JPH09111272A - 滑剤組成物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】
【課題】安定な滑剤組成物の提供
【解決手段】滑剤および少なくとも１種の式Ｉ及び／又
はII： 【化１】 （式中、例えば、基Ｒ1 は同一又は異なって、炭素原子
数８ないし２０のアルキル又は炭素原子数１ないし４の
アルキレン−ＣＯＯＲ2′を表し；Ｒ2 、Ｒ2′は互いに
独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキルを表し；
Ｒ3 は水素原子又は炭素原子数１ないし２０のアルキル
を表し；Ｚ1 は−Ｃ（Ｚ3）（Ｚ4）−を表し、そしてＺ
3 及びＺ4 は互いに独立して水素原子又はメチル基を表
すが、但し式IIで表されるフェノールは、ＯＨ基に対し
てｍ位には−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ1官能基を有しない）で表さ
れる化合物からなる組成物。式Ｉ及び／又はIIの化合物
の添加により、滑剤の分解速度が著しく低減される。
はII： 【化１】 （式中、例えば、基Ｒ1 は同一又は異なって、炭素原子
数８ないし２０のアルキル又は炭素原子数１ないし４の
アルキレン−ＣＯＯＲ2′を表し；Ｒ2 、Ｒ2′は互いに
独立して、炭素原子数１ないし２０のアルキルを表し；
Ｒ3 は水素原子又は炭素原子数１ないし２０のアルキル
を表し；Ｚ1 は−Ｃ（Ｚ3）（Ｚ4）−を表し、そしてＺ
3 及びＺ4 は互いに独立して水素原子又はメチル基を表
すが、但し式IIで表されるフェノールは、ＯＨ基に対し
てｍ位には−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ1官能基を有しない）で表さ
れる化合物からなる組成物。式Ｉ及び／又はIIの化合物
の添加により、滑剤の分解速度が著しく低減される。
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、安定剤としての置
換ビス−（メルカプトメチル）−フェノールを含む滑剤
組成物に関するものである。
換ビス−（メルカプトメチル）−フェノールを含む滑剤
組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】メルカプトメチル基を含むフェノールは
公知である。従って、例えば、様々なビス−（メルカプ
トメチル）−フェノールが米国特許第２，４１７，１１
８号明細書に掲載されているが、しかしフェノールの置
換された部位に関する正確なデータはない。これらのフ
ェノールは滑剤特にエンジンオイルの添加剤として適当
である。
公知である。従って、例えば、様々なビス−（メルカプ
トメチル）−フェノールが米国特許第２，４１７，１１
８号明細書に掲載されているが、しかしフェノールの置
換された部位に関する正確なデータはない。これらのフ
ェノールは滑剤特にエンジンオイルの添加剤として適当
である。
【０００３】米国特許第３，２２７，６６７号明細書
は、２，６−ビス−（アルコキシカルボニルアルキレン
チオメチル）−４−アルキルフェノールを、ポリオレフ
ィンの酸化防止剤として開示していた。
は、２，６−ビス−（アルコキシカルボニルアルキレン
チオメチル）−４−アルキルフェノールを、ポリオレフ
ィンの酸化防止剤として開示していた。
【０００４】欧州特許出願第０，１６５，２０９号によ
ると、２，４−ビス−（メルカプトメチル）−６−アル
キルフェノールは、例えば、有機ポリマーおよび滑剤の
安定剤として適当である。数種の特定の２，６−ビス−
（メルカプトメチル）−フェノールは、中間体としても
公知であり、例えば２，６−ビス−（エチルチオメチ
ル）−４−メチルフェノール（ＤＥ−Ａ１−２，８３
８，２７３）、２，６−ビス（ブチルチオメチル）−４
−メチルフェノール〔I. W. Rudermann and E. M. Fe
ttes, J. Am. Chem. Soc. 第７１巻（１９４９年），第
２２６４頁〕並びに２，６−ビス−（フェニルチオメチ
ル）−および２，６−ビス−（ベンジルチオメチル）−
４−メチルフェノール〔Abdullaeva，C. A. 第８３巻
（１９７５年）、７９８８１ｈ〕である。
ると、２，４−ビス−（メルカプトメチル）−６−アル
キルフェノールは、例えば、有機ポリマーおよび滑剤の
安定剤として適当である。数種の特定の２，６−ビス−
（メルカプトメチル）−フェノールは、中間体としても
公知であり、例えば２，６−ビス−（エチルチオメチ
ル）−４−メチルフェノール（ＤＥ−Ａ１−２，８３
８，２７３）、２，６−ビス（ブチルチオメチル）−４
−メチルフェノール〔I. W. Rudermann and E. M. Fe
ttes, J. Am. Chem. Soc. 第７１巻（１９４９年），第
２２６４頁〕並びに２，６−ビス−（フェニルチオメチ
ル）−および２，６−ビス−（ベンジルチオメチル）−
４−メチルフェノール〔Abdullaeva，C. A. 第８３巻
（１９７５年）、７９８８１ｈ〕である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】熱、酸化または光誘起
崩壊に敏感な材料のための効果的な安定剤に対する必要
性が依然存在している。
崩壊に敏感な材料のための効果的な安定剤に対する必要
性が依然存在している。
【０００６】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は滑剤お
よび少なくとも１種の次式Ｉまたは／およびII：
よび少なくとも１種の次式Ｉまたは／およびII：
【化３】 （式中、基Ｒ1 は同一または異なって、そして互いに独
立して、未置換または１もしくは２個のヒドロキシル基
により置換された、または／および−Ｏ−により中断さ
れた炭素原子数８ないし２０のアルキル基を表わすか、
または炭素原子数１ないし４のアルキレン−ＣＯＯ
Ｒ2′基、炭素原子数１ないし４のアルキレン−ＣＯ−
ＮＲ2″Ｒ4 基、炭素原子数５ないし１２のシクロアル
キル基またはフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表わし、Ｒ2 、Ｒ2′およびＲ2″は互いに独立し
て、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、アリル基、
メタリル基、プロパルギル基、炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表
わし、Ｒ3 は水素原子、炭素原子数１ないし２０のアル
キル基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基または
ハロゲン原子を表わし、Ｒ4 は水素原子、炭素原子数１
ないし２０のアルキル基または炭素原子数２ないし１８
のアルケニル基を表わし、Ｚ1 は−Ｓ−または−Ｃ（Ｚ
3）（Ｚ4）−を表わし、そしてＺ2 は水素原子、炭素原
子数１ないし２０のアルキル基または−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ
1 を表わし、Ｚ3 およびＺ4 は互いに独立して水素原子
またはメチル基を表わすが、ただし式IIで表わされるフ
ェノールは、ＯＨ基に対してｍ位には−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ
1 官能基を有しない）で表わされる化合物からなる組成
物に関する。
立して、未置換または１もしくは２個のヒドロキシル基
により置換された、または／および−Ｏ−により中断さ
れた炭素原子数８ないし２０のアルキル基を表わすか、
または炭素原子数１ないし４のアルキレン−ＣＯＯ
Ｒ2′基、炭素原子数１ないし４のアルキレン−ＣＯ−
ＮＲ2″Ｒ4 基、炭素原子数５ないし１２のシクロアル
キル基またはフェニル−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基を表わし、Ｒ2 、Ｒ2′およびＲ2″は互いに独立し
て、炭素原子数１ないし２０のアルキル基、アリル基、
メタリル基、プロパルギル基、炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基、フェニル基またはベンジル基を表
わし、Ｒ3 は水素原子、炭素原子数１ないし２０のアル
キル基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基または
ハロゲン原子を表わし、Ｒ4 は水素原子、炭素原子数１
ないし２０のアルキル基または炭素原子数２ないし１８
のアルケニル基を表わし、Ｚ1 は−Ｓ−または−Ｃ（Ｚ
3）（Ｚ4）−を表わし、そしてＺ2 は水素原子、炭素原
子数１ないし２０のアルキル基または−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ
1 を表わし、Ｚ3 およびＺ4 は互いに独立して水素原子
またはメチル基を表わすが、ただし式IIで表わされるフ
ェノールは、ＯＨ基に対してｍ位には−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ
1 官能基を有しない）で表わされる化合物からなる組成
物に関する。
【０００７】
【発明の実施の形態】炭素原子数１ないし２０のアルキ
ル基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ′2 、Ｒ″2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＺ
2 は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、１，１−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ
−デシル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、
１，１，３，３−テトラメチルヘキシル基、ｎ−ウンデ
シル基、ｎ−ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘ
キサメチルヘキシル基、２，２，４，６，６−ペンタメ
チルヘプチ−４−イル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘ
キサデシル基、ｎ−オクタデシル基またはｎ−エイコシ
ル基である。
ル基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ′2 、Ｒ″2 、Ｒ3 、Ｒ4 およびＺ
2 は、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イ
ソプロピル基、ｎ−ブチル基、第二ブチル基、第三ブチ
ル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル
基、１，１−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ
−デシル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、
１，１，３，３−テトラメチルヘキシル基、ｎ−ウンデ
シル基、ｎ−ドデシル基、１，１，３，３，５，５−ヘ
キサメチルヘキシル基、２，２，４，６，６−ペンタメ
チルヘプチ−４−イル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ヘ
キサデシル基、ｎ−オクタデシル基またはｎ−エイコシ
ル基である。
【０００８】Ｒ1 は好ましくは直鎖の炭素原子数８ない
し２０のアルキル基、特に炭素原子数８ないし１２のア
ルキル基、例えばｎ−オクチル基、ｎ−デシル基または
ｎ−ドデシル基である。
し２０のアルキル基、特に炭素原子数８ないし１２のア
ルキル基、例えばｎ−オクチル基、ｎ−デシル基または
ｎ−ドデシル基である。
【０００９】Ｒ2 、Ｒ′2 およびＲ″2 は好ましくはメ
チル基、エチル基または枝分れした炭素原子数３ないし
２０のアルキル基、例えばイソプロピル基、第三ブチル
基、第三アミル基、２−エチルヘキシル基、１，１，
３，３−テトラメチルブチル基、１，１，３，３，５，
５−ヘキサメチルヘキシル基であり、特にメチル基、第
三ブチル基、２−エチルヘキシル基および１，１，３，
３−テトラメチルブチル基である。
チル基、エチル基または枝分れした炭素原子数３ないし
２０のアルキル基、例えばイソプロピル基、第三ブチル
基、第三アミル基、２−エチルヘキシル基、１，１，
３，３−テトラメチルブチル基、１，１，３，３，５，
５−ヘキサメチルヘキシル基であり、特にメチル基、第
三ブチル基、２−エチルヘキシル基および１，１，３，
３−テトラメチルブチル基である。
【００１０】１または２個のヒドロキシル基により置換
された炭素原子数１ないし２０のアルキル基Ｒ1 は、例
えばヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２
−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、２
−ヒドロキシヘキシル基、２−ヒドロキシオクチル基、
２−ヒドロキシデシル基、２−ヒドロキシドデシル基、
２−ヒドロキシテトラデシル基、２−ヒドロキシヘキサ
デシル基、２−ヒドロキシオクタデシル基、２−ヒドロ
キシエイコシル基または２，３−ジヒドロキシプロピル
基である。炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル
基、例えば２−ヒドロキシプロピル基または２，３−ジ
ヒドロキシプロピル基であり、そして特に２−ヒドロキ
シエチル基が好ましい。
された炭素原子数１ないし２０のアルキル基Ｒ1 は、例
えばヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、２
−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシブチル基、２
−ヒドロキシヘキシル基、２−ヒドロキシオクチル基、
２−ヒドロキシデシル基、２−ヒドロキシドデシル基、
２−ヒドロキシテトラデシル基、２−ヒドロキシヘキサ
デシル基、２−ヒドロキシオクタデシル基、２−ヒドロ
キシエイコシル基または２，３−ジヒドロキシプロピル
基である。炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル
基、例えば２−ヒドロキシプロピル基または２，３−ジ
ヒドロキシプロピル基であり、そして特に２−ヒドロキ
シエチル基が好ましい。
【００１１】−Ｏ−により中断されたアルキル基Ｒ
1 は、１個またはそれ以上の、例えば１ないし６個、特
に１または２個の−Ｏ−中断を有し、そして例えば３−
オキサプロピル基、３−オキサブチル基、３−オキサペ
ンチル基、３，６−ジオキサヘプチル基、３，６，９−
トリオキサデシル基または３，６，９，１２，１５，１
８−ヘキサオキサノナデシル基である。
1 は、１個またはそれ以上の、例えば１ないし６個、特
に１または２個の−Ｏ−中断を有し、そして例えば３−
オキサプロピル基、３−オキサブチル基、３−オキサペ
ンチル基、３，６−ジオキサヘプチル基、３，６，９−
トリオキサデシル基または３，６，９，１２，１５，１
８−ヘキサオキサノナデシル基である。
【００１２】炭素原子数２ないし１８のアルケニル基Ｒ
3 およびＲ4 は、例えばビニル基、アリル基、ブテ−３
−ニル基、ペンテ−４−ニル基、ヘキセ−５−ニル基、
オクテ−７−ニル基、デセ−９−ニル基、ドデセ−１１
−ニル基またはオクタデセ−１７−ニル基である。ビニ
ル基またはアリル基が好ましい。
3 およびＲ4 は、例えばビニル基、アリル基、ブテ−３
−ニル基、ペンテ−４−ニル基、ヘキセ−５−ニル基、
オクテ−７−ニル基、デセ−９−ニル基、ドデセ−１１
−ニル基またはオクタデセ−１７−ニル基である。ビニ
ル基またはアリル基が好ましい。
【００１３】炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル
基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ′2 およびＲ″2は、例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シク
ロウンデシル基またはシクロドデシル基である。炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル基、そして特にＲ1の
場合にはシクロヘキシル基が好ましい。
基Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ′2 およびＲ″2は、例えばシクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シク
ロオクチル基、シクロノニル基、シクロデシル基、シク
ロウンデシル基またはシクロドデシル基である。炭素原
子数５ないし７のシクロアルキル基、そして特にＲ1の
場合にはシクロヘキシル基が好ましい。
【００１４】フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキ
ル基Ｒ1 は、例えばベンジル基、フェニルエチル基、α
−メチルベンジル基またはα，α−ジメチルベンジル基
である。ベンジル基が好ましい。
ル基Ｒ1 は、例えばベンジル基、フェニルエチル基、α
−メチルベンジル基またはα，α−ジメチルベンジル基
である。ベンジル基が好ましい。
【００１５】炭素原子数１ないし４のアルキルフェニル
基Ｒ1 は、例えば１ないし３個、特に１または２個のア
ルキル基を有し得、そして例えばｏ−，ｍ−またはｐ−
トリル基、２，４−、２，６−、３，５−または３，６
−ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、第三ブチルフェニ
ル基またはジ−第三ブチルフェニル基である。トリル基
が好ましい。
基Ｒ1 は、例えば１ないし３個、特に１または２個のア
ルキル基を有し得、そして例えばｏ−，ｍ−またはｐ−
トリル基、２，４−、２，６−、３，５−または３，６
−ジメチルフェニル基、エチルフェニル基、プロピルフ
ェニル基、イソプロピルフェニル基、第三ブチルフェニ
ル基またはジ−第三ブチルフェニル基である。トリル基
が好ましい。
【００１６】ハロゲン原子Ｒ3 は、例えば塩素原子また
は臭素原子、特に塩素原子である。
は臭素原子、特に塩素原子である。
【００１７】上記式Ｉまたは／およびII中、Ｒ2 がメチ
ル基、エチル基または枝分れした炭素原子数３ないし２
０のアルキル基、アリル基、メタリル基、プロパルギル
基またはベンジル基を表わし、そしてＲ1 、Ｒ3 、Ｚ1
およびＺ2 が上記の定義と同じ意味を表わす組成物が好
ましい。
ル基、エチル基または枝分れした炭素原子数３ないし２
０のアルキル基、アリル基、メタリル基、プロパルギル
基またはベンジル基を表わし、そしてＲ1 、Ｒ3 、Ｚ1
およびＺ2 が上記の定義と同じ意味を表わす組成物が好
ましい。
【００１８】上記式Ｉまたは／およびII中、基Ｒ1 が同
一または異なって、およびお互いに独立して、炭素原子
数８ないし２０のアルキル基または炭素原子数１ないし
４のアルキレン−ＣＯＯＲ′2 基を表わし、Ｒ2 および
Ｒ′2 が炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表わ
し、Ｚ1 が−ＣＨ2 −または−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −を表わ
し、そしてＺ2 が上記の定義と同じ意味を表わす化合物
の少なくとも１つを含む組成物は、特に好ましい。
一または異なって、およびお互いに独立して、炭素原子
数８ないし２０のアルキル基または炭素原子数１ないし
４のアルキレン−ＣＯＯＲ′2 基を表わし、Ｒ2 および
Ｒ′2 が炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表わ
し、Ｚ1 が−ＣＨ2 −または−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −を表わ
し、そしてＺ2 が上記の定義と同じ意味を表わす化合物
の少なくとも１つを含む組成物は、特に好ましい。
【００１９】上記式Ｉ中、Ｒ1 がお互いに独立して、未
置換の炭素原子数８ないし２０のアルキル基、または１
もしくは２個のヒドロキシル基により置換された炭素原
子数８ないし２０のアルキル基を表わす化合物の少なく
とも１つを含む組成物は特に好ましく、そしてＲ1 が同
一で、そして特に炭素原子数８ないし１２のアルキル基
を表わす組成物が非常に好ましい。
置換の炭素原子数８ないし２０のアルキル基、または１
もしくは２個のヒドロキシル基により置換された炭素原
子数８ないし２０のアルキル基を表わす化合物の少なく
とも１つを含む組成物は特に好ましく、そしてＲ1 が同
一で、そして特に炭素原子数８ないし１２のアルキル基
を表わす組成物が非常に好ましい。
【００２０】少なくとも１つの次式IIａ：
【化４】 （式中、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｚ1 およびＺ2 は、上記の定義と
同じ意味を表わし、そして特にＲ3 が水素原子を表わ
し、そして特にＲ3 が水素原子を表わし、そしてＺ1 が
−Ｃ（Ｚ3 ）（Ｚ4 ）−を表わし、Ｚ3 およびＺ4 が上
記の定義と同じ意味を表わす。）で表わされる化合物を
含む組成物が、特に重要である。
同じ意味を表わし、そして特にＲ3 が水素原子を表わ
し、そして特にＲ3 が水素原子を表わし、そしてＺ1 が
−Ｃ（Ｚ3 ）（Ｚ4 ）−を表わし、Ｚ3 およびＺ4 が上
記の定義と同じ意味を表わす。）で表わされる化合物を
含む組成物が、特に重要である。
【００２１】上記式IIａ中、Ｚ2 が基−ＣＨ2 −Ｓ−Ｒ
1 を表わす化合物を含む組成物が非常に好ましい。
1 を表わす化合物を含む組成物が非常に好ましい。
【００２２】下に掲載した物質は、本発明に係る組成物
に存在し得る、式ＩおよびIIで表わされる化合物の代表
例と見なし得る：
に存在し得る、式ＩおよびIIで表わされる化合物の代表
例と見なし得る：
【００２３】２，６−ビス−（２′−ヒドロキシエチル
チオメチル）−４−メチルフェノール、２，６−ビス−
（２′，３′−ジヒドロキシプロピルチオメチル）−４
−メチルフェノール、２，６−ビス−（２′−メチルア
ミノカルボニルエチルチオメチル）−４−フェニルフェ
ノール、２，６−ビス−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカル
ボニル−エチルチオメチル）−４−アリル−フェノー
ル、２，６−ビス−（ｎ−オクチルチオメチル）−４−
メチルフェノール、２，６−ビス−（ｔ−オクチルチオ
メチル）−４−第三ブチル−フェノール1 、２，６−ビ
ス−（ｔ−ドデシルチオメチル−４−第三オクチル−フ
ェノール2 、２，６−ビス−（ベンジルチオメチル）−
６−メチルフェノール、２，６−ビス−（フェニルチオ
メチル）−４−第三ブチルフェノール、２，６−ビス−
（２′−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル−チオ
メチル）−４−シクロヘキシル−フェノール、２，６−
ビス−（ｎ−オクタデシルオキシカルボニルメチル−チ
オメチル）−４−プロパルギル−フェノール、２，６−
ビス−〔２′−（２″−エチルヘキシルオキシカルボニ
ル）−エチルチオメチル〕−４−第三ブチルフェノー
ル、２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ−３′，
３″，５′，５″−テトラキス−（オクチルチオメチ
ル）−フェノール〕−プロパン、２，２−ビス−
〔４′，４″−ジヒドロキシ−３′，３″，５′，５″
−テトラキス−（ドデシルチオメチル）−フェニル〕−
メタンおよびビス−〔４′，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（２−エチルヘ
キシルオキシカルボニルメチルチオメチル）−フェニ
ル〕チオエーテル（１…ｔ−オクチルは１，１，３，３
−テトラメチルブチル基を表わす。２…ｔ−ドデシルは
１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基およ
び１，１，４，６，６−ペンタメチルヘプチ−４−イル
基の混合物を表わす。）。
チオメチル）−４−メチルフェノール、２，６−ビス−
（２′，３′−ジヒドロキシプロピルチオメチル）−４
−メチルフェノール、２，６−ビス−（２′−メチルア
ミノカルボニルエチルチオメチル）−４−フェニルフェ
ノール、２，６−ビス−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカル
ボニル−エチルチオメチル）−４−アリル−フェノー
ル、２，６−ビス−（ｎ−オクチルチオメチル）−４−
メチルフェノール、２，６−ビス−（ｔ−オクチルチオ
メチル）−４−第三ブチル−フェノール1 、２，６−ビ
ス−（ｔ−ドデシルチオメチル−４−第三オクチル−フ
ェノール2 、２，６−ビス−（ベンジルチオメチル）−
６−メチルフェノール、２，６−ビス−（フェニルチオ
メチル）−４−第三ブチルフェノール、２，６−ビス−
（２′−エチルヘキシルオキシカルボニルメチル−チオ
メチル）−４−シクロヘキシル−フェノール、２，６−
ビス−（ｎ−オクタデシルオキシカルボニルメチル−チ
オメチル）−４−プロパルギル−フェノール、２，６−
ビス−〔２′−（２″−エチルヘキシルオキシカルボニ
ル）−エチルチオメチル〕−４−第三ブチルフェノー
ル、２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ−３′，
３″，５′，５″−テトラキス−（オクチルチオメチ
ル）−フェノール〕−プロパン、２，２−ビス−
〔４′，４″−ジヒドロキシ−３′，３″，５′，５″
−テトラキス−（ドデシルチオメチル）−フェニル〕−
メタンおよびビス−〔４′，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（２−エチルヘ
キシルオキシカルボニルメチルチオメチル）−フェニ
ル〕チオエーテル（１…ｔ−オクチルは１，１，３，３
−テトラメチルブチル基を表わす。２…ｔ−ドデシルは
１，１，３，３，５，５−ヘキサメチルヘキシル基およ
び１，１，４，６，６−ペンタメチルヘプチ−４−イル
基の混合物を表わす。）。
【００２４】本発明の組成物は式Ｉまたは／およびIIで
表わされる化合物を、滑剤に基づいて０．０１ないし１
０重量％、好ましくは０．０５ないし５．０重量％含有
することが好都合である。これら化合物の混合物もまた
用いることができる。
表わされる化合物を、滑剤に基づいて０．０１ないし１
０重量％、好ましくは０．０５ないし５．０重量％含有
することが好都合である。これら化合物の混合物もまた
用いることができる。
【００２５】滑剤への混入は、例えば、式Ｉまたは／お
よびIIで表わされる物質と所望により他の添加剤を成形
前または成形中に慣用の方法によって混合することによ
って行うか、または溶解したもしくは分散させた化合物
をポリマーに施用し、所望によりそれに続いて溶媒を蒸
発させることによって行うことができる。式ＩまたはII
で表わされる化合物はまたマスターバッチの形でプラス
チックに例えば２．５ないし２５重量％の濃度で含有す
るように加えて安定化してもよい。
よびIIで表わされる物質と所望により他の添加剤を成形
前または成形中に慣用の方法によって混合することによ
って行うか、または溶解したもしくは分散させた化合物
をポリマーに施用し、所望によりそれに続いて溶媒を蒸
発させることによって行うことができる。式ＩまたはII
で表わされる化合物はまたマスターバッチの形でプラス
チックに例えば２．５ないし２５重量％の濃度で含有す
るように加えて安定化してもよい。
【００２６】本発明の組成物は、鉱油または合成油に基
づいた滑剤を含有し得る。適当な滑剤は当業者に公知
で、例えば“シュミエールミッテル タッシェンブーフ
(Schmiermittel Taschenbuch, Lubricants Handbook)”
ヒューティッヒ フェルラーク(Huethig Verlag)（ハイ
デルベルグ、１９７４年）に記載されている。
づいた滑剤を含有し得る。適当な滑剤は当業者に公知
で、例えば“シュミエールミッテル タッシェンブーフ
(Schmiermittel Taschenbuch, Lubricants Handbook)”
ヒューティッヒ フェルラーク(Huethig Verlag)（ハイ
デルベルグ、１９７４年）に記載されている。
【００２７】本発明の滑剤含有組成物は、さらに、使用
特性を改良するために加える他の添加剤例えば他の酸化
防止剤、金属不活性化剤、防錆剤、粘度指数改良剤、凝
固点降下剤、分散剤／表面活性剤および耐摩耗添加剤も
含有してもよい。
特性を改良するために加える他の添加剤例えば他の酸化
防止剤、金属不活性化剤、防錆剤、粘度指数改良剤、凝
固点降下剤、分散剤／表面活性剤および耐摩耗添加剤も
含有してもよい。
【００２８】他の添加剤の例を下記する：１． 酸化防止剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば2,6−ジ−
第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−
4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−
エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブ
チルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチ
ルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフ
ェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−
ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−４−メチ
ルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール
および2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェ
ノール、
第三ブチル−４−メチルフェノール、２−第三ブチル−
4,6−ジメチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−
エチルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブ
チルフェノール、2,6−ジ−第三ブチル−４−イソブチ
ルフェノール、2,6−ジシクロペンチル−４−メチルフ
ェノ−ル、２−（α−メチルシクロヘキシル）−4,6−
ジメチルフェノール、2,6−ジオクタデシル−４−メチ
ルフェノ−ル、2,4,6−トリシクロヘキシルフェノール
および2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェ
ノール、
【００２９】１．２ アルキル化ハイドロキノン、例え
ば2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、2,5
−ジ−第三ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−第三アミ
ルハイドロキノン、2,6−ジ−フェニル−４−オクタデ
シルオキシフェノール。１．３ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例え
ば、2,2'−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、2,2'−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、4,4'−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフ
ェノール）、4,4'−チオビス（６−第三ブチル−２−メ
チルフェノール）。
ば2,6−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、2,5
−ジ−第三ブチルハイドロキノン、2,5−ジ−第三アミ
ルハイドロキノン、2,6−ジ−フェニル−４−オクタデ
シルオキシフェノール。１．３ ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 例え
ば、2,2'−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェ
ノール）、2,2'−チオビス（４−オクチルフェノー
ル）、4,4'−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフ
ェノール）、4,4'−チオビス（６−第三ブチル−２−メ
チルフェノール）。
【００３０】１．４ アルキリデンビスフェノール、例
えば2,2'−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、2,2'−メチレンビス（６−第三ブチル−
４−エチルフェノール）、2,2'−メチレンビス〔４−メ
チル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノー
ル〕、2,2'−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘ
キシルフェノール）、2,2'−メチレンビス（６−ノニル
−４−メチルフェノール）、2,2'−メチレンビス（4,6
−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2'−エチリデンビス
（4,6−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2'−エチリデ
ンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、2,2'−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、2,2'−メチレンビス
〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール〕、4,4'−メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフ
ェノール）、4,4'−メチレンビス（６−第三ブチル−２
−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、2,6−
ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベ
ンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−トリス（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）
ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプト
ブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス（3'−第
三ブチル−4'ーヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビ
ス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（3'−第三ブ
チル−2'ーヒドロキシ−5'−メチルベンジル）−６−第
三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート。
えば2,2'−メチレンビス（６−第三ブチル−４−メチル
フェノール）、2,2'−メチレンビス（６−第三ブチル−
４−エチルフェノール）、2,2'−メチレンビス〔４−メ
チル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノー
ル〕、2,2'−メチレンビス（４−メチル−６−シクロヘ
キシルフェノール）、2,2'−メチレンビス（６−ノニル
−４−メチルフェノール）、2,2'−メチレンビス（4,6
−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2'−エチリデンビス
（4,6−ジ−第三ブチルフェノール）、2,2'−エチリデ
ンビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノー
ル）、2,2'−メチレンビス〔６−（α−メチルベンジ
ル）−４−ノニルフェノール〕、2,2'−メチレンビス
〔６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェ
ノール〕、4,4'−メチレンビス(2,6−ジ−第三ブチルフ
ェノール）、4,4'−メチレンビス（６−第三ブチル−２
−メチルフェノール）、1,1−ビス（５−第三ブチル−
４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、2,6−
ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベ
ンジル）−４−メチルフェノール、1,1,3−トリス（５
−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）
ブタン、1,1−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプト
ブタン、エチレングリコールビス〔3,3−ビス（3'−第
三ブチル−4'ーヒドロキシフェニル）ブチレート〕、ビ
ス（３−第三ブチル−４ーヒドロキシ−５−メチルフェ
ニル）ジシクロペンタジエン、ビス〔２−（3'−第三ブ
チル−2'ーヒドロキシ−5'−メチルベンジル）−６−第
三ブチル−４−メチルフェニル〕テレフタレート。
【００３１】１．５ ベンジル化合物、例えば1,3,5−
トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、ビス（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、 3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプト
酢酸イソオクチルエステル、ビス（４−第三ブチル−３
−ヒドロキシ−2,6 −ジメチルベンジル）ジチオテレフ
タレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、1,3,5−トリス
（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ
ンジル）イソシアヌレート、 3,5−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオクタデシルエステ
ル、 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホ
スホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ
ル）−2,4,6−トリメチルベンゼン、ビス（3,5−ジ−第
三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、 3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプト
酢酸イソオクチルエステル、ビス（４−第三ブチル−３
−ヒドロキシ−2,6 −ジメチルベンジル）ジチオテレフ
タレート、1,3,5−トリス（3,5−ジ−第三ブチル−４−
ヒドロキシベンジルイソシアヌレート、1,3,5−トリス
（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−2,6−ジメチルベ
ンジル）イソシアヌレート、 3,5−ジ−第三ブチル−４
−ヒドロキシベンジルホスホン酸ジオクタデシルエステ
ル、 3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホ
スホン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。
【００３２】１．６ アシルアミノフェノール、例えば
ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−
ヒドロキシアニリド、2,4−ビス（オクチルメルカプ
ト）−６−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシア
ニリノ）−ｓ−トリアジン、Ｎ−（3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバミン酸オクチル
エステル。
ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、ステアリン酸４−
ヒドロキシアニリド、2,4−ビス（オクチルメルカプ
ト）−６−（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシア
ニリノ）−ｓ−トリアジン、Ｎ−（3,5−ジ−第三ブチ
ル−４−ヒドロキシフェニル）−カルバミン酸オクチル
エステル。
【００３３】１．７ β−（3,5−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または
多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6
−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレートおよびN,N'−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸の以下の一価または
多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、オクタデカノール、1,6
−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジ
エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチ
レングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒド
ロキシエチル）イソシアヌレートおよびN,N'−ビス（ヒ
ドロキシエチル）シュウ酸ジアミド。
【００３４】１．８ β−（５−第三ブチル−４−ヒド
ロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N'−ビス（ヒドロ
キシエチル）シュウ酸ジアミド。
ロキシ−３−メチルフェニル）プロピオン酸の以下の一
価または多価アルコールとのエステル、 アルコールの例：メタノール、ジエチレングリコール、
オクタデカノール、トリエチレングリコール、1,6−ヘ
キサンジオール、ペンタエリトリトール、ネオペンチル
グリコール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレ
ート、チオジエチレングリコール、N,N'−ビス（ヒドロ
キシエチル）シュウ酸ジアミド。
【００３５】１．９ β−（3,5−ジ第三ブチル−４−
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えばN,
N'−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、N,N'−ビ
ス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）トリメチレンジアミン、N,N'−ビス（3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン。
ヒドロキシフェニル）プロピオン酸のアミド、例えばN,
N'−ビス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェ
ニルプロピオニル）ヘキサメチレンジアミン、N,N'−ビ
ス（3,5−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプ
ロピオニル）トリメチレンジアミン、N,N'−ビス（3,5
−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ
ル）ヒドラジン。
【００３６】本発明の滑剤組成物のための他の添加剤は
次のようなものである。アミン型酸化防止剤の例 ：Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（１，４−
ジメチルフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプ
チル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニ
ル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナ
フチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−
（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’
−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキ
シル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−
（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−
フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル
化ジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノー
ル、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルア
ミノフェノール、４−ドテカノイルアミノフェノール、
４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メ
トキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４
−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミ
ノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−
ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチ
ルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニル
アミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス
［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミ
ン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル−／第三オク
チルジフェニルアミンの混合物。
次のようなものである。アミン型酸化防止剤の例 ：Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−
ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス−（１，４−
ジメチルフェニル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，
Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）−ｐ−
フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプ
チル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニ
ル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ナ
フチル）−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル
−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−
（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フ
ェニレンジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’
−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−シクロヘキ
シル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−
（ｐ−トルエンスルファモイル）ジフェニルアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ジ−第二ブチル−ｐ−
フェニレンジアミン、ジフェニルアミン、４−イソプロ
ポキシジフェニルアミン、Ｎ−フェニル−１−ナフチル
アミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オクチル
化ジフェニルアミン、４−ｎ−ブチルアミノフェノー
ル、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノイルア
ミノフェノール、４−ドテカノイルアミノフェノール、
４−オクタデカノイルアミノフェノール、ビス（４−メ
トキシフェニル）アミン、２，６−ジ−第三ブチル−４
−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミ
ノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルメ
タン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−
ジアミノジフェニルメタン、１，２−ビス［（２−メチ
ルフェニル）アミノ］エタン、１，２−ビス（フェニル
アミノ）プロパン、（ｏ−トリル）ビグアニド、ビス
［４−（１’，３’−ジメチルブチル）フェニル］アミ
ン、第三オクチル化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミ
ン、モノ−およびジアルキル化第三ブチル−／第三オク
チルジフェニルアミンの混合物。
【００３７】金属不活性剤の例は、以下のものである：
銅のためのもの、例えばトリアゾール、ベンゾトリアゾ
ールおよびこれらの誘導体、２−メルカプトベンゾチア
ゾール、２，５−ジメルカプトチアジアゾール、サリチ
リデン−プロピレンジアミンおよびサリチルアミノグア
ニジンの塩。
銅のためのもの、例えばトリアゾール、ベンゾトリアゾ
ールおよびこれらの誘導体、２−メルカプトベンゾチア
ゾール、２，５−ジメルカプトチアジアゾール、サリチ
リデン−プロピレンジアミンおよびサリチルアミノグア
ニジンの塩。
【００３８】防錆剤の例は以下のものである： ａ）有機酸とそれらのエステル、金属塩および無水物、
例えば：Ｎ−オレオイルザルコシン、ソルビタンモノオ
レエート、ナフテン酸鉛；無水ドデセニルコハク酸；ア
ルケニルコハク酸半エステルおよび４−ノニルフェノキ
シ酢酸。 ｂ）含窒素化合物、例えば： Ｉ．第１、第２または第３級脂肪族または脂環式アミ
ン、および有機酸および無機酸のアミン塩、例えば油溶
性のアルキルアンモニウムカルボキシレート。 II．複素環式化合物、例えば：置換イミダゾリンとオキ
サゾリン。 ｃ）燐含有化合物、例えば：燐酸部分エステルのアミン
塩。 ｄ）含硫黄化合物、例えば：ジノニルナフタレンスルホ
ン酸バリウムおよび石油スルホン酸カルシウム。 ルホカルボン酸のエステルとその塩。
例えば：Ｎ−オレオイルザルコシン、ソルビタンモノオ
レエート、ナフテン酸鉛；無水ドデセニルコハク酸；ア
ルケニルコハク酸半エステルおよび４−ノニルフェノキ
シ酢酸。 ｂ）含窒素化合物、例えば： Ｉ．第１、第２または第３級脂肪族または脂環式アミ
ン、および有機酸および無機酸のアミン塩、例えば油溶
性のアルキルアンモニウムカルボキシレート。 II．複素環式化合物、例えば：置換イミダゾリンとオキ
サゾリン。 ｃ）燐含有化合物、例えば：燐酸部分エステルのアミン
塩。 ｄ）含硫黄化合物、例えば：ジノニルナフタレンスルホ
ン酸バリウムおよび石油スルホン酸カルシウム。 ルホカルボン酸のエステルとその塩。
【００３９】粘度指数改良剤の例は以下のものである：
ポリメタアクリレート、ビニルピロリドン／メタクリレ
ート共重合体、ポリブテン、オレフィン共重合体および
スチレン−アクリレート共重合体。
ポリメタアクリレート、ビニルピロリドン／メタクリレ
ート共重合体、ポリブテン、オレフィン共重合体および
スチレン−アクリレート共重合体。
【００４０】凝固点降下剤の例は以下のものである：ポ
リメタクリレートとアルキル化ナフタレン誘導体。
リメタクリレートとアルキル化ナフタレン誘導体。
【００４１】分散剤と界面活性剤の例は：ポリブテニル
コハク酸イミド、ポリブテニルホスホン酸誘導体および
塩基性マグネシウム−、カルシウムおよびバリウムスル
ホネートおよびフェノラートである。
コハク酸イミド、ポリブテニルホスホン酸誘導体および
塩基性マグネシウム−、カルシウムおよびバリウムスル
ホネートおよびフェノラートである。
【００４２】耐磨耗添加剤の例は以下のものである：硫
黄および／または燐および／またはハロゲン原子を含有
する化合物；例えば硫化植物油、亜鉛ジアルキルチオホ
スフェート、トリトリルホスフェート、塩素化パラフィ
ンおよびアルキルおよびアリールジスルフィド。
黄および／または燐および／またはハロゲン原子を含有
する化合物；例えば硫化植物油、亜鉛ジアルキルチオホ
スフェート、トリトリルホスフェート、塩素化パラフィ
ンおよびアルキルおよびアリールジスルフィド。
【００４３】式ＩおよびIIで表わされる化合物は、それ
自体公知の方法により、例えば欧州特許出願第０，１６
５，２０９号および米国特許出願第３，２２７，６７７
号明細書に記載されているように製造される。しかしな
がら、それらは次式III またはIV：
自体公知の方法により、例えば欧州特許出願第０，１６
５，２０９号および米国特許出願第３，２２７，６７７
号明細書に記載されているように製造される。しかしな
がら、それらは次式III またはIV：
【化５】 （式中、Ｒ2 、Ｒ3 およびＺ1 は、上記の定義と同じ意
味を表わし、そしてＺ22は水素原子または炭素原子数１
ないし２０のアルキル基を表わす。）で表わされるフェ
ノールを、ホルムアルデヒドまたは反応条件下でホルム
アルデヒドを遊離する化合物および塩基の存在下で少な
くとも１つのメルカプタンＲ1 −ＳＨと反応させること
によっても得られ、前記塩基は、モノ−、ジ−もしくは
トリ−メチルアミンまたはモノ−もしくはジ−エチルア
ミンである。
味を表わし、そしてＺ22は水素原子または炭素原子数１
ないし２０のアルキル基を表わす。）で表わされるフェ
ノールを、ホルムアルデヒドまたは反応条件下でホルム
アルデヒドを遊離する化合物および塩基の存在下で少な
くとも１つのメルカプタンＲ1 −ＳＨと反応させること
によっても得られ、前記塩基は、モノ−、ジ−もしくは
トリ−メチルアミンまたはモノ−もしくはジ−エチルア
ミンである。
【００４４】好ましくは、モノ−またはジメチルアミン
および特にジメチルアミンが使用される。塩基は、例え
ばエタノール、メタノールまたはその他の低級アルコー
ル中の１０−３５％溶液の形態で、または純粋な形態で
使用し得る。ジメチルアミンはまた、ガスとして使用し
得る。塩基は、例えばメルカプタンに対して、１−５０
mol％、好ましくは２−３０ mol％、そして特に好まし
くは５−２０ mol％の量で使用し得る。
および特にジメチルアミンが使用される。塩基は、例え
ばエタノール、メタノールまたはその他の低級アルコー
ル中の１０−３５％溶液の形態で、または純粋な形態で
使用し得る。ジメチルアミンはまた、ガスとして使用し
得る。塩基は、例えばメルカプタンに対して、１−５０
mol％、好ましくは２−３０ mol％、そして特に好まし
くは５−２０ mol％の量で使用し得る。
【００４５】反応は溶媒の存在下で行い得る。適当な溶
媒の例は、炭素原子数１ないし６のアルコール、例えば
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
ペンタノールまたはヘキサノールである。しかしなが
ら、ジオール、ポリオールおよびそれらのエーテルも使
用し得、例えばグリコール、グリセロールおよびポリエ
チレングリコールである。反応は極性の非プロトン性溶
媒、例えばジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホ
キシドを使用し得、または塩素化されていても良い高沸
点芳香族もしくは脂肪族炭化水素、例えばトルエン、リ
グロインまたはクロロベンゼンを使用し得る。好ましく
は、ジメチルホルムアミドが使用され、適当ならば１つ
の上記の低級アルコールまたは塩素化炭化水素で希釈す
る。
媒の例は、炭素原子数１ないし６のアルコール、例えば
メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、
ペンタノールまたはヘキサノールである。しかしなが
ら、ジオール、ポリオールおよびそれらのエーテルも使
用し得、例えばグリコール、グリセロールおよびポリエ
チレングリコールである。反応は極性の非プロトン性溶
媒、例えばジメチルホルムアミドまたはジメチルスルホ
キシドを使用し得、または塩素化されていても良い高沸
点芳香族もしくは脂肪族炭化水素、例えばトルエン、リ
グロインまたはクロロベンゼンを使用し得る。好ましく
は、ジメチルホルムアミドが使用され、適当ならば１つ
の上記の低級アルコールまたは塩素化炭化水素で希釈す
る。
【００４６】反応条件下でホルムアルデヒドを形成する
化合物の例は、パラホルムアルデヒドまたはヘキサメチ
レンテトラミンである。
化合物の例は、パラホルムアルデヒドまたはヘキサメチ
レンテトラミンである。
【００４７】反応物：フェノール、ホルムアルデヒドお
よびメルカプタンは、化学量論的な量で使用し得る。し
かしながら、時には、過剰なホルムアルデヒドおよび／
またはメルカプタンを使用することは有利である。フェ
ノールおよび／またはメルカプタンの混合物もまた、反
応され得る。
よびメルカプタンは、化学量論的な量で使用し得る。し
かしながら、時には、過剰なホルムアルデヒドおよび／
またはメルカプタンを使用することは有利である。フェ
ノールおよび／またはメルカプタンの混合物もまた、反
応され得る。
【００４８】工程は、８０−１６０℃、好ましくは９０
−１５０℃そして特に９０−１３０℃の温度で、そして
所望により、加圧下で（例えば０．０１ないし５ｂａ
ｒ）有利に実行され得る。溶媒の不在下では、反応は好
ましくは加圧下で行われる。反応時間は、特定のフェノ
ールおよびメルカプタンに依存して変化し、そして例え
ば１ないし２４時間、特に１ないし６時間である。反応
混合物を窒素雰囲気中還流下で加熱すると有利である。
−１５０℃そして特に９０−１３０℃の温度で、そして
所望により、加圧下で（例えば０．０１ないし５ｂａ
ｒ）有利に実行され得る。溶媒の不在下では、反応は好
ましくは加圧下で行われる。反応時間は、特定のフェノ
ールおよびメルカプタンに依存して変化し、そして例え
ば１ないし２４時間、特に１ないし６時間である。反応
混合物を窒素雰囲気中還流下で加熱すると有利である。
【００４９】全ての出発物質は、公知化合物であり、そ
して公知方法により製造できる。それらのあるものは、
市販のものを利用できる。
して公知方法により製造できる。それらのあるものは、
市販のものを利用できる。
【００５０】
【実施例および発明の効果】本発明を次の実施例により
更に詳細に説明する。製造実施例 実施例１ ：次式：
更に詳細に説明する。製造実施例 実施例１ ：次式：
【化６】 で表わされる２，６−ビス−（ｎ−オクチルチオメチ
ル）−４−第三ブチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノール２２．５ｇ、パラホルムアル
デヒド１８．０ｇ、ｎ−オクタンチオール４３．９ｇ、
３３％エタノール性ジメチルアミン４．０ｇおよびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド２３mlの混合物を、窒素下で
３時間還流冷却器および攪拌器を有するスルホン化フラ
スコ中、還流下加熱する。内部温度は１１０℃である。
粗生成物は酢酸エチル１５０ml中に取り出し、そして水
１００mlで洗浄する。有機相の蒸発乾燥後、２，６−ビ
ス−（ｎ−オクチルチオメチル）−４−第三ブチルフェ
ノールを無色油状物として５１ｇ（理論量の９７％）得
る。 分析結果： 計算値 １３．７４％Ｓ 実験値 １３．４４％Ｓ
ル）−４−第三ブチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノール２２．５ｇ、パラホルムアル
デヒド１８．０ｇ、ｎ−オクタンチオール４３．９ｇ、
３３％エタノール性ジメチルアミン４．０ｇおよびＮ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド２３mlの混合物を、窒素下で
３時間還流冷却器および攪拌器を有するスルホン化フラ
スコ中、還流下加熱する。内部温度は１１０℃である。
粗生成物は酢酸エチル１５０ml中に取り出し、そして水
１００mlで洗浄する。有機相の蒸発乾燥後、２，６−ビ
ス−（ｎ−オクチルチオメチル）−４−第三ブチルフェ
ノールを無色油状物として５１ｇ（理論量の９７％）得
る。 分析結果： 計算値 １３．７４％Ｓ 実験値 １３．４４％Ｓ
【００５１】実施例２：次式：
【化７】 で表わされる２，６−ビス−（ｎ−オクチルチオメチ
ル）−４−（１′，１′，３′，３′−テトラメチルブ
チル）−フェノールの製造 手順は、４−第三ブチルフェノールに代えて４−
（１′，１′，３′，３′−テトラメチルブチル）−フ
ェノール０．１モルを使用する以外は、実施例１と同様
である。これにより、生成物を無色油状物として４３．
６ｇ（理論量の８３％）得る。 分析結果： 計算値 １２．２６％Ｓ 実験値 １２．２８％Ｓ
ル）−４−（１′，１′，３′，３′−テトラメチルブ
チル）−フェノールの製造 手順は、４−第三ブチルフェノールに代えて４−
（１′，１′，３′，３′−テトラメチルブチル）−フ
ェノール０．１モルを使用する以外は、実施例１と同様
である。これにより、生成物を無色油状物として４３．
６ｇ（理論量の８３％）得る。 分析結果： 計算値 １２．２６％Ｓ 実験値 １２．２８％Ｓ
【００５２】実施例３：次式：
【化８】 で表わされる２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ
−３′，３″，５′，５″−テトラキス−（ｎ−オクチ
ルチオメチル）−フェニル〕−プロパンの製造 下記の混合物：ビスフェノールＡ２３．２ｇ、パラホル
ムアルデヒド２０．４ｇ、ｎ−オクタンチオール６０．
３３ｇ、３３％エタノール性ジメチルアミン７．５ｇお
よびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ml（３８ｇ）を
使用する以外は、操作手順を実施例１と同様にする。反
応時間は６時間である。粗生成物を塩化メチレン中に取
り出し、そして水で洗浄する。これにより、生成物を淡
黄色油状物として８６ｇ（理論量の９９％）得る。 分析結果： 計算値 １４．８９％Ｓ 実験値 １４．８７％Ｓ
−３′，３″，５′，５″−テトラキス−（ｎ−オクチ
ルチオメチル）−フェニル〕−プロパンの製造 下記の混合物：ビスフェノールＡ２３．２ｇ、パラホル
ムアルデヒド２０．４ｇ、ｎ−オクタンチオール６０．
３３ｇ、３３％エタノール性ジメチルアミン７．５ｇお
よびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド４０ml（３８ｇ）を
使用する以外は、操作手順を実施例１と同様にする。反
応時間は６時間である。粗生成物を塩化メチレン中に取
り出し、そして水で洗浄する。これにより、生成物を淡
黄色油状物として８６ｇ（理論量の９９％）得る。 分析結果： 計算値 １４．８９％Ｓ 実験値 １４．８７％Ｓ
【００５３】実施例４：次式：
【化９】 で表わされる２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ
−３′，３″，５′，５″−テトラキス−（ｎ−ドデシ
ルチオメチル）−フェニル〕−プロパンの製造ｎ−オク
タンチオールに代えて等量（モルで）のｎ−ドデカンチ
オールを使用する以外は、操作手順を実施例３と同様に
する。これにより、生成物を黄色油状物として１０８．
９ｇ（理論量の９９％）得る。 分析結果： 計算値 １１．８１％Ｓ 実験値 １１．６７％Ｓ
−３′，３″，５′，５″−テトラキス−（ｎ−ドデシ
ルチオメチル）−フェニル〕−プロパンの製造ｎ−オク
タンチオールに代えて等量（モルで）のｎ−ドデカンチ
オールを使用する以外は、操作手順を実施例３と同様に
する。これにより、生成物を黄色油状物として１０８．
９ｇ（理論量の９９％）得る。 分析結果： 計算値 １１．８１％Ｓ 実験値 １１．６７％Ｓ
【００５４】実施例５：次式：
【化１０】 （式中、Ｒ1 はｎ−オクチル基および／またはｎ−ドデ
シル基を表わす。）で表わされる化合物の混合物の製造 ｎ−オクタンチオール０．４モルに代えて、ｎ−オクタ
ンチオール０．２モルとｎ−ドデカンチオール０．２モ
ルの１：１混合物を使用する以外は、操作手順を実施例
３と同様にする。これにより、淡黄色油状物９７．９ｇ
を得る。クロマトグラフィー精製により、花のようなに
おいを有する黄色油状物を得、そしてこのものはＨＰＬ
Ｃ分析（High Pressure Liquid Chromatography ）
によると、Ｒ1 がｎ−オクチル基またはｎ−ドデシル基
を表わす２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（Ｒ1 −チオメ
チル）−フェニル〕−プロパンの統計学的な混合物であ
る。 分析結果：（２×オクチル基＋２×ドデシル基に対し
て） 計算値 １３．１７％Ｓ 実験値 １３．２１％Ｓ
シル基を表わす。）で表わされる化合物の混合物の製造 ｎ−オクタンチオール０．４モルに代えて、ｎ−オクタ
ンチオール０．２モルとｎ−ドデカンチオール０．２モ
ルの１：１混合物を使用する以外は、操作手順を実施例
３と同様にする。これにより、淡黄色油状物９７．９ｇ
を得る。クロマトグラフィー精製により、花のようなに
おいを有する黄色油状物を得、そしてこのものはＨＰＬ
Ｃ分析（High Pressure Liquid Chromatography ）
によると、Ｒ1 がｎ−オクチル基またはｎ−ドデシル基
を表わす２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（Ｒ1 −チオメ
チル）−フェニル〕−プロパンの統計学的な混合物であ
る。 分析結果：（２×オクチル基＋２×ドデシル基に対し
て） 計算値 １３．１７％Ｓ 実験値 １３．２１％Ｓ
【００５５】実施例６：次式：
【化１１】 で表わされるビス−〔４，４′−ジヒドロキシ−３，
３′，５，５′−テトラキス−（ｎ−オクチルチオメチ
ル）−フェニル〕−メタンの製造 ビスフェノールＡに代えて等量（モルで）のビスフェノ
ールＦを使用する以外は、操作手順を実施例３と同様に
する。ヘキサンで抽出すると、オレンジ色の油状物７
６．７ｇを得る。 1Ｈ−ＮＭＲ分光（１００ＭＨz 、Ｃ
ＤＣｌ3 ）によると、これは、標題の生成物に加えて、
不純物としてビスフェノールＦのｏ，ｐ−およびｏ，ｏ
−異性体の相当する反応生成物も含む。 分析結果： 計算値 １５．３９％Ｓ 実験値 １５．２８％Ｓ
３′，５，５′−テトラキス−（ｎ−オクチルチオメチ
ル）−フェニル〕−メタンの製造 ビスフェノールＡに代えて等量（モルで）のビスフェノ
ールＦを使用する以外は、操作手順を実施例３と同様に
する。ヘキサンで抽出すると、オレンジ色の油状物７
６．７ｇを得る。 1Ｈ−ＮＭＲ分光（１００ＭＨz 、Ｃ
ＤＣｌ3 ）によると、これは、標題の生成物に加えて、
不純物としてビスフェノールＦのｏ，ｐ−およびｏ，ｏ
−異性体の相当する反応生成物も含む。 分析結果： 計算値 １５．３９％Ｓ 実験値 １５．２８％Ｓ
【００５６】実施例７：次式：
【化１２】 で表わされるビス−〔４，４′−ジヒドロキシ−３，
３′，５，５′−テトラキス−（ｎ−ドデシルチオメチ
ル）−フェニル〕−メタンの製造 ｎ−オクタンチオールに代えて、等量（モルで）のｎ−
ドデカンチオールを使用すること以外は、操作手順を実
施例６と同様にする。これにより、冷却すると結晶化す
る赤色油状物（収率：９３％）を得る。融点４０−４２
℃。今回も再び、最終生成物が標題の主生成物に加え
て、不純物としてビスフェノールＦのｏ，ｐ−および
ｏ，ｏ−異性体の反応生成物をも含む。 分析結果： 計算値 １２．１２％Ｓ 実験値 １２．０１％Ｓ
３′，５，５′−テトラキス−（ｎ−ドデシルチオメチ
ル）−フェニル〕−メタンの製造 ｎ−オクタンチオールに代えて、等量（モルで）のｎ−
ドデカンチオールを使用すること以外は、操作手順を実
施例６と同様にする。これにより、冷却すると結晶化す
る赤色油状物（収率：９３％）を得る。融点４０−４２
℃。今回も再び、最終生成物が標題の主生成物に加え
て、不純物としてビスフェノールＦのｏ，ｐ−および
ｏ，ｏ−異性体の反応生成物をも含む。 分析結果： 計算値 １２．１２％Ｓ 実験値 １２．０１％Ｓ
【００５７】実施例８：次式：
【化１３】 で表わされる２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ
−３′，３″，５′，５″−テトラキス−（ｎ−オクチ
ルチオメチル）−フェニル〕−プロパンの製造 ａ）ビスフェノールＡ２３．３ｇ、４０％ジメチルアミ
ン水溶液５２ｇおよび３６％ホルムアルデヒド水溶液４
３．４ｇを７５℃で１８時間加熱する。抽出および乾燥
並びにリグロインからの再結晶による通常の操作を行う
と、２，２−ビス−〔４′，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノメチル）−フェニル〕−プロパンを無色粉末
（融点９１−９３℃）として得る（収率：９４％）。 ｂ） ａ）で得た生成物１０．７２ｇ、ｎ−オクタンチ
オール１５．１ｇおよび粉末水酸化カリウム０．７５ｇ
を、透明な溶液が形成されるまで９０℃で加熱する。室
温で、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５mlを添加し、そ
して混合物を次に窒素下、７時間、１２０℃の内部温度
で加熱する。通常の後処理を行うと、２，２−ビス−
〔４，４″−ジヒドロキシ−３′，３″，５′，５″−
テトラキス−（ｎ−オクチルチオメチル）−フェニル〕
−プロパンを淡黄色油状物として得る（収率：９２．１
％）。 分析結果： 計算値 １４．８９％Ｓ 実験値 １５．０７％Ｓ
−３′，３″，５′，５″−テトラキス−（ｎ−オクチ
ルチオメチル）−フェニル〕−プロパンの製造 ａ）ビスフェノールＡ２３．３ｇ、４０％ジメチルアミ
ン水溶液５２ｇおよび３６％ホルムアルデヒド水溶液４
３．４ｇを７５℃で１８時間加熱する。抽出および乾燥
並びにリグロインからの再結晶による通常の操作を行う
と、２，２−ビス−〔４′，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（Ｎ，Ｎ−ジメ
チルアミノメチル）−フェニル〕−プロパンを無色粉末
（融点９１−９３℃）として得る（収率：９４％）。 ｂ） ａ）で得た生成物１０．７２ｇ、ｎ−オクタンチ
オール１５．１ｇおよび粉末水酸化カリウム０．７５ｇ
を、透明な溶液が形成されるまで９０℃で加熱する。室
温で、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５mlを添加し、そ
して混合物を次に窒素下、７時間、１２０℃の内部温度
で加熱する。通常の後処理を行うと、２，２−ビス−
〔４，４″−ジヒドロキシ−３′，３″，５′，５″−
テトラキス−（ｎ−オクチルチオメチル）−フェニル〕
−プロパンを淡黄色油状物として得る（収率：９２．１
％）。 分析結果： 計算値 １４．８９％Ｓ 実験値 １５．０７％Ｓ
【００５８】実施例９：次式：
【化１４】 で表わされる２，６−ビス−〔ｎ−オクチルチオメチ
ル）−４−第三ブチル−フェノールの製造 ａ）４−第三ブチルフェノール１７７．７ｇ、９５％エ
タノール３５０ml、４０％ジメチルアミン水溶液２６
６．６ｇおよび３６％ホルムアルデヒド水溶液１９９．
１ｇを、還流下で１２時間加熱する。分別蒸留を行う
と、２，６−ビス−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）
−４−第三ブチルフェノールを黄色油状物、沸点１０３
℃（１３．３Ｐａで）として２８０ｇ（理論量の８５
％）得る。 ｂ） ａ）で得た化合物３９．６ｇをｎ−オクタンチオ
ール４３．９ｇと共に、２４時間１５０℃で、約０．５
３ｂａｒのわずかに真空下加熱する。カラムクロマトグ
ラフィーにより精製すると、２，６−ビス−（ｎ−オク
チルチオメチル）−４−第三ブチルフェノールを黄色油
状物として得る（収率：６９．９ｇ＝９８％）。 分析結果： 計算値 １３．７３％Ｓ 実験値 １３．９２％Ｓ
ル）−４−第三ブチル−フェノールの製造 ａ）４−第三ブチルフェノール１７７．７ｇ、９５％エ
タノール３５０ml、４０％ジメチルアミン水溶液２６
６．６ｇおよび３６％ホルムアルデヒド水溶液１９９．
１ｇを、還流下で１２時間加熱する。分別蒸留を行う
と、２，６−ビス−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）
−４−第三ブチルフェノールを黄色油状物、沸点１０３
℃（１３．３Ｐａで）として２８０ｇ（理論量の８５
％）得る。 ｂ） ａ）で得た化合物３９．６ｇをｎ−オクタンチオ
ール４３．９ｇと共に、２４時間１５０℃で、約０．５
３ｂａｒのわずかに真空下加熱する。カラムクロマトグ
ラフィーにより精製すると、２，６−ビス−（ｎ−オク
チルチオメチル）−４−第三ブチルフェノールを黄色油
状物として得る（収率：６９．９ｇ＝９８％）。 分析結果： 計算値 １３．７３％Ｓ 実験値 １３．９２％Ｓ
【００５９】実施例１０：次式：
【化１５】 （式中、Ｒ1 は−ＣＨ2 −ＣＯＯ−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ
2 ＣＨ3 ）−（ＣＨ2 ）3 −ＣＨ3 を表わす。）で表わ
される２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（２″′エチル
ヘキシルオキシカルボニル−メチルチオメチル）−フェ
ニル〕−プロパンの製造 ｎ−オクタンチオールに代えて等量（モルで）のチオグ
リコール酸２−エチルヘキシルエステルを使用する以外
は、操作手順は実施例３と同様にする。これにより、生
成物を黄色油状物として得る（収率：９３．４％）。 分析結果： 計算値 １１．７３％Ｓ 実験値 １１．４５％Ｓ
2 ＣＨ3 ）−（ＣＨ2 ）3 −ＣＨ3 を表わす。）で表わ
される２，２−ビス−〔４，４″−ジヒドロキシ−
３′，３″，５′，５″−テトラキス−（２″′エチル
ヘキシルオキシカルボニル−メチルチオメチル）−フェ
ニル〕−プロパンの製造 ｎ−オクタンチオールに代えて等量（モルで）のチオグ
リコール酸２−エチルヘキシルエステルを使用する以外
は、操作手順は実施例３と同様にする。これにより、生
成物を黄色油状物として得る（収率：９３．４％）。 分析結果： 計算値 １１．７３％Ｓ 実験値 １１．４５％Ｓ
【００６０】実施例１１：次式：
【化１６】 で表わされる２，６−ビス−〔ｎ−オクチルチオメチ
ル）−４−メチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノールに代えて、等量（モルで）の
ｐ−クレゾールを使用する以外は、操作手順を実施例１
と同様とする。これにより、生成物を黄色油状物として
得る（収率：９９．３％）。 分析結果： 計算値 １５．１０％Ｓ 実験値 １５．０３％Ｓ
ル）−４−メチルフェノールの製造 ４−第三ブチルフェノールに代えて、等量（モルで）の
ｐ−クレゾールを使用する以外は、操作手順を実施例１
と同様とする。これにより、生成物を黄色油状物として
得る（収率：９９．３％）。 分析結果： 計算値 １５．１０％Ｓ 実験値 １５．０３％Ｓ
【００６１】実施例１２：次式：
【化１７】 で表わされる２，６−ビス−（２′−エチルヘキシルオ
キシカルボニル−メチルチオメチル）−４−第三ブチル
フェノールの製造 等量（モルで）のチオグリコール酸２−エチルヘキシル
エステルを使用する以外は、操作手順を実施例１と同様
とする。これにより、生成物を黄色油状物として得る
（収率：８２．５％）。 分析結果： 計算値 １１．０％Ｓ 実験値 １０．７３％Ｓ
キシカルボニル−メチルチオメチル）−４−第三ブチル
フェノールの製造 等量（モルで）のチオグリコール酸２−エチルヘキシル
エステルを使用する以外は、操作手順を実施例１と同様
とする。これにより、生成物を黄色油状物として得る
（収率：８２．５％）。 分析結果： 計算値 １１．０％Ｓ 実験値 １０．７３％Ｓ
【００６２】下記の第１表は、実施例１ないし１２の特
徴的な 1Ｈ−ＮＭＲ分光データを含む（アリール−ＣＨ
2 −Ｓシグナル）。データはppm で与えられ、そして下
記の構造に関する：
徴的な 1Ｈ−ＮＭＲ分光データを含む（アリール−ＣＨ
2 −Ｓシグナル）。データはppm で与えられ、そして下
記の構造に関する：
【化１８】
【００６３】
【表１】
【００６４】
【表２】 * Ｓ＝シングレット **Ａｒ−ＣＨ2 Ｓ＝アリール−ＣＨ2 −Ｓシグナル
【００６５】施用実施例 ポリブタジエンゴムの安定化（オーブンエージング） ２，６−ジ−第三ブチル−ｐ−クレゾール０．４％で予
め安定化したポリブタジエン１００ｇをロールミルで、
６分間実施例１からの２，６−ビス−（ｎ−オクチルチ
オメチル）−４−第三ブチルフェノール０．２５％と均
一に混合する。１０mmの厚さの試料を８０℃で圧延シー
トからプレスする。他の試料を安定剤を用いずに同じ方
法で用意する。
め安定化したポリブタジエン１００ｇをロールミルで、
６分間実施例１からの２，６−ビス−（ｎ−オクチルチ
オメチル）−４−第三ブチルフェノール０．２５％と均
一に混合する。１０mmの厚さの試料を８０℃で圧延シー
トからプレスする。他の試料を安定剤を用いずに同じ方
法で用意する。
【００６６】本発明の組成物を８０℃の空気循環オーブ
ンの熱エージングに試料を供することにより試験する。
試料の安定性を確かめる基準はオーブンエージング中に
形成した望ましくないゲル含量である。ゲル含量は次の
ように決定する。
ンの熱エージングに試料を供することにより試験する。
試料の安定性を確かめる基準はオーブンエージング中に
形成した望ましくないゲル含量である。ゲル含量は次の
ように決定する。
【００６７】ポリブタジエン１ｇをトルエン１００ml中
に室温で一晩かけて溶解する。溶液をガラス吸引フィル
タ（孔径００）を通してろ過し、そしてろ液を蒸発させ
て乾燥させる。ゲル含量を次式を用いて算出する。
に室温で一晩かけて溶解する。溶液をガラス吸引フィル
タ（孔径００）を通してろ過し、そしてろ液を蒸発させ
て乾燥させる。ゲル含量を次式を用いて算出する。
【表３】 Ｅ＝重量（１ｇ） Ａ＝蒸発後の樹脂の重量
【００６８】ゲル含量は誘導期後急速に増加する。試料
が２％のゲル含量を示す時間を誘導期の便宜上の定義と
してとる。この誘導期を測定するために、ゲル含量を定
期的に調べる。ゲル含量が２％に達するまでに、安定剤
なしの試料と比較して、実施例１からの化合物を含む試
料は数週間の誘導期をとることを、測定は示す。
が２％のゲル含量を示す時間を誘導期の便宜上の定義と
してとる。この誘導期を測定するために、ゲル含量を定
期的に調べる。ゲル含量が２％に達するまでに、安定剤
なしの試料と比較して、実施例１からの化合物を含む試
料は数週間の誘導期をとることを、測定は示す。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１０Ｎ 30:10 40:25 (72)発明者 サムエル エバンス スイス国，1723 マーリー，ルート デ シャルボニエール 17 (72)発明者 ポール デュプス スイス国，1723 マーリー，ルート デ プラレッテ 25
Claims (9)
- 【請求項１】滑剤および少なくとも１種の次式Ｉまたは
／およびII： 【化１】 （式中、 基Ｒ1 は同一または異なって、そして互いに独立して、
未置換または１もしくは２個のヒドロキシル基により置
換された、または／および−Ｏ−により中断された炭素
原子数８ないし２０のアルキル基を表わすか、または炭
素原子数１ないし４のアルキレン−ＣＯＯＲ2′基、炭
素原子数１ないし４のアルキレン−ＣＯ−ＮＲ2″Ｒ4
基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または
フェニル−炭素原子数１ないし４のアルキル基を表わ
し、 Ｒ2 、Ｒ2′およびＲ2″は互いに独立して、炭素原子数
１ないし２０のアルキル基、アリル基、メタリル基、プ
ロパルギル基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキ
ル基、フェニル基またはベンジル基を表わし、 Ｒ3 は水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル
基、炭素原子数２ないし１８のアルケニル基またはハロ
ゲン原子を表わし、 Ｒ4 は水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキル基
または炭素原子数２ないし１８のアルケニル基を表わ
し、 Ｚ1 は−Ｓ−または−Ｃ（Ｚ3）（Ｚ4）−を表わし、そ
してＺ2 は水素原子、炭素原子数１ないし２０のアルキ
ル基または−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ1 を表わし、 Ｚ3 およびＺ4 は互いに独立して水素原子またはメチル
基を表わすが、 ただし式IIで表わされるフェノールは、ＯＨ基に対して
ｍ位には−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ1 官能基を有しない）で表わ
される化合物からなる組成物。 - 【請求項２】滑剤および上記式ＩまたはII中、Ｒ2 がメ
チル基、エチル基または枝分れした炭素原子数３ないし
２０のアルキル基、アリル基、メタリル基、プロパルギ
ル基またはベンジル基を表わし、そしてＲ1 、Ｒ3 、Ｚ
1 およびＺ2が請求項１で定義した意味を表わす化合物
の少なくとも１種からなる請求項１記載の組成物。 - 【請求項３】上記式Ｉまたは／およびII中、基Ｒ1 が同
一または異なって、そして互いに独立して、炭素原子数
８ないし２０のアルキル基または炭素原子数１ないし４
のアルキレン−ＣＯＯＲ2′基を表わし、Ｒ2 および
Ｒ2′が炭素原子数１ないし２０のアルキル基を表わ
し、Ｚ1 が−ＣＨ2−または−Ｃ（ＣＨ3）2−を表わ
し、そしてＺ2 が特許請求の範囲第１項で定義した意味
を表わす化合物の少なくとも１種を含む請求項１記載の
組成物。 - 【請求項４】上記式Ｉ中、基Ｒ1 が互いに独立して、未
置換の炭素原子数８ないし２０のアルキル基、または１
もしくは２個のヒドロキシル基により置換された炭素原
子数８ないし２０のアルキル基を表わす化合物の少なく
とも１種を含む特許請求の範囲第１項記載の組成物。 - 【請求項５】上記式中、基Ｒ1 が同一で、そして炭素原
子数８ないし１２のアルキル基を表わす特許請求の範囲
第１項記載の組成物。 - 【請求項６】少なくとも１種の次式IIａ： 【化２】 （式中、Ｒ1 、Ｒ3 、Ｚ1 およびＺ2 は特許請求の範囲
第１項で定義した意味を表わす）で表わされる化合物を
含む特許請求の範囲第１項記載の組成物。 - 【請求項７】上記式IIａ中、Ｒ3 が水素原子を表わし、
そしてＺ1 が−Ｃ（Ｚ3）（Ｚ4）−を表わし、Ｚ3 およ
びＺ4 が特許請求の範囲第１項で定義した意味を表わす
化合物を含む請求項６記載の組成物。 - 【請求項８】上記式IIａ中、Ｚ2 が基−ＣＨ2−Ｓ−Ｒ
1 を表わす化合物を含む請求項６記載の組成物。 - 【請求項９】式Ｉまたは／およびIIで表わされる化合物
を、滑剤に対して、０．０１−１０．０重量％含む請求
項１記載の組成物。
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|---|---|---|---|
| CH5235/86-0 | 1986-12-24 | ||
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|---|---|
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|---|---|---|---|
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