JPH09153446A5 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH09153446A5 JPH09153446A5 JP1995312914A JP31291495A JPH09153446A5 JP H09153446 A5 JPH09153446 A5 JP H09153446A5 JP 1995312914 A JP1995312914 A JP 1995312914A JP 31291495 A JP31291495 A JP 31291495A JP H09153446 A5 JPH09153446 A5 JP H09153446A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- prism
- photosensitive film
- interference exposure
- exposure apparatus
- interference
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31291495A JP3564215B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 干渉露光装置およびそれを用いた干渉露光方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31291495A JP3564215B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 干渉露光装置およびそれを用いた干渉露光方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09153446A JPH09153446A (ja) | 1997-06-10 |
| JP3564215B2 JP3564215B2 (ja) | 2004-09-08 |
| JPH09153446A5 true JPH09153446A5 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | 2004-12-16 |
Family
ID=18034990
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31291495A Expired - Fee Related JP3564215B2 (ja) | 1995-11-30 | 1995-11-30 | 干渉露光装置およびそれを用いた干渉露光方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3564215B2 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4514317B2 (ja) * | 2000-11-27 | 2010-07-28 | 株式会社ミツトヨ | 露光装置 |
| US8110345B2 (en) | 2002-12-04 | 2012-02-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | High resolution lithography system and method |
| US7492442B2 (en) * | 2004-08-27 | 2009-02-17 | Asml Holding N.V. | Adjustable resolution interferometric lithography system |
| KR100881140B1 (ko) | 2007-08-09 | 2009-02-02 | 삼성전기주식회사 | 나노패턴 형성장치 및 이를 이용한 나노패턴 형성방법 |
| JP5487592B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2014-05-07 | セイコーエプソン株式会社 | レーザー加工方法 |
| CN112596139A (zh) * | 2020-12-18 | 2021-04-02 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 一种短波范围反射式体光栅的光栅结构写入方法 |
-
1995
- 1995-11-30 JP JP31291495A patent/JP3564215B2/ja not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2002008800A3 (en) | Coupling elements for surface plasmon resonance sensors | |
| KR920006799A (ko) | 반사형 마스크 및 마스크 제조방법과 그것을 사용한 패턴 형성방법 | |
| JPS6330882A (ja) | ホログラフ光学素子の製造方法 | |
| JPH04348020A (ja) | 反射型のx線露光用マスク | |
| US3776995A (en) | Method of producing x-ray diffraction grating | |
| JPH09153446A5 (GUID-C5D7CC26-194C-43D0-91A1-9AE8C70A9BFF.html) | ||
| US4735878A (en) | Optically read recording medium and method for making same | |
| JPH01252902A (ja) | 低反射回折格子およびその作製方法 | |
| JPH04233546A (ja) | 感光性映像部材の化粧板効果抑制装置及び方法 | |
| KR970016811A (ko) | 변형조명방법, 이에 사용되는 반사경 및 그 제조방법 | |
| JP2704938B2 (ja) | 半導体素子のパターン形成用マスク製造方法 | |
| KR100212905B1 (ko) | 내부전반사 홀로그램에 의한 고화질 영상 마스크 | |
| JP2000056135A (ja) | 全反射(tir)ホログラフィ装置、その方法及び使用される光学アセンブリ | |
| JPS60173551A (ja) | X線など光線の反射投影によるパタ−ン転写法 | |
| JPS6362231A (ja) | X線縮小投影露光装置 | |
| JP2666801B2 (ja) | ホログラフィックミラーの作成方法 | |
| JPH01204089A (ja) | コヒーレントコピー露光用マスタホログラム | |
| JP3230105B2 (ja) | X線用多層膜ミラー、反射型x線マスク、x線用多層膜ミラーの製造方法、露光装置およびパターンを有するシリコンウエハの製造方法 | |
| CA2193108C (en) | Apparatus and method for enhancing printing efficiency to reduce artifacts | |
| JP2542652B2 (ja) | X線露光用マスクの製造方法 | |
| JPH03259257A (ja) | 微細パターン形成方法 | |
| JPH1049034A (ja) | ホログラム表示体及びその作成方法 | |
| JPH05234851A (ja) | レジストパターンの形成方法 | |
| JPH0628229B2 (ja) | X線露光用マスク | |
| JPH07254546A (ja) | 位置合せ用マーク |