JPH09110624A - 低膨張率のポ−セレン芯材と総セラミック製歯科修復用の磁器質被覆組成 - Google Patents

低膨張率のポ−セレン芯材と総セラミック製歯科修復用の磁器質被覆組成

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JPH09110624A
JPH09110624A JP22185996A JP22185996A JPH09110624A JP H09110624 A JPH09110624 A JP H09110624A JP 22185996 A JP22185996 A JP 22185996A JP 22185996 A JP22185996 A JP 22185996A JP H09110624 A JPH09110624 A JP H09110624A
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Carlino Panzera
パンツエラ カルリ−ノ
Jana N Pruden
エヌ． プル−デン ジャナ
Richard A Brightly
エ−． ブライトリ− リチャ−ド
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Abstract

(57)【要約】 【課題】歯科用クラウン、ブリッジ等の歯科修復に使用
できる低膨張率を有する磁器質材の提供。 【解決手段】 本願に係る磁器質材は、成分 量（Ｗｔ．％） ＳｉＯ2 ６９−７５ Ａｌ2 Ｏ3 ４．０−９．５ Ｎａ2 Ｏ ５−１０ Ｋ2 Ｏ ０−４ ＣａＯ ０−１．５ ＭｇＯ ０−６ Ｂ2 Ｏ3 ６−１５ Ｆ ０−３ の組成を有し、 約８５０℃から約１０５０℃の処理温
度と、約４．０乃至約１３ｐｐｍ／℃（室温〜５００
℃）の熱膨張係数を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】 本発明は金属に融着される
磁器質として市販されている磁器質材よりも熱膨張値の
小さい歯科用磁器質組成に関するものである。本発明の
磁器質材は総セラミック被覆に使用した場合特に安定性
がある。
【０００２】
【発明の背景】歯科用クラウンおよびブリッジの様な歯
科修復は溶融した歯科用磁器質材で望みの体裁が得られ
る様に通常金属の枠組を被覆する。然しながら、今日で
はこの目的のために非金属材を使う傾向が増えており、
特に高強度の磁器質材がより自然な半透明性を与え、そ
のためより良い体裁が得られる様になった。金属に融着
される通常の磁器質材よりも低い熱膨張係数を持ついく
つかの低膨張セラミック芯材が最近市場に出ている。こ
れらのあるものの材質はアルミニウムをベースにしたＶ
ｉｔａ Ｚａｈｎｆａ ｏｆ Ｂａｄ Ｓａｃｋｉｎｇ
ｅｎ，Ｇｅｒｍａｎｙにより製造されているＩｎ−Ｃｅ
ｒａｍ，Ｈｉ−ＣｅｒａｍおよびＶｉｔａｄｕｒ Ｎで
ある。芯材（コア）のあるものは Ｃｏｒｕｉｎｇ Ｇ
ｌａｓｓ Ｃｏ．ｏｆ Ｃｏｒｎｉｎｇ，Ｎｅｗ Ｙｏ
ｒｋで製造されているＤｉｃｏｒセラミックガラス（雲
母ガラス）のように、鋳込みおよび機械加工が可能であ
る。これらの芯材は室温から５００℃までの範囲での熱
膨張係数は７−８ｐｐｍ／℃である。Ｉｎ−Ｃｅｒａｍ
とＤｉｃｏｒ材は寸法的に９５０℃およびそれ以下で安
定で、その他のものは周知の様に不活性の耐火性鋳型で
作られる。
【０００３】これらの磁器質材の熱膨張係数は金属に融
着される磁器質に使用される歯科用合金よりも、例えば
１３−１４×１０-6に比較して５−８×１０-6ｐｐｍ
／℃（室温〜５００℃）の様にかなり低い値を示す。し
たがってセラミック芯材の熱安定温度と一致し化学的に
かつ熱的にも安定した温度で加熱処理をする歯科用磁器
質組成を提供することが本発明の目的である。本発明の
別の目的は総セラミック製の芯材と化学的に結合してい
る磁器質組成材の熱膨張の熱膨張係数がそれの置かれて
いる芯材よりも約１乃至１．５ｐｐｍ／℃小さく、溶融
した修復剤が室温に冷却した時僅かに圧縮されるという
組成を提供することである。本発明の更なる目的は改良
された総セラミック製歯科修復を提供することである。
【０００４】
【発明の概要】上記課題を解決するために、本発明は、
以下の構成を有している。すなわち、約８５０℃から約
１０５０℃の範囲の処理温度と、約４．０から１３ｐｐ
ｍ／℃（室温から５００℃の範囲）の熱膨張係数を持つ
磁器質成分からなり以下の組成を持っている。成分 量（Ｗｔ．％） ＳｉＯ2 ６９−７５ Ａｌ2 Ｏ3 ４．０−９．５ Ｎａ2 Ｏ ５−１０ Ｋ2 Ｏ ０−４ ＣａＯ ０−１．５ ＭｇＯ ０−６ Ｂ2 Ｏ3 ６−１５ Ｆ ０−３
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の歯科用磁器質材の望まし
い組成は、以下のとおりである。 成分 範囲（ｗｔ％） 推奨値（ｗｔ％） 最適値（ｗｔ％） ＳｉＯ2 ６９−７５ ７１−７４ ７３．１ Ａｌ2 Ｏ3 ４．０−９．５ ６．０−８．０ ６．８５ Ｎａ2 Ｏ ５−１０ ６．０−８．０ ６．８５ Ｋ2 Ｏ ０−４ ２−４ ３．６ ＣａＯ ０−１．５ ０．８−１．５ １．３ ＭｇＯ ０−６ ０−２．０ ０．８ Ｂ2 Ｏ3 ６−１５ ７．０−１０．０ ７．５ Ｆ ０−３ ０−２．０ ０．０ 熱膨張 （室温〜５００） ４．０−１３ ５．５−８．５ ５．８−６．２ ｐｐｍ／℃ 処理温度 °Ｃ 850-1050 900-1000 925 °Ｆ 1562-1922 1652-1832 1700
【０００６】本発明の歯科用磁器質は、セラミック芯材
の耐熱温度で処理された無定形ガラスで化学的および熱
的に安定である。即ち磁器質材は芯材と化学結合をして
おり、融着した修復剤を室温に冷却した時に、磁器質材
の熱膨張値が芯材のそれよりも約１乃至１．５ｐｐｍ／
℃小さいので材料が僅かに圧縮される。溶融磁器質材は
処理温度で十分な粘度をそなえており、このため、その
形状をくずすことなく、口腔内の環境に必要な丈夫な不
浸透性表面を形成できる。その上磁器質の粘度は組成が
容易に鋳造できる程度である。また本発明の磁器資材の
組成は機械加工が可能なのでＣＡＤ／ＣＡＭ作製手法が
採用できる。
【０００７】本発明の磁器質材の組成は、前駆物質を上
記の表に示す組成が得られる様に一緒に溶融して調製す
る。適当な前駆物質としては、シリカ、アルミナ、ホウ
酸、長石、炭酸カルシウム、炭酸ソーダ、炭酸カリ、ま
たは希望によっては酸化物を上記の表に示す様な組成が
得られる様配合する。
【０００８】かかる材料の調製は周知技術によってい
る。材料は２００メッシュ篩（タイラー規格）を通過す
る様微粉砕するのが望ましく、これを混合した後、前駆
物質および（または）酸化物を少なくとも約１２００
℃、好ましくは少なくとも約１５００℃に加熱して坩堝
内でガラス化させる。溶融したガラスは水中で急冷後、
乾燥して、ボールミル中で粉砕して本発明の磁器質材が
粉末状で得られる。粉末は１６０メッシュ篩（タイラー
規格）を通過する様微粉砕することが望ましい。 磁器
質組成の性質は以下の周知の法則を適用して調整するこ
とができる。
【０００９】前記の表の成分比率の範囲内で、もし望む
ならＳｉＯ2 および（または）Ｂ2Ｏ3 の比を減少させ
ること、および（または）アルカリ金属酸化物の比を増
加させることで熱膨張係数は増加する。溶融点はＢ2 Ｏ
3 ，ＣａＯおよび（または）アルカリ金属酸化物の比を
増加させることで低下する。２種類のアルカリ金属酸化
物の間でＮａ2 Ｏ：Ｋ2 Ｏの比が増加すれば溶融点は低
下する。これらの法則を適用し熱膨張係数および溶融点
を細かく調整することは十分にセラミックの技術内のこ
とである。
【００１０】必要に応じて、適当な美感を保つため、本
発明の磁器質組成の１つまたはそれ以上の層を芯材の上
に各層を別々に加熱して施すことができる。このため、
例えば、ＴｉＯ2 ，ＳｎＯ2 ，Ａｌ2 Ｏ3 ，ＺｎＯ，Ｃ
ｅＯ2 の様な乳白化剤を含む乳白層を芯材の上に施し加
熱処理する。その後、またはその代わりにバナジン酸
塩，マンガン酸塩，クロム酸塩，またはその他の遷移金
属のような１種またなそれ以上の通常の顔料を含む着色
層で色付けし、所望のむ外観にする。
【００１１】乳白および（または）着色層は本発明の磁
器質組成の半透明層で上塗りをされるのである（加熱処
理をしたあと）。この手法で例えば歯茎部分より修復層
の先端が異なる外観を呈すという様な特別な効果が得ら
れる。磁器質粉末の水中ペーストを芯材に塗り、望みの
形状に形付けした後加熱処理する芯材の肉付けも可能で
ある。本発明の更なる変更および改善は、前述および特
許請求の範囲に包含されることから明らかになるであろ
う。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、本願発明によれ
ば、セラミック芯材の熱安定温度と一致し化学的にかつ
熱的にも安定した温度で加熱処理できる歯科用磁器質組
成をじつげんできる。さらにまた、本発明によれば、総
セラミック製の芯材と化学的に結合している磁器質組成
材の熱膨張の熱膨張係数は、芯材よりも約１乃至１．５
ｐｐｍ／℃小さく、溶融した修復剤が室温に冷却した時
僅かに圧縮されるという組成をじつげんできる。このよ
うに、本願発明は、まったく新規な総セラミック製歯科
修復を提供できる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジャナ エヌ． プル−デン アメリカ合衆国、ニュ−ジャ−ジ−州 08502 ベルミ−ド、デハ−ト ドライブ 70番地 (72)発明者 リチャ−ド エ−． ブライトリ− アメリカ合衆国、ニュ−ジャ−ジ−州 07675 ウエストウッド、グッドウイン テラス 71番地

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 約８５０℃から約１０５０℃の処理温度
    と、約４．０乃至約１３ｐｐｍ／℃（室温〜５００℃）
    の熱膨張係数を持ち、成分 量（Ｗｔ．％） ＳｉＯ2 ６９−７５ Ａｌ2 Ｏ3 ４．０−９．５ Ｎａ2 Ｏ ５−１０ Ｋ2 Ｏ ０−４ ＣａＯ ０−１．５ ＭｇＯ ０−６ Ｂ2 Ｏ3 ６−１５ Ｆ ０−３ の組成からなることを特徴とする磁器質組成。
  2. 【請求項２】 セラミックス芯材と請求項１記載の磁器
    質組成の少なくとも１層の被覆層からなることを特徴と
    する総セラミック製歯科修復。
  3. 【請求項３】 請求項２において、少なくとも１層の乳
    白色磁器質層および（または）少なくとも１層の着色磁
    器質層が芯材と磁器質被覆層の中間に配置されているこ
    とを特徴とする総セラミック製歯科修復。
  4. 【請求項４】 請求項３において、磁器質被覆層は半透
    明であることを特徴とする総セラミック製歯科修復。
  5. 【請求項５】 約９００℃から約１０００℃の処理温度
    と、約５．５乃至約８．５ｐｐｍ／℃（室温〜５００
    ℃）の熱膨張係数を持ち、成分 量（Ｗｔ．％） ＳｉＯ2 ７１−７４ Ａｌ2 Ｏ3 ６．０−８．０ Ｎａ2 Ｏ ６．０−８．０ Ｋ2 Ｏ ２−４ ＣａＯ ０．８−１．５ ＭｇＯ ０−２．０ Ｂ2 Ｏ3 ７．０−１０．０ Ｆ ０−２．０ の組成からなることを特徴とする磁器質組成。
  6. 【請求項６】 セラミック芯材と請求項５記載の磁器質
    組成の少なくとも１層の被覆層からなることを特徴とす
    る総セラミック製歯科修復。
  7. 【請求項７】 請求項６において、少なくとも１層の乳
    白色磁器質層および（または）少なくとも１層の着色磁
    器質層が芯材と磁器質被覆層の中間に配置されているこ
    とを特徴とする総セラミック製歯科修復。
  8. 【請求項８】 請求項７において、磁器質被覆層は半透
    明であることを特徴とする総セラミック製歯科修復。
  9. 【請求項９】 約９２５℃の処理温度と、約５．８乃至
    ６．２ｐｐｍ／℃（室温〜５００℃）の熱膨張係数を持
    ち、成分 量（Ｗｔ．％） ＳｉＯ2 ７３．１ Ａｌ2 Ｏ3 ６．８５ Ｎａ2 Ｏ ６．８５ Ｋ2 Ｏ ３．６ ＣａＯ １．３ ＭｇＯ ０．８ Ｂ2 Ｏ3 ７．５ の組成からなることを特徴とする磁器質組成。
  10. 【請求項１０】 セラミック芯材と請求項９記載の磁器
    質組成の少なくとも１層の被覆層からなることを特徴と
    する総セラミック製歯科修復。
  11. 【請求項１１】 請求項１０において、少なくとも１層
    の乳白色磁器質層および（または）少なくとも１層の着
    色磁器質層が芯材と磁器質被覆層の中間に配置されてい
    ることを特徴とする総セラミック製歯科修復。
  12. 【請求項１２】請求項１１において、磁器質被覆層は半
    透明であることを特徴とする総セラミック製歯科修復。
JP22185996A 1995-08-18 1996-08-06 低膨張率のポ−セレン芯材と総セラミック製歯科修復用の磁器質被覆組成 Withdrawn JPH09110624A (ja)

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