマウン
ト11の反射面に低反射膜等をコーティングすることが
考えられる。
【0030】図4はその構造を示す本発明の他の実施例
による半導体レーザ装置の斜視図である。図中、13が
低反射膜である。この低反射膜13の具体的な材質とし
ては、例えばSiN膜、Al23膜を使用することがで
きる。また、低反射膜13に代えて樹脂を塗布するよう
にしてもよい。この樹脂としては例えばエポキシ樹脂を
使用することができる。
【0031】さらに他の実施例としては、サブマウント
11の反射面12自体を粗面化してサブビームL3の出
力をこの反射面で低減させるようにしてもよい。
【0032】さらに他の実施例として、サブマウント1
1の反射面12を平面状ではなく、凹状または凸状の曲
面状にして、ディスク方向への光反射を回避するように
してもよい。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、気
相成長法によって形成した半導体レーザを有する半導体
レーザ装置を光学式記録媒体の光源として使用する際
に、光学式記録媒体からの反射光の半導体レーザへの再
入射を防止でき、高信頼性の半導体レーザ装置を提供で
きる。
【0034】具体的には、請求項1のように、半導体レ
ーザの出射面前面に遮光体を設けることにより、光学式
記録媒体からの反射光を遮光でき、雑音(ノイズ)の発
生を防止できる。
【0035】請求項2の発明によれば、遮光体に、光学
式記録媒体からの反射光を光学式記録媒体とは別方向に
さらに反射させるように反射面を設けているので、遮光
体で反射した光が再度、光学式記録媒体に入射するのを
防止でき、信号の記録、読み取りの信頼性を向上でき
る。
【0036】請求項3乃至5によれば、遮光体での反射
光を吸収して反射率を低減できるので、光学式記録媒体
へ向かう光をより確実に減少でき、さらに信頼性を向上
できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例による半導体レーザ装置の斜
視図である。
【図2】図1の半導体レーザ装置をA方向から見た側面
図である。
【図3】図1の半導体レーザをB方向から見た正面図で
ある。
【図4】本発明の他の実施例による半導体レーザ装置の
斜視図である。
【図5】従来例による半導体レーザ装置の斜視図であ
る。
【図6】図5の半導体レーザ装置をA方向から見た側面
図である。
【図7】図5の半導体レーザ側面図をB方向から見た正
面図である。
【図8】他の従来例による半導体レーザ装置の斜視図で
ある。
【図9】図8の半導体レーザ装置をA方向から見た側面
図である。
【符号の説明】
1 半導体レーザ 8 ヒートシンク 11 遮光体 12 反射面 13 低反射膜

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 気相成長法によって作成された半導体レ
    ーザと、該半導体レーザを搭載するヒートシンクとを備
    え、外部の光学式記録媒体にレーザ光を出射する半導体
    レーザ装置において、 前記ヒートシンク上の前記半導体レーザの出射側前面
    に、レーザ出射光の障壁とならず、且つ前記光学式記録
    媒体からの反射光を遮光する遮光体を設けてなることを
    特徴とする半導体レーザ装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の半導体レーザ装置にお
    いて、前記遮光体には、前記光学式記録媒体からの反射
    光を前記光学式記録媒体とは別方向にさらに反射させる
    反射面が設けられてなることを特徴とする半導体レーザ
    装置。
  3. 【請求項3】 請求項1または2のいづれかに記載の半
    導体レーザ装置において、前記遮光体の内、少なくとも
    前記光学式記録媒体からの反射光が照射される箇所に低
    反射膜を形成してなることを特徴とする半導体レーザ装
    置。
  4. 【請求項4】 請求項1または2のいづれかに記載の半
    導体レーザ装置において、前記遮光体の内、少なくとも
    前記光学式記録媒体からの反射光が照射される箇所に光
    吸収用の樹脂を塗布してなることを特徴とする半導体レ
    ーザ装置。
  5. 【請求項5】 請求項1または2のいづれかに記載の半
    導体レーザ装置において、前記遮光体の内、少なくとも
    前記光学式記録媒体からの反射光が照射される箇所を粗
    面化してなることを特徴とする半導体レーザ装置。
JP7312909A 1995-11-30 1995-11-30 半導体レーザ装置 Pending JPH09153658A (ja)

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JPH09153658A true JPH09153658A (ja) 1997-06-10

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2023033083A1 (ja) * 2021-09-01 2023-03-09 古河電気工業株式会社 光学装置、光源装置、および光ファイバレーザ

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WO2023033083A1 (ja) * 2021-09-01 2023-03-09 古河電気工業株式会社 光学装置、光源装置、および光ファイバレーザ

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