JPH09143127A - ニトロトルエン誘導体およびその製造方法 - Google Patents
ニトロトルエン誘導体およびその製造方法Info
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- JPH09143127A JPH09143127A JP7332635A JP33263595A JPH09143127A JP H09143127 A JPH09143127 A JP H09143127A JP 7332635 A JP7332635 A JP 7332635A JP 33263595 A JP33263595 A JP 33263595A JP H09143127 A JPH09143127 A JP H09143127A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】インドール−２−カルボン酸誘導体の合成原料
として有用な２−ニトロトルエン誘導体およびその新規
製造法を提供する。 【解決手段】 オルト位の少なくとも一方が無置換であ
るニトロベンゼン誘導体に塩基の存在下、よう化トリメ
チルスルホニウム((ＣＨ3 ) 3 ＳＩ）を反応させること
を特徴とする２−ニトロトルエン誘導体の製造法。
として有用な２−ニトロトルエン誘導体およびその新規
製造法を提供する。 【解決手段】 オルト位の少なくとも一方が無置換であ
るニトロベンゼン誘導体に塩基の存在下、よう化トリメ
チルスルホニウム((ＣＨ3 ) 3 ＳＩ）を反応させること
を特徴とする２−ニトロトルエン誘導体の製造法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、インドール−２−
カルボン酸誘導体の合成原料として有用な２−ニトロト
ルエン誘導体およびその新規製造法に関する。インドー
ル−２−カルボン酸誘導体は医薬品の合成中間体として
有用であるが、該化合物のなかでも、例えば一般式
〔６〕
カルボン酸誘導体の合成原料として有用な２−ニトロト
ルエン誘導体およびその新規製造法に関する。インドー
ル−２−カルボン酸誘導体は医薬品の合成中間体として
有用であるが、該化合物のなかでも、例えば一般式
〔６〕
【化６】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒａ 、Ｒｂ は後記と同意義を
有し、Ｒ7 は水素又はアルキル基を示す。〕で表される
化合物は、ナトリウム／プロトン交換輸送系阻害作用を
有し、虚血再灌流障害、脳虚血障害等の治療剤もしくは
予防剤として期待される２−インドリルカルボニル−グ
アニジン類（特開平７−１０８３９号公報参照）の合成
中間体として有用である。
有し、Ｒ7 は水素又はアルキル基を示す。〕で表される
化合物は、ナトリウム／プロトン交換輸送系阻害作用を
有し、虚血再灌流障害、脳虚血障害等の治療剤もしくは
予防剤として期待される２−インドリルカルボニル−グ
アニジン類（特開平７−１０８３９号公報参照）の合成
中間体として有用である。
【０００２】
【従来の技術】一般式〔２〕で示される構造を有する化
合物の製造方法としては、例えばトルエン誘導体をニト
ロ化することにより、２−ニトロトルエン誘導体を合成
する方法が知られており、この方法を用いた合成例とし
ては、例えば3,４−ジメチル−２−ニトロフェノール
(Synthetic Communications, 16(1), 63-68(1986); Tet
rahedron Letters, Vol.29, No.16, 1869-1872(1988);
Aust. J. Chem.,42, 689-697(1989) など) 、４−クロ
ロ−３−メチル−２−ニトフェノール (Tetrahedron, V
ol.45, No.5, 1299-1310(1989)など) 等が文献的に知ら
れている。又、２−ニトロ−ｍ−クレゾールをブロモ化
することにより、４−ブロモ−３−メチル−２−ニトロ
フェノールを合成する方法 (J. Heterocyclic Chem.,2
0,149-153(1983))が文献的に知られている。一方、ニト
ロベンゼン誘導体から２−ニトロトルエン誘導体を合成
する方法として、例えば、ニトロベンゼン誘導体にジメ
チルスルホキソニウムメチリド（（ＣＨ3 ）2 Ｓ（Ｏ）
ＣＨ2 + Ｉ- ) を反応させてベンゼン環部分にメチル基
を導入することにより２−ニトロトルエン誘導体を合成
する方法（例えば、J. Org. Chem., Vol.31, 243-247(1
966)など) 、また、ニトロベンゼン誘導体にグリニヤー
ル試薬 (例えば、MeMgBr, MeMgClなど）を反応させて、
ベンゼン環部分にメチル基を導入することにより、２−
ニトロトルエン誘導体を合成する方法（例えば、Tetrah
edron Letters, Vol.26, No.1,115-118(1985)など）等
が文献的に知られている。なお、一般式〔２〕で表され
る化合物において、Ｒ1 がＣＦ3 基のものは、これまで
文献等に記載されていない新規な化合物である。
合物の製造方法としては、例えばトルエン誘導体をニト
ロ化することにより、２−ニトロトルエン誘導体を合成
する方法が知られており、この方法を用いた合成例とし
ては、例えば3,４−ジメチル−２−ニトロフェノール
(Synthetic Communications, 16(1), 63-68(1986); Tet
rahedron Letters, Vol.29, No.16, 1869-1872(1988);
Aust. J. Chem.,42, 689-697(1989) など) 、４−クロ
ロ−３−メチル−２−ニトフェノール (Tetrahedron, V
ol.45, No.5, 1299-1310(1989)など) 等が文献的に知ら
れている。又、２−ニトロ−ｍ−クレゾールをブロモ化
することにより、４−ブロモ−３−メチル−２−ニトロ
フェノールを合成する方法 (J. Heterocyclic Chem.,2
0,149-153(1983))が文献的に知られている。一方、ニト
ロベンゼン誘導体から２−ニトロトルエン誘導体を合成
する方法として、例えば、ニトロベンゼン誘導体にジメ
チルスルホキソニウムメチリド（（ＣＨ3 ）2 Ｓ（Ｏ）
ＣＨ2 + Ｉ- ) を反応させてベンゼン環部分にメチル基
を導入することにより２−ニトロトルエン誘導体を合成
する方法（例えば、J. Org. Chem., Vol.31, 243-247(1
966)など) 、また、ニトロベンゼン誘導体にグリニヤー
ル試薬 (例えば、MeMgBr, MeMgClなど）を反応させて、
ベンゼン環部分にメチル基を導入することにより、２−
ニトロトルエン誘導体を合成する方法（例えば、Tetrah
edron Letters, Vol.26, No.1,115-118(1985)など）等
が文献的に知られている。なお、一般式〔２〕で表され
る化合物において、Ｒ1 がＣＦ3 基のものは、これまで
文献等に記載されていない新規な化合物である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ニトロ化による合成法においては、異性体（例えば、4,
５−ジメチル−２−ニトロフェノール、４−クロロ−５
−メチル−２−ニトロフェノールなど）の生成は避けら
れず、目的物のみを効率良く分離精製するのは困難であ
り、大量合成に用いる方法としては不適当であると考え
られる。また、上記のブロモ化による合成法において
は、原料に用いる２−ニトロ−ｍ−クレゾールが比較的
合成困難であり、大量に入手するのが困難である。ま
た、上記のジメルスルホキソニウムメチリド及びグリニ
ヤール試薬を用いる合成法においては、目的とする２−
ニトロトルエン誘導体は極めて低収率でしか得られな
い、等の問題がある。
ニトロ化による合成法においては、異性体（例えば、4,
５−ジメチル−２−ニトロフェノール、４−クロロ−５
−メチル−２−ニトロフェノールなど）の生成は避けら
れず、目的物のみを効率良く分離精製するのは困難であ
り、大量合成に用いる方法としては不適当であると考え
られる。また、上記のブロモ化による合成法において
は、原料に用いる２−ニトロ−ｍ−クレゾールが比較的
合成困難であり、大量に入手するのが困難である。ま
た、上記のジメルスルホキソニウムメチリド及びグリニ
ヤール試薬を用いる合成法においては、目的とする２−
ニトロトルエン誘導体は極めて低収率でしか得られな
い、等の問題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決すべく、２−ニトロトルエン誘導体を選択的に合成
し、なおかつ大量合成が可能となる合成方法について種
々検討を重ねた結果、オルト位の少なくとも一方が無置
換であるニトロベンゼン誘導体を適当な塩基の存在下、
よう化メチルスルホニウムを反応させることにより、目
的とする２−ニトロトルエン誘導体が選択的に得られる
ことを見出した。そして、２−ニトロトルエン誘導体が
選択的に得られることにより精製が容易になり、その結
果、大量合成が可能となることを見出し、本発明を完成
した。
決すべく、２−ニトロトルエン誘導体を選択的に合成
し、なおかつ大量合成が可能となる合成方法について種
々検討を重ねた結果、オルト位の少なくとも一方が無置
換であるニトロベンゼン誘導体を適当な塩基の存在下、
よう化メチルスルホニウムを反応させることにより、目
的とする２−ニトロトルエン誘導体が選択的に得られる
ことを見出した。そして、２−ニトロトルエン誘導体が
選択的に得られることにより精製が容易になり、その結
果、大量合成が可能となることを見出し、本発明を完成
した。
【０００５】すなわち、本発明は、オルト位の少なくと
も一方が無置換である、またはオルト位の少なくとも一
方およびパラ位が無置換であるニトロベンゼン誘導体を
塩基の存在下、よう化トリメチルスルホニウムを反応さ
せることを特徴とする２−ニトロトルエン誘導体の製造
法、さらに詳しくは、一般式〔１〕
も一方が無置換である、またはオルト位の少なくとも一
方およびパラ位が無置換であるニトロベンゼン誘導体を
塩基の存在下、よう化トリメチルスルホニウムを反応さ
せることを特徴とする２−ニトロトルエン誘導体の製造
法、さらに詳しくは、一般式〔１〕
【化７】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ同一または異なっていて
もよく、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、
シクロアルキル基、ハロゲン原子、芳香族基、−ＯＲ4
基、−ＮＲ5 Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、−Ｓ
（Ｏ）n Ｒ4 基またはＣＦ3 基を示し、Ｒａ 、Ｒｂ
はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、ハロゲン原子、芳香族基、−ＯＲ4 基、−Ｎ
Ｒ5 Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4
基、またはＣＦ3 基を示し、Ｒ4 は水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、芳香族基を示し、Ｒ5 及びＲ6は互いに独立して水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基、または芳香族基を示すか、あるいは互いに結合して
環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和５ないし７員
環の環状アミノ基を示し、ｎは０〜２を示す。〕で表さ
れる化合物に塩基の存在下、よう化トリメチルスルホニ
ウム（（ＣＨ3 ）3 ＳＩ）を反応させることを特徴とす
る一般式〔２〕
もよく、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、
シクロアルキル基、ハロゲン原子、芳香族基、−ＯＲ4
基、−ＮＲ5 Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、−Ｓ
（Ｏ）n Ｒ4 基またはＣＦ3 基を示し、Ｒａ 、Ｒｂ
はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、ハロゲン原子、芳香族基、−ＯＲ4 基、−Ｎ
Ｒ5 Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4
基、またはＣＦ3 基を示し、Ｒ4 は水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、芳香族基を示し、Ｒ5 及びＲ6は互いに独立して水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基、または芳香族基を示すか、あるいは互いに結合して
環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和５ないし７員
環の環状アミノ基を示し、ｎは０〜２を示す。〕で表さ
れる化合物に塩基の存在下、よう化トリメチルスルホニ
ウム（（ＣＨ3 ）3 ＳＩ）を反応させることを特徴とす
る一般式〔２〕
【化８】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒａ およびＲｂ は前記と同意
義を有する。〕で表される化合物の製造法、および一般
式〔５〕
義を有する。〕で表される化合物の製造法、および一般
式〔５〕
【化９】 〔式中、Ｒ2 、ＲａおよびＲｂは前記と同意義を有す
る。〕で表される化合物、に関する。
る。〕で表される化合物、に関する。
【０００６】前記式中において、アルキル基としては、
例えばメチル、エチル、プロピル、２−プロピル、ブチ
ル、２−ブチル、２−メチルプロピル、1,１−ジメチル
エチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなど
の直鎖または分枝した炭素原子数８個以下のアルキル基
が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ
素、塩素、臭素およびヨウ素原子が挙げられる。シクロ
アルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原
子数３〜７個のシクロアルキル基が挙げられる。芳香族
基には、置換基を有していてもよいアリール基および置
換基を有していてもよいヘテロアリール基が含まれ、ア
リール基としては、例えばフェニル、ナフチルなどの炭
素原子数１０個以下のアリール基が、ヘテロアリール基
としては、例えば２−，３−，４−ピリジル、２−，３
−フリル、２−，３−チエニル、１−，３−，４−オキ
サゾリル、３−，４−，５−イソオキサゾリルなどの窒
素原子を１〜４個含む５〜６員環ヘテロアリール基、窒
素原子を０〜２個と酸素原子を１個もしくは硫黄原子を
１個を含む５〜６員環ヘテロアリール基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基および置換基を有
していてもよいヘテロアリール基の置換基としては、例
えばアルキル基、置換アルキル基、ハロゲン原子、−Ｏ
Ｒ4 基、−ＮＲ5 Ｒ6 基、−ＣＯＮＲ5 Ｒ6 基、−ＳＯ
2 ＮＲ5 Ｒ6 基または−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4基で示される基
が挙げられる。
例えばメチル、エチル、プロピル、２−プロピル、ブチ
ル、２−ブチル、２−メチルプロピル、1,１−ジメチル
エチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルなど
の直鎖または分枝した炭素原子数８個以下のアルキル基
が挙げられる。ハロゲン原子としては、例えば、フッ
素、塩素、臭素およびヨウ素原子が挙げられる。シクロ
アルキル基としては、例えば、シクロプロピル、シクロ
ブチル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどの炭素原
子数３〜７個のシクロアルキル基が挙げられる。芳香族
基には、置換基を有していてもよいアリール基および置
換基を有していてもよいヘテロアリール基が含まれ、ア
リール基としては、例えばフェニル、ナフチルなどの炭
素原子数１０個以下のアリール基が、ヘテロアリール基
としては、例えば２−，３−，４−ピリジル、２−，３
−フリル、２−，３−チエニル、１−，３−，４−オキ
サゾリル、３−，４−，５−イソオキサゾリルなどの窒
素原子を１〜４個含む５〜６員環ヘテロアリール基、窒
素原子を０〜２個と酸素原子を１個もしくは硫黄原子を
１個を含む５〜６員環ヘテロアリール基が挙げられる。
置換基を有していてもよいアリール基および置換基を有
していてもよいヘテロアリール基の置換基としては、例
えばアルキル基、置換アルキル基、ハロゲン原子、−Ｏ
Ｒ4 基、−ＮＲ5 Ｒ6 基、−ＣＯＮＲ5 Ｒ6 基、−ＳＯ
2 ＮＲ5 Ｒ6 基または−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4基で示される基
が挙げられる。
【０００７】Ｒ5 およびＲ6 が互いに結合して形成す
る、環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和５ないし
７員環の環状アミノ基としては、例えば窒素原子を１〜
３個含む５〜７員環または窒素原子１個および酸素原子
１個を含む５〜７員環が挙げられ、さらに具体的には１
−ピロリジニル、１−ピペリジノ、１−ピペラジニル、
モルホリノ、４−メチルピペラジニル等が挙げられる。
置換アルキル基における置換基には、水酸基、アルコキ
シ基、芳香族基および−ＣＯＮＲ5 Ｒ6 基、−ＮＲ5 Ｒ
6 基もしくは一般式〔７〕
る、環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和５ないし
７員環の環状アミノ基としては、例えば窒素原子を１〜
３個含む５〜７員環または窒素原子１個および酸素原子
１個を含む５〜７員環が挙げられ、さらに具体的には１
−ピロリジニル、１−ピペリジノ、１−ピペラジニル、
モルホリノ、４−メチルピペラジニル等が挙げられる。
置換アルキル基における置換基には、水酸基、アルコキ
シ基、芳香族基および−ＣＯＮＲ5 Ｒ6 基、−ＮＲ5 Ｒ
6 基もしくは一般式〔７〕
【化１０】 〔式中、Ｅは窒素原子またはＣＨ基を、Ｒ′は水素原
子、アルキル基または置換アルキル基を表し、環は３〜
８員環の飽和脂肪族環または窒素原子１つを含有する飽
和複素環であることを表す。〕で示される基が挙げられ
る。
子、アルキル基または置換アルキル基を表し、環は３〜
８員環の飽和脂肪族環または窒素原子１つを含有する飽
和複素環であることを表す。〕で示される基が挙げられ
る。
【０００８】そのような置換アルキル基としては、例え
ば炭素原子数３〜６のシクロアルキル基で置換された炭
素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜６のヒド
ロキシアルキル基、炭素原子数２〜６のアルコキシアル
キル基、置換基を有していてもよいフェニルもしくはナ
フチル−Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基、窒素原子が１つまたは
２つのＣ1 〜Ｃ3 アルキルで置換されていてもよいカル
バモイル−Ｃ1 〜Ｃ3アルキル基、窒素原子が１つもし
くは２つのＣ1 〜Ｃ3 アルキルまたはＣ7 〜Ｃ11アラル
キルで置換されていてもよいアミノ−Ｃ1 〜Ｃ5 アルキ
ル基、飽和５ないし７員環状アミノ−Ｃ1 〜Ｃ3 アルキ
ル基等が挙げられる。代表的な置換アルキル基を挙げれ
ば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、１−ヒドロ
キシエチルなどの炭素原子数１〜６のヒドロシアルキル
基、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシプロピ
ルなどの炭素原子数１〜６のアルコキシアルキル基、ベ
ンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニル
ブチル、１−もしくは２−ナフチルメチルなどのフェニ
ルまたはナフチル−Ｃ1 〜Ｃ5アルキル基（フェニルま
たはナフチル部分にＣ1 〜Ｃ3 アルキル基、ハロゲン原
子、アミノ原子、水酸基、Ｃ1 〜Ｃ3 アルコキシ基など
の置換基を有していてもよい）、カルバモイルメチル、
カルバモイルエチル、ジメチルカルバモイルメチルなど
の窒素原子が１つもしくは２つのＣ1 〜Ｃ3 アルキルで
置換されていてもよいカルバモイル−Ｃ1 〜Ｃ3 アルキ
ル基、アミノエチル、アミノプロピル、ジメチルアミノ
エチル、ジメチルアミノプロピル、ジエチルアミノエチ
ルなどの、窒素原子が１つもしくは２つのＣ1 〜Ｃ3 ア
ルキルで置換されていてもよいアミノ−Ｃ1 〜Ｃ5 アル
キル基などが挙げられる。
ば炭素原子数３〜６のシクロアルキル基で置換された炭
素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜６のヒド
ロキシアルキル基、炭素原子数２〜６のアルコキシアル
キル基、置換基を有していてもよいフェニルもしくはナ
フチル−Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基、窒素原子が１つまたは
２つのＣ1 〜Ｃ3 アルキルで置換されていてもよいカル
バモイル−Ｃ1 〜Ｃ3アルキル基、窒素原子が１つもし
くは２つのＣ1 〜Ｃ3 アルキルまたはＣ7 〜Ｃ11アラル
キルで置換されていてもよいアミノ−Ｃ1 〜Ｃ5 アルキ
ル基、飽和５ないし７員環状アミノ−Ｃ1 〜Ｃ3 アルキ
ル基等が挙げられる。代表的な置換アルキル基を挙げれ
ば、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、１−ヒドロ
キシエチルなどの炭素原子数１〜６のヒドロシアルキル
基、メトキシエチル、エトキシエチル、メトキシプロピ
ルなどの炭素原子数１〜６のアルコキシアルキル基、ベ
ンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、フェニル
ブチル、１−もしくは２−ナフチルメチルなどのフェニ
ルまたはナフチル−Ｃ1 〜Ｃ5アルキル基（フェニルま
たはナフチル部分にＣ1 〜Ｃ3 アルキル基、ハロゲン原
子、アミノ原子、水酸基、Ｃ1 〜Ｃ3 アルコキシ基など
の置換基を有していてもよい）、カルバモイルメチル、
カルバモイルエチル、ジメチルカルバモイルメチルなど
の窒素原子が１つもしくは２つのＣ1 〜Ｃ3 アルキルで
置換されていてもよいカルバモイル−Ｃ1 〜Ｃ3 アルキ
ル基、アミノエチル、アミノプロピル、ジメチルアミノ
エチル、ジメチルアミノプロピル、ジエチルアミノエチ
ルなどの、窒素原子が１つもしくは２つのＣ1 〜Ｃ3 ア
ルキルで置換されていてもよいアミノ−Ｃ1 〜Ｃ5 アル
キル基などが挙げられる。
【０００９】−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4 で表される基としては、
例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロ
ピルスルホニル基などの炭素原子数８以下のアルキルス
ルホニル基および対応するアルキルスルフィニル基、ア
ルキルチオ基を挙げることができる。アルケニル基とし
ては、例えばビニル、アリル、プロペニル、２−プロペ
ニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニルなどの炭素原
子数６個以下のアルケニル基が挙げられる。
例えばメチルスルホニル基、エチルスルホニル基、プロ
ピルスルホニル基などの炭素原子数８以下のアルキルス
ルホニル基および対応するアルキルスルフィニル基、ア
ルキルチオ基を挙げることができる。アルケニル基とし
ては、例えばビニル、アリル、プロペニル、２−プロペ
ニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニルなどの炭素原
子数６個以下のアルケニル基が挙げられる。
【００１０】本発明で用いる塩基としては、例えばｎ−
ブチルリチウム、メチルリチウムのようなアルキルリチ
ウム、フェニルリチウムのようなアリールリチウム、水
素化ナトリウム、水素化カリウムのような水素化アルカ
リ金属、tert−ブトキシカリウム、プロポキシナトリウ
ムのようなアルコラート、メチルスルフィニルカルボア
ニオン（ＣＨ3 Ｓ（Ｏ）ＣＨ2 - ; 該化合物は、例えば
ジメチルスルホキシドと水素化ナトリウムより調製され
る。）等が挙げられるが、好ましくは、tert−ブトキシ
カリウムのようなアルコラート、水素化ナトリウムのよ
うな水素化アルカリ金属、メチルスルフィニルカルボア
ニオンなどが用いられる。塩基の使用量は通常、一般式
〔１〕で表される化合物１モルに対して約１〜５モル、
好ましくは約１〜３モルであるが、特にこの範囲に限定
されるものではない。よう化トリメチルスルホニウムの
使用量は通常、一般式〔１〕で表される化合物１モルに
対して約１〜５モル、好ましくは約１〜３モルである
が、特にこの範囲に限定されるものではない。
ブチルリチウム、メチルリチウムのようなアルキルリチ
ウム、フェニルリチウムのようなアリールリチウム、水
素化ナトリウム、水素化カリウムのような水素化アルカ
リ金属、tert−ブトキシカリウム、プロポキシナトリウ
ムのようなアルコラート、メチルスルフィニルカルボア
ニオン（ＣＨ3 Ｓ（Ｏ）ＣＨ2 - ; 該化合物は、例えば
ジメチルスルホキシドと水素化ナトリウムより調製され
る。）等が挙げられるが、好ましくは、tert−ブトキシ
カリウムのようなアルコラート、水素化ナトリウムのよ
うな水素化アルカリ金属、メチルスルフィニルカルボア
ニオンなどが用いられる。塩基の使用量は通常、一般式
〔１〕で表される化合物１モルに対して約１〜５モル、
好ましくは約１〜３モルであるが、特にこの範囲に限定
されるものではない。よう化トリメチルスルホニウムの
使用量は通常、一般式〔１〕で表される化合物１モルに
対して約１〜５モル、好ましくは約１〜３モルである
が、特にこの範囲に限定されるものではない。
【００１１】反応に用いられる溶媒としては、テトラヒ
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシドあるいは上記溶媒の混
合物等が挙げられるが、好ましくはジメチルスルホキシ
ド又はテトラヒドロフランとジメチルスルホキシドの混
合溶媒が用いられる。反応に使用する溶媒量は通常、一
般式〔１〕で表される化合物１グラム当り約１０〜５０
ml、好ましくは約１５〜３０mlであるが、特にこの範囲
に限定されるものではない。反応温度は−１０℃から５
０℃付近まで、通常は０〜３０℃付近で行われる。反応
時間は通常３０分間〜１０時間、好ましくは１〜６時間
であるが、特にこの範囲に限定されるものではない。上
記の反応により生成した目的物である一般式〔２〕で表
される化合物は、反応終了後、反応液中に酸（例えば酢
酸）及び水、あるいは水を加えて反応を停止させてか
ら、適当な抽出溶媒（例えば、酢酸エチル、ジエチルエ
ーテル、トルエンなど）で抽出し、抽出液を濃縮して得
られた残渣を再結晶、クロマトグラフィー等の慣用の手
段により単離・精製することができる。
ドロフラン、ジオキサン等のエーテル類、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルスルホキシドあるいは上記溶媒の混
合物等が挙げられるが、好ましくはジメチルスルホキシ
ド又はテトラヒドロフランとジメチルスルホキシドの混
合溶媒が用いられる。反応に使用する溶媒量は通常、一
般式〔１〕で表される化合物１グラム当り約１０〜５０
ml、好ましくは約１５〜３０mlであるが、特にこの範囲
に限定されるものではない。反応温度は−１０℃から５
０℃付近まで、通常は０〜３０℃付近で行われる。反応
時間は通常３０分間〜１０時間、好ましくは１〜６時間
であるが、特にこの範囲に限定されるものではない。上
記の反応により生成した目的物である一般式〔２〕で表
される化合物は、反応終了後、反応液中に酸（例えば酢
酸）及び水、あるいは水を加えて反応を停止させてか
ら、適当な抽出溶媒（例えば、酢酸エチル、ジエチルエ
ーテル、トルエンなど）で抽出し、抽出液を濃縮して得
られた残渣を再結晶、クロマトグラフィー等の慣用の手
段により単離・精製することができる。
【００１２】次に、原料化合物である一般式〔１〕で表
される化合物の製造法について説明する。一般式〔１〕
で表される化合物は、市販の原料を用いるか、あるいは
次式（２）もしくは次式（３）に示す方法によって容易
に調製することができる。
される化合物の製造法について説明する。一般式〔１〕
で表される化合物は、市販の原料を用いるか、あるいは
次式（２）もしくは次式（３）に示す方法によって容易
に調製することができる。
【化１１】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒａ 、Ｒｂ 、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ
6 は前記と同意義を有し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｍ
はアルカリ金属を示す。〕 すなわち、式（２）においては、容易に入手可能な２−
ハロゲノニトロベンゼン類を、適当な溶媒（例えばテト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、
トルエンなど）中、あるいは無溶媒にてアルコールのア
ルカリ金属塩（ＭＯＲ4 ）もしくはアミン類（ＨＮＲ5
Ｒ6 ）と反応させることによりＲ2 が−ＯＲ4 基または
−ＮＲ5 Ｒ6 基である化合物〔１〕を調製することがで
きる。また、式（３）においては、容易に入手可能な２
−ニトロフェノール類のアルカリ金属塩を、適当な溶媒
（例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホ
ルムアミド、トルエンなど）中、あるいは無溶媒にてハ
ロゲン化物（Ｒ4 Ｘ）と反応させることによりＲ2 が−
ＯＲ4 基である化合物〔１〕を調製することができる。
6 は前記と同意義を有し、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｍ
はアルカリ金属を示す。〕 すなわち、式（２）においては、容易に入手可能な２−
ハロゲノニトロベンゼン類を、適当な溶媒（例えばテト
ラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、
トルエンなど）中、あるいは無溶媒にてアルコールのア
ルカリ金属塩（ＭＯＲ4 ）もしくはアミン類（ＨＮＲ5
Ｒ6 ）と反応させることによりＲ2 が−ＯＲ4 基または
−ＮＲ5 Ｒ6 基である化合物〔１〕を調製することがで
きる。また、式（３）においては、容易に入手可能な２
−ニトロフェノール類のアルカリ金属塩を、適当な溶媒
（例えばテトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルホ
ルムアミド、トルエンなど）中、あるいは無溶媒にてハ
ロゲン化物（Ｒ4 Ｘ）と反応させることによりＲ2 が−
ＯＲ4 基である化合物〔１〕を調製することができる。
【００１３】なお、本発明における反応、前述の式
（２）および式（３）における反応の際、Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 で表される基において、
水酸基やアミノ基のような、反応に活性な基を含有する
場合には、これらの基をあらかじめ保護基で保護してお
き、該反応を実施した後に保護基を除去することにより
目的物を製造することができる。上記反応に活性な水酸
基、アミノ基などを保護する保護基としては、有機合成
化学の分野で使われる通常の保護基を用いればよく、こ
のような保護基の導入および除去は通常の方法に従って
行うことができる（例えば、Protective Groups in Org
anic Synthesys, JOHN WILLEY & SONS, 1991年) 。例え
ば水酸基の保護基としては、メトキシメチル基、テトラ
ヒドロピラニル基などが挙げられ、アミノ基の保護基と
しては、tert−ブチルオキシカルボニル基、ベンゾイ
ル、アセチル、メトキシ−又はエトキシカルボニル基な
どが挙げられる。このような水酸基の保護基は、例えば
塩酸、硫酸、酢酸などの酸の存在下、含水メタノール、
含水エタノール、含水テトラヒドロフランなどの溶媒中
で反応させることにより除去するこができ、アミノ基の
保護基は、例えば塩酸、トリフルオロ酢酸などの酸の存
在下、含水テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロ
ホルム、1,２−ジクロロエタン、含水メタノールなどの
溶媒中で反応させることにより除去することができる。
（２）および式（３）における反応の際、Ｒ1 、Ｒ2 、
Ｒａ、Ｒｂ、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 で表される基において、
水酸基やアミノ基のような、反応に活性な基を含有する
場合には、これらの基をあらかじめ保護基で保護してお
き、該反応を実施した後に保護基を除去することにより
目的物を製造することができる。上記反応に活性な水酸
基、アミノ基などを保護する保護基としては、有機合成
化学の分野で使われる通常の保護基を用いればよく、こ
のような保護基の導入および除去は通常の方法に従って
行うことができる（例えば、Protective Groups in Org
anic Synthesys, JOHN WILLEY & SONS, 1991年) 。例え
ば水酸基の保護基としては、メトキシメチル基、テトラ
ヒドロピラニル基などが挙げられ、アミノ基の保護基と
しては、tert−ブチルオキシカルボニル基、ベンゾイ
ル、アセチル、メトキシ−又はエトキシカルボニル基な
どが挙げられる。このような水酸基の保護基は、例えば
塩酸、硫酸、酢酸などの酸の存在下、含水メタノール、
含水エタノール、含水テトラヒドロフランなどの溶媒中
で反応させることにより除去するこができ、アミノ基の
保護基は、例えば塩酸、トリフルオロ酢酸などの酸の存
在下、含水テトラヒドロフラン、塩化メチレン、クロロ
ホルム、1,２−ジクロロエタン、含水メタノールなどの
溶媒中で反応させることにより除去することができる。
【００１４】本発明により得られた化合物は、例えばラ
イセルトの方法 (Reissertのインドール合成方法）や特
開平７−１０８３９号公報に記載の公知の方法に準じ
て、次式
イセルトの方法 (Reissertのインドール合成方法）や特
開平７−１０８３９号公報に記載の公知の方法に準じ
て、次式
【化１２】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒａ 、Ｒｂ は前記と同意義を
有し、Ｒ′7 はアルキル基を示す。〕に示すように、前
記一般式〔６〕で表された化合物を経て、ナトリウム／
プロトン交換輸送系阻害剤として有用な２−インドリル
カルボニル−グアニジン類へと導くことができる。
有し、Ｒ′7 はアルキル基を示す。〕に示すように、前
記一般式〔６〕で表された化合物を経て、ナトリウム／
プロトン交換輸送系阻害剤として有用な２−インドリル
カルボニル−グアニジン類へと導くことができる。
【００１５】
【実施例】以下、実施例および参考例により本発明を具
体的に説明するが、これらに限定されない。 参考例１ ４−ベンジルオキシ−３−ニトロトルエンの
合成 ４−メチル−２−ニトロフェノール（２5.０ｇ，１６３
mmol）、炭酸カリウム（４9.６ｇ，３５９mmol）、ベン
ジルブロマイド（３0.７ｇ，１８０mmol）およびアセト
ン（５００ml）の混合物を攪拌下にて３時間加熱還流し
た。反応液を室温まで冷却してから不溶物を濾去し、得
られた濾液を減圧濃縮した。このようにして得られた残
渣を酢酸エチル（５００ml）に溶かし、この溶液を５％
アンモニア水、１Ｎ塩酸水、つづいて５％塩化ナトリウ
ム水溶液の順に洗浄してから硫酸マグネシウムで乾燥し
てから、有機層を減圧濃縮することにより、４−ベンジ
ルオキシ−３−ニトロトルエン（３6.８ｇ）を得た。 融点 ４６〜４７℃
体的に説明するが、これらに限定されない。 参考例１ ４−ベンジルオキシ−３−ニトロトルエンの
合成 ４−メチル−２−ニトロフェノール（２5.０ｇ，１６３
mmol）、炭酸カリウム（４9.６ｇ，３５９mmol）、ベン
ジルブロマイド（３0.７ｇ，１８０mmol）およびアセト
ン（５００ml）の混合物を攪拌下にて３時間加熱還流し
た。反応液を室温まで冷却してから不溶物を濾去し、得
られた濾液を減圧濃縮した。このようにして得られた残
渣を酢酸エチル（５００ml）に溶かし、この溶液を５％
アンモニア水、１Ｎ塩酸水、つづいて５％塩化ナトリウ
ム水溶液の順に洗浄してから硫酸マグネシウムで乾燥し
てから、有機層を減圧濃縮することにより、４−ベンジ
ルオキシ−３−ニトロトルエン（３6.８ｇ）を得た。 融点 ４６〜４７℃
【００１６】参考例２ ４−ベンジルオキシ−３−ニト
ロベンゾトリフルオリドの合成 ６０％水素化ナトリウム（１8.６ｇ，４８８mmol）及び
テトラヒドロフラン（５００ml）の懸濁液を攪拌下、４
５〜５０℃に加温した。この懸濁液中にベンジルアルコ
ール（５2.７ｇ，４８７mmol）を１時間かけて滴下し
た。滴下終了後４５〜５０℃にて、さらに２時間攪拌し
てから反応液を−１０〜０℃に冷却することにより、ア
ルコラート（ＰｈＣＨ2 ＯＮａ）のテトラヒドロフラン
懸濁液を調製した。このアルコラート（ＴＨＦ懸濁液）
を、４−クロロ−３−ニトロベンゾトリフルオリド（１
０2.１ｇ，４５３mmol）のＴＨＦ（５００mmol）溶液中
に、−１０〜０℃にて１時間かけて滴下した。滴下終了
後、−１０〜０℃にてさらに３時間攪拌したのち、反応
液中に５％塩化ナトリウム水溶液（１０００ml）を加え
てからトルエン（１０００ml) で抽出した。抽出液は
水、つづいて５％塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後減
圧濃縮し、得られた濃縮液中にヘキサンを添加した。析
出した結晶を濾取し、濾上物を乾燥することにより、４
−ベンジルオキシ−３−ニトロベンゾトリフルオリド
（１１8.２ｇ）を得た。 融点 ７１〜７２℃
ロベンゾトリフルオリドの合成 ６０％水素化ナトリウム（１8.６ｇ，４８８mmol）及び
テトラヒドロフラン（５００ml）の懸濁液を攪拌下、４
５〜５０℃に加温した。この懸濁液中にベンジルアルコ
ール（５2.７ｇ，４８７mmol）を１時間かけて滴下し
た。滴下終了後４５〜５０℃にて、さらに２時間攪拌し
てから反応液を−１０〜０℃に冷却することにより、ア
ルコラート（ＰｈＣＨ2 ＯＮａ）のテトラヒドロフラン
懸濁液を調製した。このアルコラート（ＴＨＦ懸濁液）
を、４−クロロ−３−ニトロベンゾトリフルオリド（１
０2.１ｇ，４５３mmol）のＴＨＦ（５００mmol）溶液中
に、−１０〜０℃にて１時間かけて滴下した。滴下終了
後、−１０〜０℃にてさらに３時間攪拌したのち、反応
液中に５％塩化ナトリウム水溶液（１０００ml）を加え
てからトルエン（１０００ml) で抽出した。抽出液は
水、つづいて５％塩化ナトリウム水溶液で洗浄した後減
圧濃縮し、得られた濃縮液中にヘキサンを添加した。析
出した結晶を濾取し、濾上物を乾燥することにより、４
−ベンジルオキシ−３−ニトロベンゾトリフルオリド
（１１8.２ｇ）を得た。 融点 ７１〜７２℃
【００１７】参考例３ ４−（４−モルホリノ）−３−
ニトロトルエンの合成 ４−クロロ−３−ニトロトルエン（５．００ｇ，２9.１
mmol）およびモルホリン（１５ml）の混合物を１００℃
にて８時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却してか
らＡｃＯＥｔ（２００ml）で希釈し、この希釈液を１Ｎ
塩酸、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、５％塩化ナトリ
ウム水溶液の順で洗浄し、つづいて硫酸マグネシウムで
乾燥した。硫酸マグネシウムを濾去して得られた有機層
を減圧濃縮することにより、４−（４−モルホリノ）−
３−ニトロトルエン（6.５０ｇ）を油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.35(3H,s)、2.99〜3.02
(4H, m) 、3.81〜3.85(4H, m) 、7.08(1H, d, J=8.24H
z) 、7.29〜7.33(1H, m) 、7.57(1H, d, J=1.32Hz).
ニトロトルエンの合成 ４−クロロ−３−ニトロトルエン（５．００ｇ，２9.１
mmol）およびモルホリン（１５ml）の混合物を１００℃
にて８時間加熱攪拌した。反応液を室温まで冷却してか
らＡｃＯＥｔ（２００ml）で希釈し、この希釈液を１Ｎ
塩酸、５％炭酸水素ナトリウム水溶液、５％塩化ナトリ
ウム水溶液の順で洗浄し、つづいて硫酸マグネシウムで
乾燥した。硫酸マグネシウムを濾去して得られた有機層
を減圧濃縮することにより、４−（４−モルホリノ）−
３−ニトロトルエン（6.５０ｇ）を油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.35(3H,s)、2.99〜3.02
(4H, m) 、3.81〜3.85(4H, m) 、7.08(1H, d, J=8.24H
z) 、7.29〜7.33(1H, m) 、7.57(1H, d, J=1.32Hz).
【００１８】参考例４ ３−クロロ−６−（４−モルホ
リノ）ニトロベンゼンの合成 2,５−ジクロロニトロベンゼン（5.００ｇ，２6.０mmo
l）及びモルホリン（１２ml）の混合物を７０℃にて５
時間加熱攪拌した。これ以後の後処理方法は参考例３に
記載の方法に準じて行うことにより、３−クロロ−６−
（４−モルホリノ）ニトロベンゼン（6.３２ｇ）を油状
物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；3.02〜3.05(4H, m) 、3.8
2〜3.85(4H, m) 、7.10(1H, d, J=8.91Hz) 、7.46(1H,
dd, J=2.64Hz, J=8.91Hz)、7.78(IH, d, J=2.31Hz). 参考例５ ４−（４−モルホリノ）−３−ニトロベンゾ
トリフルオリドの合成 ４−クロロ−３−ニトロベンゾトリフルオリド（5.００
ｇ，２2.２mmol）、モルホリン（5.７９ｇ，６6.５mmo
l）及びテトラヒドロフラン（５０ml）の混合物を６０
℃にて２時間加熱攪拌した。これ以後の後処理方法は参
考例３に記載の方法に準じて行うとにより、４−（４−
モルホリノ）−３−ニトロベンゾトリフルオリド（6.５
０ｇ）を油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；3.13〜3.17(4H, m) 、3.8
4〜3.88(4H, m) 、7.18(1H, d, J=8.91Hz) 、7.68〜7.7
2(1H, m) 、8.07(1H, d, J=1.65Hz).
リノ）ニトロベンゼンの合成 2,５−ジクロロニトロベンゼン（5.００ｇ，２6.０mmo
l）及びモルホリン（１２ml）の混合物を７０℃にて５
時間加熱攪拌した。これ以後の後処理方法は参考例３に
記載の方法に準じて行うことにより、３−クロロ−６−
（４−モルホリノ）ニトロベンゼン（6.３２ｇ）を油状
物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；3.02〜3.05(4H, m) 、3.8
2〜3.85(4H, m) 、7.10(1H, d, J=8.91Hz) 、7.46(1H,
dd, J=2.64Hz, J=8.91Hz)、7.78(IH, d, J=2.31Hz). 参考例５ ４−（４−モルホリノ）−３−ニトロベンゾ
トリフルオリドの合成 ４−クロロ−３−ニトロベンゾトリフルオリド（5.００
ｇ，２2.２mmol）、モルホリン（5.７９ｇ，６6.５mmo
l）及びテトラヒドロフラン（５０ml）の混合物を６０
℃にて２時間加熱攪拌した。これ以後の後処理方法は参
考例３に記載の方法に準じて行うとにより、４−（４−
モルホリノ）−３−ニトロベンゾトリフルオリド（6.５
０ｇ）を油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；3.13〜3.17(4H, m) 、3.8
4〜3.88(4H, m) 、7.18(1H, d, J=8.91Hz) 、7.68〜7.7
2(1H, m) 、8.07(1H, d, J=1.65Hz).
【００１９】参考例６ ３−クロロ−６−（ジメチルア
ミノ）ニトロベンゼンの合成 2,５−ジクロロニトロベンゼン（5.００ｇ，２6.０mmo
l）、４０％ジメチルアミン水溶液（１０ml）及びジメ
チルホルムアミド（２０ml）の混合物を５０℃にて２時
間加熱攪拌した。これ以後の後処理方法は参考例３に記
載の方法に準じて行うことにより、３−クロロ−６−
（ジメチルアミノ）ニトロベンゼン（5.２ｇ）を得た。 融点 ４５〜４６℃
ミノ）ニトロベンゼンの合成 2,５−ジクロロニトロベンゼン（5.００ｇ，２6.０mmo
l）、４０％ジメチルアミン水溶液（１０ml）及びジメ
チルホルムアミド（２０ml）の混合物を５０℃にて２時
間加熱攪拌した。これ以後の後処理方法は参考例３に記
載の方法に準じて行うことにより、３−クロロ−６−
（ジメチルアミノ）ニトロベンゼン（5.２ｇ）を得た。 融点 ４５〜４６℃
【００２０】実施例１ 3,４−ジメチル−２−ニトロア
ニソールの合成 ４−メチル−２−ニトロアニソール（5.００ｇ，２9.９
mmol）、よう化トリメチルスルホニウム（１2.２０ｇ，
５9.８mmol）、ジメチルスルホキシド（５０ml) および
テトラヒドロフラン（２５ml）の混合物を２０℃にて５
分間攪拌した。この懸濁液中にカリウム tert−ブトキ
シド（6.７１ｇ，５9.８mmol）のジメチルスルホキシド
（２５ml）溶液を２０℃にて約２時間かけて滴下し、さ
らに２０℃にて６時間攪拌した。反応終了後、反応液を
０〜５℃まで冷却してから酢酸（4.３１ｇ，７1.８mmo
l）を加え、つづいて反応液の温度が１５℃を超えない
ように１０％塩化ナトリウム水溶液（２００ml）を滴下
した。次に反応液をトルエン（２００ml）で抽出し、抽
出液を５％塩化ナトリウム水溶液、５％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、つづいて５％塩化ナトリウム水溶液の順で
洗浄した後、減圧下にて濃縮した。得られた濃縮残渣
（約２０ｇ）にシリカゲル（2.５ｇ）およびヘキサン
（３５ml）を加え、１５分間加熱還流した後、２０〜３
０℃にて３０分間攪拌した。次に不溶物を濾去して得ら
れた濾液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣をイソプロ
ピルアルコール（２５ml）から結晶化させることによ
り、3,４−ジメチル−２−ニトロアニソール（1.６４
ｇ）を得た。 融点 ６０〜６１℃
ニソールの合成 ４−メチル−２−ニトロアニソール（5.００ｇ，２9.９
mmol）、よう化トリメチルスルホニウム（１2.２０ｇ，
５9.８mmol）、ジメチルスルホキシド（５０ml) および
テトラヒドロフラン（２５ml）の混合物を２０℃にて５
分間攪拌した。この懸濁液中にカリウム tert−ブトキ
シド（6.７１ｇ，５9.８mmol）のジメチルスルホキシド
（２５ml）溶液を２０℃にて約２時間かけて滴下し、さ
らに２０℃にて６時間攪拌した。反応終了後、反応液を
０〜５℃まで冷却してから酢酸（4.３１ｇ，７1.８mmo
l）を加え、つづいて反応液の温度が１５℃を超えない
ように１０％塩化ナトリウム水溶液（２００ml）を滴下
した。次に反応液をトルエン（２００ml）で抽出し、抽
出液を５％塩化ナトリウム水溶液、５％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液、つづいて５％塩化ナトリウム水溶液の順で
洗浄した後、減圧下にて濃縮した。得られた濃縮残渣
（約２０ｇ）にシリカゲル（2.５ｇ）およびヘキサン
（３５ml）を加え、１５分間加熱還流した後、２０〜３
０℃にて３０分間攪拌した。次に不溶物を濾去して得ら
れた濾液を減圧下にて濃縮し、得られた残渣をイソプロ
ピルアルコール（２５ml）から結晶化させることによ
り、3,４−ジメチル−２−ニトロアニソール（1.６４
ｇ）を得た。 融点 ６０〜６１℃
【００２１】実施例２ ４−ベンジルオキシ−２−メチ
ル−３−ニトロトルエンの合成 参考例１で得られた４−ベンジルオキシ−３−ニトロト
ルエン（１5.０ｇ，６1.７mmol）、よう化トリメチルス
ルホニウム（２5.２ｇ，１２３mmol）、ジメチルスルホ
キシド（２２５ml）およびテトラヒドロフラン（７５m
l）を用い、反応温度を８〜１２℃に変更する以外は、
実施例１に記載された方法に準じて反応を行うことによ
り、４−ベンジルオキシ−２−メチル−３−ニトロトル
エン（8.４１ｇ）を得た。 融点 ７０〜７１℃ 実施例３ ３−ベンジルオキシ−６−トリフルオロメチ
ル−２−ニトロトルエンの合成 参考例２で得られた４−ベンジルオキシ−３−ニトロベ
ンゾトリフルオリド（５0.０ｇ，１６８mmol）、よう化
トリメチルスルホニウム（６8.７ｇ，３３７mmol）、ジ
メチルスルホキシド（５８０ml）およびテトラヒドロフ
ラン（３１０ml）を用い、反応温度を１９〜２３℃に変
更する以外は実施例１に記載された方法に準じて反応を
行うことにより、３−ベンジルオキシ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ニトロトルエン（１6.８ｇ）を得た。 融点 ９２〜９３℃
ル−３−ニトロトルエンの合成 参考例１で得られた４−ベンジルオキシ−３−ニトロト
ルエン（１5.０ｇ，６1.７mmol）、よう化トリメチルス
ルホニウム（２5.２ｇ，１２３mmol）、ジメチルスルホ
キシド（２２５ml）およびテトラヒドロフラン（７５m
l）を用い、反応温度を８〜１２℃に変更する以外は、
実施例１に記載された方法に準じて反応を行うことによ
り、４−ベンジルオキシ−２−メチル−３−ニトロトル
エン（8.４１ｇ）を得た。 融点 ７０〜７１℃ 実施例３ ３−ベンジルオキシ−６−トリフルオロメチ
ル−２−ニトロトルエンの合成 参考例２で得られた４−ベンジルオキシ−３−ニトロベ
ンゾトリフルオリド（５0.０ｇ，１６８mmol）、よう化
トリメチルスルホニウム（６8.７ｇ，３３７mmol）、ジ
メチルスルホキシド（５８０ml）およびテトラヒドロフ
ラン（３１０ml）を用い、反応温度を１９〜２３℃に変
更する以外は実施例１に記載された方法に準じて反応を
行うことにより、３−ベンジルオキシ−６−トリフルオ
ロメチル−２−ニトロトルエン（１6.８ｇ）を得た。 融点 ９２〜９３℃
【００２２】実施例４ ２−メチル−４−（４−モルホ
リノ）−３−ニトロトルエンの合成 参考例３で得られた４−（４−モルホリノ）−３−ニト
ロトルエン（３0.０ｇ，１３５mmol）、よう化トリメチ
ルスルホニウム（５5.１ｇ，２７０mmol）、ジメチルス
ルホキシド（４５０ml）およびテトラヒドロフラン（２
２５ml）を用い、反応温度を２０〜２５℃に変更する以
外は実施例１に記載された方法に準じて反応を行うこと
により、２−メチル−４−（４−モルホリノ）−３−ニ
トロトルエン（２0.９ｇ）を得た。 融点 ７６〜７７℃ 実施例５ ３−クロロ−２−メチル−６−（４−モルホ
リノ）ニトロベンゼンの合成 参考例４で得られた３−クロロ−６−（４−モルホリ
ノ）ニトロベンゼン（２3.０ｇ，９4.８mmol）、６０％
水素化ナトリウム（5.６９ｇ，１４２mmol）、ジメチル
スルホキシド（１５０ml）およびテトラヒドロフラン
（２００ml）の混合物を１５〜２０℃にて攪拌した。次
にこの懸濁液中に、１５〜２０℃にてよう化トリメチル
スルホニウム（５8.０ｇ，２８４mmol）のジメチルスル
ホキシド（３００ml）溶液を約４０分かけて滴下し、さ
らに１５〜２０℃にて５時間攪拌した。反応終了後、反
応液を０〜５℃まで冷却してから酢酸（２５ml）を加
え、つづいて反応液の温度が１５℃を超えないように５
％塩化ナトリウム水溶液（１５００ml）を滴下した。次
に反応液を酢酸エチル（１０００ml）で抽出し、抽出液
を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、５％塩化ナトリウム
水溶液の順で洗浄した後、減圧下にて濃縮した。得られ
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより、３−クロロ−２−メチル−６−（４
−モルホリノ）ニトロベンゼン（7.８５ｇ）を油状物と
して得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.29(3H,s)、2.91〜2.94
(4H, m) 、3.75〜3.78(4H, m) 、7.09〜7.12(2H, m) 、
7.44(1H, d, J=8.58Hz).
リノ）−３−ニトロトルエンの合成 参考例３で得られた４−（４−モルホリノ）−３−ニト
ロトルエン（３0.０ｇ，１３５mmol）、よう化トリメチ
ルスルホニウム（５5.１ｇ，２７０mmol）、ジメチルス
ルホキシド（４５０ml）およびテトラヒドロフラン（２
２５ml）を用い、反応温度を２０〜２５℃に変更する以
外は実施例１に記載された方法に準じて反応を行うこと
により、２−メチル−４−（４−モルホリノ）−３−ニ
トロトルエン（２0.９ｇ）を得た。 融点 ７６〜７７℃ 実施例５ ３−クロロ−２−メチル−６−（４−モルホ
リノ）ニトロベンゼンの合成 参考例４で得られた３−クロロ−６−（４−モルホリ
ノ）ニトロベンゼン（２3.０ｇ，９4.８mmol）、６０％
水素化ナトリウム（5.６９ｇ，１４２mmol）、ジメチル
スルホキシド（１５０ml）およびテトラヒドロフラン
（２００ml）の混合物を１５〜２０℃にて攪拌した。次
にこの懸濁液中に、１５〜２０℃にてよう化トリメチル
スルホニウム（５8.０ｇ，２８４mmol）のジメチルスル
ホキシド（３００ml）溶液を約４０分かけて滴下し、さ
らに１５〜２０℃にて５時間攪拌した。反応終了後、反
応液を０〜５℃まで冷却してから酢酸（２５ml）を加
え、つづいて反応液の温度が１５℃を超えないように５
％塩化ナトリウム水溶液（１５００ml）を滴下した。次
に反応液を酢酸エチル（１０００ml）で抽出し、抽出液
を５％炭酸水素ナトリウム水溶液、５％塩化ナトリウム
水溶液の順で洗浄した後、減圧下にて濃縮した。得られ
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精
製することにより、３−クロロ−２−メチル−６−（４
−モルホリノ）ニトロベンゼン（7.８５ｇ）を油状物と
して得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.29(3H,s)、2.91〜2.94
(4H, m) 、3.75〜3.78(4H, m) 、7.09〜7.12(2H, m) 、
7.44(1H, d, J=8.58Hz).
【００２３】実施例６ ２−メチル−４−（４−モルホ
リノ）−３−ニトロベンゾトリフルオリドの合成 参考例５で得られた４−（４−モルホリノ）−３−ニト
ロベンゾトリフルオリド（2.００ｇ，7.２４mmol）、よ
う化トリメチルスルホニウム（3.２５ｇ，１5.９mmo
l）、ジメチルスルホキシド（３０ml）の混合物中に、
１５〜２０℃にてカリウム tert−ブトキシド（1.５４
ｇ，１3.８mmol）のテトラヒドロフラン（１５ml）溶液
を約３０分かけて滴下し、さらに１５〜２０℃にて１時
間攪拌した。反応終了後、反応液を０〜５℃まで冷却し
てから、反応液が１５℃を超えないように５％塩化ナト
リウム水溶液（１００ml) を滴下した。次に反応液を酢
酸エチル（１５０ml）で抽出し、抽出液を５％塩化ナト
リウム水溶液で洗浄した後、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すること
により、２−メチル−４−（４−モルホリノ）−３−ニ
トロベンゾトリフルオリド（0.９０ｇ）を油状物として
得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.36(3H,d, J=1.31Hz)、
2.99〜3.03(4H, m) 、3.77〜3.80(4H, m) 、7.15(1H,
d, J=8.58Hz) 、7.70(1H, d, J=8.58Hz).
リノ）−３−ニトロベンゾトリフルオリドの合成 参考例５で得られた４−（４−モルホリノ）−３−ニト
ロベンゾトリフルオリド（2.００ｇ，7.２４mmol）、よ
う化トリメチルスルホニウム（3.２５ｇ，１5.９mmo
l）、ジメチルスルホキシド（３０ml）の混合物中に、
１５〜２０℃にてカリウム tert−ブトキシド（1.５４
ｇ，１3.８mmol）のテトラヒドロフラン（１５ml）溶液
を約３０分かけて滴下し、さらに１５〜２０℃にて１時
間攪拌した。反応終了後、反応液を０〜５℃まで冷却し
てから、反応液が１５℃を超えないように５％塩化ナト
リウム水溶液（１００ml) を滴下した。次に反応液を酢
酸エチル（１５０ml）で抽出し、抽出液を５％塩化ナト
リウム水溶液で洗浄した後、減圧濃縮して得られた残渣
をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製すること
により、２−メチル−４−（４−モルホリノ）−３−ニ
トロベンゾトリフルオリド（0.９０ｇ）を油状物として
得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.36(3H,d, J=1.31Hz)、
2.99〜3.03(4H, m) 、3.77〜3.80(4H, m) 、7.15(1H,
d, J=8.58Hz) 、7.70(1H, d, J=8.58Hz).
【００２４】実施例７ ３−クロロ−６−（ジメチルア
ミノ）−２−メチルニトロベンゼンの合成 参考例６で得られた３−クロロ−６−（ジメチルアミ
ノ）ニトロベンゼン（２0.０ｇ，９9.７mmol）、６０％
水素化ナトリウム（5.９８ｇ，１５０mmol）、よう化ト
リメチルスルホニウム（６1.０ｇ，２９９mmol）、ジメ
チルスルホキシド（４８０ml）およびテトラヒドロフラ
ン（１６０ml）を用いること以外は実施例５に記載され
た方法に準じて反応を行うことにより、３−クロロ−６
−（ジメチルアミノ）−２−メチルニトロベンゼン（１
0.４ｇ）を油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.28(3H, s) 、2.74(6H,
s) 、6.97(1H, d, J=8.91Hz) 、7.36(1H, d, J=8.91H
z).
ミノ）−２−メチルニトロベンゼンの合成 参考例６で得られた３−クロロ−６−（ジメチルアミ
ノ）ニトロベンゼン（２0.０ｇ，９9.７mmol）、６０％
水素化ナトリウム（5.９８ｇ，１５０mmol）、よう化ト
リメチルスルホニウム（６1.０ｇ，２９９mmol）、ジメ
チルスルホキシド（４８０ml）およびテトラヒドロフラ
ン（１６０ml）を用いること以外は実施例５に記載され
た方法に準じて反応を行うことにより、３−クロロ−６
−（ジメチルアミノ）−２−メチルニトロベンゼン（１
0.４ｇ）を油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；2.28(3H, s) 、2.74(6H,
s) 、6.97(1H, d, J=8.91Hz) 、7.36(1H, d, J=8.91H
z).
【００２５】参考例７ エチル７−ベンジルオキシ−４
−メチル−２−インドールカルボキシラートの合成 (a) （３−ベンジルオキシ−６−メチル−２−ニトロフ
ェニル）ピルビン酸エチルの合成 実施例２で得られた４−ベンジルオキシ−２−メチル−
３−ニトロトルエン（１7.２２ｇ，６6.９mmol）、カリ
ウム tert−ブトキシド（２2.５ｇ，２０１mmol）、シ
ュウ酸ジエチル（２9.３ｇ，２０１mmol）及びテトラヒ
ドロフラン（３００ml）の混合物を２０〜３０℃にて３
時間攪拌した。反応液を０〜５℃に冷却してから、１Ｎ
塩酸（１５０ml）を滴下し、つづいてトルエン（３００
ml）で抽出した。抽出液を５％塩化ナトリウム水溶液で
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネ
シウムを濾別して得られた濾液を減圧濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより、（３−ベンジルオキシ−６−メチル−２−
ニトロフェニル）ピルビン酸エチルの粗結晶（２6.６
ｇ）を得た。これ以上の精製は行わず次の反応に用い
た。 融点 ６１〜６２℃（ジイソプロピルエーテルより再結
晶） (b) エチル７−ベンジルオキシ−４−メチル−２−イン
ドールカルボキシラートの合成 上記(a) の工程で得られた（３−ベンジルオキシ−６−
メチル−２−ニトロフェニル）ピルビン酸エチル（２6.
６ｇ）、還元鉄（３7.４０ｇ，６７０mmol）、酢酸（１
３０ml）及びトルエン（１３０ml）の混合物を９０℃に
て２時間加熱攪拌した。不溶物を濾去し濾上物をトルエ
ンで洗浄した。合一した濾液を５％塩化ナトリウム水溶
液、水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄して
から硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを
濾別し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、エチ
ル７−ベンジルオキシ−４−メチル−２−インドールカ
ルボキシラート（１7.８５ｇ）を得た。 融点１０２〜１０４℃（イソプロピルアルコールより再
結晶）
−メチル−２−インドールカルボキシラートの合成 (a) （３−ベンジルオキシ−６−メチル−２−ニトロフ
ェニル）ピルビン酸エチルの合成 実施例２で得られた４−ベンジルオキシ−２−メチル−
３−ニトロトルエン（１7.２２ｇ，６6.９mmol）、カリ
ウム tert−ブトキシド（２2.５ｇ，２０１mmol）、シ
ュウ酸ジエチル（２9.３ｇ，２０１mmol）及びテトラヒ
ドロフラン（３００ml）の混合物を２０〜３０℃にて３
時間攪拌した。反応液を０〜５℃に冷却してから、１Ｎ
塩酸（１５０ml）を滴下し、つづいてトルエン（３００
ml）で抽出した。抽出液を５％塩化ナトリウム水溶液で
洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネ
シウムを濾別して得られた濾液を減圧濃縮し、得られた
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製する
ことにより、（３−ベンジルオキシ−６−メチル−２−
ニトロフェニル）ピルビン酸エチルの粗結晶（２6.６
ｇ）を得た。これ以上の精製は行わず次の反応に用い
た。 融点 ６１〜６２℃（ジイソプロピルエーテルより再結
晶） (b) エチル７−ベンジルオキシ−４−メチル−２−イン
ドールカルボキシラートの合成 上記(a) の工程で得られた（３−ベンジルオキシ−６−
メチル−２−ニトロフェニル）ピルビン酸エチル（２6.
６ｇ）、還元鉄（３7.４０ｇ，６７０mmol）、酢酸（１
３０ml）及びトルエン（１３０ml）の混合物を９０℃に
て２時間加熱攪拌した。不溶物を濾去し濾上物をトルエ
ンで洗浄した。合一した濾液を５％塩化ナトリウム水溶
液、水、５％炭酸水素ナトリウム水溶液の順で洗浄して
から硫酸マグネシウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを
濾別し、濾液を減圧濃縮して得られた残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製することにより、エチ
ル７−ベンジルオキシ−４−メチル−２−インドールカ
ルボキシラート（１7.８５ｇ）を得た。 融点１０２〜１０４℃（イソプロピルアルコールより再
結晶）
【００２６】参考例８ エチル７−ベンジルオキシ−４
−トリフルオロメチル−２−インドールカルボキシラー
トの合成 実施例３で得られた３−ベンジルオキシ−６−トリフル
オロメチル−２−ニトロトルエンを用い、参考例７に記
載の方法に準じて反応を行うことにより、エチル７−ベ
ンジルオキシ−４−トリフルオロメチル−２−インドー
ルカルボキシラートを得た。 融点 ７５℃（イソプロピルアルコールより再結晶） 参考例９ エチル４−メチル−７−（４−モルホリノ）
−２−インドールカルボキシラートの合成 実施例４で得られた２−メチル−４−（４−モルホリ
ノ）−３−ニトロトルエンを用い、参考例７に記載の方
法に準じて反応を行うことにより、エチル４−メチル−
７−（４−モルホリノ）−２−インドールカルボキシラ
ートを得た。 融点 １６３〜１６４℃（イソプロピルアルコールより
再結晶）
−トリフルオロメチル−２−インドールカルボキシラー
トの合成 実施例３で得られた３−ベンジルオキシ−６−トリフル
オロメチル−２−ニトロトルエンを用い、参考例７に記
載の方法に準じて反応を行うことにより、エチル７−ベ
ンジルオキシ−４−トリフルオロメチル−２−インドー
ルカルボキシラートを得た。 融点 ７５℃（イソプロピルアルコールより再結晶） 参考例９ エチル４−メチル−７−（４−モルホリノ）
−２−インドールカルボキシラートの合成 実施例４で得られた２−メチル−４−（４−モルホリ
ノ）−３−ニトロトルエンを用い、参考例７に記載の方
法に準じて反応を行うことにより、エチル４−メチル−
７−（４−モルホリノ）−２−インドールカルボキシラ
ートを得た。 融点 １６３〜１６４℃（イソプロピルアルコールより
再結晶）
【００２７】参考例１０ エチル４−クロロ−７−（４
−モルホリノ）−２−インドールカルボキシラートの合
成 実施例５で得られた３−クロロ−２−メチル−６−（４
−モルホリノ）ニトロベンゼンを用い、参考例７に記載
の方法に準じて反応を行うことにより、エチル４−クロ
ロ−７−（４−モルホリノ）−２−インドールカルボキ
シラートを得た。 融点 １７３〜１７４℃（イソプロピルアルコールより
再結晶） 参考例１１ エチル７−（４−モルホリノ）−４−トリ
フルオロメチル−２−インドールカルボキシラートの合
成 実施例６で得られた２−メチル−４−（４−モルホリ
ノ）−３−ニトロベンゼンゾトリフルオリドを用い、参
考例７に記載の方法に準じて反応を行うことにより、エ
チル７−（４−モルホリノ）−４−トリフルオロメチル
−２−インドールカルボキシラートを得た。 融点 １６６〜１６７℃（イソプロピルアルコールより
再結晶）
−モルホリノ）−２−インドールカルボキシラートの合
成 実施例５で得られた３−クロロ−２−メチル−６−（４
−モルホリノ）ニトロベンゼンを用い、参考例７に記載
の方法に準じて反応を行うことにより、エチル４−クロ
ロ−７−（４−モルホリノ）−２−インドールカルボキ
シラートを得た。 融点 １７３〜１７４℃（イソプロピルアルコールより
再結晶） 参考例１１ エチル７−（４−モルホリノ）−４−トリ
フルオロメチル−２−インドールカルボキシラートの合
成 実施例６で得られた２−メチル−４−（４−モルホリ
ノ）−３−ニトロベンゼンゾトリフルオリドを用い、参
考例７に記載の方法に準じて反応を行うことにより、エ
チル７−（４−モルホリノ）−４−トリフルオロメチル
−２−インドールカルボキシラートを得た。 融点 １６６〜１６７℃（イソプロピルアルコールより
再結晶）
【００２８】参考例１２ エチル４−クロロ−７−（ジ
メチルアミノ）−２−インドールカルボキシラートの合
成 実施例７で得られた３−クロロ−６−（ジメチルアミ
ノ）−２−メチルニトロベンゼンを用い、参考例７に記
載の方法に準じて反応を行うことにより、エチル４−ク
ロロ−７−（ジメチルアミノ）−２−インドールカルボ
キシラートを油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；1.43(3H, t, J=7.26Hz)
、2.86(6H, s) 、4.38〜4.46(2H, m) 、6.76〜6.81(1
H, m) 、7.06(1H, d, J=7.92Hz) 、7.29(1H, d, J=1.65
Hz) 、9.05(1H, br-s).
メチルアミノ）−２−インドールカルボキシラートの合
成 実施例７で得られた３−クロロ−６−（ジメチルアミ
ノ）−２−メチルニトロベンゼンを用い、参考例７に記
載の方法に準じて反応を行うことにより、エチル４−ク
ロロ−７−（ジメチルアミノ）−２−インドールカルボ
キシラートを油状物として得た。1 Ｈｎｍｒ（ＣＤＣｌ3 ）δ；1.43(3H, t, J=7.26Hz)
、2.86(6H, s) 、4.38〜4.46(2H, m) 、6.76〜6.81(1
H, m) 、7.06(1H, d, J=7.92Hz) 、7.29(1H, d, J=1.65
Hz) 、9.05(1H, br-s).
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 209/10 9280−4Ｈ Ｃ０７Ｃ 209/10 211/52 9280−4Ｈ 211/52 Ｃ０７Ｄ 295/06 Ｃ０７Ｄ 295/06 Ｚ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００
Claims (6)
- 【請求項１】オルト位の少なくとも一方が無置換である
ニトロベンゼン誘導体に塩基の存在下、よう化トリメチ
ルスルホニウム((ＣＨ3 ) 3 ＳＩ）を反応させることを
特徴とする２−ニトロトルエン誘導体の製造法。 - 【請求項２】ニトロベンゼン誘導体のオルト位の少なく
とも一方、およびパラ位が無置換である請求項１記載の
製造法。 - 【請求項３】一般式〔１〕 【化１】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 はそれぞれ同一または異なっていて
もよく、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、
シクロアルキル基、ハロゲン原子、芳香族基、−ＯＲ4
基、−ＮＲ5 Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、−Ｓ
（Ｏ）n Ｒ4 基またはＣＦ3 基を示し、Ｒａ、Ｒｂはそ
れぞれ同一または異なっていてもよく、水素原子、アル
キル基、置換アルキル基、アルケニル基、シクロアルキ
ル基、ハロゲン原子、芳香族基、−ＯＲ4 基、−ＮＲ5
Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4 基、
またはＣＦ3 基を示し、Ｒ4 は水素原子、アルキル基、
置換アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、芳
香族基を示し、Ｒ5 及びＲ6 は互いに独立して水素原
子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル基、
または芳香族基を示すか、あるいは互いに結合して環中
に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和５ないし７員環の
環状アミノ基を示し、ｎは０〜２を表す。〕で表される
化合物に塩基の存在下、よう化トリメチルスルホニウム
（（ＣＨ3 ）3 ＳＩ）を反応させることを特徴とする一
般式〔２〕 【化２】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒａ 、Ｒｂ は前記と同意義を
有する。〕で表される化合物の製造法。 - 【請求項４】一般式〔３〕 【化３】 〔式中、Ｒ1 はアルキル基、−ＯＲ3 基、ハロゲン原子
またはＣＦ3 基を示し、Ｒ2 は−ＯＲ4 基または−ＮＲ
5 Ｒ6 基を示す。Ｒ3 はアルキル基、シクロアルキル基
を示し、Ｒ4 はアルキル基、置換アルキル基、シクロア
ルキル基又は芳香族基を示し、Ｒ5 およびＲ6 は互いに
独立してアルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基または芳香族基を示すか、あるいはＲ5 およびＲ6 が
互いに結合して環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽
和５ないし７員環の環状アミノ基を示す。〕で表される
化合物に塩基の存在下、よう化トリメチルスルホニウム
（（ＣＨ3 ）3 ＳＩ）を反応さることを特徴とする一般
式〔４〕 【化４】 〔式中、Ｒ1 、Ｒ2 は前記と同意義を有する。〕で表さ
れる化合物の製造法。 - 【請求項５】Ｒ1 で示される基がアルキル基、ハロゲン
原子又はＣＦ3 基である請求項３記載の製造法。 - 【請求項６】一般式〔５〕 【化５】 〔式中、Ｒ2 は、アルキル基、置換アルキル基、アルケ
ニル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、芳香族基、
−ＯＲ4 基、−ＮＲ5 Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、
−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4 基またはＣＦ3 基を示し、Ｒａ、Ｒｂ
はそれぞれ同一または異なっていてもよく、水素原子、
アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、シクロア
ルキル基、ハロゲン原子、芳香族基、−ＯＲ4 基、−Ｎ
Ｒ5 Ｒ6 基、−ＳＯ2 ＮＲ5 Ｒ6 基、−Ｓ（Ｏ）n Ｒ4
基、またはＣＦ3 基を示し、Ｒ4 は水素原子、アルキル
基、置換アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル
基、芳香族基を示し、Ｒ5 及びＲ6 は互いに独立して水
素原子、アルキル基、置換アルキル基、シクロアルキル
基、または芳香族基を示すか、あるいは互いに結合して
環中に他のヘテロ原子を含んでもよい飽和５ないし７員
環の環状アミノ基を示し、ｎは０〜２を表す。〕で表さ
れる化合物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7332635A JPH09143127A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | ニトロトルエン誘導体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7332635A JPH09143127A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | ニトロトルエン誘導体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09143127A true JPH09143127A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=18257166
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7332635A Pending JPH09143127A (ja) | 1995-11-27 | 1995-11-27 | ニトロトルエン誘導体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09143127A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100352829C (zh) * | 2001-06-05 | 2007-12-05 | 卫材R&D管理有限公司 | 制备甲基钴胺素的方法 |
| FR2984316A1 (fr) * | 2011-12-16 | 2013-06-21 | Oreal | Coupleur de structure 7-amino-indole, composition tinctoriale en comprenant, procedes et utilisations. |
-
1995
- 1995-11-27 JP JP7332635A patent/JPH09143127A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100352829C (zh) * | 2001-06-05 | 2007-12-05 | 卫材R&D管理有限公司 | 制备甲基钴胺素的方法 |
| FR2984316A1 (fr) * | 2011-12-16 | 2013-06-21 | Oreal | Coupleur de structure 7-amino-indole, composition tinctoriale en comprenant, procedes et utilisations. |
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