JPH09153287A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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JPH09153287A
JPH09153287A JP7310974A JP31097495A JPH09153287A JP H09153287 A JPH09153287 A JP H09153287A JP 7310974 A JP7310974 A JP 7310974A JP 31097495 A JP31097495 A JP 31097495A JP H09153287 A JPH09153287 A JP H09153287A
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circuit
level
input
semiconductor memory
memory device
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JP7310974A
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Nagaya Asami
修矢 浅見
Susumu Kusaba
晋 草場
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TECHNO KORAAJIYU KK
Oki Electric Industry Co Ltd
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TECHNO KORAAJIYU KK
Oki Electric Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のI/Oセレクト信号のいずれかを選択
することにより該信号に対応するI/Oを選択でき、か
つ、半導体記憶装置内部の前記選択したI/Oに関連す
る部分を一定期間だけ動作時状態にするタイマ回路を持
つ半導体記憶装置において、すでに待機時状態となって
いる内部部分が他のI/Oセレクト信号の変化によって
再び動作時状態になることを防止できる半導体記憶装置
を提供すること。 【解決手段】 タイマ回路Tを、それぞれのI/Oセレ
クト信号IOS1、IOS2の変化により発生するクロ
ックパルスの入力系統ごと(φIOS1、φIOS2の
入力系統ごと)に具える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は半導体記憶装置、
特に複数のI/Oセレクト信号のいずれかを選択するこ
とで該信号に対応するI/Oを選択でき、かつ、オート
パワーダウン回路を具えた半導体記憶装置に関するもの
である。
【0002】
【従来の技術】従来この種の半導体記憶装置として例え
ば特開昭59−104788号公報に開示のものがあ
る。図7はこの公報に開示の半導体記憶装置の一構成例
である。図7において、1はアドレス信号A0 〜An が
入力するアドレスバッファ、2はアドレス信号A0 〜A
n の論理変化を検出するアドレス変化検出回路、3は行
デコーダ、4はメモリセル、5はビット線選択トランス
ファゲート、6はセンスアンプ、7はラッチ回路、8は
出力バッファ、9はタイマ回路、10はクロック発生回
路をそれぞれ示す。行デコーダ3は、アドレスバッファ
1からのアドレス信号が入力しかつクロック信号φが入
力すると動作時状態になってデコード動作を行ない、ク
ロック信号φが入力しなくなるとデコード動作を禁止し
て待機時状態になるものである。また、タイマ回路9は
アドレス変化検出回路2からの検出信号が入力すると同
時に動作を開始し、かつ、一定時間後にタイマ出力信号
を出力するものである。また、クロック発生回路10は
アドレス変化検出回路2からの検出信号が入力すると同
時にクロック信号φを発生し、かつ、タイマ回路9から
タイマ出力信号が入力するとクロック信号φの発生を停
止するものである。
【0003】この半導体記憶装置では、アドレス信号A
0 〜An の論理が変化すると、アドレス変化検出回路2
から検出信号が出力される。またこの検出信号に応じク
ロック発生回路10からクロック信号φが発生され、こ
のクロック信号φにより行デコーダ3が活性化されてア
ドレス信号A0 〜An に対応する特定のワード線が選択
される。この活性化(動作時)状態においてメモリセル
4中のデータが読み出されてラッチ回路7にラッチさ
れ、そして、このラッチ回路7のラッチデータは出力バ
ッファ8に送られてデータ出力となる。そこで、アドレ
ス変化からデータラッチまでに要する時間を一定と見做
して予めタイマ回路9に設定しておけば、データラッチ
の時点でクロック発生回路10はクロック信号φを出力
しなくなり、したがって、半導体記憶装置内部は待機時
状態に移行する。すなわちデータ読み出し動作後、すぐ
に待機時状態に移行する(オートパワーダウンがなされ
る)。この待機時状態では直流電流は流れないので電力
は殆ど消費せずに済む。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、実際の低消
費電流型のSRAM(スタティック型ランダムアクセス
メモリ)などには、チップセレクト信号CSやI/Oセ
レクト信号IOSnによって半導体記憶装置内部を動作
時状態から待機時状態に遷移させるCS回路やIOSn
回路を有したものもある。例えば、チップセレクト信号
CSが「L」レベルの時またはI/Oセレクト信号IO
Snがすべて「L」レベルの時に半導体記憶装置内部を
動作時状態から待機時状態に遷移させるような機能を有
した半導体記憶装置である。そして、このような型の半
導体記憶装置では、低消費電流を達成する点から、CS
回路やIOSn回路の出力を図8(A)または図8
(B)に示したようなレベルシフト回路を介して後段に
出力する構成をとることが多い。しかし、図8(A)ま
たは(B)のようなレベルシフト回路を介した構成を単
にとった場合では、半導体記憶装置内部を今度は待機時
状態から動作時状態に変化させる目的でチップセレクト
信号CSやI/Oセレクト信号IOSnを変化させて
も、図8(A)の例にあってはアドレス入力A0 〜An
が全て「H」レベルの場合、また、図8(B)の例にあ
ってはアドレス入力A0 〜An が全て「L」レベルの場
合には、タイマ回路を動作させる得るクロックパルスが
発生されない(すなわち半導体記憶装置内部を動作時状
態にできない)。CS信号やIOSn信号のレベルのい
かんにかかわらず、アドレス入力A0 〜An の出力によ
ってレベルシフト回路の出力が規定されてしまうからで
ある。
【0005】そこで、半導体記憶装置内部を待機時状態
から動作時状態に変化させる目的でチップセレクト信号
CS、I/Oセレクト信号IOSnを変化させた場合に
も、タイマ回路を動作させ得るクロック信号が出力され
るようにするために、図9に示したように、アドレス入
力の論理変化により発生するクロック信号φA0 〜φA
n と、チップセレクト信号CSの変化により発生するク
ロック信号φCSと、I/Oセレクト信号IOSn(図
9の例ではIOS1、IOS2の2系統の例を示してい
る。)の変化により発生するクロック信号φIOSn
(ここではφIOS1,φIOS2)とを、論理和回路
OR1にそれぞれ入力しかつ該論理和回路OR1の出力
をタイマ回路Tに入力した構成を有した半導体記憶装置
がある。なお、図9に示した装置において、L0 〜Ln
はアドレス入力A0 〜An それぞれに対応するレベルシ
フト回路を示し、CK0 〜CKn はアドレス入力A0 〜
Anそれぞれに対応するクロック発生回路を示し、NA
ND1,NAND2はNAND型ゲートを示し、AND
1,AND2は論理積回路を示す。またタイマ回路Tは
2入力の論理和回路OR2と、入力が「H」レベルから
「L」レベルに変化する時だけ出力が遅れるよう動作す
る遅延回路Dとで構成してある。この2入力の論理和回
路OR2の一方の入力には論理和回路OR1の出力が直
接入力されまた他方の入力には論理和回路OR1の出力
が遅延回路Dを介し入力される構成としてある。この遅
延回路Dは、例えば図10に示したように、入力が共通
接続された多数の遅延回路D1〜Dnと、これら遅延回
路D1〜Dnの出力がそれぞれ入力される論理和回路O
Rとから成る回路により構成できる。このタイマ回路T
では、遅延回路Dで決まる遅延量に応じたパルス幅を有
したパルスφが論理和回路OR2から出力される。
【0006】しかしながら、この図9に示した様な回路
構成をとると、長いサイクルにおいて複数のI/Oを別
々に選択して動作させる場合(例えば16ビット構成の
入出力端子を例えば8ビットずつ選択して動作させる場
合等)に、半導体記憶装置で余分な電流を消費してしま
う場合があるという問題点が新たに生じる。以下、この
問題点について具体的に説明する。ただし、ここでは説
明を簡単にするために複数あるI/Oセレクト信号IO
SnがIOS1、IOS2の2つである場合を考える。
また、この説明を図11のタイムチャートをも参照して
行なう。
【0007】なおこの図9および図11において、φA
0 〜φAn はアドレス入力A0 〜An の論理変化により
発生するクロックパルス、φIOS1はI/Oセレクト
信号IOS1の変化により発生するクロックパルス、φ
IOS2はI/Oセレクト信号IOS2の入力信号の変
化により発生するクロックパルス、φはタイマ回路Tの
出力をそれぞれ示す。さらに、バーφ1およびバーφ2
それぞれは、半導体記憶装置内部の、I/Oセレクト信
号に関連する部分(例えばIOS1またはIOS2に関
連するワード線やセンスアンプなど)を動作時状態ある
いは待機時状態にするクロックパルスをそれぞれ示す。
【0008】長いサイクルで複数のI/Oを別々に選択
し、そしてこの選択したI/Oを介しメモリセルからデ
ータの読み出しをする例として、例えば時刻t0 でI/
Oセレクト信号IOS1のレベルを「L」レベルから
「H」レベルに変化させる例を考える。そうするとこの
IOS1の変化により時刻t1 でφIOS1が発生し、
このφIOS1は論理和回路OR1からタイマ回路Tに
入るので、タイマ回路Tは時刻t2 でクロックパルスφ
を発生し、そしてこのクロックパルスφとIOS1とに
よってNAND型ゲートNAND1は時刻t3 でバーφ
1を発生する。バーφ1はタイマ回路Tによって一定時
間「L」レベルになる。このバーφ1が「L」レベルの
期間で半導体記憶装置内部のIOS1に関連する部分は
動作時状態になる。この動作時状態の時にメモリセルか
らデータを読み出す。データはラッチ回路にラッチされ
るので、バーφ1が「H」レベルになり内部が待機時状
態に戻った後でもラッチしたデータを読み出すことがで
きるようになっている。一方、IOS1から遅れて時刻
4 でI/Oセレクト信号IOS2のレベルを待機時状
態「L」レベルから動作時状態「H」レベルにする。す
るとこのIOS2の変化により時刻t5 でφIOS2が
発生し、このφIOS2は論理和回路OR1からタイマ
回路Tに入るので、タイマ回路Tは時刻t6 でクロック
パルスを発生し、そしてこのクロックパルスφとIOS
2 とによってNAND型ゲートNAND2は時刻t7
バーφ2を発生する。バーφ2はタイマ回路によって一
定時間「Lレベル」になる。このバーφ2が「L」レベ
ルの期間で半導体記憶装置内部のIOS2に関連する部
分は動作時状態になる。この動作時状態の時にメモリセ
ルからデータを読み出す。データはラッチ回路にラッチ
されるので、バーφ2が「H」レベルになり内部が待機
的状態に戻った後でもラッチしたデータを読み出すこと
ができるようになっている。
【0009】ところが、時刻t6 において発生されたク
ロックパルスφは半導体記憶装置内部のI/Oセレクト
信号IOS2に関連する部分を時刻t7 において動作時
状態にもちろんするのであるが、時刻t6 においてはI
/Oセレクト信号IOS1も動作時状態「H」レベルに
なつているため、時刻t7 で再びバーφ1を発生させて
しまう(図11中のPで示す部分)。この結果、半導体
記憶装置内部のI/Oセレクト信号IOS1に関連する
部分を再び動作時状態にしてしまう。IOS1に関連す
る部分はすでに時刻t3 で発生したバーφ1 が「L」レ
ベルの期間で動作時状態にされ、そして必要なデータは
この期間にメモリセルからラッチ回路にラッチされてい
るので、再び内部を動作させてメモリセルからデータを
読み出す必要はそもそもなく、しかも、IOS1に関連
する部分のこのような再動作は半導体記憶装置で余分に
電流を消費させてしまうことになるので、解決が望まれ
る。
【0010】
【課題を解決するための手段】そこで、この発明によれ
ば、複数のI/Oセレクト信号のいずれかを選択するこ
とにより該選択したI/Oセレクト信号に対応するI/
Oが選択できる半導体記憶装置であって、I/Oセレク
ト信号の変化により発生するクロックパルス、アドレス
入力の論理変化により発生するクロックパルス、およ
び、チップセレクト信号の変化により発生するクロック
パルスのいずれかのクロックパルスに応答し半導体記憶
装置内部を一定期間だけ動作時状態にする信号を出力す
るタイマ回路と、前記動作時状態においてアクセスされ
るメモリセルと、該メモリセルから読み出したデータを
ラッチするラッチ回路とを具え、前記内部が待機時状態
になった後でも前記ラッチされた前記データを読み出す
ことができる半導体記憶装置において、前記タイマ回路
を、前記複数のI/Oセレクト信号の入力系統ごとに具
えたことを特徴とする。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
半導体記憶装置のいくつかの実施の形態についてそれぞ
れ説明する。しかしながら説明に用いる各図はこの発明
を理解出来る程度に概略的に示してあるにすぎない。ま
た、各図において同様な構成成分については同一の番号
を付して示してある。さらに図9において説明した構成
成分と同様な構成成分については同一の番号を付して示
してある。
【0012】先ずそれぞれの実施の形態の説明に先立
ち、この発明を適用した半導体記憶装置の全体構成の例
を説明する。図1はこの構成例を示した図である。ただ
し、説明を簡単にするために複数あるI/Oセレクト信
号IOSnが、IOS1およびIOS2の2つである例
を示している。さらに、I/Oセレクト信号の入力系統
ごとにタイマ回路を設ける例として、ここでは、I/O
セレクト信号の変化により発生するクロック信号φIO
S1,φIOS2の入力系統ごとにタイマ回路Tを具え
た例を示している。
【0013】この図1において、11はロウアドレス信
号が入力するアドレスバッファ、13はカラムアドレス
信号が入力するアドレスバッファ、15はロウデコー
ダ、17はカラムデコーダ、19はメモリセル、21、
23はセンスアンプ、25、27はラッチ回路、29、
31は出力バッファ、I/O1〜I/O16はそれぞれ
I/Oを示す。ただし、I/Oを16ビットとしている
がもちろんこれは例示にすぎない。さらに、この図1に
おいて破線枠C、破線枠E1、破線部E2で囲ったそれ
ぞれの部分は、この発明に係る回路部分であり、後述の
いくつかの実施の形態で詳細に説明される部分である。
【0014】この図1の構成の場合、この発明でいうI
/Oセレクト信号により選択されるI/Oとは、I/O
1〜I/O8のグループおよびI/O9〜I/O16の
グループということになり、また、この発明でいう一定
期間だけ動作時状態にされる半導体記憶装置内部とは、
ロウデコーダ15、カラムデコーダ17、メモリセル1
9、センスアンプ21、23となる。
【0015】1.第1の実施の形態 図2は本発明の第1の実施の形態を示す回路図であっ
て、特に図1中の破線枠Cで囲った部分についての第1
の実施の形態を示した図である。
【0016】この第1の実施の形態では、I/Oセレク
ト信号IOS1の変化により発生するクロック信号φI
OS1は、論理和回路OR11と、タイマ回路Tと、N
AND型ゲートNAND1と、論理積回路AND1とで
構成される回路部E1を介し、ロウデコーダ15、カラ
ムデコーダ17センスアンプ21にそれぞれ入力され
る。また、I/Oセレクト信号IOS2の変化により発
生するクロック信号φIOS2は、φIOS1用とは別
に用意されしかしφIOS1用と同様な構成の、論理和
回路OR11と、タイマ回路Tと、NAND型ゲートN
AND1と、論理積回路AND1とで構成される回路部
E2を介し、ロウデコーダ15、カラムデコーダ17セ
ンスアンプ23にそれぞれ供給される。ここでφIOS
1用の回路部E1では、論理和回路OR11の入力にφ
0 〜φAn とφCSとφIOS1とがそれぞれ入力さ
れる構成としてある。さらに、論理和回路OR11の出
力とタイマ回路Tの入力とを接続してある。さらにこの
タイマ回路Tは、2入力の論理和回路OR2と、入力が
「H」レベルから「L」レベルに変化する時だけ出力が
遅れるよう動作する遅延回路Dとで構成してある。そし
てこの2入力の論理和回路OR2の一方の入力には論理
和回路OR11の出力が直接入力されまた他方の入力に
は論理和回路OR11の出力が遅延回路Dを介し入力さ
れる構成としてある。さらに論理積回路AND1の一方
の入力端にはCS信号が入力され、他方の入力端にはI
OS1信号が入力される構成としてある。さらにタイマ
回路Tの出力および論理積回路AND1の出力それぞれ
をNAND型ゲートNAND1の入力に接続してある。
そして、このNAND1の出力バーφ1が、ロウデコー
ダ15、カラムデコーダ17、センスアンプ21のそれ
ぞれ所定の部分(I/Oセレクト信号IOS1に関連す
る部分)に接続される構成としてある。一方、φIOS
2用の回路部E2の接続関係はφIOS1用の回路部E
1のそれと基本的に同様となっている。ただしこの回路
部E2では、回路部E1においてIOS1やφIOS1
を入力していたところにこれらに代えてIOS2やφI
OS2を入力する点と、回路部E2の出力であるバーφ
2のロウデコーダ15等に対する接続点がI/Oセレク
ト信号IOS2に関連する部分になる点とが、回路部E
1と異なる。
【0017】なお、I/Oセレクト信号が3以上のn
(nは3以上の任意の整数)の場合は、回路部E1に相
当するものをn個用意し、かつ、それぞれの回路部En
にIOSnおよびφIOSnを入力し、そして、この回
路部Enの出力をバーφnとすれば良い(以下の、第2
〜第4の実施の形態において同じ。)。
【0018】次に、この第1の実施の形態の半導体記憶
装置の理解を深めるために、この装置の動作について説
明する。この説明を図1および図2に加えて図3に示し
たタイムチャートをも参照して行なう。
【0019】チップセレクト信号CSが「H」レベルの
場合に時刻t10でアドレス信号を論理変化させる。ただ
し時刻t10では、I/Oセレクト信号IOS1、IOS
2が「L」レベルであるので、半導体記憶装置内部は待
機時状態になっているためφAn (φA0 〜φAn )は
発生しない。次に、時刻t11でIOS1を「L」レベル
から「H」レベルへと変化させる。すなわち半導体記憶
装置内部のIOS1に関連する部分を待機時状態から動
作時状態に遷移させるべくIOS1信号のレベルを変化
させた場合、時刻t12でIOS1の変化によりφIOS
1 の「H」レベルのパルスが発生する。また、レベルシ
フト回路L0 〜Ln を用いた構成をとっている(入力初
段型態をとっている)ため、このIOS1の変化により
φAnの「H」レベルのパルスも発生する。ただし、ア
ドレス入力A0 〜An がすべて「H」レベルの場合はφ
Anが発生しない。このφIOS1の「H」レベルのパ
ルスとφAnの「H」レベルのパルスとφCSの「L」
レベルのパルスとによって時刻t13で回路部E1におけ
る論理和回路OR11とタイマ回路Tとからφ1の
「H」レベルのパルスが発生し、回路部E2における論
理和回路OR11とタイマ回路Tとからφ2の「H」レ
ベルのパルスが発生する。そして、φ1 の「H」レベル
のパルスと「H」レベルのIOS1 とによって回路部E
1におけるNAND型ゲートNAND1 から時刻t14
バーφ1の「L」レベルのパルスが発生し、バーφ1が
「L」レベルの期間でメモリセルからデータを読み出
し、出力することができる。また時刻t13で発生したφ
2 の「H」レベルのパルスはIOS2が「L」レベルな
ので回路部E2のNAND型ゲートNAND1からパル
スを発生しない。次に、時刻t15でIOS2を「L」レ
ベルから「H」レベルへと変化させると、時刻t16でI
OS2の変化によりφIOS2の「H」レベルのパルス
が発生する。ただしレベルシフト回路L0 〜Ln を用い
た構成をとっている(入力初段型態をとっている)ため
φAn は発生しない。このφIOS2 の「H」レベルの
パルスとφAn の「L」レベルとによって回路部E2に
おける論理和回路OR11とタイマ回路Tとから時刻t
17でφ2の「H」レベルのパルスが発生する。このφ2
の「H」レベルのパルスとIOS2の「H」レベルとに
よって回路部E2におけるNAND型ゲートNAND1
から時刻t18でバーφ2の「L」レベルのパルスが発生
し、バーφ2が「L」レベルの期間でメモリセルからデ
ータを読み出し出力することができる。
【0020】以上の様にこの第1の実施の形態によれ
ば、複数あるI/Oセレクト信号IOS1、IOS2、
・・・、IOSnの入力系統ごとにタイマ回路Tをそれ
ぞれ設けてそれぞれのタイマ回路にφA0 〜φAn と、
φCSと、対応するφIOSn(上記例ではIOS1ま
たはIOS2)とをそれぞれを供給することによりそれ
ぞれのI/Oセレクト信号によってそれぞれのタイマ回
路の出力を制御することができる。このため、複数ある
I/Oセレクト信号おのおのに関連する半導体記憶装置
内部ごとの待機時状態および動作時状態の切換制御が独
立に行なえる。したがって、複数のI/Oを別々に選択
しリードする場合であっても、すでにデータを読み出し
ているI/Oに関連する半導体記憶装置内部であってす
でに待機時状態となっている内部が他のI/Oセレクト
信号の変化によって再び動作時状態になることを防止で
きるので、半導体記憶装置での余分な電流の消費を防ぐ
ことが出来る。
【0021】2.第2の実施の形態 上述の第1の実施の形態ではクロック信号φA0 〜φA
n それぞれは、I/Oセレクト信号IOSnの入力系統
すべてに共通の回路CK0 〜CKn によって発生させ、
それを、配線を介してIOSnの入力系統(具体的には
回路部E1および回路部E2)に並列に供給していた。
また、クロックφCSについても、I/Oセレクト信号
IOSnの入力系統すべてに共通のCS回路によって発
生させ、それを、配線を介してIOSnの入力系統(具
体的には回路部E1および回路部E2)に並列に供給し
ていた。しかしそうすると配線抵抗と配線容量とが大き
くなってしまい、クロックパルスφA0 〜φAn やφC
Sの出力が遅れてしまう。この第2の実施の形態はこれ
を低減するものである。
【0022】図4はこの第2の実施の形態の説明図であ
り、図2に対応する部分のブロック図である。
【0023】この第2の実施の形態の第1の実施の形態
との相違点は次の2点である。先ず、第1の相違点は、
CK0 〜CKn で構成されるクロック信号φA0 〜φA
n 発生回路31(図4参照)をIOSnの入力系統ごと
(この図4の例では回路部E1、E2ごと)に具えた点
である。レベルシフト回路L0 〜Ln の出力はこれら複
数のクロック信号φA0 〜φAn 発生回路31に対し並
列の関係で接続してある。また、配線抵抗および配線容
量の低減の目的からして、それぞれのクロック信号φA
0 〜φAn 発生回路31は、対応するIOSnの入力系
統(この図4の例では回路部E1またはE2)における
論理和回路OR11のなるべく近い位置に設けるのが良
い。また、第2の相違点は、IOSnの入力系統ごと
(この図4の例では回路部E1、E2ごと)にクロック
信号φCS発生回路33を具えた点である。それぞれの
クロック信号φCS発生回路33は、例えば2入力論理
積回路33aとこの一方の入力に直列に接続されている
遅延回路33bおよびインバータ回路33cとで構成で
きる。2入力論理積回路33aの他方の入力およびイン
バータ回路33cの入力にCS信号が入力される。配線
抵抗および配線容量の低減の目的からして、それぞれの
クロック信号φCS発生回路33は、対応するIOSn
の入力系統(この図4の例では回路部E1またはE2)
における論理和回路OR11のなるべく近い位置に設け
るのが良い。
【0024】この第2の実施の形態の半導体記憶装置は
第1の実施の形態のものと同様に動作するのでその説明
はここでは省略する。
【0025】この第2の実施の形態の場合も、第1の実
施の形態の場合と同様に複数のI/Oを別々に選択しリ
ードする場合であっても、すでにデータ読み出している
I/Oに関連する半導体記憶装置内部であってすでに待
機時状態となっている内部が他のI/Oセレクト信号の
変化によって再び動作時状態になることを防止できるの
で、半導体記憶装置での余分な電流の消費を防ぐことが
出来る。さらに、この第2の実施の形態の場合は、IO
Snの入力系統ごとにクロック信号φA0 〜φAn 発生
回路31およびクロック信号φCS発生回路33を設け
たので、そうしない場合に比べ、各クロック信号の配線
抵抗や配線容量に起因する出力遅れを防止できる。
【0026】3.第3の実施の形態 上述の第1の実施の形態ではクロック信号φA0 〜φA
n とクロック信号φCSとを、I/Oセレクト信号IO
Snの入力系統ごと(具体的には回路部E1、E2ご
と)に並列に供給していた。しかしそうすると配線数が
増えるという問題や、また基板面積の関係からそれぞれ
の配線を細くせねばならないから配線抵抗や配線容量が
増えるなどの問題が生じる。この第3の実施の形態はこ
れを低減するものである。
【0027】図5はこの第3の実施の形態の説明図であ
り、図2に対応する部分のブロック図である。
【0028】この第3の実施の形態の第1の実施の形態
との相違点は次の3点である。先ず第1の点は、クロッ
ク信号φA0 〜φAn とクロック信号φCSとを入力と
する論理和回路OR12を具える点である。第2の点
は、I/Oセレクト信号の入力系統ごと(具体的には回
路部E1、E2ごと)の論理和回路OR11を2入力の
ものとした点である。第3の点は各回路部E1、E2ご
との論理和回路OR11それぞれの一方の入力に上述の
論理和回路OR12の出力を接続し、かつ、各回路部E
1、E2ごとの、論理和回路OR11それぞれの他方の
入力に該回路部に対応するφIOSn(具体的にはφI
OS1またはφIOS2)を遅延回路35を介し接続し
ている点である。遅延回路35を設けたのは、論理和回
路OR12を追加したことによりφA0 〜φAn および
φCSの遅れに対しφIOSnを同期させるためであ
る。
【0029】この第3の実施の形態の半導体記憶装置は
第1の実施の形態のものと同様に動作するのでその説明
はここでは省略する。
【0030】この第3の実施の形態の場合も、第1の実
施の形態の場合と同様に複数のI/Oを別々に選択しリ
ードする場合であっても、すでにデータをみ出している
I/Oに関連する半導体記憶装置内部であってすでに待
機時状態となっている内部が他のI/Oセレクト信号の
変化によって再び動作時状態になることを防止できるの
で、半導体記憶装置での余分な電流の消費を防ぐことが
出来る。さらに、この第3の実施の形態の場合は、論理
和回路OR12を設けたので、I/Oセレクト信号の入
力系統ごと(図5の例では回路部E1、E2ごと)への
配線数を第1、第2の各実施の形態より低減出来る。こ
のため、各クロック信号の配線抵抗や配線容量に起因す
る出力遅れを防止できる。さらに、第2の実施の形態に
くらべクロック発生回路が少なくて済むのでチップサイ
ズを小さくすることができる。
【0031】4.第4の実施の形態 図6は第4の実施の形態の説明図であり、第3の実施の
形態における図5に対応する部分のブロック図である。
【0032】この第4の実施の形態の第3の実施の形態
との相違点は次の通りである。第3の実施の形態では論
理和回路OR12の出力とφIOSnとの論理和をとっ
ている論理和回路OR11の後段に、タイマ回路Tを設
けていた。これに対しこの第4の実施の形態では、φI
OSn(図6の例ではφIOS1、φIOS2)専用の
タイマ回路Tと、論理和回路OR12の出力専用のタイ
マ回路T1を設け、さらにこれらタイマ回路T,T1の
出力をそれぞれ入力とする2入力の論理和回路OR13
を設けている。ただし、この論理和回路OR13の出力
はNAND型ゲートNAND1の入力に第1〜第3の各
実施の形態と同様に接続してある。またタイマ回路T1
はタイマ回路Tと同様な構成としてある。
【0033】次に、この第4の実施の形態の回路の理解
を深めるためにこの回路の動作について説明する。この
説明を図3をも参照して行なう。
【0034】CSが「H」レベルの場合に時刻t10でア
ドレス信号を論理変化させる。時刻t10では第1の実施
の形態同様φAnは発生しない。次に、時刻t11でIO
S1を「L」レベルから「H」レベルへと変化させる。
そうすると時刻t12で第1の実施の形態同様φIOS1
の「H」レベルのパルスとφAnの「H」レベルのパル
スが発生する。このφIOS1の「H」レベルのパルス
による遅延回路Dの「H」レベルの出力が、タイマ回路
Tから時刻t13でφ1の「H」レベルのパルスを発生す
る。また、時刻12で発生したφAn の「H」レベルのパ
ルスは、φAnの「H」レベルのパルスとφCSの
「L」レベルとによって論理和回路OR12から「H」
レベルのパルスを出力し、そして、この論理和回路OR
12からの「H」レベルの出力によってタイマ回路T1
から「H」レベルのパルスが発生する。論理和回路OR
12に接続されているこのタイマ回路T1の「H」レベ
ルの出力と、φIOSn(IOS1またはIOS2)が
入力されるタイマ回路Tからのφ1の「H」レベルの出
力とによって論理和回路OR13は「H」レベルのパル
スを出力し、この論理和回路のOR13のHレベルの出
力とIOS1の「H」レベルによってNAND型ゲート
NAND1から時刻t14でバーφ1の「L」レベルのパ
ルスを発生し、バーφ1が「L」レベルの期間でメモリ
セルからデータを読み出し出力することができる。次
に、時刻t15でIOS2を「L」レベルから「H」レベ
ルへと変化させると、回路部E1での上述の動作と同様
な動作が回路部E2で生じる。このため、時刻t18でバ
ーφ2の「L」レベルのパルスを発生し、バーφ2が
「L」レベルの期間でメモリセルからデータを読み出し
出力することができる。
【0035】この第4の実施の形態の場合も、第1の実
施の形態の場合と同様に複数のI/Oを別々に選択しリ
ードする場合であっても、すでにデータ読み出している
I/Oに関連する半導体記憶装置内部であってすでに待
機時状態となっている内部が他のI/Oセレクト信号の
変化によって再び動作時状態になることを防止できるの
で、半導体記憶装置での余分な電流の消費を防ぐことが
出来る。さらに、第3の実施の形態の場合と同様I/O
セレクト信号の入力系統ごと(図6の例では回路部E
1,E2ごと)への配線数を第1、第2の各実施の形態
より低減出来る。このため、各クロック信号の配線抵抗
や配線容量に起因する出力遅れを防止できる。さらに、
第2の実施の形態にくらべクロック発生回路が少なくて
済むのでチップサイズを小さくすることができる。
【0036】5.他の実施の形態 第1、第2の各実施の形態では各回路部Eにおいてタイ
マ回路Tの出力にNAND型ゲートNAND1を接続し
たが、これは論理和回路OR11の出力にNAND型ゲ
ートNAND1の一入力を接続し、該NAND型ゲート
NAND1の他入力には対応するI/Oセレクト信号I
OSnを接続し、かつ、該NAND型ゲートNAND1
の出力をタイマ回路Tに接続しても良い。
【0037】第3、第4の実施の形態では遅延回路35
をφIOSnを発生する回路側(図中のIOS1回路や
IOS2回路側)に設けても良い。
【0038】また、第1、第2、第3、第4の各実施の
形態ではチップセレクト信号CS、I/Oセレクト信号
IOSnが「H」レベルで半導体記憶装置内部が動作時
状態となる例としているが「L」レベルで動作時状態に
なるようにバーCS、バーIOSnとしても良い。バー
φ1、バーφ2、・・・、バーφnについても「H」レ
ベルのパルスを発生するようにし「H」レベルの期間で
読み出し動作を行なうようにしても問題はない。
【0039】
【発明の効果】上述した説明から明らかなようにこの発
明の半導体記憶装置によれば、複数のI/Oセレクト信
号のいずれかを選択することにより該選択したI/Oセ
レクト信号に対応するI/Oが選択できる半導体記憶装
置であって、I/Oセレクト信号の変化により発生する
クロックパルス、アドレス入力の論理変化により発生す
るクロックパルス、および、チップセレクト信号の変化
により発生するクロックパルスのいずれかのクロックパ
ルスに応答し半導体記憶装置内部を一定期間だけ動作時
状態にする信号を出力するタイマ回路と、前記動作時状
態においてアクセスされるメモリセルと、該メモリセル
から読み出したデータをラッチするラッチ回路とを具
え、前記内部が待機時状態になった後でも前記ラッチさ
れた前記データを読み出すことができる半導体記憶装置
において、前記タイマ回路を、前記複数のI/Oセレク
ト信号の入力系統ごとに具えている。このため、複数あ
るI/Oセレクト信号おのおのに関連する半導体記憶装
置内部ごとの待機時状態および動作時状態の切換制御が
独立に行なえる。したがって、複数のI/Oを別々に選
択しリードする場合であっても、すでにデータを読み出
しているI/Oに関連する半導体記憶装置内部であって
すでに待機時状態となっている内部が他のI/Oセレク
ト信号の変化によって再び動作時状態になることを防止
できるので、半導体記憶装置での余分な電流の消費を防
ぐことが出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施の形態の説明図であり、特に装置の全体構
成を示す図である。
【図2】第1の実施の形態の説明図であり、図1中の破
線枠Cの部分の第1の実施の形態における詳細な説明図
である。
【図3】実施の形態の装置の動作説明に供するタイムチ
ャートである。
【図4】第2の実施の形態の説明図であり、図1中の破
線枠Cの部分の第2の実施の形態における詳細な説明図
である。
【図5】第3の実施の形態の説明図であり、図1中の破
線枠Cの部分の第3の実施の形態における詳細な説明図
である。
【図6】第4の実施の形態の説明図であり、図1中の破
線枠Cの部分の第4の実施の形態における詳細な説明図
である。
【図7】従来技術の説明図である。
【図8】従来技術の課題の説明図である。
【図9】従来技術の課題の説明図(その2)である。
【図10】従来技術の課題の説明図(その3)である。
【図11】従来技術の課題の説明図(その4)である。
【符号の説明】
IOS1、IOS2:複数のI/Oセレクト信号 I/O1〜I/O16:I/Oセレクト信号により選択
されるI/O φA0 〜φAn :アドレス入力の変化により発生するク
ロックパルス φIOS1,φIOS2:I/Oセレクト信号の変化に
より発生するクロックパルス φCS:チップセレクト信号の変化により発生するクロ
ックパルス T:I/Oセレクト信号の入力系統ごとに具えたタイマ
回路

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のI/Oセレクト信号のいずれかを
    選択することにより該選択したI/Oセレクト信号に対
    応するI/Oが選択できる半導体記憶装置であって、I
    /Oセレクト信号の変化により発生するクロックパル
    ス、アドレス入力の論理変化により発生するクロックパ
    ルス、および、チップセレクト信号の変化により発生す
    るクロックパルスのいずれかのクロックパルスに応答し
    半導体記憶装置内部を一定期間だけ動作時状態にする信
    号を出力するタイマ回路と、前記動作時状態においてア
    クセスされるメモリセルと、該メモリセルから読み出し
    たデータをラッチするラッチ回路とを具え、前記内部が
    待機時状態になった後でも前記ラッチされた前記データ
    を読み出すことができる半導体記憶装置において、 前記タイマ回路を、前記複数のI/Oセレクト信号の入
    力系統ごとに具えたことを特徴とする半導体記憶装置。
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